JPWO2021235283A5 - - Google Patents
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- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims 19
- -1 salt compound Chemical class 0.000 claims 17
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims 16
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims 13
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- 239000011342 resin composition Substances 0.000 claims 11
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims 6
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims 6
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims 6
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 claims 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims 5
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims 5
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims 4
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 claims 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims 3
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 claims 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims 2
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims 2
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 claims 2
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 2
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 claims 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims 2
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims 2
- 206010073306 Exposure to radiation Diseases 0.000 claims 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 claims 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 claims 1
- 230000002285 radioactive effect Effects 0.000 claims 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 1
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 claims 1
Claims (16)
- オニウム塩化合物と、
酸解離性基を有する構造単位を含む樹脂と、
溶剤と
を含み、
上記オニウム塩化合物が、下記式(1)で表されるオニウム塩化合物(1)及び下記式(2)で表されるオニウム塩化合物(2)からなる群より選択される少なくとも1種である感放射線性樹脂組成物。
R1は、水素原子又は炭素数1~40の1価の有機基である。
R2及びR3は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシ基、アミノ基若しくは炭素数1~40の1価の有機基であるか、又はR2及びR3は互いに合わせられこれらが結合する2つの炭素原子とともに構成される環員数5~8の環構造を表す。
X1及びX2は、それぞれ独立して、酸素原子又は硫黄原子である。ただし、X1及びX2がともに硫黄原子となることはない。
Z1 +は、1価の感放射線性オニウムカチオンである。
上記式(2)中、
R4は、水素原子、ハロゲン原子又は炭素数1~40の1価の有機基である。
R5及びR6は、それぞれ独立して、水素原子若しくは炭素数1~40の1価の有機基であるか、又はR5及びR6は互いに合わせられこれらが結合する窒素原子とともに構成される環員数3~8の環構造を表す。
Z2 +は、1価の感放射線性オニウムカチオンである。) - 上記式(1)において、X1及びX2はともに酸素原子である請求項1に記載の感放射線性樹脂組成物。
- 上記式(1)において、R2は、水素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、カルボキシ基、アミノ基若しくは炭素数1~40の1価の有機基であり、R3は、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシ基、アミノ基若しくは炭素数1~40の1価の有機基(ただし、メチル基を除く。)であるか、又はR2及びR3は互いに合わせられこれらが結合する2つの炭素原子とともに構成される環員数5~8の環構造を表す請求項1又は2に記載の感放射線性樹脂組成物。
- 上記式(1)及び上記式(2)における感放射線性オニウムカチオンが、それぞれ独立して、スルホニウムカチオン又はヨードニウムカチオンである請求項1~3のいずれか1項に記載の感放射線性樹脂組成物。
- 上記オニウム塩化合物は、上記オニウム塩化合物(1)である請求項1~4のいずれか1項に記載の感放射線性樹脂組成物。
- 上記オニウム塩化合物の含有量は、上記樹脂100質量部に対して0.01質量部以上30質量部以下である請求項1~5のいずれか1項に記載の感放射線性樹脂組成物。
- 上記オニウム塩化合物の含有量は、上記樹脂100質量部に対して1.0質量部以上30質量部以下である請求項1~6のいずれか1項に記載の感放射線性樹脂組成物。
- 放射線の照射により、上記オニウム塩化合物から発生する酸よりpKaが小さい酸を発生する感放射線性酸発生剤をさらに含む請求項1~7のいずれか1項に記載の感放射線性樹脂組成物。
- 上記樹脂の分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)によるポリスチレン換算重量平均分子量(Mw)が1,000以上9,000以下である請求項1~8のいずれか1項に記載の感放射線性樹脂組成物。
- 請求項1~10のいずれか1項に記載の感放射線性樹脂組成物を基板上に直接又は間接に塗布してレジスト膜を形成する工程と、
上記レジスト膜を露光する工程と、
露光された上記レジスト膜を現像液で現像する工程と
を含むパターン形成方法。 - 上記現像を有機溶剤により行う請求項11に記載のパターン形成方法。
- 上記式(1)において、X1及びX2はともに酸素原子である請求項13に記載のオニウム塩化合物。
- 上記式(1)において、R2は、水素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、カルボキシ基、アミノ基若しくは炭素数1~40の1価の有機基であり、R3は、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシ基、アミノ基若しくは炭素数1~40の1価の有機基(ただし、メチル基を除く。)であるか、又はR2及びR3は互いに合わせられこれらが結合する2つの炭素原子とともに構成される環員数5~8の環構造を表す請求項13又は14に記載のオニウム塩化合物。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020086750 | 2020-05-18 | ||
PCT/JP2021/017999 WO2021235283A1 (ja) | 2020-05-18 | 2021-05-12 | 感放射線性樹脂組成物、パターン形成方法及びオニウム塩化合物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2021235283A1 JPWO2021235283A1 (ja) | 2021-11-25 |
JPWO2021235283A5 true JPWO2021235283A5 (ja) | 2023-02-01 |
Family
ID=78707859
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2022524405A Pending JPWO2021235283A1 (ja) | 2020-05-18 | 2021-05-12 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPWO2021235283A1 (ja) |
TW (1) | TW202146390A (ja) |
WO (1) | WO2021235283A1 (ja) |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006083687A1 (en) * | 2005-01-28 | 2006-08-10 | Cardiome Pharma Corp. | Crystal salt of xanthine oxidase inhibitors |
JP5568532B2 (ja) * | 2011-09-22 | 2014-08-06 | 富士フイルム株式会社 | 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス |
US20210055655A1 (en) * | 2018-03-27 | 2021-02-25 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Method for manufacturing plated molded article |
-
2021
- 2021-05-12 WO PCT/JP2021/017999 patent/WO2021235283A1/ja active Application Filing
- 2021-05-12 JP JP2022524405A patent/JPWO2021235283A1/ja active Pending
- 2021-05-14 TW TW110117391A patent/TW202146390A/zh unknown
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