JPH1054672A - セラミックス焼成用セッター - Google Patents

セラミックス焼成用セッター

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JPH1054672A
JPH1054672A JP8211169A JP21116996A JPH1054672A JP H1054672 A JPH1054672 A JP H1054672A JP 8211169 A JP8211169 A JP 8211169A JP 21116996 A JP21116996 A JP 21116996A JP H1054672 A JPH1054672 A JP H1054672A
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JP
Japan
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setter
thickness
firing
fired
top plate
Prior art date
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Pending
Application number
JP8211169A
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English (en)
Inventor
Tsutomu Okada
勉 岡田
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Nippon Steel Corp
Original Assignee
Sumitomo Metal Industries Ltd
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Publication date
Application filed by Sumitomo Metal Industries Ltd filed Critical Sumitomo Metal Industries Ltd
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Publication of JPH1054672A publication Critical patent/JPH1054672A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 セッター上に置かれる被焼成物の温度分布の
均一化と、使用温度雰囲気下でのクリープ変形の抑制を
共に満足できるセッターを提供する。 【解決手段】 セラミックスを焼成する平板状のセッタ
ー11であり、その内部に外部に対して開放されている
貫通孔11aを設けた構成である。この貫通孔11aは
上下対称となる位置に設けることが好ましく、また、天
板11b及び床板11cの厚さt2 が9〜16mm、天
板11bと床板11cを接続する支柱11dの厚さW2
が17mm以下、支柱11dの総厚さΣW2 がセッター
11の幅W 1 の0.14倍以上であることが好ましい。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、セラミックスを焼
成したり熱処理する際に使用するセッターに関するもの
である。
【0002】
【従来の技術】セラミックス焼成用のセッターは、被焼
成物の形状により形が異なるが、棒状あるいはパイプ状
の品物を焼成する場合を除いて、通常は平板状のものが
用いられる。また、セッター上に置いた被焼成物を焼成
炉内に窯詰めするに際しては、生産性向上の観点から、
一般的に多段に段積みされている。
【0003】このような状態でセラミックスを焼成する
に際して問題となるのは、焼成時、被焼成物が不均一な
温度分布で焼成されることにより生じる熱応力割れと反
りである。このうち熱応力割れは被焼成物内の温度差が
主因であるが、反りは温度差だけでなく、セッターのク
リープ変形による要因も大きい。
【0004】被焼成物はセッターの上に置かれた状態で
焼成されるが、図5に示す従来の平板状のセッター1を
用いた場合、当然ながら被焼成物の上面とセッターに接
する下面とで温度差が生じる。この温度差はセッターの
厚みが厚い程大きくなる。従って、温度差の面だけから
言えばセッターの厚みは薄い方が良い。しかし、焼成時
に発生する被焼成物の反りの要因の一つであるセッター
のクリープ変形の面から言えば、セッターは厚い方が望
ましい。
【0005】従って、セッターには、セッター上に置か
れる被焼成物の温度分布を場所によらず均一にでき、か
つ、使用温度雰囲気下でのクリープ変形が小さいことが
要求される。そこで、これらの条件を満足させようとし
て、これまでに種々の考案が成されている。例えば実開
平1−167600号では、被焼成物を支持する部分を
ハニカム状に形成したセッターが、また、実開平2−9
799号では、底部の外面に複数のリブを設けたセッタ
ーが、また、実開平4−117395号では、図6に示
すように、平板の上下面に互いに直交する方向の溝2
a,2bを設けたセッター2が提案されている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記提
案されたセッターは、セッター上に置かれる被焼成物の
温度分布の均一化についてのみ考慮されたものであり、
使用温度雰囲気下でのクリープ変形を小さくすることに
ついては、何ら考慮されていない。
【0007】本発明は、上記した従来の問題点に鑑みて
なされたものであり、セッター上に置かれる被焼成物の
温度分布の均一化と、使用温度雰囲気下でのクリープ変
形の抑制を共に満足できるセッターを提供することを目
的としている。
【0008】
【課題を解決するための手段】セッターには、被焼成物
内の温度分布を均一にできること、及び、クリープ変形
が小さいこと等の条件が要求される。また、セッター
は、段積みを前提とした棚板として用いられるものであ
るから、被焼成物及びセッターの重量はセッター下部の
周縁部に配置される耐火物製ブロックによって支えられ
ることになる。従って、焼成中に発生するセッターのク
リープ変形はセッターの剛性に直接依存することにな
る。
【0009】以上の点から、焼成時のクリープ変形を抑
制するには、耐クリープ性に優れた材料を使用するか、
構造的な改良によって剛性を高めるしかない。しかし、
焼成が耐熱合金のような金属を使用できない1600℃
を越える高温条件下では、セッターの材質は耐火物でな
ければ対応できない。
【0010】また、被焼成物の温度分布を均一化するこ
とは、それによって焼成速度を高めることができると共
に、反りを低減できることから、セッターの被焼成物に
直接接触する部分の肉厚は極力薄いことが望まれる。
【0011】そこで、本発明は、耐火物製セッターに構
造的な改良を加えて剛性を高めつつ、処理能力の点から
高さをできるだけ低くして、焼成時のクリープ変形を抑
制するとともに、被焼成物の温度分布を均一化すること
としている。曲げ剛性の高い構造としてよく知られてい
るのはI型断面構造であり、その思想は、極力中立線か
ら遠い位置に材料を配置させることにある。そこで、本
発明ではこの思想を平板形状に適用し、内部をくり抜い
た中空断面を持つ形状としている。そしてその際、くり
抜いた内部の空間は密閉するのではなく、外部に対して
開放させることにより、対流熱伝達及び輻射熱でセッタ
ーを内面から加熱でき、その結果、薄い肉厚のセッター
を用いたときと同様の効果が期待でき、温度差の少ない
焼成が可能になる。
【0012】
【発明の実施の形態】本発明のセラミックス焼成用セッ
ターは、平板状のセッターの内部に空間を形成し、か
つ、その空間は側面において外部に対して開放させたも
のである。ところで、セッターは一度使用するとクリー
プ変形するので、焼成する毎に上下を逆にして使用す
る。従って、繰り返し使用の観点からセッターの形状は
上下対称であることが望ましいので、上記空間は上下対
象となる位置に設けることが好ましい。
【0013】また、上記した本発明のセッターにおい
て、天板及び床板の厚さt2 は9〜16mm、天板と床
板を接続する支柱の厚さW2 は17mm以下、支柱の総
厚さΣW2 はセッターの幅W1 の0.14倍以上である
ことが好ましい。
【0014】天板及び床板の厚さt2 が9mm未満であ
ると、セッターとして使用した際に、セッターの中心部
付近に発生する最大応力が大きくなってクリープ変形を
抑制できなくなる。また、16mmを越えると被焼成物
の上下面の温度差が大きくなって反りが大きくなる。そ
こで、本発明では天板及び床板の厚さt2 は9〜16m
mとしているのである。
【0015】また、天板と床板を接続する支柱の厚さW
2 が17mmを越えると、この支柱上に置かれた被焼成
物部分の、特に支柱の中心部における上下面の温度差が
大きくなる。そこで、本発明では天板と床板を接続する
支柱の厚さW2 を17mm以下としている。この支柱の
厚さW2 は小さい程、支柱上に置かれた被焼成物部分の
上下面の温度差が小さくなって、反りの観点からは好ま
しい。しかし、あまり小さくなりすぎると、曲げ剛性が
低くなる。そこで、本発明では、支柱の総厚さΣW2
セッターの幅W1 の0.14倍以上としている。
【0016】なお、支柱の総厚さΣW2 はセッターの幅
1 の0.14倍以上であればその上限は特に限定しな
いが、総厚さΣW2 が大きくなりすぎると、必然的に重
量増となり、また、支柱上に置かれた被焼成物部分の上
下面の温度差が大きくなるので、支柱の総厚さΣW2
セッターの幅W1 の0.40倍以下が好ましいことを本
発明者は実験によって確認している。
【0017】
【実施例】以下、本発明のセラミックス焼成用セッター
を図1〜図4に示す実施例に基づいて説明する。図1〜
図4は本発明のセラミックス焼成用セッターの第1〜第
4実施例を示すもので、それぞれ(a)は斜視図、
(b)は平面方向からみた断面図である。
【0018】図1に示す本発明のセラミックス焼成用セ
ッター11は、前面から後面に向けて矩形の貫通孔11
aを、上下対称の位置に複数個、平行に設けた構造であ
る。このような構造のセラミックス焼成用セッター11
では、同じ重量で作製した図5に示したような平板状の
セッターと比べて格段に高い曲げ剛性を有することにな
る。そして、焼成時にはこれらの貫通孔11a内を高温
雰囲気が対流及び輻射するので、図5に示したような平
板状のセッターと比べて、セッター11に置かれた被焼
成物の上下面の温度差が少なくなる。
【0019】図1に示すような本発明のセラミックス焼
成用セッター11の各部の寸法は、被焼成物の大きさと
重量に応じて最適値となるように設計する必要がある。
従って、天板11b及び床板11cの厚さや、天板11
bと床板11cを接続する支柱11dの厚さW2 もそれ
によって異なる。但し、繰り返し使用の観点からセッタ
ー11の形状は上下対称であることが望ましいので、貫
通孔11aは図1に示すように、上下対称となる位置に
設け、また、天板11bと床板11cの厚さt 2 も同じ
であることが好ましい。
【0020】下記表1は図1に示す形状のセッター11
(長さ600mm、幅600mm、厚さ38mm、材
質:Al2O3 85重量%、 SiO2 14重量%)上に、直径
が500mmで厚さが30mmの円板状のアルミナ製品
を載せ、1700℃で10時間焼成する実験を、各部寸
法を変化させて行った場合の結果を示したものである。
なお、表1には同じ寸法の図5に示す平板状のセッター
1を使用した場合の結果も併せて示す。
【0021】
【表1】 注1)応力、温度差はNo12の従来例と比較した値で表示
した。 注2)最大応力は中心部付近の下面に作用し、その向き
は貫通孔に直角である。 注3)総支柱厚さが薄い時の最大応力は支柱の根元に作
用し、向きは貫通孔に直角の方向である。 注4)床板の厚さは天板の厚さと同じである。
【0022】表1より明らかなように、天板11b及び
床板11cの厚さt2 が9〜16mmの場合(No2〜4
及びNo7〜10)には、セッター11の中心部付近に発
生する最大応力が小さいので、必然的にクリープ変形も
小さくなる。加えて、この場合には、被焼成物の上下面
の温度差も少なくなるので、発生する熱応力割れや反り
も小さかった。
【0023】これに対して天板11b及び床板11cの
厚さt2 が8mmの場合(No1)には、セッター11の
中心部付近に発生する最大応力が大きくなったので、そ
れに従ってクリープ変形も大きくなった。すなわち、こ
の場合には、寿命が短くなるので実用性はない。反対
に、天板11b及び床板11cの厚さt2 が17mmの
場合(No5)には、被焼成物の上下面の温度差が大きく
なったので、それに従って発生する熱応力割れや反りも
大きくなった。
【0024】また、天板11bと床板11cを接続する
支柱11dの厚さW2 が17mm以下の場合(No2〜4
及びNo7〜10)には、被焼成物の上下面の温度差も少
なくなるので、発生する熱応力割れや反りも小さかっ
た。これに対して支柱11dの厚さW2 が18mmの場
合(No11)には、被焼成物の上下面の温度差が大きく
なったので、それに従って発生する熱応力割れや反りも
大きくなった。
【0025】また、天板11bと床板11cを接続する
支柱11dの総厚さΣW2 がセッター11の幅W1
0.14倍以上、すなわち本実施例では84mm以上の
場合(No2〜4及びNo7〜10)には、セッター11の
中心部付近に発生する最大応力が小さいので、必然的に
クリープ変形も小さくなる。これに対して支柱11dの
総厚さΣW2 がセッター11の幅W1 の0.14倍未
満、例えば本実施例で72mmの場合(No6)には、セ
ッター11の中心部付近に発生する最大応力が大きくな
ったので、それに従ってクリープ変形も大きくなった。
すなわち、この場合には、寿命が短くなるので実用性は
ない。
【0026】なお、従来例の場合(No12)には、貫通
孔11aがないので、被焼成物の上下面の温度差が大き
くなり、それに従って発生する熱応力割れや反りも大き
くなる。加えて、重量も重たくなる。
【0027】本発明のセラミックス焼成用セッター11
は、その内部に空間を形成し、かつ、その空間は側面に
おいて外部に対して開放されているものであれば、図1
に示す実施例に限らないことは言うまでもない。
【0028】例えば図2のように、中央部に前面から後
面に向けて貫通孔11aを、両側にはそれぞれ側面から
中央部の貫通孔11aに向けて穴11eを設けたもので
もよい。この場合、貫通孔11aと穴11eとは開口1
1fで連通させておくことが望ましい。
【0029】また、図3のように、貫通孔11aを斜め
に設けたものでもよい。さらに、図4のように、中央部
に斜めに設けた貫通孔11aを配置し、両側にはこの貫
通孔11aに向けて穴11eを設けたものでもよい。こ
の場合、貫通孔11aと穴11eとは開口11fで連通
させておくことが望ましいことは、図2に示す実施例と
同様である。
【0030】ところで、本発明のセラミックス焼成用セ
ッター11に形成する空間の形状については特に限定さ
れないが、図1及び図4に示すような矩形状や、図3に
示す矩形状の四隅に小さなアールをつけたもの等が望ま
しい。
【0031】なお、図1〜図4に示す実施例では、繰り
返し使用が可能なように上下の対称位置に貫通孔11
a、穴11eを設けたものを示したが、繰り返し使用を
考慮しないのであれば、貫通孔11a、穴11eは必ず
しも上下の対称位置に設けなくても良い。また、この場
合、天板11bと床板11cの厚さは同じでなくてもよ
い。
【0032】本発明のセラミックス焼成用セッター11
を製造するに際しては、例えばAl2O 3 と SiO2 の混合物
(Al2O3 : SiO2 =4:1)を鋳込み成形した後、焼成
して製造する。
【0033】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のセラミッ
クス焼成用セッターによれば、焼成時のクリープ変形が
少なくなる。また、被焼成物の上下面における温度差も
小さくなるので、熱応力を低減できて、反りが低減す
る。さらに、軽量化が図れ、ハンドリング性が向上する
とともに、焼成時のエネルギーロスも低減できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のセラミックス焼成用セッターの第1実
施例を示すもので、それぞれ(a)は斜視図、(b)は
平面方向からみた断面図である。
【図2】本発明のセラミックス焼成用セッターの第2実
施例を示すもので、それぞれ(a)は斜視図、(b)は
平面方向からみた断面図である。
【図3】本発明のセラミックス焼成用セッターの第3実
施例を示すもので、それぞれ(a)は斜視図、(b)は
平面方向からみた断面図である。
【図4】本発明のセラミックス焼成用セッターの第4実
施例を示すもので、それぞれ(a)は斜視図、(b)は
平面方向からみた断面図である。
【図5】従来の平板状のセッターを示す斜視図である。
【図6】実開平4−117395号で提案されたセッタ
ーを示す斜視図である。
【符号の説明】
11 セッター 11a 貫通孔 11b 天板 11c 床板 11d 支柱 11e 穴

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 セラミックスを焼成する平板状のセッタ
    ーにおいて、その内部に空間を形成し、かつ、その空間
    は側面において外部に対して開放されていることを特徴
    とするセラミックス焼成用セッター。
  2. 【請求項2】 空間を上下対称となる位置に設けたこと
    を特徴とする請求項1記載のセラミックス焼成用セッタ
    ー。
  3. 【請求項3】 天板及び床板の厚さt2 が9〜16m
    m、天板と床板を接続する支柱の厚さW2 が17mm以
    下、支柱の総厚さΣW2 がセッターの幅W1 の0.14
    倍以上であることを特徴とする請求項2記載のセラミッ
    クス焼成用セッター。
JP8211169A 1996-08-09 1996-08-09 セラミックス焼成用セッター Pending JPH1054672A (ja)

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JP8211169A JPH1054672A (ja) 1996-08-09 1996-08-09 セラミックス焼成用セッター

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JP8211169A JPH1054672A (ja) 1996-08-09 1996-08-09 セラミックス焼成用セッター

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JP8211169A Pending JPH1054672A (ja) 1996-08-09 1996-08-09 セラミックス焼成用セッター

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