JPWO2020055810A5 - - Google Patents

Description

本明細書中で引用された全ての刊行物、特許、及び、特許出願は、全ての目的のためにその全体が参照により本願に組み入れられる。先行技術であると認められるものはない。以下は、本発明の例である。
（例１）
可動サンプルステージと、
サンプルを検査するための光学顕微鏡と、
サンプリングシステムと、
オートフォーカスシステムと、
を備え、
前記オートフォーカスシステムは、
照射源と、
オートフォーカスセンサと、
を備え、
前記サンプリングシステム及び前記オートフォーカスシステムが共焦点である、
装置。
（例２）
オートフォーカスシステムを備え、
前記オートフォーカスシステムは、
照射源と、
オートフォーカスセンサと、
を備える、装置。
（例３）
サンプリングシステムを更に備える、例２に記載の装置。
（例４）
前記サンプリングシステム及び前記オートフォーカスシステムが共焦点である、例３に記載の装置。
（例５）
サンプルを検査するための光学顕微鏡を更に備える、例２から４のいずれか一項に記載の装置。
（例６）
可動サンプルステージを更に備える、例２から５のいずれか一項に記載の装置。
（例７）
前記光学顕微鏡が前記サンプリングシステム及び前記オートフォーカスシステムと共焦点である、例１又は５に記載の装置。
（例８）
前記サンプリングシステム、前記オートフォーカスシステム、及び、前記光学顕微鏡が全て少なくとも幾つかの光学構成要素を共有する、例１、５又は６に記載の装置。
（例９）
前記装置は、オートフォーカス構成要素からの読み出しに応じて前記サンプルステージを移動させることによってオートフォーカスを行なうように構成される、例１又は６に記載の装置。
（例１０）
前記装置は、光学素子を調整することによってオートフォーカスを行なうように構成されない、例１から９のいずれか一項に記載の装置。
（例１１）
前記装置は、サンプルに依存しないオートフォーカスを行なう、例１から１０のいずれか一項に記載の装置。
（例１２）
前記オートフォーカスシステムがサンプル実行中にオートフォーカスを行なう、例１から１１のいずれか一項に記載の装置。
（例１３）
前記オートフォーカスシステムが迅速なオートフォーカスを行なう、例１から１２のいずれか一項に記載の装置。
（例１４）
前記オートフォーカスシステムがｋＨｚ以上のレートでオートフォーカスフィードバックを行なう、例１３に記載の装置。
（例１５）
前記オートフォーカスシステムが、Ｘ座標、Ｙ座標、又は、Ｘ－Ｙ座標にわたって焦点マップを投影する、例１から１４のいずれか一項に記載の装置。
（例１６）
前記装置は、サンプル実行中に光学画像を与えるように更に構成される、例１から１５のいずれか一項に記載の装置。
（例１７）
前記オートフォーカスシステムが少なくとも１つの絞りを更に備える、例１から１６のいずれか一項に記載の装置。
（例１８）
前記オートフォーカスシステムが複数の絞りを備え、前記複数の絞りが２次元に配置される、例１７に記載の装置。
（例１９）
前記オートフォーカスシステムは、前記オートフォーカスセンサに衝突し得る複数のスポットを与える、例１から１８のいずれか一項に記載の装置。
（例２０）
前記オートフォーカスシステムが１つのＬＥＤ及び１つのレーザーダイオードを備える、例１から１９のいずれか一項に記載の装置。
（例２１）
前記オートフォーカスシステムが複数のＬＥＤ及び／又はレーザーダイオードを備える、例１から２０のいずれか一項に記載の装置。
（例２２）
前記オートフォーカスシステムが回折ビームスプリッタを備える、例１から２１のいずれか一項に記載の装置。
（例２３）
前記オートフォーカスセンサは、イメージセンサ、ラインセンサ、位置感知フォトダイオード、隣接フォトダイオード、及び、分割フォトダイオードのうちの少なくとも１つを備える、例１から２２のいずれか一項に記載の装置。
（例２４）
前記装置がオートフォーカスと検査絞りとの間で切り替わる必要がない、例１から２３のいずれか一項に記載の装置。
（例２５）
前記オートフォーカスセンサがイメージセンサを備える、例１から２４のいずれか一項に記載の装置。
（例２６）
前記イメージセンサが前記装置の光学顕微鏡と共有される、例２５に記載の装置。
（例２７）
前記オートフォーカスセンサは、ラインセンサを備えるとともに、前記装置の前記光学顕微鏡の検出器とは別個である、例１から２４のいずれか一項に記載の装置。
（例２８）
前記オートフォーカスシステムが円柱レンズを備える、例２７に記載の装置。
（例２９）
前記照射源が少なくとも１つのＬＥＤを備える、例１から２８のいずれか一項に記載の装置。
（例３０）
前記照射源が少なくとも２つのＬＥＤを備える、例１から２９のいずれか一項に記載の装置。
（例３１）
前記２つのＬＥＤが交互照射を行なうように構成される、例１から３０のいずれか一項に記載の装置。
（例３２）
前記照射源が少なくとも１つのレーザーダイオードを備える、例１から３１のいずれか一項に記載の装置。
（例３３）
前記照射源が少なくとも２つのレーザーダイオードを備える、例１から３２のいずれか一項に記載の装置。
（例３４）
前記２つのレーザーダイオードが交互照射を行なうように構成される、例３３に記載の装置。
（例３５）
前記照射源が色多重化照射源を備える、例１から３４のいずれか一項に記載の装置。
（例３６）
前記照射源は、サンプル法線に対してゼロ以外の角度で照射を行なう、例１から３５のいずれか一項に記載の装置。
（例３７）
前記オートフォーカスが検出器に前記衝突する１つ以上のスポット又はラインの位置に基づく、例１から３６のいずれか一項に記載の装置。
（例３８）
前記オートフォーカスシステムは、前記オートフォーカスセンサに衝突する１つ以上のスポット又はラインの事前に較正された座標を必要としない、例１から３７のいずれか一項に記載の装置。
（例３９）
オートフォーカスが前記オートフォーカスセンサによって検出されるスポット又はラインの位置合わせに基づく、例１から３８のいずれか一項に記載の装置。
（例４０）
オートフォーカスが前記スポット間又はライン間のオフセットに基づく、例１から３９のいずれか一項に記載の装置。
（例４１）
前記オートフォーカスセンサに衝突する２つ以上のスポット又はラインが最良の焦点で重なり合う、例１から４０のいずれか一項に記載の装置。
（例４２）
オートフォーカスが前記オートフォーカスセンサによって検出されるスポットの数に基づく、例１から４１のいずれか一項に記載の装置。
（例４３）
オートフォーカスが前記オートフォーカスセンサによって検出されるスポットの均一性に基づく、例１から４２のいずれか一項に記載の装置。
（例４４）
前記装置は、共焦点顕微鏡、蛍光顕微鏡、又は、広視野顕微鏡を備える、例１から４３のいずれか一項に記載の装置。
（例４５）
前記サンプリングシステムがレーザーアブレーションサンプリングシステムである、例１から４４のいずれか一項に記載の装置。
（例４６）
前記レーザーアブレーションサンプリングシステムのレーザー源の焦点は、前記オートフォーカスシステムの前記オートフォーカス構成要素及びオートフォーカスセンサと共焦点である、例４５に記載の装置。
（例４７）
ガス導管によって前記レーザーアブレーションサンプリングシステムに結合されるＩＣＰイオン化システムを更に備える、例４５又は４６に記載の装置。
（例４８）
質量分析計を更に備える、例４７に記載の装置。
（例４９）
前記装置は、質量分析による検出の前に前記サンプルを霧化してイオン化する、例１から４８のいずれか一項に記載の装置。
（例５０）
可動サンプルステージと、
サンプルの検査のための光学顕微鏡と、
レーザーアブレーションサンプリングシステムと、
前記レーザーアブレーションサンプリングシステムをＩＣＰイオン化システムに結合するガス導管と、
質量分析計と、
オートフォーカスシステムと、
を備え、
前記オートフォーカスシステムは、
照射源と、
オートフォーカスセンサと、
を備え、
前記オートフォーカスシステムは、前記オートフォーカスセンサに衝突し得る複数のスポットを与え、
前記サンプリングシステム及び前記オートフォーカスシステムが共焦点であり、
前記システムは、照射の複数の前記ポイントに基づいて前記サンプルステージの前記位置を調整することによってサンプル実行中にオートフォーカスを行なうように構成される、
ＬＡ－ＩＣＰ－ＭＳ用のオートフォーカス装置。
（例５１）
オートフォーカスに基づくサンプリングを含む、例１から５０のいずれか一項に記載の装置を使用するオートフォーカスの方法。
（例５２）
前記オートフォーカスセンサによって検出されるスポット又はラインの位置合わせに基づいてオートフォーカスを行なうことを更に含む、例５１に記載の方法。
（例５３）
オートフォーカスが前記スポット間又はライン間のオフセットに基づく、例５２に記載の方法。
（例５４）
オートフォーカスが前記オートフォーカスセンサ上のスポット又はラインの一致に基づく、例５２に記載の方法。
（例５５）
前記オートフォーカスセンサによって検出されるスポットの数に基づいてオートフォーカスを行なうことを更に含む、例５１に記載の方法。
（例５６）
前記オートフォーカスセンサによって検出されるスポットの均一性に基づいてオートフォーカスを行なうことを更に含む、例５１に記載の方法。
（例５７）
生物学的サンプルから質量タグをサンプリングすることを更に含む、例５１から５６のいずれか一項に記載の方法。
（例５８）
特異的結合対（ＳＢＰ）要素にコンジュゲートされる標識原子で前記生物学的サンプルを標識化することを更に含む、例５７に記載の方法。
（例５９）
前記ＳＢＰ要素が抗体を含む、例５８に記載の方法。
（例６０）
前記標識原子が金属タグである、例５８又は５９に記載の方法。
（例６１）
前記標識原子が濃縮された金属同位体である、例６０に記載の方法。
（例６２）
オートフォーカス構成要素であって、複数の絞りを備えるオートフォーカス構成要素。
（例６３）
前記オートフォーカス構成要素は、少なくとも２個の絞り、例えば、少なくとも３個、少なくとも４個、少なくとも５個、少なくとも６個、少なくとも７個、少なくとも８個、少なくとも９個、少なくとも１６個、又は、少なくとも２５個の絞りを備える、例６２に記載のオートフォーカス構成要素。
（例６４）
前記オートフォーカス構成要素の前記絞りは、規則的な多角形の頂点、例えば、三角形の３個の頂点、正方形又は長方形の４個の頂点、五角形の５個の頂点、六角形の６個の頂点、七角形の７個の頂点、八角形の８個の頂点、九角形の９個の頂点、又は、十角形の１０個の頂点に配置される、例６２又は６３に記載のオートフォーカス構成要素。
（例６５）
前記多角形の重心から各頂点までの距離は、１０μｍ、１５μｍ、２０μｍ、２５μｍ、５０μｍ、７５μｍ、１００μｍ、１５０μｍ、２００μｍ、２５０μｍ、５００μｍ、７５０μｍ、又は、１ｍｍ以下である、例６４に記載のオートフォーカス構成要素。
（例６６）
前記構成要素が前記多角形の重心に更なる絞りを備える、例６３又は６４に記載のオートフォーカス構成要素。
（例６７）
前記構成要素は、例３に記載の前記頂点絞りによって規定される前記多角形の辺の中点に更なる絞りを備える、例６４から６６のいずれか一項に記載のオートフォーカス構成要素。
（例６８）
前記絞りは、２×２グリッド、３×３グリッド、４×４グリッド、５×５グリッド、６×６グリッド、７×７グリッド、８×８グリッド、９×９グリッド、１０×１０グリッド、又は１０×１０を超えるグリッドなどの規則的に離間されたグリッドを成す、例６３又は６４に記載のオートフォーカス構成要素。
（例６９）
隣り合うグリッド絞り間の絞り間距離は、前記絞りの中心点から測定して、１０μｍ、１５μｍ、２０μｍ、２５μｍ、５０μｍ、７５μｍ、１００μｍ、１５０μｍ、２００μｍ、２５０μｍ、５００μｍ、７５０μｍ、１ｍｍ、又は、１ｍｍ以上である、例６８に記載のオートフォーカス構成要素。
（例７０）
前記絞りは、円形であるとともに、１μｍ、２．５μｍ、５μｍ、７．５μｍ、１０μｍ、１５μｍ、２０μｍ、２５μｍ、５０μｍ、７５μｍ、又は、１００μｍ以下の直径を有する、例６２から６９のいずれか一項に記載のオートフォーカス構成要素。
（例７１）
少なくとも２つの絞りが、照射放射線の軸において互いに対してオフセットされて、絞りの少なくとも２つの平面を形成する、例６２から７０のいずれか一項に記載のオートフォーカス構成要素。
（例７２）
前記オートフォーカス構成要素は、２つの平面、３つの平面、又は、４つ以上の平面を含む、例７１に記載のオートフォーカス構成要素。
（例７３）
各絞り平面が２つ以上の絞り、例えば、絞り平面ごとに３つの絞りを備える、例７１又は７２に記載のオートフォーカス構成要素。
（例７４）
前記オートフォーカス構成要素が前記照射源のハイブリッドマスクである、例６２から７３のいずれか一項に記載のオートフォーカス構成要素。
（例７５）
照射放射線を遮断する不透明領域を備え、前記不透明領域には前記複数の絞りが位置される、例７４に記載のオートフォーカス構成要素。
（例７６）
前記サンプルへの前記照射放射線の透過を可能にする領域を備え、例えば、前記領域は、照射放射線透過材料から構成され又は前記オートフォーカス構成要素内のボイドである、例７４又は７５に記載のオートフォーカス構成要素。
（例７７）
サンプルに焦点を合わせるためのオートフォーカスシステムにおいて、
ａ．サンプルを照らすために放射線を放出するための照射源と、
ｂ．前記照射源からの放射線が前記複数の絞りを通過できるようにする例１から１５のいずれか一項に記載のオートフォーカス構成要素と、
ｃ．前記放射線を前記サンプルに向けて集束させるために前記放射線の前記光路中に配置される対物レンズと、
ｄ．前記サンプルから反射される放射線を受けるように配置されるとともに、前記オートフォーカス構成要素と共焦点になるように配置されるオートフォーカスセンサと、
を備えるオートフォーカスシステム。
（例７８）
サンプルを支持するためのサンプルステージを更に備える、例７７に記載のオートフォーカスシステム。
（例７９）
前記サンプルステージは、放射線が前記レンズからサンプルへと方向付けられる軸に対して、略垂直、例えば垂直である、例７８に記載のオートフォーカスシステム。
（例８０）
前記サンプルステージと、前記レンズを通過する前記照射源からの前記放射線の前記焦点とが、互いに対して移動可能である、例７８又は７９に記載のオートフォーカスシステム。
（例８１）
前記レンズを通過する放射線の焦点が固定され、前記サンプルステージが移動可能である、例７８から８０のいずれかに記載のオートフォーカスシステム。
（例８２）
前記サンプルステージは、照射放射線が前記レンズから前記サンプルへと方向付けられる軸に対して略平行、例えば平行な軸で移動可能である、例７８から８１のいずれか一項に記載のオートフォーカスシステム。
（例８３）
前記サンプルステージがｘ軸、ｙ軸及びｚ軸で移動可能であり、前記ｚ軸は、照射放射線が前記レンズから前記サンプルへと方向付けられる軸である、例７８から８１のいずれか一項に記載のオートフォーカスシステム。
（例８４）
前記サンプルステージの移動を制御するためのコントローラモジュールを更に備える、例７８から８３のいずれか一項に記載のオートフォーカスシステム。
（例８５）
前記照射源は、発光ダイオード（ＬＥＤ）、熱放射体又は白熱ランプ、例えば、白熱タングステンハロゲン電球、アークランプ、又は、レーザー光源である、例７７から８４のいずれか一項に記載のオートフォーカスシステム。
（例８６）
前記オートフォーカスセンサは、カメラ、例えば、荷電結合デバイスイメージセンサ（ＣＣＤ）ベースのカメラ、アクティブピクセルセンサ（ＡＰＳ）ベースのカメラ、又は、任意の他の照射放射線検出器、例えば、光検出器、又は、それが検査カメラとしても機能するカメラである場合などにおける光電子増倍管である、例７８から８５のいずれか一項に記載のオートフォーカスシステム。
（例８７）
前記コントローラモジュールは、前記オートフォーカスプロセス中に前記サンプルステージの前記位置を制御するために前記オートフォーカスセンサから入力を受ける、例７８から８６のいずれか一項に記載のオートフォーカスシステム。
（例８８）
照射放射線を前記照射源からサンプルへと方向付けるとともに反射された照射放射線を前記オートフォーカスセンサに方向付けるようになっている１つ以上のビームスプリッタ構成要素を備える、例７７から８７のいずれか一項に記載のオートフォーカスシステム。
（例８９）
前記オートフォーカス構成要素と前記１つ以上のビームスプリッタ構成要素との間など、前記オートフォーカス構成要素と前記サンプルとの間の前記照射放射線の経路中にチューブレンズを備える、例７７から８８のいずれか一項に記載のオートフォーカスシステム。
（例９０）
前記１つ以上のビームスプリッタ構成要素と前記オートフォーカスセンサとの間など、前記サンプルと前記オートフォーカスセンサとの間の前記照射放射線の経路中にチューブレンズを備える、例７７から８９のいずれか一項に記載のオートフォーカスシステム。
（例９１）
サンプルの第１の位置の焦点スコアを決定するステップと、
前記サンプルを第２の位置に移動させるステップと、
前記第２の位置の焦点スコアを決定するステップと、
前記焦点スコア同士を互いに比較するステップと、
を含み、
前記焦点スコアを決定するステップは、照射源からの放射線でサンプルを照射するステップであって、前記照射放射線が、複数の絞りを備えるオートフォーカス構成要素に通過される、ステップと、前記サンプルから反射される照射放射線を検出するステップとを含み、
前記サンプルを移動させる前記ステップは、前記照射放射線が前記サンプルへと方向付けられる軸と平行な移動である（すなわち、移動がｚ軸にある）、
オートフォーカス方法。
（例９２）
前記サンプルから反射される照射放射線を検出するステップは、前記オートフォーカスセンサ上の既知の位置（関心領域とも呼ばれる）で放射線を検出するステップを含む、例９１に記載の方法。
（例９３）
前記方法は、前記第１の位置の前記焦点スコアと前記第２の位置の前記焦点スコアとを比較する前記ステップの前に、前記サンプルを少なくとも第３の位置に移動させて、少なくとも前記第３の位置で焦点スコアを決定するステップを更に含む、例９１又は９２に記載の方法。
（例９４）
前記第１の位置の前記焦点スコアと前記第２の位置の前記焦点スコアとを比較する前記ステップは、前記第３の焦点スコアと前記第１及び第２の焦点スコアとの比較も包含する、例９３に記載の方法。
（例９５）
前記方法は、前記第１の位置の前記焦点スコアを前記第２の位置の前記焦点スコアとを比較する前記ステップの前に、少なくとも４番目、５番目、６番目、７番目、８番目、９番目、１０番目、１５番目、２０番目、２５番目、５０番目、１００番目、２５０番目、５００番目、又は、１０００番目の位置へ前記サンプルを移動させて前記位置で焦点スコアを決定するステップを含む、例９４に記載の方法。
（例９６）
前記第１の位置の前記焦点スコアと前記第２の位置の前記焦点スコアとを比較する前記ステップは、４番目、５番目、６番目、７番目、８番目、９番目、１０番目、１５番目、２０番目、２５番目、５０番目、１００番目、２５０番目、５００番目、又は、１０００番目の位置と他の決定された焦点スコアとの比較も包含する、例９５に記載の方法。
（例９７）
前記焦点スコアは、前記複数の絞りから検出される反射された照射放射線の合計強度である、例９１から９６のいずれか一項に記載の方法。
（例９８）
前記焦点スコアは、前記反射された照射放射線の焦点ぼけがどの程度であるかを測定することによって計算される（例えば、前記サンプルの焦点が合っているときに反射された照射放射線が前記オートフォーカスセンサに衝突すると予期される領域又はその周囲で、すなわち、前記予期される関心領域の周囲で反射された照射放射線を検出している前記センサ上のピクセルの総数）、例９１から９６のいずれか一項に記載の方法。
（例９９）
前記焦点スコア同士を互いに比較する前記ステップの後に、前記サンプルステージは、最も高い焦点スコアを伴う位置である第１ラウンド最適焦点位置へ移動される、例９１から９８のいずれか一項に記載の方法。
（例１００）
前記オートフォーカスセンサ上の任意のピクセルの飽和が検出される場合、前記方法は、前記照射源の強度を減少させて前記方法を繰り返すステップを更に含む、例９１から９９のいずれか一項に記載の方法。
（例１０１）
前記方法は、前記焦点位置の第１の粗い推定を含み、その後に、前記サンプルの前記位置を精緻化してそれを前記焦点面に近づける１つ以上の更なるラウンドを含む、例９１から１００のいずれか一項に記載の方法。
（例１０２）
前記方法は、前記第１のラウンドで決定される前記第１ラウンド最適位置に中心付けられる第２の位置セットで前記方法を繰り返すステップを更に含む、例９１から１０１のいずれか一項に記載の方法。
（例１０３）
前記第２のセットにおける前記位置間の距離は、前記第１ラウンド最適焦点位置を計算するために使用される位置間の距離よりも短い、例１０２に記載の方法。
（例１０４）
前記位置間の距離は、前記第１ラウンド最適焦点位置を前記第２の位置セットにおける位置の数で割ったものを計算するために使用される位置間の距離である又は該距離よりも短い、例１０３に記載の方法。
（例１０５）
第２ラウンド最適焦点位置を生成するために前記焦点スコアがその後に比較される、例１０４に記載の方法。
（例１０６）
前記第２ラウンド最適焦点位置は、最も高い焦点スコアを伴う前記第２ラウンド位置であり、前記移動されたサンプルが前記第２ラウンド最適焦点位置に移動される、例１０５に記載の方法。
（例１０７）
前記第２ラウンド焦点スコア同士を互いに比較する前記ステップは、放物線を各位置で前記焦点スコアにフィットさせて、曲線の導関数がゼロである位置を前記第２ラウンド最適焦点位置として計算するステップを含む、例１０６に記載の方法。
（例１０８）
放物線フィッティングによって決定される前記第２ラウンド最適焦点位置に前記サンプルステージを移動させるステップを更に含む、例１０４から１０７のいずれか一項に記載の方法。
（例１０９）
焦点スコア同士を互いに比較する前記ステップは、放物線を各位置で前記焦点スコアにフィットさせて、曲線の導関数がゼロである位置を前記第１ラウンド最適焦点位置として計算するステップを含み、随意的に、前記サンプルステージを前記第１ラウンド最適焦点位置に移動させるステップを含む、例９１又は９２に記載の方法。
（例１１０）
前記第１ラウンド最適焦点位置であると決定された位置に中心付けられる第２の位置セットで前記方法を繰り返すステップを更に含み、前記第２のセットにおける位置間の距離は、前記第１ラウンド最適焦点位置を計算するために使用される位置間の距離よりも短い、例１０９に記載の方法。
（例１１１）
前記位置間の距離は、第２ラウンド最適焦点位置を生成するために、前記第１ラウンド最適焦点位置を前記第２の位置セットにおける位置の数で割ったものを計算するために使用される位置間の距離である又は該距離よりも短い、例１１０に記載の方法。
（例１１２）
第２ラウンド最適焦点位置を生成する前記ステップは、前記第２ラウンド焦点スコア同士を互いに比較するステップを含み、前記ステップは、放物線を各位置で前記焦点スコアにフィットさせて、曲線の導関数がゼロである位置を前記第２ラウンド最適焦点位置として計算するステップを含む、例１１１に記載の方法。
（例１１３）
放物線フィッティングによって決定される前記第２ラウンド最適焦点位置に前記サンプルステージを移動させるステップを更に含む、例１１１又は１１２に記載の方法。
（例１１４）
例９１から１１３のいずれか一項に記載の方法を含む方法を反復して繰り返すことを含む、オートフォーカスの方法。
（例１１５）
サンプルの位置ｎで焦点の方向を決定するステップと、
前記サンプルを焦点の方向で位置（ｎ＋１）へ移動させるステップと、
を含み、
焦点の方向を決定する前記ステップは、照射源からの放射線でサンプルを照射するステップであって、前記照射放射線が、複数の絞りを備えるオートフォーカス構成要素に通過され、前記オートフォーカス構成要素の前記絞りのうちの少なくとも２つが、前記照射放射線が前記オートフォーカス構成要素を通過する軸でオフセットされる、ステップと、オートフォーカスセンサを用いて前記サンプルから反射される照射放射線を検出するステップとを含み、
前記サンプルを移動させるステップは、前記照射放射線がサンプルへと方向付けられる軸と平行な移動である（すなわち、移動がｚ軸にある）、
オートフォーカス方法。
（例１１６）
前記サンプルから反射される照射放射線を検出する前記ステップは、前記オートフォーカスセンサ上の既知の位置（関心領域とも呼ばれる）で放射線を検出するステップを含む、例１１５に記載の方法。
（例１１７）
前記方法は、前段落の方法を、少なくとも１回更に、例えば、少なくとも２回、少なくとも３回、少なくとも４回、少なくとも５回、少なくとも６回、少なくとも７回、少なくとも８回、少なくとも９回、少なくとも１０回、少なくとも２０回、又は、少なくとも５０回繰り返すステップを含む、例１１５又は１１６に記載の方法。
（例１１８）
位置ｎで焦点の方向を決定する前記ステップは、前記少なくとも２つのオフセット絞りから前記反射された照射放射線が前記オートフォーカスセンサに衝突するときにどのように焦点ぼけしているかを比較するステップを含む、例１１５から１１７のいずれか一項に記載の方法。
（例１１９）
例９０から１１８のいずれか一項に記載の方法を含む方法を実行するステップと、前記サンプルを前記サンプルの平面内で（すなわち、Ｘ軸及び／又はＹ軸内で）前記サンプルの平面内の第２の位置へ移動させるステップと、再び前記サンプルの平面内の前記第２の位置で最適焦点位置を記録するために、例３０から５７のいずれか一項に記載の方法を含む方法を繰り返し実行するステップとを含む、表面のトポロジーをマッピングする方法。
（例１２０）
前記サンプルを前記サンプルの平面内で１つ以上の更なる位置へ、例えば、前記サンプルの平面内の少なくとも３番目、４番目、５番目、６番目、７番目、８番目、９番目、１０番目、１５番目、２０番目、２５番目、５０番目、１００番目、２５０番目、５００番目、又は、１０００番目の位置へ移動させて、これらの各位置での最適焦点位置を記録するステップを含む、例１１９に記載の方法。
（例１２１）
サンプルの平面内の各位置に最適焦点位置をプロットすることを更に含む、例１１９又は１２０に記載の方法。
（例１２２）
前記サンプルの表面表示を生成するために、前記サンプルの平面内の各位置で最適焦点位置間を補間するステップを更に含む、例１２１に記載の方法。
（例１２３）
例９１から１２２のいずれか一項に記載の方法を実行するのに用いるオートフォーカス構成要素であって、例えば前記構成要素が例１から１５のいずれか一項に記載の構成要素である、オートフォーカス構成要素。
（例１２４）
例９１から１２３のいずれか一項に記載の方法を実行するのに用いるオートフォーカスシステムであって、例えば前記システムが例７７から９０のいずれか一項に記載のシステムである、オートフォーカスシステム。
（例１２５）
前記コントローラモジュールは、例３０から６１のいずれか一項に記載の方法を実行するための命令を含むプログラム可能なストアを備える、例７７から９０のいずれか一項に記載のオートフォーカスシステム。
（例１２６）
前記プログラム可能なストアは、ハードドライブ、光ディスク、ＣＤ－ＲＯＭ、ＤＶＤ－ＲＯＭ、ＲＯＭ、ＲＡＭ、ＥＰＲＯＭ、ＥＥＰＲＯＭ、磁気カード又は光学カード、固体メモリデバイス、又は、電子命令を記憶するのに適した他のタイプの媒体／コンピュータ可読媒体である、例１２５に記載のオートフォーカスシステム。
（例１２７）
例７７から９０のいずれか一項に記載のオートフォーカスシステムと、
前記サンプルから材料を除去して、前記材料をイオン化し、元素イオンを形成するためのサンプリング・イオン化システム
とを備え、前記サンプリング・イオン化システムは、前記サンプルをサンプリングするためのレーザー源を備え、
前記サンプリング・イオン化システムの前記レーザー源の焦点は、前記オートフォーカス装置の前記オートフォーカス構成要素及びオートフォーカスセンサと共焦点である、
生物学的サンプルを分析するための装置。
（例１２８）
前記サンプリング・イオン化システムから元素イオンを受けて前記元素イオンを検出するための検出器、
を更に備える例１２７に記載の装置。
（例１２９）
前記レーザー源がピコ秒レーザー又はフェムト秒レーザー、特に、随意的にパルスピッカーを備えるフェムト秒レーザーであり、例えば、前記パルスピッカーは、前記サンプルステージの動きも制御する制御モジュールによって制御される、例１２７から１２８のいずれか一項に記載の装置。
（例１３０）
（ｉ）前記レーザー源のアブレーション速度は、２００Ｈｚ以上、例えば、５００Ｈｚ以上、７５０Ｈｚ以上、１ｋＨｚ以上、１．５ｋＨｚ以上、２ｋＨｚ以上、２．５ｋＨｚ以上、３ｋＨｚ以上、３．５ｋＨｚ以上、４ｋＨｚ以上、４．５ｋＨｚ以上、５ｋＨｚ以上、又は、１０ｋＨｚ以上、約１００ｋＨｚ、１００ｋＨｚ以上、１ＭＨｚ以上、１０ＭＨｚ以上、又は、１００ＭＨｚ以上であり、及び／又は、
（ｉｉ）前記レーザー源のレーザー繰り返しレートは、少なくとも１ｋＨｚ、例えば、少なくとも１０ｋＨｚ、少なくとも１００ｋＨｚ、少なくとも１ＭＨｚ、少なくとも１０ＭＨｚ、約５０ＭＨｚ、又は、少なくとも１００ＭＨｚであり、随意的に、前記サンプリングシステムがパルスピッカーを更に備える、
例１２７から１２９のいずれか一項に記載の装置。
（例１３１）
前記レーザー源は、１０μｍ以下、５μｍ以下、２μｍ以下、約１μｍ、又は、１μｍ以下の直径のスポットサイズをもたらすようになっている、例１２７から１３０のいずれか一項に記載の装置。
（例１３２）
前記オートフォーカスシステムがカメラを備える、例１２７から１３１のいずれか一項に記載の装置。
（例１３３）
前記サンプリング・イオン化システムの前記イオン化システムがＩＣＰである、例１２７から１３２のいずれか一項に記載の装置。
（例１３４）
前記検出器がＴＯＦ質量分析計である、例１２７から１３３のいずれか一項に記載の装置。
（例１３５）
サンプルを分析する方法において、
レーザーアブレーションのためのレーザーの前記焦点に前記サンプルを配置するために例９０から１１８のいずれか一項に記載の方法を実行するステップと、
複数の位置でサンプルステージ上の前記サンプルのレーザーアブレーションを行なうステップと、
前記プルームをイオン化及び質量分析に晒すステップであって、前記プルーム内の原子の検出が前記サンプルの画像の構築を可能にし、随意的に、前記複数の位置が複数の既知の位置である、ステップと、
を含む方法。
（例１３６）
複数の細胞を含むサンプルに関してマスサイトメトリーを行なう方法において、
前記サンプル中の複数の異なる標的分子を１つ以上の異なる標識原子で標識化して、標識サンプルをもたらすステップと、
レーザーアブレーションのためのレーザーの前記焦点に前記サンプルを配置するために例９１から１１８のいずれか一項に記載の方法を実行するステップと、
サンプルステージ上の前記サンプルのレーザーアブレーションを行なうステップと、
前記プルームをイオン化及び質量分析に晒すステップであって、前記プルーム内の原子の検出が前記サンプルの画像の構築を可能にし、随意的に、前記複数の位置が複数の既知の位置である、ステップと、
を含む方法。
（例１３７）
各位置で、複数のレーザーショットが前記サンプルに発射され、その位置での各ショットの後に、その位置でアブレーションされた前記サンプルの深さに影響を及ぼすべく、前記サンプルステージ上の前記サンプルがＺ軸において前記レーザーの前記焦点に向かって移動される、例１３５又は１３６に記載の方法。
（例１３８）
前記サンプルのアブレーションのためのＺ軸の前記開始位置は、例５８から６１のいずれか一項に記載の方法によって決定される前記サンプル上のその位置での最適焦点位置であり、前記サンプル上のその位置におけるＺ軸の位置で各ショットから生成される各プルームは、個別に検出され、例えば前記サンプルの３Ｄ画像の構築を可能にする、例１３７に記載の方法。
（例１３９）
サンプルを分析する方法において、
レーザー放射線の前記焦点に前記サンプルを配置するために例９１から１１８のいずれか一項に記載の方法を実行するステップと、
レーザー放射線を使用してサンプル材料のスラグを脱着するステップと、
前記サンプル材料のスラグをイオン化し、質量分析によって前記スラグ内の原子を検出するステップと、
を含む方法。
（例１４０）
複数の細胞を含むサンプルに関してマスサイトメトリーを行なう方法において、
前記サンプル中の複数の異なる標的分子を１つ以上の異なる標識原子で標識化して、標識サンプルを与えるステップと、
レーザー放射線の前記焦点に前記サンプルを配置するために例９１から１１８のいずれか一項に記載の方法を実行するステップと、
レーザー放射線を使用してサンプル材料のスラグを脱着するステップと、
前記サンプル材料のスラグをイオン化して、質量分析によって前記スラグ内の原子を検出するステップと、
を含む方法。
（例１４１）
レーザーアブレーションを使用して、前記対象の特徴の周囲の材料をアブレーションし、前記対象の特徴における前記サンプル材料が前記サンプルキャリアから材料のスラグとして脱着される前に前記周囲の領域を除去する、例１３９又は１４０に記載の方法。
（例１４２）
前記方法は、サンプル上の対象の１つ以上の特徴を特定して、前記サンプル上の対象の１つ以上の特徴の位置情報を記録し、前記サンプルからサンプル材料を脱着するステップを含む、例１３９から１４１のいずれか一項に記載の方法。
（例１４３）
前記特徴は、前記サンプルの光学画像の検査によって特定され、随意的に、前記サンプルが蛍光標識で標識化され、前記蛍光標識が蛍光を発するような条件下で前記サンプルが照射される、例１４２に記載の方法。
（例１４４）
前記サンプルがサンプルキャリア上にあり、前記サンプルキャリアが前記サンプルと前記サンプルキャリアとの間に脱着膜層を備え、前記レーザー放射線が前記脱着膜へと方向付けられてサンプル材料を脱着させる、例１３９から１４３のいずれか一項に記載の方法。
（例１４５）
前記レーザー放射線が前記サンプルキャリアを通じて前記サンプルへ向けられる、例１３９から１４４のいずれか一項に記載の方法。
（例１４６）
前記オートフォーカスシステムの前記照射放射線が前記サンプルキャリアを通じて前記サンプルに向けられる、例１３９から１４５のいずれか一項に記載の方法。
（例１４７）
例１から１５のいずれか一項に記載の成分の使用を含む、例９１から１２２のいずれか一項に記載の方法。
（例１４８）
例１６から２９のいずれか一項に記載のシステムの使用を含む、例９１から１２２のいずれか一項に記載の方法。
（例１４９）
例６６から７３のいずれか一項に記載の装置の使用を含む、例９１から１２２のいずれか一項に記載の方法。
（例１５０）
例９１から１２２のいずれか一項に記載の方法を実行する際のオートフォーカス構成要素の使用であって、例えば前記構成要素が例６２から７６のいずれか一項に記載の構成要素である、オートフォーカス構成要素の使用。
（例１５１）
例９１から１２２のいずれか一項に記載の方法を実行する際のオートフォーカスシステムの使用であって、例えば前記システムが例７７から９０のいずれか一項に記載のシステムである、オートフォーカスシステムの使用。
（例１５２）
例３０から６１のいずれか一項に記載の方法を実行するのに用いるオートフォーカス装置であって、例えば前記装置が例１２７から１３４のいずれか一項に記載の装置である、オートフォーカス装置。
（例１５３）
例９１から１２２のいずれか一項に記載の方法を実行する際のオートフォーカス装置の使用であって、例えば前記装置が例１２７から１３４のいずれか一項に記載の装置である、オートフォーカス装置の使用。
（例１５４）
例９１から１２２のいずれか一項に記載の方法を実行するための命令を含むコンピュータプログラムプロダクト。
（例１５５）
ハードドライブ、光ディスク、ＣＤ－ＲＯＭ、ＤＶＤ－ＲＯＭ、ＲＯＭ、ＲＡＭ、ＥＰＲＯＭ、ＥＥＰＲＯＭ、磁気カード又は光学カード、固体メモリデバイス、又は、電子命令を記憶するのに適した他のタイプの媒体／コンピュータ可読媒体である、例１５４に記載のコンピュータプログラムプロダクト。

Claims (24)

1. 可動サンプルステージと、
   サンプルを検査するための光学顕微鏡と、
   サンプリングシステムと、
   オートフォーカスシステムと、
   を備え、
   前記オートフォーカスシステムは、
   照射源と、
   オートフォーカスセンサと、
   を備え、
   前記サンプリングシステム及び前記オートフォーカスシステムが共焦点である、
   装置。
2. 前記光学顕微鏡が前記サンプリングシステム及び前記オートフォーカスシステムと共焦点である、請求項１に記載の装置。
3. 前記サンプリングシステム、前記オートフォーカスシステム、及び、前記光学顕微鏡が全て少なくとも幾つかの光学構成要素を共有する、請求項１に記載の装置。
4. 前記装置は、オートフォーカス構成要素からの読み出しに応じて前記サンプルステージを移動させることによってオートフォーカスを行なうように構成される、請求項１に記載の装置。
5. 前記装置は、サンプルに依存しないオートフォーカスを行なう、請求項１から４のいずれか一項に記載の装置。
6. 前記オートフォーカスシステムがサンプル実行中にオートフォーカスを行なう、請求項１から５のいずれか一項に記載の装置。
7. 前記オートフォーカスシステムが、Ｘ座標、Ｙ座標、又は、Ｘ－Ｙ座標にわたって焦点マップを投影する、請求項１から６のいずれか一項に記載の装置。
8. 前記オートフォーカスシステムが複数の絞りを備え、前記複数の絞りが２次元に配置される、請求項１から７のいずれか一項に記載の装置。
9. 前記オートフォーカスシステムは、前記オートフォーカスセンサに衝突し得る複数のスポットを与える、請求項１から８のいずれか一項に記載の装置。
10. 前記オートフォーカスシステムが複数のＬＥＤ及び／又はレーザーダイオードを備える、請求項１から９のいずれか一項に記載の装置。
11. 前記装置がオートフォーカスと検査絞りとの間で切り替わる必要がない、請求項１から１０のいずれか一項に記載の装置。
12. 前記オートフォーカスセンサがイメージセンサを備え、前記イメージセンサが前記装置の光学顕微鏡と共有される、請求項１から１１のいずれか一項に記載の装置。
13. 前記照射源が少なくとも２つのＬＥＤを備え、前記２つのＬＥＤが交互照射を行なうように構成される、請求項１から１２のいずれか一項に記載の装置。
14. 前記照射源が少なくとも２つのレーザーダイオードを備え、前記２つのレーザーダイオードが交互照射を行なうように構成される、請求項１から１３のいずれか一項に記載の装置。
15. 前記オートフォーカスシステムは、前記オートフォーカスセンサに衝突する１つ以上のスポット又はラインの事前に較正された座標を必要としない、請求項１から１４のいずれか一項に記載の装置。
16. オートフォーカスが前記スポット間又はライン間のオフセットに基づく、請求項１から１５のいずれか一項に記載の装置。
17. 前記オートフォーカスセンサに衝突する２つ以上のスポット又はラインが最良の焦点で重なり合う、請求項１から１６のいずれか一項に記載の装置。
18. オートフォーカスが前記オートフォーカスセンサによって検出されるスポットの数に基づく、請求項１から１７のいずれか一項に記載の装置。
19. オートフォーカスが前記オートフォーカスセンサによって検出されるスポットの均一性に基づく、請求項１から１８のいずれか一項に記載の装置。
20. 前記サンプリングシステムがレーザーアブレーションサンプリングシステムであり、前記レーザーアブレーションサンプリングシステムのレーザー源の焦点は、前記オートフォーカスシステムのオートフォーカス構成要素及び前記オートフォーカスセンサと共焦点である、請求項１から１９のいずれか一項に記載の装置。
21. 前記サンプリングシステムがレーザーアブレーションサンプリングシステムであり、前記装置はガス導管によって前記レーザーアブレーションサンプリングシステムに結合されるＩＣＰイオン化システムを更に備える、請求項１から２０のいずれか一項に記載の装置。
22. 質量分析計を更に備える、請求項２１に記載の装置。
23. オートフォーカスに基づくサンプリングを含む、請求項１から２２のいずれか一項に記載の装置を使用するオートフォーカスの方法。
24. 生物学的サンプルから質量タグをサンプリングすることを更に含む、請求項２３に記載の方法。