JPWO2022195662A5 - - Google Patents

Description

上記課題を解決するために、代表的な本発明のプラズマ処理装置の一つは、
真空容器内部の処理室内に配置された処理対象のウエハを当該処理室内に形成したプラズマを用いて処理するプラズマ処理装置であって、
前記処理対象のウエハの処理中の所定の複数の時刻に前記ウエハの表面から複数の波長の光を受光する受光器と、
前記受光した複数の波長の光の強度を示すデータと、予め取得された前記複数の波長の光の強度を示す比較データとを比較した結果を用いて、前記処理対象のウエハの処理中の処理の量を検出する検出器とを備え、
前記検出器は、前記予め複数のウエハ各々の処理中に取得された当該各々ウエハの表面からの光の前記複数の波長の光の強度を示すデータに基づいて各ウエハ同士の間の類似度を数値化し、数値化された前記類似度に基づいて少なくとも１つのデータを選択して比較データとし、前記処理対象のウエハの処理中に得られた前記複数の波長の光の強度を示すデータと比較して前記処理の量を検出することにより達成される。

代表的な本発明のプラズマ処理方法の一つは、
真空容器内部の処理室内に処理対象のウエハを配置された当該処理室内に形成したプラズマを用いて処理するプラズマ処理方法であって、
前記処理対象のウエハの処理中の所定の複数の時刻に前記ウエハの表面から複数の波長の光を受光する測定工程と、
当該受光した複数の波長の光の強度を示すデータと、予め取得された前記複数の波長の光の強度を示す比較データとを比較した結果を用いて、前記処理対象のウエハの処理中の処理の量を検出する検出工程とを有し、
前記検出工程において、前記予め複数のウエハ各々の処理中に取得された当該各々ウエハの表面からの光の前記複数の波長の光の強度を示すデータに基づいて各ウエハ同士の間の類似度を数値化し、数値化された前記類似度に基づいて少なくとも１つのデータを選択して比較データとし、前記処理対象のウエハの処理中に得られた前記複数の波長の光の強度を示すデータと比較して前記処理の量を検出することにより達成される。

Claims (12)

1. 真空容器内部の処理室内に配置された処理対象のウエハを当該処理室内に形成したプラズマを用いて処理するプラズマ処理装置であって、
   前記処理対象のウエハの処理中の所定の複数の時刻に前記ウエハの表面から複数の波長の光を受光する受光器と、
   前記受光した複数の波長の光の強度を示すデータと、予め取得された前記複数の波長の光の強度を示す比較データとを比較した結果を用いて、前記処理対象のウエハの処理中の処理の量を検出する検出器とを備え、
   前記検出器は、前記予め複数のウエハ各々の処理中に取得された当該各々ウエハの表面からの光の前記複数の波長の光の強度を示すデータに基づいて各ウエハ同士の間の類似度を数値化し、数値化された前記類似度に基づいて少なくとも１つのデータを選択して比較データとし、前記処理対象のウエハの処理中に得られた前記複数の波長の光の強度を示すデータと比較して前記処理の量を検出することを特徴とするプラズマ処理装置。
2. 請求項１記載のプラズマ処理装置であって、
   前記検出器は、前記予め前記複数のウエハ各々の処理中に取得された前記複数の波長の光の強度を示す複数のデータから、各波長における各々の膜厚のスペクトルの値と、前記スペクトルの平均値との差を誤差として前記類似度を数値化し、前記誤差の総和が最大となるウエハ、最小となるウエハ及びこれらの間の差を実質的に等分するウエハのスペクトルのパターンをデータベースとし、前記データベースに基づいて前記比較データとするデータを選択することを特徴とするプラズマ処理装置。
3. 請求項１記載のプラズマ処理装置であって、
   前記予め前記複数のウエハ各々の処理中に取得された前記複数の波長の光の強度を示す複数のデータの当該光の強度と、これらの光の強度の平均値との差またはその差の二乗の値を、前記類似度を示す指標として用いることを特徴とするプラズマ処理装置。
4. 請求項１記載のプラズマ処理装置であって、
   
   前記予め前記複数のウエハ各々の処理中に取得された前記複数の波長の光の強度を示す複数のデータを主成分分析して得られた主成分値を、前記類似度を示す指標として用いることを特徴とするプラズマ処理装置。
5. 請求項１記載のプラズマ処理装置であって、
   前記予め前記複数のウエハ各々の処理中に取得された前記複数の波長の光の強度を示す複数のデータに対して次元縮約手法を実施した結果として得られる次元縮約成分の値を、前記類似度を示す指標として用いることを特徴とするプラズマ処理装置。
6. 請求項１記載のプラズマ処理装置であって、
   前記予め前記複数のウエハ各々の処理中に取得された前記複数の波長の光の強度を示す複数のデータから選択される少なくとも１つのデータは、当該少なくとも１つのデータと他のデータとの間の類似度が予め定められた所定の許容範囲内であることを特徴とするプラズマ処理装置。
7. 真空容器内部の処理室内に処理対象のウエハを配置された当該処理室内に形成したプラズマを用いて処理するプラズマ処理方法であって、
   前記処理対象のウエハの処理中の所定の複数の時刻に前記ウエハの表面から複数の波長の光を受光する測定工程と、
   当該受光した複数の波長の光の強度を示すデータと、予め取得された前記複数の波長の光の強度を示す比較データとを比較した結果を用いて、前記処理対象のウエハの処理中の処理の量を検出する検出工程とを有し、
   前記検出工程において、前記予め複数のウエハ各々の処理中に取得された当該各々ウエハの表面からの光の前記複数の波長の光の強度を示すデータに基づいて各ウエハ同士の間の類似度を数値化し、数値化された前記類似度に基づいて少なくとも１つのデータを選択して比較データとし、前記処理対象のウエハの処理中に得られた前記複数の波長の光の強度を示すデータと比較して前記処理の量を検出することを特徴とするプラズマ処理方法。
8. 請求項７記載のプラズマ処理方法であって、
   前記予め前記複数のウエハ各々の処理中に取得された前記複数の波長の光の強度を示す複数のデータから、各波長における各々の膜厚のスペクトルの値と、前記スペクトルの平均値との差を誤差として前記類似度を数値化し、前記誤差の総和が最大となるウエハ、最小となるウエハ及びこれらの間の差を実質的に等分するウエハのスペクトルのパターンをデータベースとし、前記データベースに基づいて前記比較データとするデータを選択することを特徴とするプラズマ処理方法。
9. 請求項７記載のプラズマ処理方法であって、
   前記予め前記複数のウエハ各々の処理中に取得された前記複数の波長の光の強度を示す複数のデータの当該光の強度と、これらの光の強度の平均値との差またはその差の二乗の値を、前記類似度を示す指標として用いることを特徴とするプラズマ処理方法。
10. 請求項７記載のプラズマ処理方法であって、
    前記予め前記複数のウエハ各々の処理中に取得された前記複数の波長の光の強度を示す複数のデータを主成分分析して得られた主成分値を、前記類似度を示す指標として用いることを特徴とするプラズマ処理方法。
11. 請求項７記載のプラズマ処理方法であって、
    前記予め前記複数のウエハ各々の処理中に取得された前記複数の波長の光の強度を示す複数のデータに対して次元縮約手法を実施した結果として得られる次元縮約成分の値を、前記類似度を示す指標として用いることを特徴とするプラズマ処理方法。
12. 請求項７記載のプラズマ処理方法であって、
    前記予め前記複数のウエハ各々の処理中に取得された前記複数の波長の光の強度を示す複数のデータから選択される少なくとも１つのデータは、当該少なくとも１つのデータと他のデータとの間の類似度が予め定められた所定の許容範囲内であることを特徴とするプラズマ処理方法。