JPWO2022044743A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2022044743A5 JPWO2022044743A5 JP2022545602A JP2022545602A JPWO2022044743A5 JP WO2022044743 A5 JPWO2022044743 A5 JP WO2022044743A5 JP 2022545602 A JP2022545602 A JP 2022545602A JP 2022545602 A JP2022545602 A JP 2022545602A JP WO2022044743 A5 JPWO2022044743 A5 JP WO2022044743A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- imprints
- photocurable composition
- molded body
- resin
- producing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims 13
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims 13
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 7
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims 4
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 claims 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims 2
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 claims 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims 1
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2020144179 | 2020-08-28 | ||
| JP2020144179 | 2020-08-28 | ||
| PCT/JP2021/028993 WO2022044743A1 (ja) | 2020-08-28 | 2021-08-04 | インプリント用光硬化性組成物 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPWO2022044743A1 JPWO2022044743A1 (https=) | 2022-03-03 |
| JPWO2022044743A5 true JPWO2022044743A5 (https=) | 2024-07-05 |
| JP7549299B2 JP7549299B2 (ja) | 2024-09-11 |
Family
ID=80355048
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2022545602A Active JP7549299B2 (ja) | 2020-08-28 | 2021-08-04 | インプリント用光硬化性組成物 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP7549299B2 (https=) |
| TW (1) | TW202219188A (https=) |
| WO (1) | WO2022044743A1 (https=) |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4100529B2 (ja) * | 1998-12-05 | 2008-06-11 | 大日本印刷株式会社 | 液晶表示装置およびその製造方法 |
| JP4862033B2 (ja) * | 2007-12-19 | 2012-01-25 | 旭化成株式会社 | 光吸収性を有するモールド、該モールドを利用する感光性樹脂のパターン形成方法、及び印刷版の製造方法 |
| JP2012130906A (ja) * | 2010-11-30 | 2012-07-12 | Dainippon Printing Co Ltd | 光硬化性樹脂組成物の硬化方法、及びレリーフパターンの製造方法 |
| US10696849B2 (en) * | 2017-08-08 | 2020-06-30 | International Business Machines Corporation | Tailorable surface topology for antifouling coatings |
| KR102549487B1 (ko) * | 2018-01-17 | 2023-06-30 | 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 | 임프린트용 광경화성 조성물 |
-
2021
- 2021-08-04 TW TW110128805A patent/TW202219188A/zh unknown
- 2021-08-04 WO PCT/JP2021/028993 patent/WO2022044743A1/ja not_active Ceased
- 2021-08-04 JP JP2022545602A patent/JP7549299B2/ja active Active
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5075598B2 (ja) | 半導体素子の微細パターン形成方法 | |
| TWI585532B (zh) | 負性厚膜光阻 | |
| JP2009258722A5 (https=) | ||
| JPS5928328B2 (ja) | 光重合性組成物 | |
| JP5621755B2 (ja) | 化学増幅ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法 | |
| CN110341097A (zh) | 一种基于dlp光固化3d打印的热塑性聚合物及应用 | |
| JP6065789B2 (ja) | 化学増幅ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法 | |
| JP2020091464A5 (https=) | ||
| US9063421B2 (en) | Chemically amplified positive resist composition and pattern forming process | |
| CN113126428A (zh) | 一种纳米压印方法 | |
| JPWO2020044918A5 (https=) | ||
| JP2023126253A (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
| CN108109952B (zh) | 微拾取阵列及其制造方法 | |
| JP4327616B2 (ja) | 感光性コーティング樹脂組成物 | |
| TWI620026B (zh) | 感光性樹脂組成物、感光性元件、抗蝕劑圖案的形成方法及觸控面板的製造方法 | |
| JPWO2022044743A5 (https=) | ||
| WO2015087634A1 (ja) | パターン形成体 | |
| TW201327042A (zh) | 乾膜光阻用感光樹脂組成物 | |
| JP2009012300A (ja) | ナノインプリント用モールド形成組成物、並びにナノインプリント用モールド及びその製造方法 | |
| JP4987521B2 (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
| JP2009185255A5 (https=) | ||
| JPWO2010007874A1 (ja) | 第1膜の改質方法及びこれに用いる酸転写樹脂膜形成用組成物 | |
| JP7719429B2 (ja) | 硬化性官能基を有する化合物を含む段差基板被覆組成物 | |
| JP5423367B2 (ja) | 酸転写用組成物、酸転写用膜及びパターン形成方法 | |
| CN117693714A (zh) | 感光性组合物、感光性元件及布线板的制造方法 |