JPWO2018221067A1 - 排ガスの減圧除害方法及びその装置 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 28
- 230000006837 decompression Effects 0.000 title claims description 16
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract description 100
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 22
- 238000001784 detoxification Methods 0.000 claims abstract description 8
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 27
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910001868 water Inorganic materials 0.000 claims description 8
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 claims description 4
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000001307 helium Substances 0.000 claims description 3
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000009616 inductively coupled plasma Methods 0.000 claims description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 abstract description 16
- 238000010790 dilution Methods 0.000 abstract description 10
- 239000012895 dilution Substances 0.000 abstract description 10
- 210000002381 plasma Anatomy 0.000 description 66
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 6
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 4
- 239000010408 film Substances 0.000 description 4
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 2
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 2
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 2
- 238000004880 explosion Methods 0.000 description 2
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 2
- ZSLUVFAKFWKJRC-IGMARMGPSA-N 232Th Chemical compound [232Th] ZSLUVFAKFWKJRC-IGMARMGPSA-N 0.000 description 1
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000570 Cupronickel Inorganic materials 0.000 description 1
- PYVHTIWHNXTVPF-UHFFFAOYSA-N F.F.F.F.C=C Chemical compound F.F.F.F.C=C PYVHTIWHNXTVPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052776 Thorium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 238000009841 combustion method Methods 0.000 description 1
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 238000005202 decontamination Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000002360 explosive Substances 0.000 description 1
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 1
- 239000005431 greenhouse gas Substances 0.000 description 1
- 229910000856 hastalloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 231100000614 poison Toxicity 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 1
- 239000002341 toxic gas Substances 0.000 description 1
- 239000003440 toxic substance Substances 0.000 description 1
- 231100000419 toxicity Toxicity 0.000 description 1
- 230000001988 toxicity Effects 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
- B01D53/46—Removing components of defined structure
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/32—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by electrical effects other than those provided for in group B01D61/00
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
- B01D53/74—General processes for purification of waste gases; Apparatus or devices specially adapted therefor
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04B—POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS
- F04B37/00—Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00
- F04B37/10—Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00 for special use
- F04B37/14—Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00 for special use to obtain high vacuum
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04B—POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS
- F04B37/00—Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00
- F04B37/10—Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00 for special use
- F04B37/18—Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00 for special use for specific elastic fluids
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04B—POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS
- F04B41/00—Pumping installations or systems specially adapted for elastic fluids
- F04B41/06—Combinations of two or more pumps
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- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
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- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/26—Plasma torches
- H05H1/30—Plasma torches using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy
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- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/26—Plasma torches
- H05H1/32—Plasma torches using an arc
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- B01D2258/00—Sources of waste gases
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- F04D17/08—Centrifugal pumps
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
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- Y02C20/00—Capture or disposal of greenhouse gases
- Y02C20/30—Capture or disposal of greenhouse gases of perfluorocarbons [PFC], hydrofluorocarbons [HFC] or sulfur hexafluoride [SF6]
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Abstract
Description
このうち、例えばシリコン系薄膜の形成には、主として爆発性や毒性を有するシラン系ガスを用いたCVD法が使われている。このCVD法で使用された上記シラン系ガスを含むプロセスガスは、CVDプロセスで使用された後、排ガスとして下記の特許文献1に記載のような除害装置で無害化されるが、従来より、かかる除害装置の手前で、排ガス中のシラン系ガスを爆発限界以下まで希釈するために大量の希釈用窒素ガスが投入されていた。
ここで、典型的なシリコン酸窒化膜CVDでは、SiH4/NH3/N2O=1slm/10slm/10slm(slm;standard liter per minute,1atm、0℃における1分間辺りの流量をリットルで表示した単位)が使われるが、SiH4の爆発範囲が1.3%〜100%であるため、CVDプロセスから排出されたこのようなガスは、直ちに希釈用窒素ガスで約76倍程度希釈をする必要がある。かかる希釈を行えば、従来の燃焼方式や例えば下記の特許文献1(日本国・特許第4796733号公報)に示す大気圧プラズマ方式の熱分解装置で安全且つ確実に除害処理をすることができる。
すなわち、上述のように窒素ガスで希釈されたシラン系ガスを含む排ガス全体を分解温度まで加熱するのに必要なエネルギーは、希釈前のシラン系ガスを含む排ガスのみを加熱する場合の約76倍のエネルギーが必要となる。つまり、従来の窒素ガスでの希釈が必要な除害プロセスでは、多量な窒素ガスの使用に伴うコストアップのみならず、排ガスの除害に直接関係が無い窒素ガスも加熱しなければならないため、エネルギー効率が低く、電力或いは燃料などのコストアップも招いていた。
また、特に、従来の大気圧プラズマ方式の熱分解装置では、プラズマの生成が大気圧下であるため、極めて高い電圧が必要であり、失火などのトラブルも多いと言う問題があった。また、排ガス処理空間の壁面からの放熱も多くエネルギーのロスが大きいと言った課題もあった。さらに、ガス流速も遅く、排ガス処理空間内での粉体成長が進む結果、頻繁なメンテナンスが必要であると言う問題もあった。
すなわち、本発明における第1の発明は、真空ポンプ14を介して排ガス発生源12より供給される排ガスEを、減圧状態に保ち高温プラズマ22の熱で分解処理する、ことを特徴とする排ガスの減圧除害方法である。
真空ポンプ14を介して排ガス発生源12より供給される排ガスEを、減圧状態に保ち高温プラズマ22の熱で分解処理するため、希釈用の窒素ガスが不要か極少量で足りることとなる。
また、このように窒素ガスでの希釈が不要か極少量で足りるため、高温プラズマ22の熱のほぼ全てを直接的に排ガスEの分解に使用することができるのに加え、排ガスEの発生源から処理部までが減圧下にあるため、排ガスE中に人体にとって有毒なものが含まれる場合であっても、高温プラズマ22の熱で加熱分解処理される前に当該排ガスEが系外へ漏れ出す心配はない。
さらに、本発明では、「排ガスEを減圧状態に保ち高温プラズマ22の熱で分解処理する」、換言すれば「熱分解処理の熱源として使用する高温プラズマ22が減圧下で生成される」ため、大気圧に比べて低電圧で高温プラズマ22を生成することができる。その結果、失火を抑え、且つ低パワーで排ガスEの除害ができる。また、排ガス処理空間の壁面からの放熱を減らしてエネルギー効率を改善できると共に、ガス流速が大気圧の約2〜10倍になるので、反応生成物である粉体の排ガス処理空間内での滞留や成長を抑えることができ、メンテナンスサイクルを延ばすことができる。
減圧状態が50Torr未満の場合には、高度な真空環境を実現するために高価で大掛かりな装置が必要になり、逆に、減圧状態が400Torrを超える場合には、大気圧との差が小さくなるため、排ガスEを多量の窒素ガスで希釈しなければならなくなる。
すなわち、本発明の排ガスの減圧除害装置10は、真空ポンプ14を介して排ガス発生源12より供給される排ガスEを高温プラズマ22の熱で分解処理する反応室18と、上記の反応室18内に向けて上記の高温プラズマ22を放出するプラズマ生成手段20と、上記の真空ポンプ14の排気口から上記の反応室18に亘って減圧する後段真空ポンプ24とを備える。
大気圧プラズマの場合、高温プラズマ生成用の流体(すなわち作動ガス)として単一のガス以外に余計なガスを入れるとプラズマが安定しなくなる。しかしながら、減圧下で高温プラズマ22を生成させる本発明の排ガスの減圧除害装置10では、当該プラズマが非常に安定するため、高温プラズマ生成用の流体として、メインの作動ガスとなるものに加え、反応補助ガスとなる副成分のガスも必要に応じて同時に入れることができる。その結果、目的に応じた多様な高温プラズマ22を生成することができる。
この場合、プラズマ生成手段20として、従来の大気圧プラズマ方式のものを直接的に流用することができる。
図1は、本発明の一実施形態の排ガスの減圧除害装置10の概要を示す図である。この図が示すように、本実施形態の排ガスの減圧除害装置10は、CVD装置などの排ガス発生源12より真空ポンプ14を介して供給される排ガスEを除害するための装置であり、反応室18及びプラズマ生成手段20を有する反応筒16と、後段真空ポンプ24とで大略構成される。
そして、このケーシング16aの天井部には、開口16bが穿設されており、その開口16bにプラズマ生成手段20が取り付けられる(図2参照)。
このプラズマジェットトーチ36は、黄銅などの金属材料からなるトーチボディ36aを有する。このトーチボディ36aの先端(図2における下端)にはアノード38が連設されており、そのアノード38の内部には棒状のカソード40が取着される。
なお、アノード38とカソード40との間には、トーチボディ36aを介してこれらの間で通電(短絡)しないように四フッ化エチレン樹脂やセラミックなどの絶縁材料(図示せず)が介装されている。また、アノード38およびカソード40の内部には、冷却水通流路(図示せず)が設けられており、これらの部材を冷却するようにしている。
このプラズマ生成用流体供給手段26は、アノード38のプラズマ発生室38a内に、窒素,酸素,アルゴン,ヘリウム又は水からなる群より選ばれる少なくとも1種を高温プラズマ生成用の流体として送給するものであり、図示しないが、これらの流体を貯蔵する貯蔵タンクと、この貯蔵タンクとアノード38のプラズマ発生室38aとを連通する配管系とを有する。なお、この配管系にはマスフローコントローラなどの流量制御手段が取り付けられている。
排ガス発生源12から排出される排ガスEは真空ポンプ14を介して反応筒16へと送られる。ここで、後段真空ポンプ24を作動させることにより、排ガスEは所定の減圧状態に保たれ反応室18へと導入され、この反応室18でプラズマ生成手段20より放出される高温プラズマ22の熱によって分解処理される。
さらに、排ガスの発生源から処理部までが減圧下にあるため、排ガスE中に人体にとって有毒なものが含まれる場合であっても高温プラズマ22の熱で分解処理される前に当該排ガスEが系外へ漏れ出す心配はない。
反応筒16に取り付けられたプラズマ生成手段20の高温プラズマ発生方法として、直流アーク放電を利用する場合を示したが、このプラズマ生成手段20は排ガスEを熱分解できる高温のプラズマを放出できるものであれば、その高温プラズマ発生方法は如何なる方法であってもよく、上記の方法の他に、例えば誘導結合プラズマ又は容量結合プラズマを利用した方法などを用いるのも好適である。
Claims (5)
- 真空ポンプを介して排ガス発生源より供給される排ガスを、減圧状態に保ち高温プラズマの熱で分解処理する、
ことを特徴とする排ガスの減圧除害方法。 - 請求項1の排ガスの減圧除害方法において、
前記の減圧状態が、50Torr以上で且つ400Torr以下の範囲内である、ことを特徴とする排ガスの減圧除害方法。 - 真空ポンプ(14)を介して排ガス発生源(12)より供給される排ガス(E)を高温プラズマ(22)の熱で分解処理する反応室(18)と、
上記の反応室(18)内に向けて上記の高温プラズマ(22)を放出するプラズマ生成手段(20)と、
上記の真空ポンプ(14)の排気口から上記の反応室(18)に亘って減圧する後段真空ポンプ(24)を備える、
ことを特徴とする排ガスの減圧除害装置。 - 請求項3の排ガスの減圧除害装置において、
前記プラズマ生成手段(20)に、高温プラズマ生成用の流体として窒素,酸素,アルゴン,ヘリウム又は水からなる群より選ばれる少なくとも1種を供給するプラズマ生成用流体供給手段(26)を設けた、ことを特徴とする排ガスの減圧除害装置。 - 請求項3又は4の排ガスの減圧除害装置において、
前記プラズマ生成手段(20)における高温プラズマ発生方法が直流アーク放電又は誘導結合プラズマ又は容量結合プラズマである、ことを特徴とする排ガスの減圧除害装置。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017105712 | 2017-05-29 | ||
JP2017105712 | 2017-05-29 | ||
PCT/JP2018/016293 WO2018221067A1 (ja) | 2017-05-29 | 2018-04-20 | 排ガスの減圧除害方法及びその装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2018221067A1 true JPWO2018221067A1 (ja) | 2020-02-06 |
Family
ID=64455338
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019522023A Pending JPWO2018221067A1 (ja) | 2017-05-29 | 2018-04-20 | 排ガスの減圧除害方法及びその装置 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11504669B2 (ja) |
JP (1) | JPWO2018221067A1 (ja) |
KR (1) | KR20190141204A (ja) |
CN (1) | CN110582340A (ja) |
TW (1) | TW201900266A (ja) |
WO (1) | WO2018221067A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7270704B2 (ja) * | 2021-09-08 | 2023-05-10 | 日揚科技股▲分▼有限公司 | 半導体排気ガス処理システム |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
2018
- 2018-04-20 WO PCT/JP2018/016293 patent/WO2018221067A1/ja active Application Filing
- 2018-04-20 CN CN201880027015.3A patent/CN110582340A/zh active Pending
- 2018-04-20 JP JP2019522023A patent/JPWO2018221067A1/ja active Pending
- 2018-04-20 KR KR1020197034076A patent/KR20190141204A/ko not_active Application Discontinuation
- 2018-04-20 US US16/603,413 patent/US11504669B2/en active Active
- 2018-05-04 TW TW107115204A patent/TW201900266A/zh unknown
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20190141204A (ko) | 2019-12-23 |
US11504669B2 (en) | 2022-11-22 |
CN110582340A (zh) | 2019-12-17 |
WO2018221067A1 (ja) | 2018-12-06 |
TW201900266A (zh) | 2019-01-01 |
US20200038805A1 (en) | 2020-02-06 |
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Legal Events
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|
A02 | Decision of refusal |
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