JPWO2018199169A1 - 成膜装置及び成膜方法 - Google Patents
成膜装置及び成膜方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2018199169A1 JPWO2018199169A1 JP2019514579A JP2019514579A JPWO2018199169A1 JP WO2018199169 A1 JPWO2018199169 A1 JP WO2018199169A1 JP 2019514579 A JP2019514579 A JP 2019514579A JP 2019514579 A JP2019514579 A JP 2019514579A JP WO2018199169 A1 JPWO2018199169 A1 JP WO2018199169A1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- roller
- substrate
- film forming
- heating
- base material
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/562—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
- C23C14/541—Heating or cooling of the substrates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
Description
上記巻出しローラは、長尺のフィルムである基材を巻き出す。
上記巻取りローラは、上記巻出しローラから巻き出された上記基材を巻き取る。
上記加熱ローラは、温調ユニットを含み、上記基材の搬送方向において上記巻出しローラと上記巻取りローラとの間に設けられ、上記基材を加熱する。
上記成膜部は、上記加熱ローラに対向して設けられ、金属材料を加熱する加熱機構を有する蒸発源を含み、上記基材上に金属膜を成膜する。
上記制御部は、上記基材が上記加熱ローラから巻き出され、上記巻取りローラに巻き取られる過程において、上記金属膜と上記基材との温度差が0℃以上180℃未満となるように、上記温調ユニットと上記加熱機構の少なくとも一方を制御可能に構成される。
上記制御部は、上記基材が巻出しローラから上記加熱ローラへ搬送される過程において、上記基材の単位時間あたりの温度変化が3.6℃/min以上3600℃/min以下となるように上記予熱部を制御するように構成されてもよい。
上記成膜方法は、上記基材が上記加熱ローラから巻き出され、上記巻取りローラに巻き取られる過程において、上記金属膜と上記基材との温度差が0℃以上180℃未満に維持される。
図1は、本発明の一実施形態に係る成膜装置100の構成を示す概略側断面図である。図1に示すX軸、Y軸及びZ軸方向は相互に直交する3軸方向を示し、X軸及びY軸は水平方向、Z軸方向は鉛直方向を示す。
図2は、成膜装置100を用いた成膜方法を示すフローチャートである。以下、成膜装置100の成膜方法について、図2に沿って説明する。
真空ポンプPを起動させ、真空チャンバ101内を排気し、成膜部110と搬送部120各々を所定の真空度に維持する。
巻出しローラ131、加熱ローラ132及び巻取りローラ133がZ軸周りの所定の回転速度で連続的に回転する。基材Fは、ガイドローラ134aによって走行をガイドされながら加熱ローラ132へ搬送される。
巻出しローラ131、加熱ローラ132及び巻取りローラ133がZ軸周りに所定の回転速度で連続的に回転することによって、予熱部150により加熱された基材Fが加熱ローラ132の外周面に巻回される。そして、基材Fは加熱ローラ132により加熱されながら成膜部110を通過する。
続いて、リチウム金属膜が形成された基材Fは、ガイドローラ134bによって走行をガイドされながら巻取りローラ133へ搬送され、回収される。ここで、本実施形態に係る成膜方法では、前述のステップS03によりリチウム金属膜と基材Fとの温度差(T2-T3)が0℃以上180℃未満に維持されるように制御されている。
110・・・成膜部
131・・・巻出しローラ
132・・・加熱ローラ
133・・・巻取りローラ
140・・・制御部
150・・・予熱部
F・・・・・基材
Claims (5)
- 長尺のフィルムである基材を巻き出す巻出しローラと、
前記巻出しローラから巻き出された前記基材を巻き取る巻取りローラと、
温調ユニットを含み、前記基材の搬送方向において前記巻出しローラと前記巻取りローラとの間に設けられ、前記基材を加熱する加熱ローラと、
前記加熱ローラに対向して設けられ、金属材料を加熱する加熱機構を有する蒸発源を含み、前記基材上に金属膜を成膜する成膜部と、
前記基材が前記加熱ローラから巻き出され、前記巻取りローラに巻き取られる過程において、前記金属膜と前記基材との温度差が0℃以上180℃未満となるように、前記温調ユニットと前記加熱機構の少なくとも一方を制御可能に構成された制御部と
を具備する成膜装置。 - 請求項1に記載の成膜装置であって、
前記成膜部より前記基材の搬送方向上流側に設けられた予熱部をさらに具備し、
前記制御部は、前記基材が巻出しローラから前記加熱ローラへ搬送される過程において、前記基材の単位時間あたりの温度変化が3.6℃/min以上3600℃/min以下となるように前記予熱部を制御するように構成される
成膜装置。 - 請求項2に記載の成膜装置であって、
前記制御部は、前記加熱ローラの温度が0℃以上70℃以下となるように、前記温調ユニットを制御するように構成される
成膜装置。 - 請求項1〜3のいずれか1つに記載の成膜装置であって、
前記制御部は、前記蒸発源と前記加熱ローラとの温度差が300℃以上700℃以下となるように前記温調ユニット及び前記加熱機構を制御するように構成される
成膜装置。 - 長尺のフィルムである基材を巻き出す巻出しローラと、前記巻出しローラから巻き出された前記基材を巻き取る巻取りローラと、温調ユニットを含み、前記基材の搬送方向において前記巻出しローラと前記巻取りローラとの間に設けられ、前記基材を加熱する加熱ローラと、前記加熱ローラに対向して設けられ、金属材料を蒸発させる蒸発源を含み、前記基材上に金属膜を成膜する成膜部と、を有する成膜装置の成膜方法であって、
前記基材が前記加熱ローラから巻き出され、前記巻取りローラに巻き取られる過程において、前記金属膜と前記基材との温度差を0℃以上180℃未満に維持する
成膜方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017087333 | 2017-04-26 | ||
JP2017087333 | 2017-04-26 | ||
PCT/JP2018/016817 WO2018199169A1 (ja) | 2017-04-26 | 2018-04-25 | 成膜装置及び成膜方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2018199169A1 true JPWO2018199169A1 (ja) | 2019-06-27 |
Family
ID=63918367
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019514579A Pending JPWO2018199169A1 (ja) | 2017-04-26 | 2018-04-25 | 成膜装置及び成膜方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPWO2018199169A1 (ja) |
KR (1) | KR20190020724A (ja) |
CN (1) | CN109729718A (ja) |
WO (1) | WO2018199169A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109778135A (zh) * | 2019-03-28 | 2019-05-21 | 中国科学院青岛生物能源与过程研究所 | 一种预嵌入金属锂制备电池负极材料的装置及方法 |
WO2021006054A1 (ja) * | 2019-07-11 | 2021-01-14 | 日本電気硝子株式会社 | ガラスロールの製造方法及び製造装置 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03158467A (ja) * | 1989-11-14 | 1991-07-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 連続製膜装置 |
JPH11350117A (ja) * | 1998-06-03 | 1999-12-21 | Toppan Printing Co Ltd | 真空成膜装置 |
JP2002231221A (ja) * | 2001-02-01 | 2002-08-16 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | リチウム二次電池用電極又はセパレータ及びこれらの製造方法並びにこれらを用いたリチウム二次電池 |
JP2004259483A (ja) * | 2003-02-24 | 2004-09-16 | Sumitomo Electric Ind Ltd | リチウム二次電池負極部材、及びその製造方法 |
JP2010242200A (ja) * | 2009-04-09 | 2010-10-28 | Toyota Motor Corp | 薄膜部材の製造装置およびその製造方法 |
JP2011089160A (ja) * | 2009-10-21 | 2011-05-06 | Honjo Metal Co Ltd | リチウム膜の製造方法およびリチウム膜製造装置 |
JP2014173101A (ja) * | 2013-03-06 | 2014-09-22 | Dainippon Printing Co Ltd | 積層体の製造方法 |
JP2015021172A (ja) * | 2013-07-19 | 2015-02-02 | 日東電工株式会社 | スパッタ装置 |
JP2017506290A (ja) * | 2014-01-22 | 2017-03-02 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | フレキシブル基板のスプレッディングためのローラ、フレキシブル基板を処理するための装置、及びそれらを操作する方法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4516304B2 (ja) * | 2003-11-20 | 2010-08-04 | 株式会社アルバック | 巻取式真空蒸着方法及び巻取式真空蒸着装置 |
JP2008081820A (ja) | 2006-09-28 | 2008-04-10 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 成膜装置 |
KR20100102217A (ko) * | 2008-04-14 | 2010-09-20 | 가부시키가이샤 아루박 | 권취식 진공 성막 장치 |
JP2010121188A (ja) | 2008-11-21 | 2010-06-03 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 金属積層樹脂フィルム基板及びその製造方法 |
JP2010182599A (ja) | 2009-02-09 | 2010-08-19 | Toyota Motor Corp | リチウムイオン電池用集電体の成膜方法及び成膜装置 |
JP6016723B2 (ja) * | 2012-08-07 | 2016-10-26 | 株式会社神戸製鋼所 | ガラスフィルム搬送装置 |
-
2018
- 2018-04-25 WO PCT/JP2018/016817 patent/WO2018199169A1/ja active Application Filing
- 2018-04-25 CN CN201880002608.4A patent/CN109729718A/zh active Pending
- 2018-04-25 JP JP2019514579A patent/JPWO2018199169A1/ja active Pending
- 2018-04-25 KR KR1020197000116A patent/KR20190020724A/ko not_active Application Discontinuation
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03158467A (ja) * | 1989-11-14 | 1991-07-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 連続製膜装置 |
JPH11350117A (ja) * | 1998-06-03 | 1999-12-21 | Toppan Printing Co Ltd | 真空成膜装置 |
JP2002231221A (ja) * | 2001-02-01 | 2002-08-16 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | リチウム二次電池用電極又はセパレータ及びこれらの製造方法並びにこれらを用いたリチウム二次電池 |
JP2004259483A (ja) * | 2003-02-24 | 2004-09-16 | Sumitomo Electric Ind Ltd | リチウム二次電池負極部材、及びその製造方法 |
JP2010242200A (ja) * | 2009-04-09 | 2010-10-28 | Toyota Motor Corp | 薄膜部材の製造装置およびその製造方法 |
JP2011089160A (ja) * | 2009-10-21 | 2011-05-06 | Honjo Metal Co Ltd | リチウム膜の製造方法およびリチウム膜製造装置 |
JP2014173101A (ja) * | 2013-03-06 | 2014-09-22 | Dainippon Printing Co Ltd | 積層体の製造方法 |
JP2015021172A (ja) * | 2013-07-19 | 2015-02-02 | 日東電工株式会社 | スパッタ装置 |
JP2017506290A (ja) * | 2014-01-22 | 2017-03-02 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | フレキシブル基板のスプレッディングためのローラ、フレキシブル基板を処理するための装置、及びそれらを操作する方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20190020724A (ko) | 2019-03-04 |
CN109729718A (zh) | 2019-05-07 |
WO2018199169A1 (ja) | 2018-11-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5958092B2 (ja) | 成膜装置及び成膜方法 | |
KR20190041506A (ko) | 롤 투 롤 방식의 표면 처리 장치 그리고 이것을 사용한 성막 방법 및 성막 장치 | |
JPWO2018199169A1 (ja) | 成膜装置及び成膜方法 | |
TWI495749B (zh) | 捲對捲濺鍍方法 | |
JP5071339B2 (ja) | 長尺樹脂フィルムの処理方法と長尺樹脂フィルムの処理装置 | |
JP5278218B2 (ja) | 長尺樹脂フィルム処理装置およびロール冷却装置と、ロール冷却方法および長尺樹脂フィルムとロールの冷却方法 | |
JP2013124413A (ja) | 成膜装置及び膜付ガラスフィルムの製造方法 | |
WO2019102836A1 (ja) | 透明導電膜付きガラスシート、透明導電膜付きガラスロール、及びその製造方法 | |
JP6183284B2 (ja) | ガス放出機構を備えたキャンロールを用いた長尺フィルムの処理方法 | |
JP2010121188A (ja) | 金属積層樹脂フィルム基板及びその製造方法 | |
JP7093684B2 (ja) | 成膜装置及び成膜方法 | |
JP6172063B2 (ja) | 長尺樹脂フィルムの表面処理装置 | |
JP6132055B2 (ja) | グラフェン膜の製造方法 | |
JP5194939B2 (ja) | 金属酸化物薄膜形成装置ならびに金属酸化物薄膜付きシートの製造方法 | |
JP2017101270A (ja) | 薄膜形成装置および薄膜形成方法 | |
JP2011195850A (ja) | 成膜方法およびガスバリアフィルム | |
WO2020004335A1 (ja) | 成膜装置及び成膜方法 | |
JPH11350117A (ja) | 真空成膜装置 | |
JP2020056083A (ja) | 成膜装置 | |
JPH06330317A (ja) | 薄膜製造装置 | |
TWI836404B (zh) | 材料沉積設備、在基板上沉積材料的方法及材料沉積系統 | |
JP2015193882A (ja) | 透明導電フィルムの製造方法 | |
JP2019026906A (ja) | 基材処理方法及び真空処理装置 | |
JP2014056944A (ja) | 真空処理装置 | |
JP2022013227A (ja) | 成膜装置及び成膜方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20181210 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190827 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20191025 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20191217 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20200616 |