JPWO2021117732A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JPWO2021117732A5
JPWO2021117732A5 JP2021563978A JP2021563978A JPWO2021117732A5 JP WO2021117732 A5 JPWO2021117732 A5 JP WO2021117732A5 JP 2021563978 A JP2021563978 A JP 2021563978A JP 2021563978 A JP2021563978 A JP 2021563978A JP WO2021117732 A5 JPWO2021117732 A5 JP WO2021117732A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
steel strip
manufacturing
roll surface
foreign matter
present
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2021563978A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JPWO2021117732A1 (https=
JP7502662B2 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority claimed from PCT/JP2020/045711 external-priority patent/WO2021117732A1/ja
Publication of JPWO2021117732A1 publication Critical patent/JPWO2021117732A1/ja
Publication of JPWO2021117732A5 publication Critical patent/JPWO2021117732A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7502662B2 publication Critical patent/JP7502662B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2021563978A 2019-12-12 2020-12-08 ロール表面の異物除去装置、ロール表面の異物除去方法、及び鋼帯の製造方法 Active JP7502662B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019224801 2019-12-12
JP2019224801 2019-12-12
PCT/JP2020/045711 WO2021117732A1 (ja) 2019-12-12 2020-12-08 ロール表面の異物除去装置、ロール表面の異物除去方法、及び鋼帯の製造方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JPWO2021117732A1 JPWO2021117732A1 (https=) 2021-06-17
JPWO2021117732A5 true JPWO2021117732A5 (https=) 2022-07-22
JP7502662B2 JP7502662B2 (ja) 2024-06-19

Family

ID=76329855

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2021563978A Active JP7502662B2 (ja) 2019-12-12 2020-12-08 ロール表面の異物除去装置、ロール表面の異物除去方法、及び鋼帯の製造方法

Country Status (6)

Country Link
US (1) US20220402097A1 (https=)
JP (1) JP7502662B2 (https=)
CN (1) CN114786872A (https=)
BR (1) BR112022010602A2 (https=)
MX (1) MX2022006954A (https=)
WO (1) WO2021117732A1 (https=)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114131032B (zh) * 2021-11-27 2024-05-28 南华大学 用于去除核废金属放射性的专用钢丸制备系统

Family Cites Families (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07186048A (ja) * 1993-12-28 1995-07-25 Toray Ind Inc 糸条移送ロールの洗浄方法及びその装置
US5795626A (en) * 1995-04-28 1998-08-18 Innovative Technology Inc. Coating or ablation applicator with a debris recovery attachment
DE19520551A1 (de) * 1995-06-06 1996-12-12 Roland Man Druckmasch Verfahren und Vorrichtung zum Reinigen eines Zylinders einer Rotations-Druckmaschine
US5709590A (en) * 1995-10-13 1998-01-20 Ltc Americas Inc. Pressure-balanced vacuum blast head
US6773334B1 (en) * 1997-11-12 2004-08-10 Akron Special Machinery, Inc. Dust collection and removal system
DE19808691A1 (de) * 1998-03-03 1999-09-09 Tkd Gmbh & Co Kg Hubarbeitsbühne und Verfahren zum Betrieb einer Hubarbeitsbühne
EP1038674A1 (en) * 1999-02-26 2000-09-27 Alfred M. Petersen Blast cleaning apparatus for printing machines
JP2000317836A (ja) * 1999-05-12 2000-11-21 Nippon Steel Corp 圧延用ロール表面の加工方法
US6431963B1 (en) * 2000-10-04 2002-08-13 Richard L. Delmoro Tire uniformity machine grinder
JP2002120153A (ja) * 2000-10-13 2002-04-23 Hitachi Ltd ショットピーニング装置
JP2003112217A (ja) * 2001-09-28 2003-04-15 Ikk Shotto Kk 金属材表面の酸化皮膜の除去方法
JP3932947B2 (ja) * 2002-03-28 2007-06-20 Ｊｆｅスチール株式会社 ロール表面手入れ装置及びロール表面手入れ方法
SG111091A1 (en) * 2002-10-29 2005-05-30 Advanced Systems Automation Handler for semiconductor singulation and method therefor
JP3976695B2 (ja) * 2003-03-11 2007-09-19 日新製鋼株式会社 調質圧延機テンションロールの異物除去方法
DE102005014825B4 (de) * 2005-03-30 2007-06-21 Selim Özhan Verfahren zur Reinigung der Oberfläche von rotativ angetriebenen Rollen
JP2009085354A (ja) * 2007-09-28 2009-04-23 Fujifilm Corp コーティングロールの加工方法、コーティングロール及び塗布装置
KR100920755B1 (ko) * 2009-02-24 2009-10-07 (주)오양플라테크 플라스틱 메디아를 이용한 고무롤러의 재생방법 및 재생장치
DE102011052771A1 (de) * 2011-08-17 2013-02-21 Nordenia Deutschland Gronau Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur Entfernung von Verschmutzungen auf profilierten Oberflächen ineinander greifender Streckwalzen
US20130122327A1 (en) * 2011-11-11 2013-05-16 Shen Sheu Apparatus and method for imparting selected topographies to aluminum sheet metal
WO2013071114A1 (en) * 2011-11-11 2013-05-16 Alcoa Inc. Apparatus and method for imparting selected topographies to aluminum sheet metal
US20130273394A1 (en) * 2011-11-11 2013-10-17 Alcoa, Inc Apparatus and Method for Imparting Selected Topographies to Aluminum Sheet Metal
JP2014180728A (ja) * 2013-03-19 2014-09-29 Work Up Asakura:Kk ショットブラスト装置
JP6111138B2 (ja) * 2013-05-13 2017-04-05 オーエスジー株式会社 ウォーム転造用平ダイスおよびその製造方法
JP6441113B2 (ja) * 2015-02-17 2018-12-19 ビルドメンテック株式会社 研掃システムのノズルヘッドおよび研掃システム
TWM501902U (zh) * 2015-03-18 2015-06-01 China Steel Corp 去除絞乾輥表面異物的裝置
CN108348969B (zh) * 2015-09-04 2019-10-01 Posco公司 异物去除装置
JP6949503B2 (ja) * 2017-02-15 2021-10-13 三菱重工業株式会社 部品製造システム及び部品製造方法
CN106985080A (zh) * 2017-04-10 2017-07-28 南京信息工程大学 吸入式双缸喷砂机

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5294072B2 (ja) エッチング加工用素材の製造方法及びエッチング加工用素材
DE112014001496B4 (de) Verfahren zum Polieren eines Siliziumwafers und Verfahren zur Herstellung eines Epitaxiewafers
JP2011054825A5 (https=)
TW200505617A (en) Method and apparatus for removing an edge region of a layer applied to a substrate and for coating a substrate and a substrate
JPWO2021117732A5 (https=)
TW200745390A (en) Method and device for processing a semiconductor wafer by etching
JP2014133375A (ja) 電解研磨法を使用したスクリーン印刷用部材、及びスクリーン印刷用部材の製造方法
TWI767046B (zh) 矽晶圓的評價方法以及矽晶圓的製造方法
TW201700188A (zh) 矽晶圓的洗淨方法
ATE453735T1 (de) Verfahren zur entfernung der verbundbeschichtung von einem keramischen substrat
JP2015128160A (ja) 指紋／引掻き傷防止構造を有する電気装置およびその製造方法
TWI327606B (en) Methods and removers for removing anodized films
CN103972052A (zh) 应用晶边扫描预防线状分布缺陷发生的方法
JP5261203B2 (ja) アルミニウム合金スペーサおよびその製造方法
DE112010003101T5 (de) Verfahren zur Oberflächenbehandlung eines Wafers
DE60107035T2 (de) Quarzglasvorrichtungen für die Halbleiterindustrie und Verfahren zur deren Herstellung
JP2020083671A5 (https=)
EP3573090A1 (en) Semiconductor wafer cleaning method
JP2786388B2 (ja) ステンレス研磨製品の製造方法及び製造装置
CN112420539A (zh) 一种硅片处理方法和硅片
JP4703803B2 (ja) アルミニウム材の電解研磨処理方法
JP4826372B2 (ja) 均一皮膜を有するステンレス鋼板およびその製造方法
JP2003243403A (ja) 半導体ウェハの再生方法
CN106222664A (zh) 一种铝合金工件的表面处理方法、铝合金壳体及移动终端
TW593752B (en) Method of phosphate surface treatment on metal surface for subsequent coating