JPWO2021033375A1 - 焼成用ラック及び焼成用治具 - Google Patents

Abstract

焼成用ラックは、枠体と、柱部と、複数の囲繞部と、複数の副柱部を備えている。枠体は、表面に平板状セッターが配置されるとともに開口部を有する。柱部は、枠体の中心を通過するように枠体間を伸びる。囲繞部は、枠体と柱部によって囲まれた範囲である。副柱部は、各囲繞部の中心から枠体又は柱部に向けて伸びている。

Description

本明細書は、焼成用ラック及び焼成用治具に関する技術を開示する。特に、被焼成物が積載される平板状セッターを配置するための焼成用ラックに関する技術を開示する。

セラミックス製品等の被焼成物の焼成工程において、被焼成物をセッター上に積載して焼成する技術が知られている。国際公開ＷＯ２０１５／００８５０３号（以下、特許文献１と称する）には、複数の平板状セッターを、焼成用ラックを用いて積層する技術が開示されている。特許文献１の焼成用ラックは、枠体で囲まれた開口部分に枠体間を接続するように十字状の柱部（架橋部）を設け、焼成工程において平板状セッターが変形することを防止している。

特許文献１の焼成用ラックは、柱部によって平板状セッターの中心を支え、平板状セッターが変形することを防止している。しかしながら、特許文献１の焼成用ラックを用いた場合、柱部に支えられている部分（柱部と接触している部分）と柱部に支えられていない部分（柱部と非接触の部分）とでは、平板状セッターの温度が異なることがある。例えば、昇温工程においては、柱部と接触している部分と比較して柱部と非接触の部分の方が、平板状セッターの温度が高くなることがある。一方、降温工程においては、柱部と接触している部分と比較して柱部と非接触の部分の方が、平板状セッターの温度が低くなることがある。平板状セッターの面内で温度ムラが生じると、被焼成物に焼成ムラが生じることがある。本明細書は、積載する平板状セッターの面内温度分布を低減し得る焼成用ラックを提供することを目的とする。

本明細書で開示する焼成用ラックは、被焼成物が積載される平板状セッターを配置するように構成されている。その焼成用ラックは、表面に平板状セッターが配置されるとともに開口部を有する枠体と、枠体の中心を通過するように枠体間を伸びる柱部と、枠体と柱部によって囲まれた複数の囲繞部と、囲繞部の中心から枠体又は柱部に向けて伸びる複数の副柱部を備えていてよい。

本明細書では、上記焼成用ラックと、焼成用ラックの表面に配置される平板状セッターを備える焼成用治具も開示する。その焼成用治具では、焼成用ラックと平板状セッターが同質の材料で形成されていてよい。

第１実施例の焼成用ラックの平面図を示す。 第１実施例の焼成用ラックを用いた焼成用治具の断面図を示す。 焼成用治具を積層した状態の斜視図を示す。 第２実施例の焼成用ラックの平面図を示す。 第３実施例の焼成用ラックの平面図を示す。 第４実施例の焼成用ラックの平面図を示す。

以下、本明細書で開示される技術の特徴を整理する。なお、以下に記す事項は、各々単独で技術的な有用性を有している。

（焼成用治具）
本明細書で開示する焼成用治具は、例えば、セラミックス製品等の被焼成物の焼成工程で用いられる。焼成用治具は、被焼成物を積層するための平板状セッターと、平板状セッターを配置するように構成された焼成用ラックを備えていてよい。すなわち、焼成用治具は、焼成用ラックと、焼成用ラックとは別部品の平板状セッターを備えていてよい。平板状セッター及び焼成用ラックは、アルミナ質、ムライト質、ジルコニア質、窒化ケイ素質、炭化ケイ素質等の材料で形成されていてよい。平板状セッターと焼成用ラックは、同質の材料で構成されていてもよいし、異質の材料で構成されていてもよい。焼成の際の温度追従性（炉内雰囲気温度の変化に伴う、平板状セッター及び焼成用ラックの温度変化）を良好にするため、平板状セッターと焼成用ラックは、同質の材料で構成されていることが好ましい。

平板状セッター及び／又は焼成用ラックの材料は、特に、炭化ケイ素質であることが好ましい。炭化ケイ素質は、高強度であり、耐衝撃性にも優れることが知られている。そのため、炭化ケイ素質を利用して平板状セッター及び／又は焼成用ラックを作製すると、平板状セッター及び／又は焼成用ラックを薄肉化することができる。その結果、焼成用治具が軽量化され、焼成用治具の熱容量を低減することができる。すなわち、平板状セッター及び／又は焼成用ラックの材料として炭化ケイ素質を用いることにより、温度追従性の良好な焼成用治具を実現することができる。また、炭化ケイ素質は、上記した他の材料と比較して熱伝導率が高く、その点も温度追従性の向上に寄与する。なお、本明細書でいう「炭化ケイ素質」は、不可避不純物を除き、実質的に単体のＳｉＣ（再結晶ＳｉＣ）、Ｓｉ_３Ｎ_４−ＳｉＣ（Ｓｉ_３Ｎ_４：２０〜３０ｗｔ％，ＳｉＣ：７０〜８０ｗｔ％）、Ｓｉ含有ＳｉＣ（Ｓｉ：１〜３０ｗｔ％，ＳｉＣ：７０〜９９ｗｔ％）を意味する。

（焼成用ラック）
焼成用ラックは、枠体、柱部、囲繞部、副柱部、突出部を備えていてよい。なお、枠体、柱部、副柱部、突出部は、一体成型されていてもよいし、一部又は全てが別部品であって、各部品を組み立てることによって焼成用ラックが形成されていてもよい。また、詳細は後述するが、囲繞部は、枠体と柱部によって形成される領域である。

枠体は、焼成用ラックの外周を一巡し、焼成用ラックの外縁を構成していてよい。枠体の内側は、開口していてよい。すなわち、枠体はリング状であってよい。枠体の形状（焼成用ラックの外縁形状）は、三角形、四角形等の多角形、または、円形であってよい。特に限定されてないが、枠体の形状は四角形が好ましく、特に、正方形又は長方形であることが好ましい。なお、枠体の形状が正方形又は長方形である場合、枠体（焼成用ラックの外縁）のサイズは、１００〜５００ｍｍであってよい。また、枠体の厚みは、１〜５ｍｍであってよい。枠体の表面は、平板状セッターを配置するための配置面（セッター配置面）の一部を構成してよい。

枠体の表面に、複数の突出部が設けられていてよい。枠体の表面に突出部を設けることにより、焼成用ラックに平板状セッターを配置する際、あるいは、平板状セッターが配置されている焼成用治具が使用される際、焼成用ラックに対する平板状セッターの配置位置を規制することができる。例えば、焼成用治具が連続焼成炉で利用される場合、焼成用治具が搬送される際に受ける振動によって焼成用ラックに対する平板状セッターの位置がずれることを抑制することができる。また、突出部は、焼成用治具を積層する際、焼成用治具間（平板状セッターと上段の焼成用ラックの間）に隙間を設けるスペーサとして機能する。突出部の厚み（突出高さ）は、平板状セッター及び焼成する被焼成物のサイズに併せて適宜調整してよい。例えば、平板状セッターの厚みは０．３〜１０ｍｍであってよく、突出部の厚みは１〜２０ｍｍであってよい。枠体の内側には、枠体間を接続する柱部が設けられていてよい。

柱部は、枠体の中心を通過して枠体間を結ぶように直線状に伸び、枠体間を接続していてよい。なお、「枠体の中心」とは、枠体を平面視（平板状セッターが配置される側から観察）したときに、枠体の外縁または内縁に対する中心点を意味しており、枠体の幅及び厚みが周方向で一定の場合、「枠体の重心」に相当する。なお、柱部の厚みは、枠体の厚みと同一であってよく、例えば、１〜１０ｍｍであってよく、１〜５ｍｍであってもよい。また、枠体と柱部が一体成型されている場合、枠体（枠体の内縁）と柱部の接続部分において、両者の間に明確な境界が存在しない。このような場合、柱部が接続していない部分の枠体の内縁同士を結び、一巡する仮想内縁を作成することにより、「枠体の中心」を決定することができる。柱部は、枠体の中心を通過していれば、一方向に伸びていても（柱部が１個であっても）よいし、複数方向に伸びていても（柱部が複数個であっても）よい。なお、枠体に加え、柱部にも突出部が設けられていてよい。柱部に突出部を設けることにより、焼成用ラックに複数の平板状セッターを配置する際、各平板状セッターの配置位置を規制することができる。柱部によって、枠体内の開口（枠体の内縁に囲まれた空間）が複数の開口に分割される。すなわち、枠体内に柱部を設けることによって、枠体と柱部に囲まれた複数の囲繞部が形成される。

囲繞部の形状は、枠体及び柱部の形状に依存する。例えば、枠体が四角形の場合、１個の柱部が枠体の対向する辺（頂点を共有しない辺）を結ぶように形成されていれば、囲繞部は四角形となる。また、１個又は２個の柱部が枠体の対向する頂点（辺を共有しない頂点）を結ぶように形成されていれば、囲繞部は三角形となる。また、枠体が長方形又は正方向の場合、１個又は２個の柱部が枠体の辺に直交するように形成されていれば、各囲繞部は、同形状（同サイズ）の四角形となる。あるいは、枠体が長方形又は正方向の場合、１個の柱部が枠体の対向する頂点を結ぶように形成されていれば、各囲繞部は、同形状の三角形となる。特に限定されないが、枠体内に形成される複数の囲繞部の形状は、全て同形状であることが好ましい。なお、各囲繞部の形状が同形状の場合、全ての囲繞部が同サイズであってもよいし、異なっていてもよい。

副柱部は、囲繞部内に設けられており、囲繞部の中心から枠体又は柱部に向けて伸びている。副柱部は囲繞部内に複数設けられており、全ての副柱部が囲繞部の中心で接続されていてよい。なお、「囲繞部の中心」とは、囲繞部（焼成用ラック）を平面視したときの中心点を意味し、囲繞部を構成する枠体及び柱部の幅、厚みが一定の場合、「囲繞部の重心」に相当する。また、副柱部が、囲繞部を構成する枠体及び／又は柱部と一体成型されている場合、副柱部が接続していない部分の内面（内側面）同士を結び、一巡する仮想囲繞部を作成することにより、「囲繞部の中心」を決定することができる。副柱部は、囲繞部の中心から放射状（直線状）に伸びていてもよいし、曲線状（非直線状）に伸びていてもよい。また、副柱部が囲繞部の中心から放射状に伸びている場合、隣合う副柱部が成す角度が全て等しくてよい。さらに、柱部（囲繞部を構成している部材）が伸びる方向と副柱部が伸びる方向は、同じであってもよいし異なっていてもよい。なお、枠体、柱部及び副柱部の表面は、同一平面内に含まれていてよい。これにより、枠体、柱部及び副柱部の全体で、平板状セッターの配置面を形成することができる。副柱部の厚みは、柱部及び枠体の厚みと同一であってよく、例えば、１〜５ｍｍであってよい。

（第１実施例）
図１及び図２を参照し、焼成用ラック５０及び焼成用治具６０について説明する。図１は焼成用ラック５０を示しており、図２は焼成用ラック５０に平板状のセッター３２が配置された焼成用治具６０を示している。なお、図２は、図１のII−II線に沿った断面に相当する。焼成用ラック５０及びセッター３２は、ＳｉＣ質で形成されている。焼成用治具６０は、１個の焼成用ラック５０に２個のセッター３２を配置することによって形成されている。なお、焼成用治具６０は、セラミックス製品等の焼成工程において、焼成するセラミックス製品を積載するために用いられる。

図１に示すように、焼成用ラック５０は、枠体２と、枠体２の中心６を通過している柱部４と、枠体２と柱部４によって囲まれた囲繞部１０ａ，１０ｂの中心１２ａ，１２ｂを通過している副柱部１４ａ，１４ｂと、枠体２及び柱部４の一部に設けられている突出部（リブ）２４，２６を備えている。枠体２は、Ｘ方向に伸びる２個の第１枠部２ａと、Ｘ方向に直交するＹ方向に伸びる２個の第２枠部２ｂによって構成されており、外形が略長方形のリング状である。そのため、枠体２の内側には開口が形成される。柱部４は、第１枠部２ａ，２ａ間を結ぶようにＹ方向（第２枠部２ｂに平行）に伸びている。その結果、柱部４によって、枠体２内の開口が２個に分離される。さらに、副柱部１４ａ，１４ｂによって、２個に分離された開口が各々４個に分離され、枠体２内に合計８個の三角形の開口部２０ａ，２０ｂが形成される。なお、枠体２の幅（第１枠部２ａのＹ方向長さ、第２枠部２ｂのＸ方向長さ）は一定である。

焼成用ラック５０は、２個のセッター配置領域３０ａ，３０ｂを有している。すなわち、１個の焼成用ラック５０に、２個のセッター３２を配置することができる。セッター配置領域３０ａ，３０ｂは、枠体２、柱部４、副柱部１４ａ及び１４ｂによって構成されている。具体的には、セッター配置領域３０ａが、枠体２の一部と、柱部４の一部と、副柱部１４ａによって構成されている。また、セッター配置領域３０ｂが、枠体２の一部と、柱部４の一部と、副柱部１４ｂによって構成されている。セッター配置領域３０ａ，３０ｂを囲むように、突出部２４，２６が配置されている。突出部２４は焼成用ラック５０の四隅に設けられており、突出部２６は柱部４の両端（第１枠部２ａの長手方向（Ｘ方向）の中央）に設けられている。突出部２４はセッター配置領域３０ａ，３０ｂの双方を囲むように配置されており、突出部２６はセッター配置領域３０ａと３０ｂを分離するように設けられている。すなわち、突出部２４，２６によって、セッター配置領域３０ａと３０ｂが形成されている。

なお、実質的に、セッター配置領域３０ａとセッター配置領域３０ｂの構造は同一である。そのため、以下の説明では、セッター配置領域３０ａの構成部品とセッター配置領域３０ｂの構成部品等、実質的に同じ構造について説明するときは、参照番号のアルファベットを省略して説明することがある。

枠体２、柱部４及び副柱部１４の表面（セッター３２が配置される配置面）は、同一平面（Ｘ−Ｙ面）に含まれる。すなわち、セッター配置領域３０の表面は平坦である。そのため、セッター３２は、枠体２、柱部４及び副柱部１４の全てによって支持される。なお、突出部２４，２６は、セッター配置領域３０を囲むように配置されているので、セッター３２を焼成用ラック５０に配置したときに、突出部２４，２６がセッター３２の裏面に位置することはない。

図１に示すように、柱部４は、枠体２の中心６を通過して第１枠部２ａ間をＹ方向に伸びている。すなわち、柱部４は、第２枠部２ｂと平行であり、第１枠部２ａと直交している。柱部４は、枠体２（第１枠部２ａ）と一体成型されている。柱部４の幅（Ｘ方向長さ）は、Ｙ方向で一定である（枠体２と一体となっている部分を除く）。枠体２内に柱部４を設けることにより、柱部４の両側（Ｘ方向両側）に囲繞部１０（１０ａ，１０ｂ）が形成されている。囲繞部１０ａ，１０ｂは正方形であり、両者のサイズは等しい。

囲繞部１０内には、囲繞部１０の中心１２を起点として、４個の副柱部１４が枠体２又は柱部４に向けて（囲繞部１０の外側に向けて）伸びている。なお、図１に示す囲繞部１０は、枠体２の内側面（柱部４及び副柱部１４が接続されていない部分）と、柱部４の側面（枠体２及び副柱部１４が接続されていない部分）と延長して結んだ仮想的な範囲（仮想囲繞部）である。副柱部１４は、中心１２から囲繞部１０の頂点に向けて放射状に伸びている。そのため、副柱部１４は、枠体２及び柱部４に対して非平行である（異なる方向に伸びている）。なお、隣り合う副柱部１４が成す角度は９０度である。各副柱部１４、枠体２、柱部４は、一体成型されている。そのため、四角形（正方形）の囲繞部１０内に、囲繞部１０の中心１２と４個の頂点を接続する１個の副柱部１４が設けられていると捉えることもできる。

焼成用ラック５０の利点について説明する。焼成用ラック５０は、内側に開口を有する枠体２によって形成されているので、例えばセッター配置面が平板状の焼成用ラックと比較して、セッター中央部とセッター端部の温度差（面内温度分布）を低減することができる。換言すると、焼成用ラック５０は、セッター中央部の温度追従性を改善することができる。また、柱部４が枠体２の中心６を通過して枠体２間を接続しているので、焼成の際、枠体２自身、あるいは、セッターが変形することを抑制することができる。また、柱部４を設けることによって焼成用ラック５０の強度が向上するので、焼成用ラック５０の厚み（セッター配置面の厚み）を薄くすることができ、軽量な焼成用ラック５０を実現することができる。なお、セッター配置面の厚みが薄くなるに従って、セッター配置面の熱容量が低減し、セッターの温度追従性が改善する。

焼成用ラック５０は、枠体２と柱部４で囲まれた囲繞部１０内に副柱部１４を設けることにより、焼成の際、セッターの面内温度分布をさらに低減することができる。上記したように、枠体２を用いて焼成用ラック５０を形成することにより、セッター中央部の温度追従性を改善することができる。しかしながら、囲繞部１０内に副柱部が設けられていない場合、セッターの囲繞部の中心に対応する部分と囲繞部の外側に対応する部分（セッターと枠体又は柱部が接する部分）の間で、温度差が生じやすくなる。具体的には、囲繞部の中心に対応する部分ではセッターの温度が高くなり、囲繞部の外側に対応する部分ではセッターの温度が低くなる。焼成用ラック５０のように囲繞部１０内に副柱部１４を設けると、囲繞部１０の中心１２と囲繞部１０の外側に熱橋が形成され、セッターの面内温度分布を低減することができる。

図３に示すように、焼成の際、複数の焼成用治具６０（焼成用ラック５０）が積層されることがある。この場合、枠体２の表面に突出部２４，２６を設けることにより、焼成用ラック５０を積層したときに、セッター３２とそのセッター３２の上段に積層されている焼成用ラック５０の間に隙間を設けることができる。焼成用ラック５０とは別体のスペーサ等を用いることなく、焼成用ラック５０を積層するだけで、セッター３２の表面に空間（被焼成物を配置する空間）を確保することができる。なお、焼成用ラック５０は、枠体２の裏面（突出部２４，２６が設けられている面の反対側の面）に、突出部２４，２６の先端部分（突出方向（Ｚ＋方向）の端部）を収容する窪みを有していてもよい。突出部２４，２６の先端を窪み内に収容することにより、各焼成用ラック５０同士の位置ずれを防止することができる。

また、突出部２４，２６を設けることにより、セッター３２を焼成用ラック５０の表面で位置決めすることができる。すなわち、セッター３２が焼成用ラック５０から落下する等、焼成用ラック５０に対するセッター３２の移動を抑制することができる。なお、枠体２の裏面に突出部を設けても、各焼成用治具の間に隙間を設けることはできる。しかしながら、この場合、セッター３２を焼成用ラックの表面で位置決めすることができず、振動等によって焼成用ラックに対してセッター３２が位置ずれすることがある。そのため、枠体２の裏面に突出部が設けられた焼成用ラックは、例えば、焼成用ラックに振動が加わり易い連続焼成炉等で用いることに適さない。焼成用ラック５０は、枠体２の表面に設けた突出部２４，２６によってセッター３２が位置決めされるので、種々のタイプの焼成炉で使用することができる。なお、セッター３２よりサイズが大きいセッター（例えばセッター３２の２倍のサイズ）を用いる場合、突出部２６を削除してもよい。この場合でも、突出部２４が枠体２の四隅に設けられていれば、セッターの表面に空間を確保することができるとともに、セッターを焼成用ラックの表面で位置決めすることができる。

以下、焼成用ラック１５０、２５０及び３５０について説明する。焼成用ラック１５０、２５０及び３５０は、焼成用ラック５０の変形例である。そのため、焼成用ラック１５０、２５０及び３５０について、焼成用ラック５０と実質的に同じ部品には、焼成用ラック５０に付した参照番号と同一又は下二桁が同一の参照番号を付すことによって説明を省略することがある。なお、焼成用ラック１５０、２５０及び３５０についても、表面にセッターを配置することによって焼成用治具が形成される。

（第２実施例）
図４に示す焼成用ラック１５０では、副柱部１６，１８が伸びる方向が、焼成用ラック５０の副柱部１４と異なる。具体的には、副柱部１６（１６ａ，１６ｂ）は、第２枠部２ｂに平行に（Ｙ方向に）伸び、第１枠部２ａ，２ａ間を接続している。また、副柱部１８（１８ａ，１８ｂ）は、第１枠部２ａに平行に（Ｘ方向に）伸び、第２枠部２ｂと柱部４を接続している。副柱部１６，１８によって、囲繞部１０ａ，１０ｂ内が各々４個に分離され、合計８個の四角形の開口部１２０ａ，１２０ｂに分離されている。このような形態であっても、囲繞部１０の中央から囲繞部１０の端部に熱橋（副柱部１６，１８）が形成され、セッターの面内温度分布を低減することができる。なお、焼成用ラック１５０において、囲繞部１０ｂ内の構造は変更せず、囲繞部１０ａ内の副柱部１６ａ，１８ａに代えて、副柱部１４ａ（図１を参照）を設けてもよい。

（第３実施例）
図５に示す焼成用ラック２５０は、枠体２の外形が略正方向のリング状である。焼成用ラック２５０は、第１枠部２ａ，２ａ間を結ぶ第１柱部４ａと、第２枠部２ｂ，２ｂ間を結ぶ第２柱部４ｂを備えている。第１柱部４ａはＹ方向（第２枠部２ｂに平行）に伸びており、第２柱部４ｂはＸ方向（第１枠部２ａに平行）に伸びている。柱部４ａ、４ｂによって、枠体２内に４個の囲繞部１０（１０ａ，１０ｂ，１０ｃ，１０ｄ）が形成されている。各囲繞部１０内には、各囲繞部１０の中心１２（１２ａ，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）から各囲繞部１０の頂点に向けて４個の副柱部１４（１４ａ，１４ｂ，１４ｃ，１４ｄ）が設けられている。その結果、焼成用ラック２５０は、枠体２内に合計１６個の三角形の開口部２０（２０ａ，２０ｂ，２０ｃ，２０ｄ）が形成されている。各囲繞部１０の構造（囲繞部１０を構成する枠体２、柱部４、副柱部１４の形態）は同一である。

焼成用ラック２５０では、突出部２４が焼成用ラック２５０の四隅に設けられており、突出部２６が柱部４ｂの両端と、柱部４ｂの中央（焼成用ラック２５０の中心６を含んでおり、柱部４ａの中央でもある）に設けられている。その結果、焼成用ラック２５０には、４個のセッター配置領域３０（３０ａ，３０ｂ，３０ｃ，３０ｄ）が形成されている。すなわち、１個の焼成用ラック２５０に、４個のセッターを配置することができる。各セッター配置領域３０は、各々１個の囲繞部１０を含んでいる。上記したように、各囲繞部１０（１０ａ，１０ｂ，１０ｃ，１０ｄ）の構造は同一である。そのため、各セッター配置領域３０（３０ａ，３０ｂ，３０ｃ，３０ｄ）の構造も同一である。なお、焼成用ラック２５０において、囲繞部１０ａ，１０ｂ，１０ｃ，１０ｄの何れか又は全てについて、副柱部１４に代えて、副柱部１６，１８（図４を参照）を設けてもよい。また、突出部２６を削除し、１個の焼成用ラック２５０に、１個又は２個のセッターを配置して（セッター配置領域を１個又は２個にして）よい。

（第４実施例）
図６に示す焼成用ラック３５０は、枠体２の外形が略正方向のリング状であり、枠体２の対向する頂点（第１枠部２ａと第２枠部２ｂの交点）を結ぶ第１柱部３０４ａと、第１柱部３０４ａが結ぶ頂点とは異なる頂点を結ぶ第２柱部３０４ｂを備えている。すなわち、焼成用ラック３５０では、柱部３０４ａ，３０４ｂが、枠体２（第１枠部２ａ及び第２枠部２ｂ）とは異なる方向に伸びている。焼成用ラック３５０では、柱部３０４ａ，３０４ｂによって、枠体２内に４個の三角形の囲繞部３１０（３１０ａ，３１０ｂ，３１０ｃ，３１０ｄ）が形成されている。各囲繞部３１０内には、各囲繞部３１０の中心３１２（３１２ａ，３１２ｂ，３１２ｃ，３１２ｄ）から各囲繞部３１０の頂点に向けて３個の副柱部（１個の副柱部１５と２個の副柱部１７）が伸びている。副柱部１５は、中心３１２から柱部３０４ａ，３０４ｂの交点に向けて（焼成用ラック３５０の中心６に向けて）伸びている。副柱部１７は、中心３１２から柱部３０４と枠体２の交点に向けて伸びている。各囲繞部３１０内には、３個の三角形の開口部２１，２２，２３が形成されており、枠体２内に合計１２個の開口部２１，２２，２３が形成されている。各囲繞部３１０の構造（枠体２、柱部３０４、副柱部１５，１７の形態）は同一である。

焼成用ラック３５０では、突出部２４及び突出部２６が、実質的に焼成用ラック２５０と同じ位置に設けられている（図５を比較参照）。具体的には、突出部２４が焼成用ラック３５０の四隅に設けられており、突出部２６が柱部３０４ａと３０４ｂの交点（焼成用ラック３５０の中心６を含む位置）と第２枠部２ｂの長手方向（Ｙ方向）の中点に設けられている。その結果、焼成用ラック３５０には、焼成用ラック２５０（図５）と同じ位置に、４個のセッター配置領域３０（３０ａ，３０ｂ，３０ｃ，３０ｄ）が形成されている。そのため、焼成用ラック３５０では、各セッター配置領域３０は、各々２個の囲繞部３１０の一部により構成される。しかしながら、各囲繞部３１０の構造が同一であるため、結果として各セッター配置領域３０の構造も同一となる。なお、焼成用ラック３５０においても、突出部２６を削除し、１個の焼成用ラック３５０に、１個又は２個のセッターを配置して（セッター配置領域を１個又は２個にして）よい。

上記した焼成用ラック５０，１５０，２５０，３５０の何れも、開口を有する枠体２内に枠体２の中心６を通過して枠体２間を伸びる柱部（柱部４，３０４）が設けられており、枠体２と柱部（柱部４，３０４）によって囲まれた囲繞部（囲繞部１０，３１０）内に囲繞部の中心（中心１２，３１２）から囲繞部の端部（枠体２と柱部）に向けて伸びる複数の副柱部（副柱部１４，１５，１６，１７，１８）を備えているという共通した特徴を有している。その結果、焼成の際、囲繞部の中心と囲繞部の端部の温度差（温度追従性の差）が緩和され、セッター面内温度分布を低減することができる。

以上、本発明の具体例を詳細に説明したが、これらは例示に過ぎず、請求の範囲を限定するものではない。請求の範囲に記載の技術には、以上に例示した具体例を様々に変形、変更したものが含まれる。また、本明細書または図面に説明した技術要素は、単独であるいは各種の組合せによって技術的有用性を発揮するものであり、出願時請求項記載の組合せに限定されるものではない。また、本明細書または図面に例示した技術は複数目的を同時に達成し得るものであり、そのうちの一つの目的を達成すること自体で技術的有用性を持つものである。

２：枠体
４：柱部
６：枠体の中心
１０：囲繞部
１４：副柱部
３２：平板状セッター
５０：焼成用ラック
６０：焼成用治具

Claims (6)

1. 被焼成物が積載される平板状セッターを配置するように構成された焼成用ラックであって、
   表面に前記平板状セッターが配置されるとともに、開口部を有する枠体と、
   前記枠体の中心を通過して枠体間を伸びる柱部と、
   前記枠体と前記柱部によって囲まれた複数の囲繞部と、
   前記囲繞部の中心から前記枠体又は前記柱部に向けて伸びる複数の副柱部と、
   を備える焼成用ラック。
2. 前記囲繞部の各々の形状が同形状の多角形である請求項１に記載の焼成用ラック。
3. 前記柱部が伸びる方向と前記副柱部が伸びる方向が異なる請求項１又は２に記載の焼成用ラック。
4. 前記枠体の表面に、平板状セッターの配置位置を規制するように構成された複数の突出部が設けられている請求項１から３のいずれか一項に記載の焼成用ラック。
5. 焼成用ラックの材料が炭化ケイ素質である請求項１から４のいずれか一項に記載の焼成用ラック。
6. 請求項１から５のいずれか一項に記載の焼成用ラックと、
   焼成用ラックの表面に配置される平板状セッターと、を備え、
   焼成用ラックと平板状セッターが同質の材料で形成されている焼成用治具。

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