JPH0510998U - 焼成用セツター - Google Patents
焼成用セツターInfo
- Publication number
- JPH0510998U JPH0510998U JP8526191U JP8526191U JPH0510998U JP H0510998 U JPH0510998 U JP H0510998U JP 8526191 U JP8526191 U JP 8526191U JP 8526191 U JP8526191 U JP 8526191U JP H0510998 U JPH0510998 U JP H0510998U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- setter
- grooves
- fired
- substrate
- present
- Prior art date
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- Pending
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- Furnace Charging Or Discharging (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】本考案は、セラミックス基板等を焼成する際、
使用するセッターに関するものであり、その目的とする
ところは、被焼成物の変形を防止する様にしたセッター
の構造を改良したものである。 【構成】片側、或いは両側に多数の溝を有し、且つその
溝に多数の貫通孔を有することを特徴とした焼成用セッ
ターである。
使用するセッターに関するものであり、その目的とする
ところは、被焼成物の変形を防止する様にしたセッター
の構造を改良したものである。 【構成】片側、或いは両側に多数の溝を有し、且つその
溝に多数の貫通孔を有することを特徴とした焼成用セッ
ターである。
Description
【0001】
本考案は、焼成工程に於ける、焼成物の均質な加熱及び冷却をするためのセッタ ーに関するものであり、特にセラミックス基板等にガラスや回路形成物を焼付け るのに、使用するのに適したものである。
【0002】
従来、セラミックス基板にガラスを焼付けて、グレーズド基板を作成するセッタ ーとしては、特開昭57−118077号公報に示されるように、セラミックス 基板の熱膨脹係数を加味して、セッターの形状を凹面にしたり、或いは凸面にし て、平坦度の優れたグレーズド基板の提供方法が提案されている。 又、別の方法としては、厚みの薄いセッター、孔のあいたセッター、或いはスノ コ状セッターを使用して、グレーズド基板を焼成していた。
【0003】
しかし、特開昭57−118077号公報に示される方法では、セッターの加工 が難しい、セッターの形状が熱歪により変形する、グレーズド基板毎に、セッタ ーを準備する必要があり、膨大な量のセッターを準備しなければならない。又、 前記従来技術の後者では、厚みの薄いセッター、孔のあいたセッターはグレー ズド基板の反り防止に対する効果が小さい、スノコ状セッターは、反り防止効 果が大きいけれども、板状の部品を貼り合わせて作るため、厚みが厚くなり、加 工による強度低下があり、耐久性に劣るものである。
【0004】
本考案は、前記従来技術の欠点を解決するため、種々検討した結果、基板の反り の原因は、基板の焼成時、冷却時の基板の温度分布に起因することをつきとめ、 基板焼成時、均一な加熱、冷却の出来るセッターを考案したものである。
【0005】
上記の課題を解決するためになされた本考案は、片側、或いは両側に多数の溝を 有し、且つその溝に多数の貫通孔を有することを特徴とした焼成用セッターであ る。
【0006】 本考案で使用するセッターの材質は、焼成するセラミックの耐熱温度と同等以上 の耐熱性を有するものであればよく、例えば、アルミナ基板を焼成する場合には 、アルミナ、マグネシア、炭化珪素等を使用出来る。 又、セッターの片側、或いは両側に多数の溝を設けるのであるが、この溝の大き さ及びその数は、被焼成物に影響されるものであるが、溝を設けるピッチは5m m以上にする必要があり、溝の幅及び深さは、0.5mm以上にする必要がある 。
【0007】 溝を設けるピッチは5mm以上、溝の幅及び深さは、0.5mm以上としたのは 、次の理由による。 溝を設けるピッチを5mm以下にすると、溝の数が多くて、強度が劣化するから である、又、溝を設けるピッチが60mm以上だと、焼成物の反り抑制の効果が 減少し、望ましい値は15mm程度である。 溝の幅及び深さは、0.5mm以上としているが、この値が小さ過ぎると焼成物 の反り抑制の効果が減少し、大き過ぎると、セッターの強度劣化を招くものであ り、深さはセッターの厚みの1/2以下とすべきであった。 更に、その溝に設ける多数の貫通孔の径は溝の幅以上でも良い。また、その貫通 孔の位置及び数は、被焼成物の肉厚、形状に影響されるが、被焼成物の3〜30 cm2当たり1個の貫通孔が必要であつた。 以下、本考案の実施例を説明して、本考案内容を明らかにする。
【0008】
図1に於いて、はセッターの本体である。はセッターに設けた溝である。 はセッターに設けた貫通孔である。図1のA−A断面を示す図5には、貫通孔を 出入りする気体をで示してある。 図2は、本考案に係わる別のセッターの平面図であり、溝の設け方が図1の升目 状から、正三角形状になっている。各部の記号は、はセッターの本体である。 はセッターに設けた溝である。はセッターに設けた貫通孔である。図2のB −B断面を示す図6には、貫通孔を出入りする気体をで示してある。 被焼成物を載置したセッターを図3に示す。▲10▼は被焼成物であり、通常ワ ークと称している。▲11▼はセッターの支持台である、▲12▼はセッターの 支持ローラーである。
【0009】 前のコラムに記載したセッター及び従来のセッターを使用して、被焼成物(以下 ワークと称する)を1200℃−1時間の条件で焼成し、冷却して、グレーズド 基板を作製した。 この基板のソリ値及びセッターの形状、材質等は、第1表「セッター種類とソリ 値との関係」に示す通りであった。
【0010】 (第1表)
【0011】
本考案のセッターは、(a)ガラスをコーティングしたグレーズド基板の変形を 極めて小さくすることが出来る。(b)従来の曲面セッターやスノコ状セッター と比較して、加工し易く、安価である。(c)多種類のグレーズド基板焼成用に 使用出来る。(d)耐久性がある。等の利点のあるものである。
【0010】
図1は、本考案に係わるセッターの平面図である。図5
は第1図のA−A断面図である。図3はセッター上に被
焼成物を載置した一部切断側面図である。図2は、本考
案に係わる別のセッターの平面図である。図6は第2図
のB−B断面図である。第4図は、従来例のスノコ状セ
ッターを示す斜視図である。 …セッター本体、…溝、…貫通孔、…気体の流
れ、…セッター本体、…溝、…貫通孔、…気体
の流れ、▲10▼…被焼成物、▲11▼…セッター支持
台、▲12▼…セッター支持ローラー
は第1図のA−A断面図である。図3はセッター上に被
焼成物を載置した一部切断側面図である。図2は、本考
案に係わる別のセッターの平面図である。図6は第2図
のB−B断面図である。第4図は、従来例のスノコ状セ
ッターを示す斜視図である。 …セッター本体、…溝、…貫通孔、…気体の流
れ、…セッター本体、…溝、…貫通孔、…気体
の流れ、▲10▼…被焼成物、▲11▼…セッター支持
台、▲12▼…セッター支持ローラー
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 片側、或いは両側に多数の溝を有し、且つその溝に複数
の貫通孔を有することを特徴とした焼成用セッター。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8526191U JPH0510998U (ja) | 1991-07-19 | 1991-07-19 | 焼成用セツター |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8526191U JPH0510998U (ja) | 1991-07-19 | 1991-07-19 | 焼成用セツター |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0510998U true JPH0510998U (ja) | 1993-02-12 |
Family
ID=13853637
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8526191U Pending JPH0510998U (ja) | 1991-07-19 | 1991-07-19 | 焼成用セツター |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0510998U (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005321161A (ja) * | 2004-05-11 | 2005-11-17 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | 焼成用窯道具 |
KR101355119B1 (ko) * | 2012-07-16 | 2014-01-24 | 에스케이씨 주식회사 | 세라믹 세터 판 |
JP6746827B1 (ja) * | 2019-02-28 | 2020-08-26 | 三井金属鉱業株式会社 | セラミックス構造体 |
WO2020174893A1 (ja) * | 2019-02-28 | 2020-09-03 | 三井金属鉱業株式会社 | セラミックス構造体 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6335000B2 (ja) * | 1980-04-09 | 1988-07-13 | Berugonukureeru Sa |
-
1991
- 1991-07-19 JP JP8526191U patent/JPH0510998U/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6335000B2 (ja) * | 1980-04-09 | 1988-07-13 | Berugonukureeru Sa |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005321161A (ja) * | 2004-05-11 | 2005-11-17 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | 焼成用窯道具 |
KR101355119B1 (ko) * | 2012-07-16 | 2014-01-24 | 에스케이씨 주식회사 | 세라믹 세터 판 |
JP6746827B1 (ja) * | 2019-02-28 | 2020-08-26 | 三井金属鉱業株式会社 | セラミックス構造体 |
WO2020174893A1 (ja) * | 2019-02-28 | 2020-09-03 | 三井金属鉱業株式会社 | セラミックス構造体 |
JP2020189785A (ja) * | 2019-02-28 | 2020-11-26 | 三井金属鉱業株式会社 | セラミックス構造体 |
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