JPWO2021140775A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JPWO2021140775A5
JPWO2021140775A5 JP2021569758A JP2021569758A JPWO2021140775A5 JP WO2021140775 A5 JPWO2021140775 A5 JP WO2021140775A5 JP 2021569758 A JP2021569758 A JP 2021569758A JP 2021569758 A JP2021569758 A JP 2021569758A JP WO2021140775 A5 JPWO2021140775 A5 JP WO2021140775A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
truss structure
truss
degrees
ceramic
thickness direction
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2021569758A
Other languages
English (en)
Other versions
JPWO2021140775A1 (ja
JP7164736B2 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority claimed from PCT/JP2020/044085 external-priority patent/WO2021140775A1/ja
Publication of JPWO2021140775A1 publication Critical patent/JPWO2021140775A1/ja
Publication of JPWO2021140775A5 publication Critical patent/JPWO2021140775A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7164736B2 publication Critical patent/JP7164736B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Claims (9)

  1. 厚み方向に直交する第1方向に伸びる複数の貫通孔が設けられているセラミックス製の第1トラス構造体と、
    厚み方向に直交するとともに第1方向とは異なる第2方向に伸びる複数の貫通孔が設けられているセラミックス製の第2トラス構造体と、を備えており、
    第1トラス構造体と第2トラス構造体が、厚み方向に積層された一体成型品であり、
    第1トラス構造体及び第2トラス構造体の材料が、SiC粒子を主体とし、SiC粒子間に金属Siが含まれるSi-SiC質であるセラミックス構造体。
  2. 厚み方向において、第1トラス構造体の両側に第2トラス構造体が積層されている請求項1に記載のセラミックス構造体。
  3. 第1方向と第2方向が成す角度が、10度以上90度以下である請求項1または2に記載のセラミックス構造体。
  4. 第1方向と第2方向が成す角度が、80度以上90度以下である請求項3に記載のセラミックス構造体。
  5. 第1トラス構造体及び第2トラス構造体を構成している骨格の表層部分の開気孔率が5%未満である請求項1から4のいずれか一項に記載のセラミックス構造体。
  6. 厚み方向に直交するとともに、第1方向および第2方向とは異なる第3方向に伸びる複数の貫通孔が設けられているセラミックス製の第3トラス構造体を更に備え、
    第1方向と第3方向が成す角度θ1、第2方向と第3方向が成す角度θ2、第1方向と第2方向が成す角度θ3としたときに、下記式(1)及び(2)を満たす請求項1から5のいずれか一項に記載のセラミックス構造体。
    50度≦θ1、θ2≦70度・・・(1)
    θ1+θ2+θ3=180度・・・(2)
  7. 厚み方向に直交する一方向に伸びる複数の貫通孔が設けられているセラミックス製のトラス構造体が、厚み方向に複数積層されている一体成型品のセラミックス構造体であって、
    各トラス構造体が、前記貫通孔が厚み方向に直交する二方向以上に伸びるように積層されており、
    各トラス構造体の材料が、SiC粒子を主体とし、SiC粒子間に金属Siが含まれるSi-SiC質であるセラミックス構造体。
  8. 請求項1から6のいずれか一項に記載のセラミックス構造体を備えた熱交換部材であって、
    第1トラス構造体の貫通孔が、第1熱媒体を流通させるための流路であり、
    第2トラス構造体の貫通孔が、第2熱媒体を流通させるための流路である熱交換部材。
  9. 請求項1から6のいずれか一項に記載のセラミックス構造体を備えた断熱部材。
JP2021569758A 2020-01-06 2020-11-26 セラミックス構造体 Active JP7164736B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020000554 2020-01-06
JP2020000554 2020-01-06
PCT/JP2020/044085 WO2021140775A1 (ja) 2020-01-06 2020-11-26 セラミックス構造体

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JPWO2021140775A1 JPWO2021140775A1 (ja) 2021-07-15
JPWO2021140775A5 true JPWO2021140775A5 (ja) 2022-06-30
JP7164736B2 JP7164736B2 (ja) 2022-11-01

Family

ID=76787901

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2021569758A Active JP7164736B2 (ja) 2020-01-06 2020-11-26 セラミックス構造体

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP7164736B2 (ja)
CN (1) CN114845978B (ja)
DE (1) DE112020006457T5 (ja)
WO (1) WO2021140775A1 (ja)

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR876M (ja) * 1960-10-12 1961-10-16
JPS6213384U (ja) * 1985-07-10 1987-01-27
JPWO2003045553A1 (ja) * 2002-06-10 2005-04-07 紀博 村川 触媒担体構造体とその製造方法及び排気ガス浄化用触媒と排気ガス浄化方法
WO2005040065A1 (ja) * 2003-10-29 2005-05-06 Sumitomo Precision Products Co., Ltd. カーボンナノチューブ分散複合材料の製造方法
US9921037B2 (en) 2007-08-16 2018-03-20 University Of Virginia Patent Foundation Hybrid periodic cellular material structures, systems, and methods for blast and ballistic protection
WO2012067156A1 (ja) * 2010-11-18 2012-05-24 日本碍子株式会社 熱伝導部材
CN102155070B (zh) * 2011-01-20 2013-06-12 刘汝山 一种轻质保温防火复合板及其生产方法
JP5803801B2 (ja) * 2012-04-27 2015-11-04 新日鐵住金株式会社 積層鋼板
JP6213384B2 (ja) 2014-06-11 2017-10-18 マツダ株式会社 エンジンの燃料噴射制御装置
JP6386916B2 (ja) * 2015-01-06 2018-09-05 東京窯業株式会社 炭化珪素質セラミックス焼結体
JP6671163B2 (ja) * 2015-01-09 2020-03-25 日揮触媒化成株式会社 排ガス処理ハニカム触媒およびその製造方法
JP6709652B2 (ja) * 2016-03-24 2020-06-17 日本碍子株式会社 多孔質セラミックス構造体
FR3052548B1 (fr) * 2016-06-10 2019-09-06 Hutchinson Procede d'echange et de conditionnement d'un echangeur thermique
KR20190043629A (ko) 2016-09-12 2019-04-26 엔지케이 인슐레이터 엘티디 소성용 세터
JP7057691B2 (ja) * 2018-03-19 2022-04-20 日本碍子株式会社 ハニカム構造体
JP2020000554A (ja) 2018-06-28 2020-01-09 株式会社三共 遊技機

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2005147132A5 (ja)
JP2021054088A5 (ja)
JPWO2021140775A5 (ja)
JP7285271B2 (ja) 焼成用ラック及び焼成用治具
JP2009070907A (ja) 半導体装置
JP2010232545A (ja) 半導体装置
JP2007103796A (ja) 絶縁基板及び半導体装置並びに絶縁基板の製造方法
US5975201A (en) Heat sink for increasing through-thickness thermal conductivity of organic matrix composite structures
JP7164736B2 (ja) セラミックス構造体
WO2021140774A1 (ja) 焼成用セッター
JPWO2021200866A5 (ja)
KR102104044B1 (ko) 압축 방열 시트
WO2020248669A1 (zh) 组合结构
JPWO2019143191A5 (ja)
TWM604805U (zh) 複合層板
US20190071866A1 (en) Insulating materials
JP3205910U (ja) ファインピッチパッケージ
KR102594989B1 (ko) 3차원 마이크로 트러스 구조물
JPWO2022044414A5 (ja)
JP7016692B2 (ja) セラミック熱交換器
JPH0661387A (ja) 半導体装置用放熱基板
WO2022044414A1 (ja) セラミックス材
JP7253715B2 (ja) 積層体及び結晶体
JP2015127093A5 (ja)
JP7182403B2 (ja) 冷却装置