JPWO2021195545A5 - - Google Patents
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Description
本出願は、本文及び図面において、いくつかの数値範囲を開示している。本発明は開示した数値範囲全体に渡って実施できることから、正確な範囲の限定が明細書にそのまま記載されていなくても、開示した数値範囲は本質的に、開示した数値範囲内のいかなる範囲又は値にも対応している。
上記の説明は、当業者が本発明を作成及び使用することを可能にするために提示しており、特定の用途及びその要件の文脈で提供している。好ましい実施形態に対する様々な修正は、当業者には容易に自明となるであろうし、本明細書で定義した一般的な原理は、本発明の精神及び範囲から逸脱することなく他の実施形態及び用途に適用してもよい。従って、本発明は、示した実施形態に限定することを意図するものではなく、本明細書に開示した原理及び特徴と一致する最も広い範囲が与えられるべきである。最後に、本出願で参照した特許及び刊行物の開示全体は、参照により本明細書に援用される。
本発明のまた別の態様は、以下のとおりであってもよい。
〔１〕多層構造体を形成する方法であって、以下の工程：
ポリプロピレン及びポリエチレンのうちの少なくとも１種；
化学発泡剤；並びに
架橋剤
を含む発泡体層と；
少なくとも９０質量％の、ポリプロピレン及びポリエチレンのうちの少なくとも１種；並びに
０．１～５質量％の架橋剤
を含む、前記発泡体層の側上のフィルム層と
を共押出しする工程
を含む方法。
〔２〕前記発泡体層は、メルトフローインデックスが２３０℃で１０分当たり０．１～２５グラムのポリプロピレンを含む、前記〔１〕に記載の方法。
〔３〕前記発泡体層は、メルトフローインデックスが１９０℃で１０分当たり０．１～２５グラムのポリエチレンを含む、前記〔１〕又は〔２〕に記載の方法。
〔４〕前記発泡体層は、０．５～５質量％の架橋剤を含む、前記〔１〕～〔３〕のいずれか１項に記載の方法。
〔５〕前記化学発泡剤はアゾジカルボンアミドを含む、前記〔１〕～〔４〕のいずれか１項に記載の方法。
〔６〕前記発泡体層はポリプロピレン及びポリエチレンを含む、前記〔１〕～〔５〕のいずれか１項に記載の方法。
〔７〕前記発泡体層は、少なくとも７５質量％の、ポリプロピレン及びポリエチレンのうちの少なくとも１種を含む、前記〔１〕～〔６〕のいずれか１項に記載の方法。
〔８〕前記発泡体層は、３～１５質量％の化学発泡剤を含む、前記〔１〕～〔７〕のいずれか１項に記載の方法。
〔９〕多層発泡構造体を形成する方法であって：
ポリプロピレン及びポリエチレンのうちの少なくとも１種；
化学発泡剤；並びに
架橋剤
を含む発泡体層と；
少なくとも９０質量％の、ポリプロピレン及びポリエチレンのうちの少なくとも１種；並びに
０．１～５質量％の架橋剤
を含む、前記発泡体層の側上のフィルム層と
を共押出しする工程；
共押出しした層に電離放射線を照射する工程；並びに
前記照射した共押出し層を発泡させる工程
を含む方法。
〔１０〕前記電離放射線は、アルファ線、ベータ（電子）線、Ｘ線、ガンマ線、又は中性子線から成る群より選択される、前記〔９〕に記載の方法。
〔１１〕共押出しした前記構造体は最大４回まで別々に照射される、前記〔９〕又は〔１０〕に記載の方法。
〔１２〕前記電離放射線は、２００～１５００ｋＶの加速電圧を有する電子ビームである、前記〔１０〕に記載の方法。
〔１３〕吸収された電子線量は１０～５００ｋＧｙである、前記〔１２〕に記載の方法。
〔１４〕前記電離放射線は、押出した前記構造体を２０～７５％の架橋度まで架橋する、前記〔９〕～〔１３〕のいずれか１項に記載の方法。
〔１５〕発泡工程は、照射した前記構造体を溶融塩で加熱することを含む、前記〔９〕～〔１４〕のいずれか１項に記載の方法。
〔１６〕前記多層発泡構造体の密度は２０～２５０ｋｇ／ｍ 3 である、前記〔９〕～〔１５〕のいずれか１項に記載の方法。
〔１７〕前記多層発泡構造体の厚さは０．２～５０ｍｍである、前記〔９〕～〔１６〕のいずれか１項に記載の方法。
〔１８〕前記発泡体層はポリプロピレン及びポリエチレンを含む、前記〔９〕～〔１７〕のいずれか１項に記載の方法。
〔１９〕前記発泡体層は、少なくとも７５質量％の、ポリプロピレン及びポリエチレンのうちの少なくとも１種を含む、前記〔９〕～〔１８〕のいずれか１項に記載の方法。
〔２０〕前記発泡体層は、３～１５質量％の化学発泡剤を含む、前記〔９〕～〔１９〕のいずれか１項に記載の方法。
上記の説明は、当業者が本発明を作成及び使用することを可能にするために提示しており、特定の用途及びその要件の文脈で提供している。好ましい実施形態に対する様々な修正は、当業者には容易に自明となるであろうし、本明細書で定義した一般的な原理は、本発明の精神及び範囲から逸脱することなく他の実施形態及び用途に適用してもよい。従って、本発明は、示した実施形態に限定することを意図するものではなく、本明細書に開示した原理及び特徴と一致する最も広い範囲が与えられるべきである。最後に、本出願で参照した特許及び刊行物の開示全体は、参照により本明細書に援用される。
本発明のまた別の態様は、以下のとおりであってもよい。
〔１〕多層構造体を形成する方法であって、以下の工程：
ポリプロピレン及びポリエチレンのうちの少なくとも１種；
化学発泡剤；並びに
架橋剤
を含む発泡体層と；
少なくとも９０質量％の、ポリプロピレン及びポリエチレンのうちの少なくとも１種；並びに
０．１～５質量％の架橋剤
を含む、前記発泡体層の側上のフィルム層と
を共押出しする工程
を含む方法。
〔２〕前記発泡体層は、メルトフローインデックスが２３０℃で１０分当たり０．１～２５グラムのポリプロピレンを含む、前記〔１〕に記載の方法。
〔３〕前記発泡体層は、メルトフローインデックスが１９０℃で１０分当たり０．１～２５グラムのポリエチレンを含む、前記〔１〕又は〔２〕に記載の方法。
〔４〕前記発泡体層は、０．５～５質量％の架橋剤を含む、前記〔１〕～〔３〕のいずれか１項に記載の方法。
〔５〕前記化学発泡剤はアゾジカルボンアミドを含む、前記〔１〕～〔４〕のいずれか１項に記載の方法。
〔６〕前記発泡体層はポリプロピレン及びポリエチレンを含む、前記〔１〕～〔５〕のいずれか１項に記載の方法。
〔７〕前記発泡体層は、少なくとも７５質量％の、ポリプロピレン及びポリエチレンのうちの少なくとも１種を含む、前記〔１〕～〔６〕のいずれか１項に記載の方法。
〔８〕前記発泡体層は、３～１５質量％の化学発泡剤を含む、前記〔１〕～〔７〕のいずれか１項に記載の方法。
〔９〕多層発泡構造体を形成する方法であって：
ポリプロピレン及びポリエチレンのうちの少なくとも１種；
化学発泡剤；並びに
架橋剤
を含む発泡体層と；
少なくとも９０質量％の、ポリプロピレン及びポリエチレンのうちの少なくとも１種；並びに
０．１～５質量％の架橋剤
を含む、前記発泡体層の側上のフィルム層と
を共押出しする工程；
共押出しした層に電離放射線を照射する工程；並びに
前記照射した共押出し層を発泡させる工程
を含む方法。
〔１０〕前記電離放射線は、アルファ線、ベータ（電子）線、Ｘ線、ガンマ線、又は中性子線から成る群より選択される、前記〔９〕に記載の方法。
〔１１〕共押出しした前記構造体は最大４回まで別々に照射される、前記〔９〕又は〔１０〕に記載の方法。
〔１２〕前記電離放射線は、２００～１５００ｋＶの加速電圧を有する電子ビームである、前記〔１０〕に記載の方法。
〔１３〕吸収された電子線量は１０～５００ｋＧｙである、前記〔１２〕に記載の方法。
〔１４〕前記電離放射線は、押出した前記構造体を２０～７５％の架橋度まで架橋する、前記〔９〕～〔１３〕のいずれか１項に記載の方法。
〔１５〕発泡工程は、照射した前記構造体を溶融塩で加熱することを含む、前記〔９〕～〔１４〕のいずれか１項に記載の方法。
〔１６〕前記多層発泡構造体の密度は２０～２５０ｋｇ／ｍ 3 である、前記〔９〕～〔１５〕のいずれか１項に記載の方法。
〔１７〕前記多層発泡構造体の厚さは０．２～５０ｍｍである、前記〔９〕～〔１６〕のいずれか１項に記載の方法。
〔１８〕前記発泡体層はポリプロピレン及びポリエチレンを含む、前記〔９〕～〔１７〕のいずれか１項に記載の方法。
〔１９〕前記発泡体層は、少なくとも７５質量％の、ポリプロピレン及びポリエチレンのうちの少なくとも１種を含む、前記〔９〕～〔１８〕のいずれか１項に記載の方法。
〔２０〕前記発泡体層は、３～１５質量％の化学発泡剤を含む、前記〔９〕～〔１９〕のいずれか１項に記載の方法。
Claims (14)
- 多層構造体を形成する方法であって、以下の工程：
ポリプロピレン及びポリエチレンのうちの少なくとも１種；
化学発泡剤；並びに
架橋剤
を含む発泡体層と；
少なくとも９０質量％の、ポリプロピレン及びポリエチレンのうちの少なくとも１種；並びに
０．１～５質量％の架橋剤
を含む、前記発泡体層の側上のフィルム層と
を共押出しする工程
を含む方法。 - 前記発泡体層は、０．５～５質量％の架橋剤を含む、請求項１に記載の方法。
- 前記化学発泡剤はアゾジカルボンアミドを含む、請求項１又は２に記載の方法。
- 前記発泡体層はポリプロピレン及びポリエチレンを含む、請求項１～３のいずれか１項に記載の方法。
- 前記発泡体層は、少なくとも７５質量％の、ポリプロピレン及びポリエチレンのうちの少なくとも１種を含む、請求項１～４のいずれか１項に記載の方法。
- 前記発泡体層は、３～１５質量％の化学発泡剤を含む、請求項１～５のいずれか１項に記載の方法。
- 共押出しした層に電離放射線を照射する工程；並びに
前記照射した共押出し層を発泡させる工程
を更に含む、請求項１～６のいずれか１項に記載の方法。 - 前記電離放射線は、アルファ線、ベータ（電子）線、Ｘ線、ガンマ線、又は中性子線から成る群より選択される、請求項７に記載の方法。
- 共押出しした前記構造体は最大４回まで別々に照射される、請求項７又は８に記載の方法。
- 前記電離放射線は、２００～１５００ｋＶの加速電圧を有する電子ビームである、請求項９に記載の方法。
- 前記電離放射線は、押出した前記構造体を２０～７５％の架橋度まで架橋する、請求項７～１０のいずれか１項に記載の方法。
- 発泡工程は、照射した前記構造体を溶融塩で加熱することを含む、請求項７～１１のいずれか１項に記載の方法。
- 前記多層発泡構造体の密度は２０～２５０ｋｇ／ｍ3である、請求項１～１２のいずれか１項に記載の方法。
- 前記多層発泡構造体の厚さは０．２～５０ｍｍである、請求項１～１３のいずれか１項に記載の方法。
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