JP7253668B2 - プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 - Google Patents
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Description
すなわち、特許文献3では、ウエハ上面の膜の構造が既知の場合において、エッチング対象膜の下地膜の厚さが各々異なる複数のウエハの反射光による干渉光の強度の波長をパラメータとするパターンのデータをデータベース(DB)として用いるものであるが、ウエハの膜構造が未知の場合には正確な膜厚・深さの測定を実現できない。
真空容器内部の処理室内に配置された処理対象のウエハを当該処理室内に形成したプラズマを用いて処理するプラズマ処理装置であって、
前記処理対象のウエハの処理中の所定の複数の時刻に前記ウエハの表面から複数の波長の光を受光する受光器と、
前記受光した複数の波長の光の強度を示すデータと、予め取得された前記複数の波長の光の強度を示す比較データとを比較した結果を用いて、前記処理対象のウエハの処理中の処理の量を検出する検出器とを備え、
前記検出器は、前記予め複数のウエハ各々の処理中に取得された当該各々ウエハの表面からの光の前記複数の波長の光の強度を示すデータに基づいて各ウエハ同士の間の類似度を数値化し、数値化された前記類似度に基づいて少なくとも1つのデータを選択して比較データとし、前記処理対象のウエハの処理中に得られた前記複数の波長の光の強度を示すデータと比較して前記処理の量を検出することにより達成される。
真空容器内部の処理室内に処理対象のウエハを配置された当該処理室内に形成したプラズマを用いて処理するプラズマ処理方法であって、
前記処理対象のウエハの処理中の所定の複数の時刻に前記ウエハの表面から複数の波長の光を受光する測定工程と、
当該受光した複数の波長の光の強度を示すデータと、予め取得された前記複数の波長の光の強度を示す比較データとを比較した結果を用いて、前記処理対象のウエハの処理中の処理の量を検出する検出工程とを有し、
前記検出工程において、前記予め複数のウエハ各々の処理中に取得された当該各々ウエハの表面からの光の前記複数の波長の光の強度を示すデータに基づいて各ウエハ同士の間の類似度を数値化し、数値化された前記類似度に基づいて少なくとも1つのデータを選択して比較データとし、前記処理対象のウエハの処理中に得られた前記複数の波長の光の強度を示すデータと比較して前記処理の量を検出することにより達成される。
上記した以外の課題、構成及び効果は、以下の実施形態の説明により明らかにされる。
以下に述べる本発明のプラズマ処理方法またはプラズマ処理装置の実施の形態では、複数のウエハにエッチング等の処理を施した際のウエハ表面から反射光の強度またはその変化を示すデータが取得され、当該各ウエハの反射光の強度のデータに基づいて各ウエハ同士の間の類似度が数値として算出される。さらに、算出されたこれらの類似度の数値を用いて、ウエハからの光の波長をパラメータとした光の強度と残り膜厚さ又は処理の深さとの関係付けられた複数のデータが選択または算出され、これらのデータを用いて処理中の残り膜厚さ或いは深さの検出が行われる。
以下、図1乃至図6を用いて、本発明の実施形態を具体的に説明する。図1は、本発明の実施形態に係るプラズマ処理装置の構成の概略を模式的に示す図である。特に、図1(a)は、本実施形態に係るプラズマ処理装置の縦断面図の概略が示されている。
D2(i) = b1・D1(i) + b2・D1(i-1) + b3・D1(i-2) - [ a2・D2(i-1) + a3・D2(i-2)]
本実施形態では序列化した複数のウエハから選択した3つのウエハのデータをデータベースとして用いたが、データベース数は3つに限ったものではない。例えば、序列化したウエハ番号の最大、最小およびこれらの番号を略等間隔に分割する番号のウエハの反射光の強度のパターンの3つ以上のデータをデータベースとして用いることによっても、本実施形態と同様な効果が得られることは明らかである。また、序列化したウエハの誤差の総和の最大値、最小値及びこれらの値を実質的に等間隔に分割する誤差の総和の値を持つ複数のウエハのデータをデータベースに用いることによっても、本実施形態と同様な効果が得られることは明らかである。
12…プラズマ
14…試料台
16…処理対象
18…光源部
20…導入レンズ
22…照射光
24…反射光
26…検出レンズ
28…検出部
30…膜厚・深さ算出部
40…制御部
50…光学系
60…データベース選択部
100…デジタル信号処理部
102…波形比較器
104…膜厚・深さ記憶部
106…最適膜厚・深さ決定器
120…適合データベース算出器
122…波形パターンデータベース
124…最適データベース決定器
D1…検出部から供給される時系列データ
D2…デジタル信号処理部から供給される時系列データ
D3…波形比較器から供給される膜厚・深さデータ
D4…膜厚・深さ記憶部から供給される膜厚・深さデータ
Claims (12)
- 真空容器内部の処理室内に配置された処理対象のウエハを当該処理室内に形成したプラズマを用いて処理するプラズマ処理装置であって、
前記処理対象のウエハの処理中の所定の複数の時刻に前記ウエハの表面から複数の波長の光を受光する受光器と、
前記受光した複数の波長の光の強度を示すデータと、予め取得された前記複数の波長の光の強度を示す比較データとを比較した結果を用いて、前記処理対象のウエハの処理中の処理の量を検出する検出器とを備え、
前記検出器は、前記予め複数のウエハ各々の処理中に取得された当該各々ウエハの表面からの光の前記複数の波長の光の強度を示すデータに基づいて各ウエハ同士の間の類似度を数値化し、数値化された前記類似度に基づいて少なくとも1つのデータを選択して比較データとし、前記処理対象のウエハの処理中に得られた前記複数の波長の光の強度を示すデータと比較して前記処理の量を検出することを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項1記載のプラズマ処理装置であって、
前記検出器は、前記予め前記複数のウエハ各々の処理中に取得された前記複数の波長の光の強度を示す複数のデータから、各波長における各々の膜厚のスペクトルの値と、前記スペクトルの平均値との差を誤差として前記類似度を数値化し、前記誤差の総和が最大となるウエハ、最小となるウエハ及びこれらの間の差を実質的に等分するウエハのスペクトルのパターンをデータベースとし、前記データベースに基づいて前記比較データとするデータを選択することを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項1記載のプラズマ処理装置であって、
前記予め前記複数のウエハ各々の処理中に取得された前記複数の波長の光の強度を示す複数のデータの当該光の強度と、これらの光の強度の平均値との差またはその差の二乗の値を、前記類似度を示す指標として用いることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項1記載のプラズマ処理装置であって、
前記予め前記複数のウエハ各々の処理中に取得された前記複数の波長の光の強度を示す複数のデータを主成分分析して得られた主成分値を、前記類似度を示す指標として用いることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項1記載のプラズマ処理装置であって、
前記予め前記複数のウエハ各々の処理中に取得された前記複数の波長の光の強度を示す複数のデータに対して次元縮約手法を実施した結果として得られる次元縮約成分の値を、前記類似度を示す指標として用いることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項1記載のプラズマ処理装置であって、
前記予め前記複数のウエハ各々の処理中に取得された前記複数の波長の光の強度を示す複数のデータから選択される少なくとも1つのデータは、当該少なくとも1つのデータと他のデータとの間の類似度が予め定められた所定の許容範囲内であることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 真空容器内部の処理室内に処理対象のウエハを配置された当該処理室内に形成したプラズマを用いて処理するプラズマ処理方法であって、
前記処理対象のウエハの処理中の所定の複数の時刻に前記ウエハの表面から複数の波長の光を受光する測定工程と、
当該受光した複数の波長の光の強度を示すデータと、予め取得された前記複数の波長の光の強度を示す比較データとを比較した結果を用いて、前記処理対象のウエハの処理中の処理の量を検出する検出工程とを有し、
前記検出工程において、前記予め複数のウエハ各々の処理中に取得された当該各々ウエハの表面からの光の前記複数の波長の光の強度を示すデータに基づいて各ウエハ同士の間の類似度を数値化し、数値化された前記類似度に基づいて少なくとも1つのデータを選択して比較データとし、前記処理対象のウエハの処理中に得られた前記複数の波長の光の強度を示すデータと比較して前記処理の量を検出することを特徴とするプラズマ処理方法。 - 請求項7記載のプラズマ処理方法であって、
前記予め前記複数のウエハ各々の処理中に取得された前記複数の波長の光の強度を示す複数のデータから、各波長における各々の膜厚のスペクトルの値と、前記スペクトルの平均値との差を誤差として前記類似度を数値化し、前記誤差の総和が最大となるウエハ、最小となるウエハ及びこれらの間の差を実質的に等分するウエハのスペクトルのパターンをデータベースとし、前記データベースに基づいて前記比較データとするデータを選択することを特徴とするプラズマ処理方法。 - 請求項7記載のプラズマ処理方法であって、
前記予め前記複数のウエハ各々の処理中に取得された前記複数の波長の光の強度を示す複数のデータの当該光の強度と、これらの光の強度の平均値との差またはその差の二乗の値を、前記類似度を示す指標として用いることを特徴とするプラズマ処理方法。 - 請求項7記載のプラズマ処理方法であって、
前記予め前記複数のウエハ各々の処理中に取得された前記複数の波長の光の強度を示す複数のデータを主成分分析して得られた主成分値を、前記類似度を示す指標として用いることを特徴とするプラズマ処理方法。 - 請求項7記載のプラズマ処理方法であって、
前記予め前記複数のウエハ各々の処理中に取得された前記複数の波長の光の強度を示す複数のデータに対して次元縮約手法を実施した結果として得られる次元縮約成分の値を、前記類似度を示す指標として用いることを特徴とするプラズマ処理方法。 - 請求項7記載のプラズマ処理方法であって、
前記予め前記複数のウエハ各々の処理中に取得された前記複数の波長の光の強度を示す複数のデータから選択される少なくとも1つのデータは、当該少なくとも1つのデータと他のデータとの間の類似度が予め定められた所定の許容範囲内であることを特徴とするプラズマ処理方法。
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