JPWO2018174147A1 - 構造体、近赤外線透過フィルタ層形成用組成物および光センサ - Google Patents

構造体、近赤外線透過フィルタ層形成用組成物および光センサ Download PDF

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Abstract

近赤外線を感度よく検出できる構造体を提供する。また、前述の構造体に用いられる近赤外線透過フィルタ層形成用組成物、および、近赤外線を感度よく検出できる光センサを提供する。この構造体１０１は、支持体１と、支持体１上に設けられた隔壁２と、隔壁２で区切られた領域に設けられた、可視光を遮光し、近赤外線の少なくとも一部を透過させる近赤外線透過フィルタ層１１とを有し、近赤外線透過フィルタ層１１が透過する近赤外線のうち少なくとも一部の波長において、隔壁２の屈折率が、近赤外線透過フィルタ層１１の屈折率よりも小さい。

Description

本発明は、構造体、近赤外線透過フィルタ層形成用組成物および光センサに関する。
従来より、電荷結合素子（ＣＣＤ）イメージセンサなどの固体撮像素子においては、カラーフィルタを用いて画像のカラー化などの試みが行われている。例えば、特許文献１には、半導体基板と、２色以上のカラーフィルタ層と少なくとも異色のカラーフィルタ層間を隔てて分離する分離壁とを有するカラーフィルタアレイと、半導体基板とカラーフィルタアレイとの間に配置された集光手段と、を備えた固体撮像素子が記載されている。
また、近年において、近赤外線に感知する光センサについての検討がなされている。近赤外線は可視光線に比べて波長が長いので散乱しにくく、距離計測や、３次元計測などにも活用可能である。また、近赤外線は人間、動物などの目に見えないので、夜間に被写体を近赤外線で照らしても被写体に気付かれることなく、夜行性の野生動物を撮影する用途、防犯用途として相手を刺激せずに撮影することにも使用可能である。このように、近赤外線に感知する光センサは、様々な用途に展開が可能である。このような光センサにおいては、近赤外線透過フィルタなどの近赤外領域に透過帯を有するフィルタなどが用いられている（例えば、特許文献２、３参照）。
特開２００９−１１１２２５号公報 国際公開ＷＯ２０１６／１１７５９６号公報 国際公開ＷＯ２０１６／１１７５９７号公報
従来の光センサは、近赤外線に対する感度が十分とは言えず、近赤外線に対する感度のさらなる向上が望まれている。また、特許文献２、３に記載されている発明においても、近赤外線に対する感度は十分とは言えなかった。
よって、本発明の目的は、近赤外線を感度よく検出できる構造体を提供することにある。また、前述の構造体に用いられる近赤外線透過フィルタ層形成用組成物、および、近赤外線を感度よく検出できる光センサを提供することにある。
本発明者らの検討によれば、後述する構造体を用いることで、近赤外線の集光性を高めて近赤外線を感度よく検出できることを見出し、本発明を完成するに至った。よって、本発明は以下を提供する。
＜１＞ 支持体と、
支持体上に設けられた隔壁と、
隔壁で区切られた領域に設けられた、可視光を遮光し、近赤外線の少なくとも一部を透過させる近赤外線透過フィルタ層と、を有し、
近赤外線透過フィルタ層が透過する近赤外線のうち少なくとも一部の波長において、隔壁の屈折率が、近赤外線透過フィルタ層の屈折率よりも小さい構造体。
＜２＞ 近赤外線透過フィルタ層が透過する近赤外線のうち少なくとも一部の波長において、隔壁の屈折率が、近赤外線透過フィルタ層の屈折率よりも０．２以上小さい、＜１＞に記載の構造体。
＜３＞ 波長７００〜１０００ｎｍの範囲の全波長において、隔壁の屈折率が、近赤外線透過フィルタ層の屈折率よりも小さい、＜１＞または＜２＞に記載の構造体。
＜４＞ 隔壁の波長７００〜１０００ｎｍの範囲の光に対する屈折率の最大値が１．４以下である、＜１＞〜＜３＞のいずれか１つに記載の構造体。
＜５＞ 隔壁の波長４００〜１０００ｎｍの範囲の光に対する屈折率の最大値が１．４以下である、＜１＞〜＜４＞のいずれか１つに記載の構造体。
＜６＞ 隔壁が、シリカ粒子、シロキサン樹脂、フッ素樹脂および二酸化ケイ素から選ばれる少なくとも１種を含む、＜１＞〜＜５＞のいずれか１つに記載の構造体。
＜７＞ 隔壁の表面に保護層を有する、＜１＞〜＜６＞のいずれか１つに記載の構造体。
＜８＞ 支持体上に隔壁で区切られた領域を複数有し、隔壁で区切られた領域の少なくとも１つの領域には近赤外線透過フィルタ層が設けられており、隔壁で区切られた残りの領域の少なくとも１つの領域には、カラーフィルタ層および近赤外線カットフィルタ層から選ばれる少なくとも１種の層が設けられている、＜１＞〜＜７＞のいずれか１つに記載の構造体。
＜９＞ 近赤外線透過フィルタ層に含まれる色材の含有量が５０〜７５質量％である、＜１＞〜＜８＞のいずれか１つに記載の構造体。
＜１０＞ ＜１＞〜＜９＞のいずれか１つに記載の構造体における近赤外線透過フィルタ層の形成に用いられる組成物であって、
色材と硬化性化合物とを含む、近赤外線透過フィルタ層形成用組成物。
＜１１＞ ＜１＞〜＜９＞のいずれか１つに記載の構造体を有する光センサ。
本発明によれば、近赤外線を感度よく検出できる構造体を提供することができる。また、前述の構造体に用いられる近赤外線透過フィルタ層形成用組成物、および、近赤外線を感度よく検出できる光センサを提供することができる。
本発明の構造体の一実施形態を示す概略図である。 本発明の構造体の一実施形態を示す概略図である。 本発明の構造体の一実施形態を示す概略図である。 本発明の構造体の一実施形態を示す概略図である。 本発明の構造体の一実施形態を示す概略図である。 本発明の構造体の一実施形態を示す概略図である。 本発明の構造体の一実施形態を示す概略図である。 本発明の構造体の一実施形態を示す概略図である。 本発明の構造体の一実施形態を示す概略図である。 本発明の構造体の一実施形態を示す概略図である。 本発明の構造体の一実施形態を示す概略図である。 本発明の構造体の一実施形態を示す概略図である。 本発明の構造体の一実施形態を示す概略図である。 本発明の構造体の一実施形態を示す概略図である。 本発明の構造体の一実施形態を示す概略図である。 本発明の構造体の一実施形態を示す概略図である。 本発明の構造体の一実施形態を示す概略図である。 本発明の構造体の一実施形態を示す概略図である。
以下において、本発明の内容について詳細に説明する。
本明細書において、「〜」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。
本明細書における基（原子団）の表記において、置換および無置換を記していない表記は、置換基を有さない基（原子団）と共に置換基を有する基（原子団）をも包含する。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含する。
本明細書において「露光」とは、特に断らない限り、光を用いた露光のみならず、電子線、イオンビーム等の粒子線を用いた描画も露光に含める。また、露光に用いられる光としては、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザに代表される遠紫外線、極紫外線（ＥＵＶ光）、Ｘ線、電子線等の活性光線または放射線が挙げられる。
本明細書において、（メタ）アリル基は、アリルおよびメタリルの双方、または、いずれかを表し、「（メタ）アクリレート」は、アクリレートおよびメタクリレートの双方、または、いずれかを表し、「（メタ）アクリル」は、アクリルおよびメタクリルの双方、または、いずれかを表し、「（メタ）アクリロイル」は、アクリロイルおよびメタクリロイルの双方、または、いずれかを表す。
本明細書において、重量平均分子量および数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）測定でのポリスチレン換算値として定義される。本明細書において、重量平均分子量（Ｍｗ）及び数平均分子量（Ｍｎ）は、例えば、ＨＬＣ−８２２０（東ソー（株）製）を用い、カラムとしてＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ ＡＷＭ―Ｈ（東ソー（株）製、６．０ｍｍＩＤ（内径）×１５．０ｃｍ）を用い、溶離液として１０ｍｍｏｌ／Ｌ リチウムブロミドＮＭＰ（Ｎ−メチルピロリジノン）溶液を用いることによって求めることができる。
本明細書において、近赤外線とは、波長７００〜２５００ｎｍの光をいう。
本明細書において、全固形分とは、組成物の全成分から溶剤を除いた成分の総質量をいう。
本明細書において「工程」との語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の作用が達成されれば、本用語に含まれる。
＜構造体＞
本発明の構造体は、
支持体と、
支持体上に設けられた隔壁と、
隔壁で区切られた領域に設けられた、可視光を遮光し、近赤外線の少なくとも一部を透過させる近赤外線透過フィルタ層とを有し、
近赤外線透過フィルタ層が透過する近赤外線のうち少なくとも一部の波長において、隔壁の屈折率が、近赤外線透過フィルタ層の屈折率よりも小さいことを特徴とする。
本発明の構造体によれば、上述した屈折率の特性を有する隔壁で区切られた領域に近赤外線透過フィルタ層を設けたことにより、近赤外線の集光性を高めて、近赤外線に対する感度をより高めることができる。このため、例えば、本発明の構造体を光センサに組み込むことで、近赤外線を利用したより精度の高いセンシングなどを行うことができる。また、近赤外線透過フィルタ層はｉ線の透過性が低いため、硬化性が低い傾向にある。このため、従来では、近赤外線透過フィルタ層の画素を矩形性良く形成することが困難であったり、近赤外線透過フィルタ層から色材が溶出して隣接する他のフィルタ層などと混色することがあったが、本発明の構造体は、近赤外線透過フィルタ層の周囲に隔壁が設けられているので、近赤外線透過フィルタ層の矩形性が良好であり、更には、近赤外線透過フィルタ層の他に他のフィルタ層を設けた場合であっても、他のフィルタ層に近赤外線透過フィルタ層中の色材が混色することを効果的に抑制することもできる。
本発明の構造体において、支持体としては特に限定はない。用途に応じて適宜選択できる。例えば、シリコン、無アルカリガラス、ソーダガラス、パイレックス（登録商標）ガラス、石英ガラスなどの材質で構成された基板が挙げられる。また、ＩｎＧａＡｓ基板などを用いることも好ましい。ＩｎＧａＡｓ基板は、波長１０００ｎｍを超える光に対する感度が良好であるため、ＩｎＧａＡｓ基板上に各近赤外線透過フィルタ層を形成することで、波長１０００ｎｍを超える光に対する感度に優れた光センサが得られやすい。また、支持体上には、電荷結合素子（ＣＣＤ）、相補型金属酸化膜半導体（ＣＭＯＳ）、透明導電膜などが形成されていてもよい。また、支持体上には、タングステンなどの遮光材で構成されたブラックマトリックスが形成されている場合もある。また、支持体上には、必要により、上部の層との密着性改良、物質の拡散防止或いは基板表面の平坦化のために下地層が設けられていてもよい。
本発明の構造体は、支持体上に隔壁が設けられている。隔壁は、支持体上に直接接して設けられていてもよい。また、支持体上に下地層が設けられている場合においては、下地層上に隔壁が設けられていてもよい。また、支持体上にブラックマトリックスが形成された支持体を用いた場合においては、ブラックマトリックス上に隔壁が設けられていてもよい。支持体上における隔壁によって区切られた領域の形状（以下、隔壁の開口部の形状ともいう）は特に限定されず、例えば、正方形状、長方形状、円形状、楕円形状、または、多角形状等のいずれの形状であってもよい。
本発明の構造体は、近赤外線透過フィルタ層が透過する近赤外線のうち少なくとも一部の波長において、隔壁の屈折率が、近赤外線透過フィルタ層の屈折率よりも０．２以上小さいことが好ましく、０．２５以上小さいことがより好ましく、０．３０以上小さいことが更に好ましい。上限は特に限定されないが、例えば、１．００以下であることが好ましい。この態様によれば、近赤外線の集光性をより高めて、近赤外線の感度をより向上できる。
また、本発明の構造体は、波長７００〜１０００ｎｍの範囲の全波長において、隔壁の屈折率が、近赤外線透過フィルタ層の屈折率よりも小さいことが好ましく、０．２以上小さいことがより好ましく、０．２５以上小さいことが更に好ましく、０．３０以上小さいことが特に好ましい。上限は特に限定されないが、例えば、１．００以下であることが好ましい。この態様によれば、近赤外線の集光性をより高めて、近赤外線の感度をより向上できる。本発明の構造体における近赤外線透過フィルタ層が波長７００〜１０００ｎｍの範囲のうち少なくとも一部の波長の光を透過するフィルタ層である場合において特に効果的である。
また、隔壁の波長７００〜１０００ｎｍの範囲の光に対する屈折率の最大値は、１．４以下であることが好ましく、１．３７以下であることがより好ましく、１・３４以下であることが更に好ましい。近赤外線透過フィルタ層の波長７００〜１０００ｎｍの範囲の光に対する屈折率は、１．４を超えることが多いため、隔壁の前述の屈折率の最大値が１．４以下であれば、近赤外線の集光性をより高めて、近赤外線の感度をより向上できる。
また、隔壁の波長４００〜１０００ｎｍの範囲の光に対する屈折率の最大値は、１．４以下であることが好ましく、１．３７以下であることがより好ましく、１．３４以下であることが更に好ましい。この態様によっても、近赤外線の集光性をより高めて、近赤外線の感度をより向上できる。また、後述するカラーフィルタ層の波長４００〜１０００ｎｍの範囲の光に対する屈折率は、１．４を超えることが多い。このため、隔壁で区切られた領域の少なくとも１つの領域に近赤外線透過フィルタ層を設け、隔壁で区切られた残りの領域の少なくとも１つの領域に、カラーフィルタ層を設けた場合においては、可視光および近赤外線のそれぞれの集光性を高めて、可視光および近赤外線の感度を高めることができる。
隔壁の材質としては、上述した屈折率の条件を満たす材料で構成されていればよく、特に限定はない。種々の無機材料や有機材料を用いることができる。隔壁を構成する材質における波長７００〜１０００ｎｍの範囲の光に対する屈折率の最大値は、１．４以下であることが好ましく、１．３７以下であることがより好ましく、１．３４以下であることが更に好ましい。隔壁の材質の好ましい例としては、シロキサン樹脂、フッ素樹脂などの有機材料や、シリカ粒子、二酸化ケイ素などの無機材料が挙げられる。なかでも、隔壁の加工性が良好で、幅寸法のばらつきや、欠陥等の少ない隔壁を形成し易いという理由から、隔壁は粒子を実質的に含まないことが好ましい。また、隔壁の材質はシロキサン樹脂および／またはフッ素樹脂であることが好ましい。隔壁が粒子を実質的に含まない場合とは、隔壁中における粒子の含有量が１質量％以下であることを意味し、０．５質量％以下であることが好ましく、０．１質量％以下であることがより好ましく、粒子を含有しないことが一層好ましい。
シロキサン樹脂としては、アルコキシシラン原料を用いて、加水分解反応および縮合反応を介して得られる樹脂が挙げられる。シロキサン樹脂はかご型、はしご型、又はランダム型等のいずれのシルセスキオキサン構造を有するシロキサン樹脂であってもよい。なお、「かご型」、「はしご型」、及び「ランダム型」は、例えば、「シルセスキオキサン材料の化学と応用展開（シーエムシー出版）」等に記載されている構造を参照することができる。
シロキサン樹脂は下記式（Ｓ１）で表されるシルセスキオキサン構造を有することが好ましい。
−（Ｒ1ＳｉＯ3/2）n− ・・・式（Ｓ１）
（上記式（Ｓ１）中、Ｒ1は炭素数１〜３のアルキル基を表す。ｎは２０〜１０００の整数を表す。）
Ｒ1が表すアルキル基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、フッ素原子、アミノ基、スルホンアミド基、アシルオキシ基、カルバモイル基、アシルアミノ基などが挙げられる。
アルコキシシラン原料としては、トリアルコキシシラン、テトラアルコキシシランが挙げられる。アルコキシシラン原料は、トリアルコキシシランを少なくとも含むことが好ましく、トリアルコキシシランとテトラアルコキシシランとを含むことがより好ましい。トリアルコキシシランとしては、下記の式（Ｓ２）で表す化合物であることが好ましい。テトラアルコキシシランとしては、下記の式（Ｓ３）で表す化合物であることが好ましい。
Ｒ2Ｓｉ（ＯＲ3）3 ・・・式（Ｓ２）
Ｓｉ（ＯＲ3）4 ・・・式（Ｓ３）
（Ｒ2およびＲ3は、それぞれ独立してアルキル基を表す。）
Ｒ2およびＲ3が表すアルキル基の炭素数は、１〜１０が好ましく、１〜４がより好ましく、１〜３が更に好ましい。Ｒ2およびＲ3が表すアルキル基は、直鎖のアルキル基であることが好ましい。Ｒ2およびＲ3が表すアルキル基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、上述したＲ1が表すアルキル基が有してもよい置換基が挙げられる。
シロキサン樹脂の詳細については、特開２０１４−０６３１２５号公報の段落番号００１４〜００３９、特開２００４−０２１０３６号公報、特開２０１１−８４６７２号公報の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
フッ素樹脂としては、分子中にフッ素を含有する樹脂が挙げられる。具体的には、ポリテトラフルオロエチレン、ポリヘキサフルオロプロピレン、テトラフルオロエチレン／ヘキサフルオロプロピレン共重合体、テトラフルオロエチレン／パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体、テトラフルオロエチレン／エチレン共重合体、ヘキサフルオロプロピレン／プロピレン共重合体、ポリビニリデンフルオライド、ビニリデンフルオライド／エチレン共重合体などが挙げられる。また、アモルファスフッ素樹脂も好ましく用いられ、市販品としてはＣＹＴＯＰ（旭硝子製）などが挙げられる。ポリテトラフルオロエチレンなどのフッ素樹脂の重量平均分子量は１０万〜１０００万の範囲が好ましく、１０万〜１００万がより好ましい。ポリテトラフルオロエチレンの市販品としては、三井・デュポンフロロケミカル（株）製のテフロン（登録商標）６−Ｊ、テフロン（登録商標）６Ｃ−Ｊ、テフロン（登録商標）６２−Ｊ、旭アイシーアイフロロポリマーズ（株）製のフルオンＣＤ１やＣＤ０７６が挙げられる。また、ポリテトラフルオロエチレン粒子と有機系重合体とからなるポリテトラフルオロエチレン含有混合粉体の市販品としては、三菱レイヨン（株）から、“メタブレン（登録商標）”Ａシリーズとして市販され、“メタブレン（登録商標）”Ａ−３０００、“メタブレン（登録商標）”Ａ−３８００などが市販されている。なお、本明細書において、分子中にシロキサン結合とフッ素原子を含む樹脂については、シロキサン樹脂に該当するものとする。
隔壁の幅は、２０〜５００ｎｍであることが好ましい。下限は、３０ｎｍ以上であることが好ましく、４０ｎｍ以上であることがより好ましく、５０ｎｍ以上であることが更に好ましい。上限は、３００ｎｍ以下であることが好ましく、２００ｎｍ以下であることがより好ましく、１００ｎｍ以下であることが更に好ましい。
また、隔壁の高さは、２００ｎｍ以上であることが好ましく、３００ｎｍ以上であることがより好ましく、４００ｎｍ以上であることが更に好ましい。上限は、近赤外線透過フィルタ層の厚さ×２００％以下であることが好ましく、近赤外線透過フィルタ層の厚さ×１５０％以下であることがより好ましく、近赤外線透過フィルタ層の厚さと実質的に同じであることが更に好ましい。
隔壁の高さと幅の比（高さ／幅）は、１〜１００であることが好ましく、５〜５０であることがより好ましく、５〜３０であることが更に好ましい。上記比が上述した範囲である隔壁は、容易に形成することができ、生産性に優れる。更には、良好な近赤外線認識能を有する構造体とすることができる。
本発明の構造体において、隔壁の表面に保護層が設けられていることも好ましい。保護層は隔壁の側面に少なくとも設けられていて、保護層を介して隔壁と近赤外線透過フィルタ層とが接していることが好ましい。隔壁の表面に保護層を設けることで、近赤外線透過フィルタ層に含まれる色材などが隔壁中に拡散することを抑制したり、隔壁と近赤外線透過フィルタ層との密着性を向上させることができる。保護層の材質としては、種々の無機材料や有機材料を用いることができる。例えば、有機材料としては、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリイミド樹脂、有機ＳＯＧ（Ｓｐｉｎ Ｏｎ Ｇｌａｓｓ）樹脂などが挙げられる。また、エチレン性不飽和結合を有する基を有する化合物を含む組成物を用いて形成することもできる。エチレン性不飽和結合を有する基としては、ビニル基、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基、スチリル基などが挙げられ、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基が好ましい。エチレン性不飽和結合を有する基を有する化合物は、モノマーであってもよく、ポリマーなどの樹脂であってもよい。エチレン性不飽和結合を有する基を有する化合物としては、後述する近赤外線透過フィルタ用組成物で説明する重合性化合物や、重合性基を有する樹脂などが挙げられる。無機材料としては、二酸化ケイ素などが挙げられる。隔壁の表面に有機材料で構成された保護層を設けた場合は、近赤外線透過フィルタ層と隔壁との密着性を向上させることができる。また、隔壁の表面に無機材料で構成された保護層を設けた場合は、近赤外線透過フィルタ層に含まれる色材などが隔壁中に拡散することを効果的に抑制でき、隔壁の汚染や隔壁の屈折率の変動を抑制できる。保護層の材質については、隔壁の材質に応じて適宜選択でき、保護層の隔壁に対する密着性や、保護層の製膜性の観点から、保護層の材質は隔壁の材質と同種の材質であることが好ましい。具体例としては、隔壁の材質がシリカ粒子やシロキサン樹脂を含む場合、保護層の材質としては、保護層の隔壁に対する密着性や保護層の製膜性の観点から、二酸化ケイ素であることが好ましい。
本発明の構造体は、隔壁で区切られた領域に、可視光を遮光し、近赤外線の少なくとも一部を透過させる近赤外線透過フィルタ層が設けられている。近赤外線透過フィルタ層としては、可視光を遮光し、近赤外線の少なくとも一部を透過させる分光特性を有するフィルタ層であればよい。近赤外線透過フィルタ層は、例えば波長７００〜２５００ｎｍの範囲の波長の少なくとも一部を透過させる分光特性を有するフィルタ層であることが好ましく、波長７００〜２０００ｎｍの範囲の波長の少なくとも一部を透過させる分光特性を有するフィルタ層であることがより好ましく、波長７００〜１５００ｎｍの範囲の波長の少なくとも一部を透過させる分光特性を有するフィルタ層であることが更に好ましく、波長７００〜１３００ｎｍの範囲の波長の少なくとも一部を透過させる分光特性を有するフィルタ層であることがより一層好ましく、波長７００〜１０００ｎｍの範囲の波長の少なくとも一部を透過させる分光特性を有するフィルタ層であることが特に好ましい。また、近赤外線透過フィルタ層は、１層の膜（単層膜）で構成されていてもよく、２層以上の膜の積層体（多層膜）で構成されていてもよい。また、近赤外線透過フィルタ層が多層膜で構成されている場合は、多層膜全体として上述の分光特性を有していればよく、１層の膜自体についてはそれぞれ上述の分光特性を有していなくてもよい。
近赤外線透過フィルタ層の厚さとしては、特に限定はない。例えば、１００μｍ以下が好ましく、１５μｍ以下がより好ましく、５μｍ以下がさらに好ましく、１μｍ以下が特に好ましい。下限値は、０．１μｍ以上が好ましく、０．２μｍ以上がより好ましく、０．３μｍ以上が更に好ましい。また、近赤外線透過フィルタ層の厚さは、隔壁の高さ×５０％〜隔壁の高さ×１５０％であることが近赤外線の集光性の観点から好ましく、隔壁の高さ×７５％〜隔壁の高さ×１２５％であることがより好ましく、隔壁の高さ×９０％〜隔壁の高さ×１１０％であることが更に好ましい。
近赤外線透過フィルタ層の好ましい例として、例えば、以下の（１）〜（４）のいずれかの分光特性を有するフィルタ層が挙げられる。
（１）：厚み方向における光の透過率の、波長４００〜６４０ｎｍの範囲における最大値が２０％以下（好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下）であり、厚み方向における光の透過率の、波長８００〜１３００ｎｍの範囲における最小値が７０％以上（好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上）であるフィルタ層。このフィルタ層によれば、波長４００〜６４０ｎｍの範囲の光を遮光して、波長７２０ｎｍの近赤外線を透過させることができる。
（２）：厚み方向における光の透過率の、波長４００〜７５０ｎｍの範囲における最大値が２０％以下（好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下）であり、厚み方向における光の透過率の、波長９００〜１３００ｎｍの範囲における最小値が７０％以上（好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上）であるフィルタ層。このフィルタ層によれば、波長４００〜７５０ｎｍの範囲の光を遮光して、波長８５０ｎｍの近赤外線を透過させることができる。
（３）：厚み方向における光の透過率の、波長４００〜８５０ｎｍの範囲における最大値が２０％以下（好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下）であり、厚み方向における光の透過率の、波長１０００〜１３００ｎｍの範囲における最小値が７０％以上（好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上）であるフィルタ層。このフィルタ層によれば、波長４００〜８５０ｎｍの範囲の光を遮光して、波長９４０ｎｍの近赤外線を透過させることができる。
（４）：厚み方向における光の透過率の、波長４００〜９５０ｎｍの範囲における最大値が２０％以下（好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下）であり、厚み方向における光の透過率の、波長１１００〜１３００ｎｍの範囲における最小値が７０％以上（好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上）であるフィルタ層。このフィルタ層によれば、波長４００〜９５０ｎｍの範囲の光を遮光して、波長１０４０ｎｍの近赤外線を透過させることができる。
本発明の構造体において、近赤外線透過フィルタ層の表面、および／または、近赤外線透過フィルタ層と支持体との間に透明層が設けられていてもよい。近赤外線透過フィルタ層の厚さが、隔壁の高さよりも薄い場合などにおいては、透明層を設けて近赤外線透過フィルタ層と透明層との積層体の厚みを、隔壁の高さと揃えることが好ましい。このようにすることで、例えば近赤外線透過フィルタ層上にレンズを形成する際において、レンズの加工精度を向上させることができる。また、レンズとの密着性を向上できる。さらには、入射角制御による高解像度化が期待できる。透明層は、例えば、樹脂を含む組成物を用いて形成することができる。樹脂については後述する近赤外線透過フィルタ用組成物で説明する樹脂などが挙げられる。また、透明層は、特開２０１３−２５４０４７号公報に記載された感放射線性組成物を用いることもでき、この内容は本明細書に組み込まれる。
近赤外線透過フィルタ層は、色材と硬化性化合物とを含む組成物（近赤外線透過フィルタ層形成用組成物）を用いて形成することができる。近赤外線透過フィルタ層の色材の含有量は、５０〜７５質量％であることが好ましい。下限は、３５質量％以上であることが好ましく、４５質量％以上であることがより好ましく、５５質量％以上であることが更に好ましい。上限は、８０質量％以下であることが好ましく、７５質量％以下であることがより好ましく、７０質量％以下であることが更に好ましい。本発明の構造体は、近赤外線透過フィルタ層の周囲に隔壁を有するので、近赤外線透過フィルタ層の色材濃度を高めても、近赤外線透過フィルタ層中の色材が隣接する他のフィルタ層へ溶出して混色することなどを抑制できる。また、近赤外線透過フィルタ層の色材濃度を高めることができるので、可視光に由来するノイズなどがより低減された目的の光を検出することができる。
本発明の構造体の好ましい態様として、
支持体上に、上述した隔壁で区切られた領域を複数有し、
上述した隔壁で区切られた領域の少なくとも１つの領域に近赤外線透過フィルタ層が設けられており、
上述した隔壁で区切られた残りの領域の少なくとも１つの領域に、カラーフィルタ層および近赤外線カットフィルタ層から選ばれる少なくとも１種の層が設けられている態様が挙げられる。
本発明の構造体が更にカラーフィルタ層を有する場合においては、近赤外線によるセンシングに加えて、さらに、カラー画像による画像認識を同時に行うことができる。また、本発明の構造体が更に近赤外線カットフィルタ層を有する場合においては、カラーフィルタ画素に混入する近赤外線を低減してノイズをより低減できる。なお、本発明において、近赤外線カットフィルタ層とは、可視光を透過させ、近赤外線の少なくとも一部を遮光するフィルタ層を意味する。近赤外線カットフィルタ層は、可視光をすべて透過するものであってもよく、可視光のうち、特定の波長領域の光を透過させ、特定の波長領域の光を遮光するものであってもよい。近赤外線カットフィルタ層は、近赤外線吸収色素などを含む組成物を用いて形成することができる。また、本発明において、カラーフィルタ層とは、可視光のうち、特定の波長領域の光を透過させ、特定の波長領域の光を遮光するフィルタ層を意味する。カラーフィルタ層は、近赤外線の少なくとも一部を遮光する分光特性を有していてもよい。近赤外線の少なくとも一部を遮光する分光特性を有するカラーフィルタ層は、有彩色着色剤と、近赤外線吸収色素とを含む組成物を用いて形成することができる。
近赤外線カットフィルタ層は、極大吸収波長を波長７００〜２０００ｎｍの範囲に有することが好ましく、波長７００〜１３００ｎｍの範囲に有することがより好ましく、７００〜１０００ｎｍの範囲に有することがさらに好ましい。また、極大吸収波長における吸光度Ａｍａｘと、波長５５０ｎｍにおける吸光度Ａ５５０との比である吸光度Ａｍａｘ／吸光度Ａ５５０は、５０〜５００であることが好ましく、７０〜４５０であることがより好ましく、１００〜４００であることがさらに好ましい。
近赤外線カットフィルタ層は、以下の（１）〜（４）のうちの少なくとも１つの条件を満たすことが好ましく、（１）〜（４）のすべての条件を満たすことがさらに好ましい。
（１）波長４００ｎｍの光の透過率は７０％以上が好ましく、８０％以上がより好ましく、８５％以上がさらに好ましく、９０％以上が特に好ましい。
（２）波長５００ｎｍの光の透過率は７０％以上が好ましく、８０％以上がより好ましく、９０％以上がさらに好ましく、９５％以上が特に好ましい。
（３）波長６００ｎｍの光の透過率は７０％以上が好ましく、８０％以上がより好ましく、９０％以上がさらに好ましく、９５％以上が特に好ましい。
（４）波長６５０ｎｍの光の透過率は７０％以上が好ましく、８０％以上がより好ましく、９０％以上がさらに好ましく、９５％以上が特に好ましい。
近赤外線カットフィルタ層は、波長４００〜６５０ｎｍの全ての範囲での透過率は、７０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましく、９０％以上であることが更に好ましい。また、波長７００〜１０００ｎｍの範囲の少なくとも１点での透過率が２０％以下であることが好ましい。
近赤外線カットフィルタ層の厚さとしては、特に限定はない。例えば、１００μｍ以下が好ましく、１５μｍ以下がより好ましく、５μｍ以下がさらに好ましく、１μｍ以下が特に好ましい。下限値は、０．１μｍ以上が好ましく、０．２μｍ以上がより好ましく、０．３μｍ以上が更に好ましい。
本発明の構造体が近赤外線カットフィルタ層を有する場合、近赤外線カットフィルタ層の表面、および／または、近赤外線カットフィルタ層と支持体との間に透明層が設けられていてもよい。近赤外線カットフィルタ層の厚さが、隔壁の高さよりも薄い場合や、他のフィルタ層よりも薄い場合などにおいては、透明層を設けて近赤外線カットフィルタ層と透明層との積層体の厚みを、隔壁の高さや他のフィルタ層の厚さと揃えることが好ましい。このようにすることで、例えば近赤外線カットフィルタ層上にレンズを形成する際において、レンズの加工精度を向上させることができる。また、レンズとの密着性を向上できる。さらには、入射角制御による高解像度化が期待できる。
カラーフィルタ層は、赤、青、緑、シアン、マゼンタおよびイエローから選ばれる１種以上の着色層を含むフィルタ層が挙げられる。カラーフィルタ層は、単色の着色層で構成されていてもよく、２色以上の着色層を含むものであってもよい。また、本発明の構造体が、２色以上の着色層を含むカラーフィルタ層を有する場合、各色の着色層は、隔壁で区切られたそれぞれ異なる領域に１色ずつ設けられていてもよく、隔壁で区切られた１つの領域に複数色の着色層が設けられていてもよい。
カラーフィルタ層の厚さ（着色層の厚さ）としては、特に限定はない。例えば、１００μｍ以下が好ましく、１５μｍ以下がより好ましく、５μｍ以下がさらに好ましく、１μｍ以下が特に好ましい。下限値は、０．１μｍ以上が好ましく、０．２μｍ以上がより好ましく、０．３μｍ以上が更に好ましい。
本発明の構造体がカラーフィルタ層を有する場合、カラーフィルタ層の光路上に、更に近赤外線カットフィルタ層を有していることも好ましい。この態様によれば、よりノイズの少ない可視光を検出することができる。この場合、近赤外線カットフィルタ層は、カラーフィルタ層上に設けられていてもよく、カラーフィルタ層と支持体との間に設けられていてもよい。
また、本発明の構造体がカラーフィルタ層を有する場合、カラーフィルタ層の表面、および／または、カラーフィルタ層と支持体との間に透明層が設けられていてもよい。カラーフィルタ層の厚さが、隔壁の高さよりも薄い場合や、他のフィルタ層よりも薄いなどにおいては、透明層を設けてカラーフィルタ層と透明層との積層体の厚みを、隔壁の高さや他のフィルタ層と揃えることが好ましい。このようにすることで、例えばカラーフィルタ層上にレンズを形成する際において、例えば近赤外線透過フィルタ層上にレンズを形成する際において、レンズの加工精度を向上させることができる。また、レンズとの密着性を向上できる。さらには、入射角制御による高解像度化が期待できる。
本発明の構造体は、支持体上の近赤外線透過フィルタ層およびカラーフィルタ層が設けられた領域とは異なる位置に透明層が設けられていてもよい。この場合、カラーフィルタ層および透明層は、隔壁で区切られた同一の領域内の異なる位置に設けられていてもよく、カラーフィルタ層と透明層とが隔壁で区切られたそれぞれ異なる領域内に設けられていてもよい。
本発明の構造体が、近赤外線透過フィルタ層の他に他のフィルタ層を有する場合、各フィルタ層の上面の高低差はほぼ一致していることが好ましい。この態様によれば、平坦性、密着性、入射角制御による高解像度化などの効果が期待できる。
本発明の構造体は、近赤外線透過フィルタ層の光路上に、近赤外線の一部を透過させるバンドパスフィルタを更に有していることも好ましい。この態様によれば、よりノイズが低減された光を感度よく検出することができる。バンドパスフィルタとしては、高屈折率層と低屈折率層とを交互に積層させた積層体などが挙げられる。
バンドパスフィルタは、可視光を遮光するものであってもよく、可視光を透過するものであってもよい。バンドパスフィルタの可視領域の分光特性は用途に応じて適宜選択できる。例えば、本発明の構造体が、カラーフィルタ層を有さない場合や、カラーフィルタ層を有しているが、カラーフィルタ層の光路上にバンドパスフィルタを設けない場合においては、バンドパスフィルタは、可視光を遮光するものであることが好ましい。このようなバンドパスフィルタを用いることにより、ノイズが低減された近赤外線などの目的の光を感度よく検出することができる。また、本発明の構造体が、カラーフィルタ層を有し、かつ、カラーフィルタ層の光路上にバンドパスフィルタを設ける場合においては、このようなバンドパスフィルタは、可視光を透過するフィルタであることが好ましい。この態様によれば、ノイズの少ない可視光と近赤外線とを同時に感度よく検出することができる。
本発明の構造体は、各フィルタ層上に、反射防止膜、平坦化膜、レンズなどが設けられていてもよい。また、
本発明の構造体は、固体撮像素子などの各種類の光センサや、画像表示装置（例えば、液晶表示装置や有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）表示装置など）に組み込んで用いることができる。例えば、本発明の構造体が組み込まれた光センサは、監視用途、セキュリティ用途、モバイル用途、自動車用途、農業用途、医療用途、距離計測用途、ジェスチャー認識用途、バイタル認識用途などの用途に好ましく用いることができる。
以下、本発明の構造体について、図面を用いてさらに詳細に説明する。図１は、本発明の構造体の一実施形態を示す概略図である。この構造体１０１は、支持体１と、支持体上に設けられた隔壁２と、隔壁２で区切られた領域に設けられた近赤外線透過フィルタ層１１とを有している。そして、近赤外線透過フィルタ層１１上にレンズ５０が設けられている。隔壁２は、上述した屈折率の特性を有する隔壁である。
なお、図１では、隔壁２の高さＨ１は、近赤外線透過フィルタ層１１の高さ（厚さ）Ｈ２と同じであるが、隔壁２の高さＨ１は、近赤外線透過フィルタ層１１の高さ（厚さ）Ｈ２よりも低くてもよく、高くてもよい。また、隔壁２の高さＨ１が、近赤外線透過フィルタ層１１の高さ（厚さ）Ｈ２よりも高いや低い場合は、隔壁２と近赤外線透過フィルタ層１１との段差が透明層やレンズ５０で埋められていることが好ましい。また、図１では、隔壁２は、支持体１上に直接設けられているが、支持体１上に下地層やブラックマトリックスを設け、下地層またはブラックマトリックス上に隔壁２を形成してもよい。また、図１では、近赤外線透過フィルタ層１１と隔壁２とが直接接しているが、隔壁２の表面に保護層を形成し、保護層を介して近赤外線透過フィルタ層１１と隔壁２とが接していてもよい。また、近赤外線透過フィルタ層１１とレンズ５０との間に中間層が設けられていてもよい。中間層は、透明層形成用組成物などを用いて形成することができる。
図２は、本発明の構造体の一実施形態を示す概略図であって、近赤外線透過フィルタ層１１の他に更に近赤外線カットフィルタ層を有する構造体の概略図である。この構造体１０２は、支持体１と、支持体１上に設けられた隔壁２と、隔壁２で区切られた領域に設けられた近赤外線透過フィルタ層１１と、隔壁２で区切られた領域であって、近赤外線透過フィルタ層１１が設けられた領域とは別の領域に設けられた近赤外線カットフィルタ層２１とを有している。そして、近赤外線透過フィルタ層１１および近赤外線カットフィルタ層２１上にレンズ５０が設けられている。隔壁２は、上述した屈折率の特性を有する隔壁である。
隔壁２の高さは、近赤外線透過フィルタ層１１の高さ（厚さ）よりも低くてもよく、高くてもよい。また、隔壁２の高さは、近赤外線カットフィルタ層２１の高さ（厚さ）よりも低くてもよく、高くてもよい。また、図２では、近赤外線透過フィルタ層１１と近赤外線カットフィルタ層２１の高さ（厚さ）は同一であるが、両者のフィルタ層の高さは異なっていてもよい。平坦性、密着性、入射角制御による高解像度化などの観点から両者のフィルタ層の高さ（厚さ）はほぼ同一であることが好ましい。また、両者のフィルタ層の上面の高低差についても、ほぼ同一であることが好ましい。また、図２では、隔壁２は、支持体１上に直接設けられているが、支持体１上に下地層やブラックマトリックスを設け、下地層またはブラックマトリックス上に隔壁２を形成してもよい。また、図２では、近赤外線透過フィルタ層１１と隔壁２、および、近赤外線カットフィルタ層２１と隔壁２とがそれぞれ直接接しているが、隔壁２の表面に保護層を形成し、保護層を介して近赤外線透過フィルタ層１１または近赤外線カットフィルタ層２１と隔壁２とが接していてもよい。また、近赤外線透過フィルタ層１１とレンズ５０との間、および、近赤外線カットフィルタ層２１とレンズ５０との間に中間層が設けられていてもよい。
図３〜１８は、本発明の構造体の概略図であって、近赤外線透過フィルタ層１１の他に更にカラーフィルタ層を有する構造体の概略図である。
図３に示す構造体１０３は、支持体１と、支持体１上に設けられた隔壁２と、隔壁２で区切られた領域に設けられた近赤外線透過フィルタ層１１と、隔壁２で区切られた領域であって、近赤外線透過フィルタ層１１が設けられた領域とは別の領域に設けられたカラーフィルタ層３０とを有している。図３においては、カラーフィルタ層３０は、着色層３１、３２、３３とで構成されている。着色層３１〜３３は同一の着色層であってもよく、それぞれ異なる着色層であってもよい。そして、各着色層と支持体１との間に、近赤外線カットフィルタ層２２が設けられている。すなわち、近赤外線カットフィルタ層２２と着色層３１との積層体、近赤外線カットフィルタ層２２と着色層３２との積層体および近赤外線カットフィルタ層２２と着色層３３との積層体が、それぞれ隔壁で区切られた領域に形成されている。そして、近赤外線透過フィルタ層１１およびカラーフィルタ層３０上にレンズ５０が設けられている。なお、図３において、近赤外線カットフィルタ層２２と着色層３１との積層体、近赤外線カットフィルタ層２２と着色層３２との積層体および近赤外線カットフィルタ層２２と着色層３３との積層体の厚みはそれぞれ同一であるが、各積層体の厚みはそれぞれ異なっていてもよい。平坦性、密着性、入射角制御による高解像度化などの観点から前述の各積層体の厚さはほぼ同一であることが好ましい。また、各着色層と近赤外線透過フィルタ層１１の上面の高低差についても、ほぼ同一であることが好ましい。また、近赤外線透過フィルタ層１１とレンズ５０との間、カラーフィルタ層３０とレンズ５０との間、カラーフィルタ層３０と近赤外線カットフィルタ層２２との間に中間層が設けられていてもよい。
図４に示す構造体１０４は、支持体１上に下地層４が設けられており、下地層４上に隔壁２が設けられている以外は図３と同様の構成を有している。図５に示す構造体１０５は、近赤外線カットフィルタ層２２がカラーフィルタ層３０の各着色層上に設けられている以外は図３と同様の構成を有している。図６に示す構造体１０６は、近赤外線カットフィルタ層２２を有さない以外は図３と同様の構成を有している。図７に示す構造体１０７は、隔壁２の表面に保護層３を有する以外は図３と同様の構成を有している。図８に示す構造体１０８は、カラーフィルタ層３０が設けられた領域において、各近赤外線カットフィルタ層２２の間に隔壁２ａが設けられて、各近赤外線カットフィルタ層２２が隔壁２ａ、または、隔壁２と隔壁２ａとで区切られているが、各近赤外線カットフィルタ層上の各着色層間には隔壁が設けられていない以外は図３と同様の構成を有している。図９に示す構造体１０９は、カラーフィルタ層３０が設けられた領域において、近赤外線カットフィルタ層２２上に隔壁２ｂが設けられて、各着色層が隔壁２ｂ、または、隔壁２と隔壁２ｂとで区切られている以外は図３と同様の構成を有している。図１０に示す構造体１１０は、カラーフィルタ層３０が設けられた領域において、各着色層間に隔壁がなく、着色層３１〜３３が隔壁２で区切られた一つの領域に形成されている以外は図３と同様の構成を有している。図１１に示す構造体１１１は、各着色層の上面が、近赤外線透過フィルタ層１１よりも高く、両者の段差がレンズ５０で埋められている以外は図３と同様の構成を有している。図１２に示す構造体１１２は、各着色層の上面が、近赤外線透過フィルタ層１１よりも低く、両者の段差がレンズ５０で埋められている以外は図３と同様の構成を有している。図１３に示す構造体１１３は、カラーフィルタ層３０が設けられた領域において、各着色層上に透明層４１が設けられている以外は図３と同様の構成を有している。図１４に示す構造体１１４は、支持体１上の隔壁２で区切られた領域であって、近赤外線透過フィルタ層１１およびカラーフィルタ層３０が設けられた領域とは別の領域に近赤外線カットフィルタ層２２と透明層４２との積層体が設けられている以外は、図３と同様の構成を有している。なお、図１４において、近赤外線カットフィルタ層２２と透明層４２との積層体のかわりに、透明層４２のみを設けてもよい。図１５に示す構造体１１５は、近赤外線透過フィルタ層１１の上面が、各着色層の上面よりも高く、両者の段差がレンズ５０で埋められている以外は図３と同様の構成を有している。図１６に示す構造体１１６は、近赤外線透過フィルタ層１１の上面が、各着色層の上面よりも低く、両者の段差がレンズ５０で埋められている以外は図３と同様の構成を有している。図１７に示す構造体１１７は、近赤外線透過フィルタ層１１上に透明層４１が設けられている以外は図３と同様の構成を有している。図１８に示す構造体１１８は、支持体１上にブラックマトリックス５が設けられており、ブラックマトリックス５上に隔壁２が設けられている以外は、図３と同様の構成を有している。図５〜１８において、支持体１０上には下地層が更に形成されていてもよい。また、図４〜１８において、上層と下層との部材間には中間層が設けられていてもよい。また、図４〜６、８〜１８において、隔壁の表面にさらに保護層が設けられていてもよい。
＜光センサ＞
次に、本発明の光センサについて説明する。本発明の光センサは、上述した本発明の構造体を含む。本発明の光センサは、例えば、監視用途、セキュリティ用途、モバイル用途、自動車用途、農業用途、医療用途、距離計測用途、ジェスチャー認識用途、バイタル認識用途などの用途に好ましく用いることができる。
＜近赤外線透過フィルタ層形成用組成物＞
次に、本発明の近赤外線透過フィルタ層形成用組成物について説明する。本発明の近赤外線透過フィルタ層形成用組成物は、上述した本発明の構造体の近赤外線透過フィルタ層の形成に用いられる組成物であって、色材と硬化性化合物とを含む。以下、近赤外線透過フィルタ層形成用組成物を近赤外線透過フィルタ用組成物ともいう。
近赤外線透過フィルタ用組成物は、波長４００〜６４０ｎｍの範囲における吸光度の最小値Ａｍｉｎと、波長１１００〜１３００ｎｍの範囲における吸光度の最大値Ｂｍａｘとの比であるＡｍｉｎ／Ｂｍａｘが５以上であることが好ましく、７．５以上であることがより好ましく、１５以上であることが更に好ましく、３０以上であることが特に好ましい。
ある波長λにおける吸光度Ａλは、以下の式（１）により定義される。
Ａλ＝−ｌｏｇ（Ｔλ／１００） ・・・（１）
Ａλは、波長λにおける吸光度であり、Ｔλは、波長λにおける透過率（％）である。
本発明において、吸光度の値は、溶液の状態で測定した値であってもよく、近赤外線透過フィルタ用組成物を用いて製膜した膜での値であってもよい。膜の状態で吸光度を測定する場合は、ガラス基板上にスピンコート等の方法により、乾燥後の膜の厚さが所定の厚さとなるように近赤外線透過フィルタ用組成物を塗布し、ホットプレートを用いて１００℃、１２０秒間乾燥して調製した膜を用いて測定することが好ましい。膜の厚さは、膜を有する基板について、触針式表面形状測定器（ＵＬＶＡＣ社製 ＤＥＫＴＡＫ１５０）を用いて測定することができる。
また、吸光度は、従来公知の分光光度計を用いて測定できる。吸光度の測定条件は特に限定はないが、波長４００〜６４０ｎｍの範囲における吸光度の最小値Ａが、０．１〜３．０になるように調整した条件で、波長１１００〜１３００ｎｍの範囲における吸光度の最大値Ｂを測定することが好ましい。このような条件で吸光度を測定することで、測定誤差をより小さくできる。波長４００〜６４０ｎｍの範囲における吸光度の最小値Ａが、０．１〜３．０になるように調整する方法としては、特に限定はない。例えば、溶液の状態で吸光度を測定する場合は、試料セルの光路長を調整する方法が挙げられる。また、膜の状態で吸光度を測定する場合は、膜厚を調整する方法などが挙げられる。
近赤外線透過フィルタ用組成物は、以下の（１）〜（４）のいずれかの分光特性を満たしていることがより好ましい。
（１）：波長４００〜６４０ｎｍの範囲における吸光度の最小値Ａｍｉｎ１と、波長８００〜１３００ｎｍの範囲における吸光度の最大値Ｂｍａｘ１との比であるＡｍｉｎ１／Ｂｍａｘ１が５以上であり、７．５以上であることが好ましく、１５以上であることがより好ましく、３０以上であることが更に好ましい。この態様によれば、波長４００〜６４０ｎｍの範囲の光を遮光して、波長７２０ｎｍの近赤外線を透過可能な膜を形成することができる。
（２）：波長４００〜７５０ｎｍの範囲における吸光度の最小値Ａｍｉｎ２と、波長９００〜１３００ｎｍの範囲における吸光度の最大値Ｂｍａｘ２との比であるＡｍｉｎ２／Ｂｍａｘ２が５以上であり、７．５以上であることが好ましく、１５以上であることがより好ましく、３０以上であることが更に好ましい。この態様によれば、波長４００〜７５０ｎｍの範囲の光を遮光して、波長８５０ｎｍの近赤外線を透過可能な膜を形成することができる。
（３）：波長４００〜８５０ｎｍの範囲における吸光度の最小値Ａｍｉｎ３と、波長１０００〜１３００ｎｍの範囲における吸光度の最大値Ｂｍａｘ３との比であるＡｍｉｎ３／Ｂｍａｘ３が５以上であり、７．５以上であることが好ましく、１５以上であることがより好ましく、３０以上であることが更に好ましい。この態様によれば、波長４００〜８３０ｎｍの範囲の光を遮光して、波長９４０ｎｍの近赤外線を透過可能な膜を形成することができる。
（４）：波長４００〜９５０ｎｍの範囲における吸光度の最小値Ａｍｉｎ４と、波長１１００〜１３００ｎｍの範囲における吸光度の最大値Ｂｍａｘ４との比であるＡｍｉｎ４／Ｂｍａｘ４が５以上であり、７．５以上であることが好ましく、１５以上であることがより好ましく、３０以上であることが更に好ましい。この態様によれば、波長４００〜９５０ｎｍの範囲の光を遮光して、波長１０４０ｎｍの近赤外線を透過可能な膜を形成することができる。
近赤外線透過フィルタ用組成物を用いて厚さが１μｍ、２μｍ、３μｍ、４μｍまたは５μｍの膜を形成した際に、膜の厚み方向における光の透過率の、波長４００〜６４０ｎｍの範囲における最大値が２０％以下であり、膜の厚み方向における光の透過率の、波長１１００〜１３００ｎｍの範囲における最小値が７０％以上である分光特性を満たしていることが好ましい。波長４００〜６４０ｎｍの範囲における最大値は、１５％以下が好ましく、１０％以下がより好ましい。波長１１００〜１３００ｎｍの範囲における最小値は、７５％以上が好ましく、８０％以上がより好ましい。
近赤外線透過フィルタ用組成物は、以下の（１１）〜（１４）のいずれかの分光特性を満たしていることがより好ましい。
（１１）：近赤外線透過フィルタ用組成物を用いて厚さ１μｍ、２μｍ、３μｍ、４μｍまたは５μｍの膜を形成した際に、膜の厚み方向における光の透過率の、波長４００〜６４０ｎｍの範囲における最大値が２０％以下（好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下）であり、膜の厚み方向における光の透過率の、波長８００〜１３００ｎｍの範囲における最小値が７０％以上（好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上）である態様。
（１２）：近赤外線透過フィルタ用組成物を用いて厚さ１μｍ、２μｍ、３μｍ、４μｍまたは５μｍの膜を形成した際に、膜の厚み方向における光の透過率の、波長４００〜７５０ｎｍの範囲における最大値が２０％以下（好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下）であり、膜の厚み方向における光の透過率の、波長９００〜１３００ｎｍの範囲における最小値が７０％以上（好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上）である態様。
（１３）：近赤外線透過フィルタ用組成物を用いて厚さ１μｍ、２μｍ、３μｍ、４μｍまたは５μｍの膜を形成した際に、膜の厚み方向における光の透過率の、波長４００〜８３０ｎｍの範囲における最大値が２０％以下（好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下）であり、膜の厚み方向における光の透過率の、波長１０００〜１３００ｎｍの範囲における最小値が７０％以上（好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上）である態様。
（１４）：近赤外線透過フィルタ用組成物を用いて厚さ１μｍ、２μｍ、３μｍ、４μｍまたは５μｍの膜を形成した際に、膜の厚み方向における光の透過率の、波長４００〜９５０ｎｍの範囲における最大値が２０％以下（好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下）であり、膜の厚み方向における光の透過率の、波長１１００〜１３００ｎｍの範囲における最小値が７０％以上（好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上）である態様。
以下、近赤外線透過フィルタ用組成物を構成し得る各成分について説明する。
＜＜色材＞＞
近赤外線透過フィルタ用組成物は、色材を含む。色材の含有量は、近赤外線透過フィルタ用組成物の全固形分に対して３５〜８０質量％であることが好ましい。下限は、４０質量％以上が好ましく、４５質量％以上がより好ましく、５０質量％以上が更に好ましく、５５質量％以上が特に好ましい。上限は、７５質量％以下が好ましく、７０質量％以下がより好ましい。色材としては、後述する可視光を遮光する色材、近赤外線吸収色素などが挙げられる。色材の含有量は、近赤外線透過フィルタ用組成物の全固形分に対して５０〜７５質量％であることが特に好ましい。
（可視光を遮光する色材）
近赤外線透過フィルタ用組成物は、可視光を遮光する色材（以下、遮光材ともいう）を含有することが好ましい。本発明において、遮光材は、紫色から赤色の波長領域の光を吸収する色材であることが好ましい。また、本発明において、遮光材は、波長４００〜６４０ｎｍの波長領域の光を遮光する色材であることが好ましい。また、遮光材は、波長１１００〜１３００ｎｍの光を透過する色材であることが好ましい。本発明において、遮光材は、以下の（１）および（２）の少なくとも一方の要件を満たすことが好ましい。
（１）：２種類以上の有彩色着色剤を含み、２種以上の有彩色着色剤の組み合わせで黒色を形成している。
（２）：有機系黒色着色剤を含む。（２）の態様において、更に有彩色着色剤を含有することも好ましい。
なお、本発明において、有彩色着色剤とは、白色着色剤および黒色着色剤以外の着色剤を意味する。また、本発明において、遮光材に用いられる有機系黒色着色剤は、可視光を吸収するが、近赤外線の少なくとも一部は透過する材料を意味する。したがって、本発明において、遮光材に用いられる有機系黒色着色剤は、可視光線および近赤外線の両方を吸収する黒色着色剤、例えば、カーボンブラックやチタンブラックは含まない。有機系黒色着色剤は、波長４００ｎｍ以上７００ｎｍ以下の範囲に極大吸収波長を有する着色剤が好ましい。
本発明において、遮光材は、例えば、波長４００〜６４０ｎｍの範囲における吸光度の最小値Ａと、波長１１００〜１３００ｎｍの範囲における吸光度の最大値Ｂとの比であるＡ／Ｂが４．５以上であることが好ましい。
上記の特性は、１種類の素材で満たしていてもよく、複数の素材の組み合わせで満たしていてもよい。例えば、上記（１）の態様の場合、複数の有彩色着色剤を組み合わせて上記分光特性を満たしていることが好ましい。また、上記（２）の態様の場合、有機系黒色着色剤が上記分光特性を満たしていてもよい。また、有機系黒色着色剤と有彩色着色剤との組み合わせで上記の分光特性を満たしていてもよい。
（有彩色着色剤）
本発明において、有彩色着色剤は、赤色着色剤、緑色着色剤、青色着色剤、黄色着色剤、紫色着色剤およびオレンジ色着色剤から選ばれる着色剤であることが好ましい。本発明において、有彩色着色剤は、顔料であってもよく、染料であってもよい。好ましくは顔料である。顔料は、平均粒径（ｒ）が、２０ｎｍ≦ｒ≦３００ｎｍであることが好ましく、２５ｎｍ≦ｒ≦２５０ｎｍであることがより好ましく、３０ｎｍ≦ｒ≦２００ｎｍであることが更に好ましい。ここでいう「平均粒径」とは、顔料の一次粒子が集合した二次粒子についての平均粒径を意味する。また、使用しうる顔料の二次粒子の粒径分布（以下、単に「粒径分布」ともいう。）は、平均粒径±１００ｎｍの範囲に含まれる二次粒子が全体の７０質量％以上であることが好ましく、８０質量％以上であることがより好ましい。なお、二次粒子の粒径分布は、散乱強度分布を用いて測定することができる。
顔料は、有機顔料であることが好ましい。有機顔料としては以下のものが挙げられる。
カラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ １，２，３，４，５，６，１０，１１，１２，１３，１４，１５，１６，１７，１８，２０，２４，３１，３２，３４，３５，３５：１，３６，３６：１，３７，３７：１，４０，４２，４３，５３，５５，６０，６１，６２，６３，６５，７３，７４，７７，８１，８３，８６，９３，９４，９５，９７，９８，１００，１０１，１０４，１０６，１０８，１０９，１１０，１１３，１１４，１１５，１１６，１１７，１１８，１１９，１２０，１２３，１２５，１２６，１２７，１２８，１２９，１３７，１３８，１３９，１４７，１４８，１５０，１５１，１５２，１５３，１５４，１５５，１５６，１６１，１６２，１６４，１６６，１６７，１６８，１６９，１７０，１７１，１７２，１７３，１７４，１７５，１７６，１７７，１７９，１８０，１８１，１８２，１８５，１８７，１８８，１９３，１９４，１９９，２１３，２１４等（以上、黄色顔料）、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｏｒａｎｇｅ ２，５，１３，１６，１７：１，３１，３４，３６，３８，４３，４６，４８，４９，５１，５２，５５，５９，６０，６１，６２，６４，７１，７３等（以上、オレンジ色顔料）、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ １，２，３，４，５，６，７，９，１０，１４，１７，２２，２３，３１，３８，４１，４８：１，４８：２，４８：３，４８：４，４９，４９：１，４９：２，５２：１，５２：２，５３：１，５７：１，６０：１，６３：１，６６，６７，８１：１，８１：２，８１：３，８３，８８，９０，１０５，１１２，１１９，１２２，１２３，１４４，１４６，１４９，１５０，１５５，１６６，１６８，１６９，１７０，１７１，１７２，１７５，１７６，１７７，１７８，１７９，１８４，１８５，１８７，１８８，１９０，２００，２０２，２０６，２０７，２０８，２０９，２１０，２１６，２２０，２２４，２２６，２４２，２４６，２５４，２５５，２６４，２７０，２７２，２７９等（以上、赤色顔料）、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｇｒｅｅｎ ７，１０，３６，３７，５８，５９等（以上、緑色顔料）、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｖｉｏｌｅｔ １，１９，２３，２７，３２，３７，４２等（以上、紫色顔料）、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ １，２，１５，１５：１，１５：２，１５：３，１５：４，１５：６，１６，２２，６０，６４，６６，７９，８０等（以上、青色顔料）、
これら有機顔料は、単独若しくは種々組合せて用いることができる。
染料としては特に制限はなく、公知の染料が使用できる。化学構造としては、ピラゾールアゾ系、アニリノアゾ系、トリアリールメタン系、アントラキノン系、アントラピリドン系、ベンジリデン系、オキソノール系、ピラゾロトリアゾールアゾ系、ピリドンアゾ系、シアニン系、フェノチアジン系、ピロロピラゾールアゾメチン系、キサンテン系、フタロシアニン系、ベンゾピラン系、インジゴ系、ピロメテン系等の染料が使用できる。また、これらの染料の多量体を用いてもよい。また、特開２０１５−０２８１４４号公報、特開２０１５−３４９６６号公報に記載の染料を用いることもできる。
遮光材は、赤色着色剤、青色着色剤、黄色着色剤、紫色着色剤および緑色着色剤から選ばれる２種以上を含むことが好ましい。すなわち、遮光材は、赤色着色剤、青色着色剤、黄色着色剤、紫色着色剤および緑色着色剤から選ばれる２種類以上の着色剤の組み合わせで黒色を形成していることが好ましい。好ましい組み合わせとしては、例えば以下が挙げられる。
（１）赤色着色剤と青色着色剤とを含有する態様。
（２）赤色着色剤と青色着色剤と黄色着色剤とを含有する態様。
（３）赤色着色剤と青色着色剤と黄色着色剤と紫色着色剤とを含有する態様。
（４）赤色着色剤と青色着色剤と黄色着色剤と紫色着色剤と緑色着色剤とを含有する態様。
（５）赤色着色剤と青色着色剤と黄色着色剤と緑色着色剤とを含有する態様。
（６）赤色着色剤と青色着色剤と緑色着色剤とを含有する態様。
（７）黄色着色剤と紫色着色剤とを含有する態様。
上記（１）の態様において、赤色着色剤と青色着色剤との質量比は、赤色着色剤：青色着色剤＝２０〜８０：２０〜８０であることが好ましく、２０〜６０：４０〜８０であることがより好ましく、２０〜５０：５０〜８０であることが更に好ましい。
上記（２）の態様において、赤色着色剤と青色着色剤と黄色着色剤の質量比は、赤色着色剤：青色着色剤：黄色着色剤＝１０〜８０：２０〜８０：１０〜４０であることが好ましく、１０〜６０：３０〜８０：１０〜３０であることがより好ましく、１０〜４０：４０〜８０：１０〜２０であることが更に好ましい。
上記（３）の態様において、赤色着色剤と青色着色剤と黄色着色剤と紫色着色剤との質量比は、赤色着色剤：青色着色剤：黄色着色剤：紫色着色剤＝１０〜８０：２０〜８０：５〜４０：５〜４０であることが好ましく、１０〜６０：３０〜８０：５〜３０：５〜３０であることがより好ましく、１０〜４０：４０〜８０：５〜２０：５〜２０であることが更に好ましい。
上記（４）の態様において、赤色着色剤と青色着色剤と黄色着色剤と紫色着色剤と緑色着色剤の質量比は、赤色着色剤：青色着色剤：黄色着色剤：紫色着色剤：緑色着色剤＝１０〜８０：２０〜８０：５〜４０：５〜４０：５〜４０であることが好ましく、１０〜６０：３０〜８０：５〜３０：５〜３０：５〜３０であることがより好ましく、１０〜４０：４０〜８０：５〜２０：５〜２０：５〜２０であることが更に好ましい。
上記（５）の態様において、赤色着色剤と青色着色剤と黄色着色剤と緑色着色剤の質量比は、赤色着色剤：青色着色剤：黄色着色剤：緑色着色剤＝１０〜８０：２０〜８０：５〜４０：５〜４０であることが好ましく、１０〜６０：３０〜８０：５〜３０：５〜３０であることがより好ましく、１０〜４０：４０〜８０：５〜２０：５〜２０であることが更に好ましい。
上記（６）の態様において、赤色着色剤と青色着色剤と緑色着色剤の質量比は、赤色着色剤：青色着色剤：緑色着色剤＝１０〜８０：２０〜８０：１０〜４０であることが好ましく、１０〜６０：３０〜８０：１０〜３０であることがより好ましく、１０〜４０：４０〜８０：１０〜２０であることが更に好ましい。
上記（７）の態様において、黄色着色剤と紫色着色剤の質量比は、黄色着色剤：紫色着色剤＝１０〜５０：４０〜８０であることが好ましく、２０〜４０：５０〜７０であることがより好ましく、３０〜４０：６０〜７０であることが更に好ましい。
黄色着色剤としては、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ １３９，１５０，１８５が好ましく、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ １３９，１５０がより好ましく、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ １３９が更に好ましい。青色着色剤としては、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ １５：６が好ましい。紫色着色剤としては、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｖｉｏｌｅｔ ２３が好ましい。赤色着色剤としては、Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ １２２，１７７，２２４，２５４が好ましく、Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ １２２，１７７２５４がより好ましく、Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ ２５４が更に好ましい。緑色着色剤としては、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｇｒｅｅｎ ７、３６、５８、５９が好ましい。
（有機系黒色着色剤）
本発明において、有機系黒色着色剤としては、例えば、ビスベンゾフラノン化合物、アゾメチン化合物、ペリレン化合物、アゾ系化合物などが挙げられ、ビスベンゾフラノン化合物、ペリレン化合物が好ましい。ビスベンゾフラノン化合物としては、特表２０１０−５３４７２６号公報、特表２０１２−５１５２３３号公報、特表２０１２−５１５２３４号公報などに記載の化合物が挙げられ、例えば、ＢＡＳＦ社製の「Ｉｒｇａｐｈｏｒ Ｂｌａｃｋ」として入手可能である。ペリレン化合物としては、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌａｃｋ ３１、３２などが挙げられる。アゾメチン化合物としては、特開平１−１７０６０１号公報、特開平２−３４６６４号公報などに記載のものが挙げられ、例えば、大日精化社製の「クロモファインブラックＡ１１０３」として入手できる。
本発明において、ビスベンゾフラノン化合物は、下記式で表される化合物およびこれらの混合物であることが好ましい。
Figure 2018174147
 式中、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ独立して水素原子又は置換基を表し、Ｒ3およびＲ4はそれぞれ独立して置換基を表し、ａおよびｂはそれぞれ独立して０〜４の整数を表し、ａが２以上の場合、複数のＲ3は、同一であってもよく、異なってもよく、複数のＲ3は結合して環を形成していてもよく、ｂが２以上の場合、複数のＲ4は、同一であってもよく、異なってもよく、複数のＲ4は結合して環を形成していてもよい。
Ｒ1〜Ｒ4が表す置換基は、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、−ＯＲ301、−ＣＯＲ302、−ＣＯＯＲ303、−ＯＣＯＲ304、−ＮＲ305Ｒ306、−ＮＨＣＯＲ307、−ＣＯＮＲ308Ｒ309、−ＮＨＣＯＮＲ310Ｒ311、−ＮＨＣＯＯＲ312、−ＳＲ313、−ＳＯ2Ｒ314、−ＳＯ2ＯＲ315、−ＮＨＳＯ2Ｒ316または−ＳＯ2ＮＲ317Ｒ318を表し、Ｒ301〜Ｒ318は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基またはヘテロアリール基を表す。
ビスベンゾフラノン化合物の詳細については、特表２０１０−５３４７２６号公報の段落番号００１４〜００３７の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
本発明において、遮光材として有機系黒色着色剤を用いる場合、有彩色着色剤と組み合わせて使用することが好ましい。有機系黒色着色剤と有彩色着色剤とを併用することで、優れた分光特性が得られ易い。有機系黒色着色剤と組み合わせて用いる有彩色着色剤としては、例えば、赤色着色剤、青色着色剤、紫色着色剤などが挙げられ、赤色着色剤および青色着色剤が好ましい。これらは単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
また、有彩色着色剤と有機系黒色着色剤との混合割合は、有機系黒色着色剤１００質量部に対して、有彩色着色剤が１０〜２００質量部が好ましく、１５〜１５０質量部がより好ましい。
本発明において、遮光材における顔料の含有量は、遮光材の全量に対して９５質量％以上であることが好ましく、９７質量％以上であることがより好ましく、９９質量％以上であることが更に好ましい。
近赤外線透過フィルタ用組成物において、遮光材の含有量は、近赤外線透過フィルタ用組成物の全固形分に対して１０〜８０質量％であることが好ましい。下限は、３０質量％以上が好ましく、３５質量％以上がより好ましく、４０質量％以上が更に好ましく、４５質量％以上がより一層好ましく、５０質量％以上が特に好ましい。上限は、７５質量％以下が好ましく、７０質量％以下がより好ましい。
（近赤外線吸収色素）
近赤外線透過フィルタ用組成物は、色材として近赤外線吸収色素を含有することができる。近赤外線透過フィルタにおいて、近赤外線吸収色素は、透過する光（近赤外線）をより長波長側に限定する役割を有している。
本発明において、近赤外線吸収色素としては、近赤外領域（好ましくは、波長７００ｎｍを超え１３００ｎｍ以下）の波長領域に極大吸収波長を有する化合物を好ましく用いることができる。近赤外線吸収色素は、顔料であってもよく、染料であってもよい。
本発明において、近赤外線吸収色素としては、単環または縮合環の芳香族環を含むπ共役平面を有する近赤外線吸収化合物を好ましく用いることができる。近赤外線吸収化合物が有するπ共役平面を構成する水素以外の原子数は、１４個以上であることが好ましく、２０個以上であることがより好ましく、２５個以上であることが更に好ましく、３０個以上であることが特に好ましい。上限は、例えば、８０個以下であることが好ましく、５０個以下であることがより好ましい。
近赤外線吸収化合物が有するπ共役平面は、単環または縮合環の芳香族環を２個以上含むことが好ましく、前述の芳香族環を３個以上含むことがより好ましく、前述の芳香族環を４個以上含むことが更に好ましく、前述の芳香族環を５個以上含むことが特に好ましい。上限は、１００個以下が好ましく、５０個以下がより好ましく、３０個以下が更に好ましい。前述の芳香族環としては、ベンゼン環、ナフタレン環、ペンタレン環、インデン環、アズレン環、ヘプタレン環、インダセン環、ペリレン環、ペンタセン環、クアテリレン環、アセナフテン環、フェナントレン環、アントラセン環、ナフタセン環、クリセン環、トリフェニレン環、フルオレン環、ピリジン環、キノリン環、イソキノリン環、イミダゾール環、ベンゾイミダゾール環、ピラゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、トリアゾール環、ベンゾトリアゾール環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、イミダゾリン環、ピラジン環、キノキサリン環、ピリミジン環、キナゾリン環、ピリダジン環、トリアジン環、ピロール環、インドール環、イソインドール環、カルバゾール環、および、これらの環を有する縮合環が挙げられる。
近赤外線吸収化合物は、波長７００〜１０００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する化合物であることが好ましい。なお、本明細書において、「波長７００〜１０００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する」とは、近赤外線吸収化合物の溶液での吸収スペクトルにおいて、波長７００〜１０００ｎｍの範囲に最大の吸光度を示す波長を有することを意味する。近赤外線吸収化合物の溶液中での吸収スペクトルの測定に用いる測定溶媒は、クロロホルム、メタノール、ジメチルスルホキシド、酢酸エチル、テトラヒドロフランが挙げられる。クロロホルムで溶解する化合物の場合は、クロロホルムを測定溶媒として用いる。クロロホルムで溶解しない化合物の場合は、メタノールを用いる。また、クロロホルムおよびメタノールのいずれにも溶解しない場合はジメチルスルホキシドを用いる。
本発明において、近赤外線吸収化合物は、ピロロピロール化合物、シアニン化合物、スクアリリウム化合物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、クアテリレン化合物、メロシアニン化合物、クロコニウム化合物、オキソノール化合物、ジイモニウム化合物、ジチオール化合物、トリアリールメタン化合物、ピロメテン化合物、アゾメチン化合物、アントラキノン化合物及びジベンゾフラノン化合物から選ばれる少なくとも１種が好ましく、ピロロピロール化合物、シアニン化合物、スクアリリウム化合物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物およびジイモニウム化合物から選ばれる少なくとも１種がより好ましく、ピロロピロール化合物、シアニン化合物およびスクアリリウム化合物から選ばれる少なくとも１種が更に好ましく、ピロロピロール化合物が特に好ましい。ジイモニウム化合物としては、例えば、特表２００８−５２８７０６号公報に記載の化合物が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。フタロシアニン化合物としては、例えば、特開２０１２−７７１５３号公報の段落番号００９３に記載の化合物、特開２００６−３４３６３１号公報に記載のオキシチタニウムフタロシアニン、特開２０１３−１９５４８０号公報の段落番号００１３〜００２９に記載の化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。ナフタロシアニン化合物としては、例えば、特開２０１２−７７１５３号公報の段落番号００９３に記載の化合物が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。また、シアニン化合物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、ジイモニウム化合物およびスクアリリウム化合物は、特開２０１０−１１１７５０号公報の段落番号００１０〜００８１に記載の化合物を使用してもよく、この内容は本明細書に組み込まれる。また、シアニン化合物は、例えば、「機能性色素、大河原信／松岡賢／北尾悌次郎／平嶋恒亮・著、講談社サイエンティフィック」を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。また、近赤外線吸収化合物としては、特開２０１６−１４６６１９号公報に記載された化合物を用いることもでき、この内容は本明細書に組み込まれる。
ピロロピロール化合物としては、式（ＰＰ）で表される化合物であることが好ましい。
Figure 2018174147
 式中、Ｒ1aおよびＲ1bは、各々独立にアルキル基、アリール基またはヘテロアリール基を表し、Ｒ2およびＲ3は、各々独立に水素原子または置換基を表し、Ｒ2およびＲ3は、互いに結合して環を形成してもよく、Ｒ4は、各々独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、−ＢＲ4AＲ4B、または金属原子を表し、Ｒ4は、Ｒ1a、Ｒ1bおよびＲ3から選ばれる少なくとも一つと共有結合もしくは配位結合していてもよく、Ｒ4AおよびＲ4Bは、各々独立に置換基を表す。式（ＰＰ）の詳細については、特開２００９−２６３６１４号公報の段落番号００１７〜００４７、特開２０１１−６８７３１号公報の段落番号００１１〜００３６、国際公開ＷＯ２０１５／１６６８７３号公報の段落番号００１０〜００２４の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
Ｒ1aおよびＲ1bは、各々独立に、アリール基またはヘテロアリール基が好ましく、アリール基がより好ましい。また、Ｒ1aおよびＲ1bが表すアルキル基、アリール基およびヘテロアリール基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、アルコキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、−ＯＣＯＲ11、−ＳＯＲ12、−ＳＯ2Ｒ13などが挙げられる。Ｒ11〜Ｒ13は、それぞれ独立に、炭化水素基またはヘテロアリール基を表す。また、置換基としては、特開２００９−２６３６１４号公報の段落番号００２０〜００２２に記載された置換基が挙げられる。なかでも、置換基としては、アルコキシ基、ヒドロキシ基、シアノ基、ニトロ基、−ＯＣＯＲ11、−ＳＯＲ12、−ＳＯ2Ｒ13が好ましい。Ｒ1a、Ｒ1bで表される基としては、分岐アルキル基を有するアルコキシ基を置換基として有するアリール基、ヒドロキシ基を置換基として有するアリール基、または、−ＯＣＯＲ11で表される基を置換基として有するアリール基であることが好ましい。分岐アルキル基の炭素数は、３〜３０が好ましく、３〜２０がより好ましい。
Ｒ2およびＲ3の少なくとも一方は電子求引性基が好ましく、Ｒ2は電子求引性基（好ましくはシアノ基）を表し、Ｒ3はヘテロアリール基を表すことがより好ましい。ヘテロアリール基は、５員環または６員環が好ましい。また、ヘテロアリール基は、単環または縮合環が好ましく、単環または縮合数が２〜８の縮合環が好ましく、単環または縮合数が２〜４の縮合環がより好ましい。ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子の数は、１〜３が好ましく、１〜２がより好ましい。ヘテロ原子としては、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子が例示される。ヘテロアリール基は、窒素原子を１個以上有することが好ましい。式（ＰＰ）における２個のＲ2同士は同一であってもよく、異なっていてもよい。また、式（ＰＰ）における２個のＲ3同士は同一であってもよく、異なっていてもよい。
Ｒ4は、水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基または−ＢＲ4AＲ4Bで表される基であることが好ましく、水素原子、アルキル基、アリール基または−ＢＲ4AＲ4Bで表される基であることがより好ましく、−ＢＲ4AＲ4Bで表される基であることが更に好ましい。Ｒ4AおよびＲ4Bが表す置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、または、ヘテロアリール基が好ましく、アルキル基、アリール基、または、ヘテロアリール基がより好ましく、アリール基が特に好ましい。これらの基はさらに置換基を有していてもよい。式（ＰＰ）における２個のＲ4同士は同一であってもよく、異なっていてもよい。
式（ＰＰ）で表される化合物の具体例としては、下記化合物が挙げられる。以下の構造式中、Ｍｅはメチル基を表し、Ｐｈはフェニル基を表す。また、ピロロピロール化合物としては、特開２００９−２６３６１４号公報の段落番号００１６〜００５８に記載の化合物、特開２０１１−６８７３１号公報の段落番号００３７〜００５２に記載の化合物、国際公開ＷＯ２０１５／１６６８７３号公報の段落番号００１０〜００３３に記載の化合物などが挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
Figure 2018174147
スクアリリウム化合物としては、下記式（ＳＱ）で表される化合物が好ましい。
Figure 2018174147
 式（ＳＱ）中、Ａ1およびＡ2は、それぞれ独立に、アリール基、ヘテロアリール基または式（Ａ−１）で表される基を表す；
Figure 2018174147
 式（Ａ−１）中、Ｚ1は、含窒素複素環を形成する非金属原子団を表し、Ｒ2は、アルキル基、アルケニル基またはアラルキル基を表し、ｄは、０または１を表し、波線は連結手を表す。
Ａ1およびＡ2が表すアリール基の炭素数は、６〜４８が好ましく、６〜２４がより好ましく、６〜１２が特に好ましい。
Ａ1およびＡ2が表すヘテロアリール基としては、５員環または６員環が好ましい。また、ヘテロアリール基は、単環または縮合数が２〜８の縮合環が好ましく、単環または縮合数が２〜４の縮合環がより好ましく、単環または縮合数が２または３の縮合環が更に好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子が例示され、窒素原子、硫黄原子が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子の数は、１〜３が好ましく、１〜２がより好ましい。
アリール基およびヘテロアリール基は、置換基を有していてもよい。アリール基およびヘテロアリール基が、置換基を２個以上有する場合、複数の置換基は同一であってもよく、異なっていてもよい。
置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基、アラルキル基、−ＯＲ10、−ＣＯＲ11、−ＣＯＯＲ12、−ＯＣＯＲ13、−ＮＲ14Ｒ15、−ＮＨＣＯＲ16、−ＣＯＮＲ17Ｒ18、−ＮＨＣＯＮＲ19Ｒ20、−ＮＨＣＯＯＲ21、−ＳＲ22、−ＳＯ2Ｒ23、−ＳＯ2ＯＲ24、−ＮＨＳＯ2Ｒ25または−ＳＯ2ＮＲ26Ｒ27が挙げられる。Ｒ10〜Ｒ27は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基、またはアラルキル基を表す。なお、−ＣＯＯＲ12のＲ12が水素原子の場合は、水素原子が解離してもよく、塩の状態であってもよい。また、−ＳＯ2ＯＲ24のＲ24が水素原子の場合は、水素原子が解離してもよく、塩の状態であってもよい。
次に、Ａ1およびＡ2が表す式（Ａ−１）で表される基について説明する。
式（Ａ−１）において、Ｒ2は、アルキル基、アルケニル基またはアラルキル基を表し、アルキル基が好ましい。式（Ａ−１）において、Ｚ1により形成される含窒素複素環としては、５員環または６員環が好ましい。また、含窒素複素環は、単環または縮合数が２〜８の縮合環が好ましく、単環または縮合数が２〜４の縮合環がより好ましく、縮合数が２または３の縮合環がより好ましい。含窒素複素環は、窒素原子の他に、硫黄原子を含んでいてもよい。また、含窒素複素環は置換基を有していてもよい。置換基としては、上述した置換基が挙げられる。
式（ＳＱ）の詳細については、特開２０１１−２０８１０１号公報の段落番号００２０〜００４９の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
なお、式（ＳＱ）においてカチオンは、以下のように非局在化して存在している。
Figure 2018174147
スクアリリウム化合物は、下記式（ＳＱ−１）で表される化合物が好ましい。
Figure 2018174147
 環Ａおよび環Ｂは、それぞれ独立に芳香族環を表し、
ＸAおよびＸBはそれぞれ独立に置換基を表し、
ＧAおよびＧBはそれぞれ独立に置換基を表し、
ｋＡは０〜ｎAの整数を表し、ｋＢは０〜ｎBの整数を表し、
ｎAおよびｎBはそれぞれ環Ａまたは環Ｂに置換可能な最大の整数を表し、
ＸAとＧA、ＸBとＧBは互いに結合して環を形成しても良く、ＧAおよびＧBがそれぞれ複数存在する場合は、互いに結合して環構造を形成していても良い。
ＧAおよびＧBが表す置換基としては、上述した式（ＳＱ）で説明した置換基が挙げられる。
ＸAおよびＸBが表す置換基としては、上述した式（ＳＱ）で説明した置換基が挙げられ、活性水素を有する基が好ましく、−ＯＨ、−ＳＨ、−ＣＯＯＨ、−ＳＯ3Ｈ、−ＮＲX1ＲX2、−ＮＨＣＯＲX1、−ＣＯＮＲX1ＲX2、−ＮＨＣＯＮＲX1ＲX2、−ＮＨＣＯＯＲX1、−ＮＨＳＯ2ＲX1、−Ｂ（ＯＨ）2および−ＰＯ（ＯＨ）2がより好ましく、−ＯＨ、−ＳＨおよび−ＮＲX1ＲX2が更に好ましい。
ＲX1およびＲX1は、それぞれ独立に水素原子または置換基を表す。置換基としてはアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、または、ヘテロアリール基が挙げられ、アルキル基が好ましい。
環Ａおよび環Ｂは、それぞれ独立に、芳香族環を表す。芳香族環は単環であってもよく、縮合環であってもよい。芳香族環の具体例としては、ベンゼン環、ナフタレン環、ペンタレン環、インデン環、アズレン環、ヘプタレン環、インダセン環、ペリレン環、ペンタセン環、アセナフテン環、フェナントレン環、アントラセン環、ナフタセン環、クリセン環、トリフェニレン環、フルオレン環、ビフェニル環、ピロール環、フラン環、チオフェン環、イミダゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、インドリジン環、インドール環、ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、イソベンゾフラン環、キノリジン環、キノリン環、フタラジン環、ナフチリジン環、キノキサリン環、キノキサゾリン環、イソキノリン環、カルバゾール環、フェナントリジン環、アクリジン環、フェナントロリン環、チアントレン環、クロメン環、キサンテン環、フェノキサチイン環、フェノチアジン環、および、フェナジン環が挙げられ、ベンゼン環またはナフタレン環が好ましい。芳香族環は、無置換であってもよく、置換基を有していてもよい。置換基としては、上述した式（ＳＱ）で説明した置換基が挙げられる。
ＸAとＧA、ＸBとＧBは互いに結合して環を形成しても良く、ＧAおよびＧBがそれぞれ複数存在する場合は、互いに結合して環を形成していても良い。環としては、５員環または６員環が好ましい。環は単環であってもよく、縮合環であってもよい。ＸAとＧA、ＸBとＧB、ＧA同士またはＧB同士が結合して環を形成する場合、これらが直接結合して環を形成してもよく、アルキレン基、−ＣＯ−、−Ｏ−、−ＮＨ−、−ＢＲ−およびそれらの組み合わせからなる２価の連結基を介して結合して環を形成してもよい。ＸAとＧA、ＸBとＧB、ＧA同士またはＧB同士が、−ＢＲ−を介して結合して環を形成することが好ましい。Ｒは、水素原子または置換基を表す。置換基としては、上述した式（ＳＱ）で説明した置換基が挙げられ、アルキル基またはアリール基が好ましい。
ｋＡは０〜ｎＡの整数を表し、ｋＢは０〜ｎＢの整数を表し、ｎAは、環Ａに置換可能な最大の整数を表し、ｎBは、環Ｂに置換可能な最大の整数を表す。ｋＡおよびｋＢは、それぞれ独立に０〜４が好ましく、０〜２がより好ましく、０〜１が特に好ましい。
スクアリリウム化合物としては、特開２０１１−２０８１０１号公報の段落番号００４４〜００４９に記載の化合物が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。
シアニン化合物は、式（Ｃ）で表される化合物が好ましい。
式（Ｃ）
Figure 2018174147
 式中、Ｚ1およびＺ2は、それぞれ独立に、縮環してもよい５員または６員の含窒素複素環を形成する非金属原子団であり、
Ｒ101およびＲ102は、それぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基またはアリール基を表し、
Ｌ1は、奇数個のメチン基を有するメチン鎖を表し、
ａおよびｂは、それぞれ独立に、０または１であり、
ａが０の場合は、炭素原子と窒素原子とが二重結合で結合し、ｂが０の場合は、炭素原子と窒素原子とが単結合で結合し、
式中のＣｙで表される部位がカチオン部である場合、Ｘ1はアニオンを表し、ｃは電荷のバランスを取るために必要な数を表し、式中のＣｙで表される部位がアニオン部である場合、Ｘ1はカチオンを表し、ｃは電荷のバランスを取るために必要な数を表し、式中のＣｙで表される部位の電荷が分子内で中和されている場合、ｃは０である。
式（Ｃ）において、Ｚ1およびＺ2は、それぞれ独立に、縮環してもよい５員又は６員の含窒素複素環を形成する非金属原子団を表す。含窒素複素環には、他の複素環、芳香族環または脂肪族環が縮合してもよい。含窒素複素環は、５員環が好ましい。５員の含窒素複素環に、ベンゼン環又はナフタレン環が縮合している構造がさらに好ましい。含窒素複素環の具体例としては、オキサゾール環、イソオキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、ナフトオキサゾール環、オキサゾロカルバゾール環、オキサゾロジベンゾフラン環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、ナフトチアゾール環、インドレニン環、ベンゾインドレニン環、イミダゾール環、ベンゾイミダゾール環、ナフトイミダゾール環、キノリン環、ピリジン環、ピロロピリジン環、フロピロール環、インドリジン環、イミダゾキノキサリン環、キノキサリン環等が挙げられ、キノリン環、インドレニン環、ベンゾインドレニン環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイミダゾール環が好ましく、インドレニン環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイミダゾール環が特に好ましい。含窒素複素環及びそれに縮合している環は、置換基を有していてもよい。置換基としては、式（ＳＱ）で説明した置換基が挙げられる。
式（Ｃ）において、Ｒ101およびＲ102は、それぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基またはアリール基を表す。これらの基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、式（ＳＱ）で説明した置換基が挙げられる。
式（Ｃ）において、Ｌ1は、奇数個のメチン基を有するメチン鎖を表す。Ｌ1は、３個、５個または７個のメチン基を有するメチン鎖が好ましい。
メチン基は置換基を有していてもよい。置換基を有するメチン基は、中央の（メソ位の）メチン基であることが好ましい。置換基の具体例としては、式（ＳＱ）で説明した置換基、および、式（ａ）で表される基などが挙げられる。また、メチン鎖の二つの置換基が結合して５または６員環を形成しても良い。
Figure 2018174147
 式（ａ）中、＊は、メチン鎖との連結部を表し、Ａ1は、−Ｏ−を表す。
式（Ｃ）において、ａおよびｂは、それぞれ独立に、０または１である。ａが０の場合は、炭素原子と窒素原子とが二重結合で結合し、ｂが０の場合は、炭素原子と窒素原子とが単結合で結合する。ａおよびｂはともに０であることが好ましい。なお、ａおよびｂがともに０の場合は、式（Ｃ）は以下のように表される。
Figure 2018174147
式（Ｃ）において、式中のＣｙで表される部位がカチオン部である場合、Ｘ1はアニオンを表し、ｃは電荷のバランスを取るために必要な数を表す。アニオンの例としては、ハライドイオン（Ｃｌ-、Ｂｒ-、Ｉ-）、パラトルエンスルホン酸イオン、エチル硫酸イオン、ＰＦ6 -、ＢＦ4 -、ＣｌＯ4 -、トリス（ハロゲノアルキルスルホニル）メチドアニオン（例えば、（ＣＦ3ＳＯ2）3Ｃ-）、ジ（ハロゲノアルキルスルホニル）イミドアニオン（例えば（ＣＦ3ＳＯ2）2Ｎ-）、テトラシアノボレートアニオンなどが挙げられる。
式（Ｃ）において、式中のＣｙで表される部位がアニオン部である場合、Ｘ1はカチオンを表し、ｃは電荷のバランスを取るために必要な数を表す。カチオンとしては、アルカリ金属イオン（Ｌｉ+、Ｎａ+、Ｋ+など）、アルカリ土類金属イオン（Ｍｇ2+、Ｃａ2+、Ｂａ2+、Ｓｒ2+など）、遷移金属イオン（Ａｇ+、Ｆｅ2+、Ｃｏ2+、Ｎｉ2+、Ｃｕ2+、Ｚｎ2+など）、その他の金属イオン（Ａｌ3+など）、アンモニウムイオン、トリエチルアンモニウムイオン、トリブチルアンモニウムイオン、ピリジニウムイオン、テトラブチルアンモニウムイオン、グアニジニウムイオン、テトラメチルグアニジニウムイオン、ジアザビシクロウンデセニウムイオンなどが挙げられる。カチオンとしては、Ｎａ+、Ｋ+、Ｍｇ2+、Ｃａ2+、Ｚｎ2+、ジアザビシクロウンデセニウムイオンが好ましい。
式（Ｃ）において、式中のＣｙで表される部位の電荷が分子内で中和されている場合、Ｘ1は存在しない。すなわち、ｃは０である。
シアニン化合物は、下記式（Ｃ−１）〜（Ｃ−３）で表される化合物であることも好ましい。
Figure 2018174147
 式中、Ｒ1A、Ｒ2A、Ｒ1BおよびＲ2Bは、それぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基またはアリール基を表し、
Ｌ1AおよびＬ1Bは、それぞれ独立に奇数個のメチン基を有するメチン鎖を表し、
Ｙ1およびＹ2は、各々独立に−Ｓ−、−Ｏ−、−ＮＲX1−または−ＣＲX2ＲX3−を表し、
ＲX1、ＲX2およびＲX3は、各々独立に水素原子またはアルキル基を表し、
Ｖ1A、Ｖ2A、Ｖ1BおよびＶ2Bは、それぞれ独立に、置換基を表し、
ｍ１およびｍ２は、それぞれ独立に０〜４を表し、
式中のＣｙで表される部位がカチオン部である場合、Ｘ1はアニオンを表し、ｃは電荷のバランスを取るために必要な数を表し、
式中のＣｙで表される部位がアニオン部である場合、Ｘ1はカチオンを表し、ｃは電荷のバランスを取るために必要な数を表し、
式中のＣｙで表される部位の電荷が分子内で中和されている場合、Ｘ1は存在しない。
Ｒ1A、Ｒ2A、Ｒ1BおよびＲ2Bが表す基は、式（Ｃ）のＲ101およびＲ102で説明したアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基およびアリール基と同義であり、好ましい範囲も同様である。
Ｙ1およびＹ2は、各々独立に−Ｓ−、−Ｏ−、−ＮＲX1−または−ＣＲX2ＲX3−を表し、−ＮＲX1−が好ましい。ＲX1、ＲX2およびＲX3は、各々独立に水素原子またはアルキル基を表し、アルキル基が好ましい。アルキル基の炭素数は、１〜１０が好ましく、１〜５がより好ましく、１〜３が特に好ましい。アルキル基は直鎖、分岐、環状のいずれでもよいが、直鎖または分岐が好ましく、直鎖が特に好ましい。アルキル基は、メチル基またはエチル基が特に好ましい。
Ｌ1AおよびＬ1Bは、式（Ｃ）のＬ1と同義であり、好ましい範囲も同様である。
Ｖ1A、Ｖ2A、Ｖ1BおよびＶ2Bが表す置換基は、式（ＳＱ）で説明した置換基が挙げられる。
ｍ１およびｍ２は、それぞれ独立に０〜４を表し、０〜２が好ましい。
Ｘ1が表すアニオンおよびカチオンは、式（Ｃ）のＸ1で説明した範囲と同義であり、好ましい範囲も同様である。
シアニン化合物としては、特開２００９−１０８２６７号公報の段落番号００４４〜００４５に記載の化合物、特開２００２−１９４０４０号公報の段落番号００２６〜００３０に記載の化合物、特開２０１５−１７２００４号公報に記載の化合物、特開２０１５−１７２１０２号公報に記載の化合物、特開２００８−８８４２６号公報に記載の化合物などが挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
本発明において、近赤外線吸収化合物としては、市販品を用いることもできる。例えば、ＳＤＯ−Ｃ３３（有本化学工業（株）製）、イーエクスカラーＩＲ−１４、イーエクスカラーＩＲ−１０Ａ、イーエクスカラーＴＸ−ＥＸ−８０１Ｂ、イーエクスカラーＴＸ−ＥＸ−８０５Ｋ（（株）日本触媒製）、ＳｈｉｇｅｎｏｘＮＩＡ−８０４１、ＳｈｉｇｅｎｏｘＮＩＡ−８０４２、ＳｈｉｇｅｎｏｘＮＩＡ−８１４、ＳｈｉｇｅｎｏｘＮＩＡ−８２０ＳｈｉｇｅｎｏｘＮＩＡ−８３９（ハッコーケミカル社製）、ＥｐｏｌｉｔｅＶ−６３、Ｅｐｏｌｉｇｈｔ３８０１、Ｅｐｏｌｉｇｈｔ３０３６（ＥＰＯＬＩＮ社製）、ＰＲＯ−ＪＥＴ８２５ＬＤＩ（富士フイルム（株）製）、ＮＫ−３０２７、ＮＫ−５０６０（（株）林原製）、ＹＫＲ−３０７０（三井化学（株）製）などが挙げられる。
近赤外線透過フィルタ用組成物が近赤外線吸収色素を含有する場合、近赤外線吸収色素の含有量は、近赤外線透過フィルタ用組成物の全固形分に対して１〜３０質量％であることが好ましい。上限は、２５質量％以下が好ましく、２０質量％以下がより好ましい。下限は、３質量％以上が好ましく、５質量％以上がより好ましい。また、近赤外線吸収色素と遮光材との合計量は、近赤外線透過フィルタ用組成物の全固形分の３５〜８０質量％であることが好ましい。下限は、４０質量％以上が好ましく、４５質量％以上がより好ましく、５０質量％以上が更に好ましく、５５質量％以上が特に好ましい。上限は、７５質量％以下が好ましく、７０質量％以下がより好ましい。また、近赤外線吸収色素と遮光材との合計量中における、近赤外線吸収色素の含有量は、５〜４０質量％であることが好ましい。上限は、３０質量％以下が好ましく、２５質量％以下がより好ましい。下限は、１０質量％以上が好ましく、１５質量％以上がより好ましい。
近赤外線透過フィルタ用組成物においては、近赤外線吸収色素は１種単独で用いてもよく、２種以上併用してもよい。近赤外線吸収色素を２種以上併用する場合は、その合計が上記範囲であることが好ましい。
＜＜他の近赤外線吸収剤＞＞
近赤外線透過フィルタ用組成物において、近赤外線吸収色素以外の他の近赤外線吸収剤を含有することができる。他の近赤外線吸収剤として、無機粒子などが挙げられる。無機粒子の形状は特に制限されず、球状、非球状を問わず、シート状、ワイヤー状、チューブ状であってもよい。無機粒子としては、金属酸化物粒子または金属粒子が好ましい。金属酸化物粒子としては、例えば、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）粒子、酸化アンチモンスズ（ＡＴＯ）粒子、酸化亜鉛（ＺｎＯ）粒子、Ａｌドープ酸化亜鉛（ＡｌドープＺｎＯ）粒子、フッ素ドープ二酸化スズ（ＦドープＳｎＯ2）粒子、ニオブドープ二酸化チタン（ＮｂドープＴｉＯ2）粒子などが挙げられる。金属粒子としては、例えば、銀（Ａｇ）粒子、金（Ａｕ）粒子、銅（Ｃｕ）粒子、ニッケル（Ｎｉ）粒子など挙げられる。また、無機粒子としては酸化タングステン系化合物を用いることもできる。酸化タングステン系化合物は、セシウム酸化タングステンであることが好ましい。酸化タングステン系化合物の詳細については、特開２０１６−００６４７６号公報の段落番号００８０を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
近赤外線透過フィルタ用組成物が他の近赤外線吸収剤を含有する場合、他の近赤外線吸収剤の含有量は、近赤外線透過フィルタ用組成物の全固形分に対して１〜３０質量％であることが好ましい。上限は、２０質量％以下が好ましく、１０質量％以下がより好ましい。下限は、３質量％以上が好ましく、５質量％以上がより好ましい。
＜＜硬化性化合物＞＞
近赤外線透過フィルタ用組成物は、硬化性化合物を含有することが好ましい。硬化性化合物としては、ラジカル、酸、熱により架橋可能な公知の化合物を用いることができる。例えば、エチレン性不飽和結合を有する基を有する化合物、環状エーテル基を有する化合物等が挙げられる。エチレン性不飽和結合を有する基としては、ビニル基、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基などが挙げられる。環状エーテル基としては、エポキシ基、オキセタニル基などが挙げられる。本発明において、硬化性化合物は、ラジカル重合性化合物またはカチオン重合性化合物が好ましく、ラジカル重合性化合物がより好ましい。
硬化性化合物の含有量は、近赤外線透過フィルタ用組成物の全固形分に対し、０．１〜４０質量％が好ましい。下限は、例えば０．５質量％以上がより好ましく、１質量％以上が更に好ましい。上限は、例えば、３０質量％以下がより好ましく、２０質量％以下が更に好ましい。硬化性化合物は、１種単独であってもよいし、２種以上を併用してもよい。２種以上を併用する場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。
（ラジカル重合性化合物）
ラジカル重合性化合物としては、ラジカルの作用により重合可能な化合物であればよく、特に限定はない。ラジカル重合性化合物としては、エチレン性不飽和結合を有する基を１個以上有する化合物が好ましく、エチレン性不飽和結合を有する基を２個以上有する化合物がより好ましく、エチレン性不飽和結合を有する基を３個以上有する化合物が更に好ましい。エチレン性不飽和結合を有する基の個数の上限は、たとえば、１５個以下が好ましく、６個以下がより好ましい。エチレン性不飽和結合を有する基としては、ビニル基、スチリル基、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基などが挙げられ、（メタ）アクリロイル基が好ましい。ラジカル重合性化合物は、３〜１５官能の（メタ）アクリレート化合物であることが好ましく、３〜６官能の（メタ）アクリレート化合物であることがより好ましい。
ラジカル重合性化合物は、モノマー、ポリマーのいずれの形態であってもよいが、モノマーが好ましい。モノマータイプのラジカル重合性化合物の分子量は、２００〜３０００であることが好ましい。分子量の上限は、２５００以下が好ましく、２０００以下が更に好ましい。分子量の下限は、２５０以上が好ましく、３００以上が更に好ましい。
ラジカル重合性化合物の例としては、特開２０１３−２５３２２４号公報の段落番号００３３〜００３４の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。重合性化合物としては、エチレンオキシ変性ペンタエリスリトールテトラアクリレート（市販品としては、ＮＫエステルＡＴＭ−３５Ｅ；新中村化学工業（株）製）、ジペンタエリスリトールトリアクリレート（市販品としては、ＫＡＹＡＲＡＤ Ｄ−３３０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート（市販品としては、ＫＡＹＡＲＡＤ Ｄ−３２０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート（市販品としては ＫＡＹＡＲＡＤ Ｄ−３１０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート（市販品としては、ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ；日本化薬（株）製、Ａ−ＤＰＨ−１２Ｅ；新中村化学工業（株）製）、およびこれらの（メタ）アクリロイル基が、エチレングリコール残基および／またはプロピレングリコール残基を介して結合している構造が好ましい。またこれらのオリゴマータイプも使用できる。また、特開２０１３−２５３２２４号公報の段落番号００３４〜００３８の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。また、特開２０１２−２０８４９４号公報の段落番号０４７７（対応する米国特許出願公開第２０１２／０２３５０９９号明細書の段落番号０５８５）に記載の重合性モノマー等が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。また、ジグリセリンＥＯ（エチレンオキシド）変性（メタ）アクリレート（市販品としてはＭ−４６０；東亞合成製）、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（新中村化学工業（株）製、Ａ−ＴＭＭＴ）、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート（日本化薬（株）製、ＫＡＹＡＲＡＤ ＨＤＤＡ）も好ましい。これらのオリゴマータイプも使用できる。例えば、ＲＰ−１０４０（日本化薬（株）製）などが挙げられる。また、ラジカル重合性化合物として、アロニックス Ｍ−３５０、ＴＯ−２３４９（東亞合成製）を使用することもできる
ラジカル重合性化合物は、カルボキシル基、スルホ基、リン酸基等の酸基を有していてもよい。酸基を有するラジカル重合性化合物としては、脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステルなどが挙げられる。脂肪族ポリヒドロキシ化合物の未反応のヒドロキシル基に、非芳香族カルボン酸無水物を反応させて酸基を持たせた重合性化合物が好ましく、特に好ましくは、このエステルにおいて、脂肪族ポリヒドロキシ化合物がペンタエリスリトールおよび／またはジペンタエリスリトールであるものである。市販品としては、例えば、東亞合成株式会社製の多塩基酸変性アクリルオリゴマーとして、アロニックスシリーズのＭ−３０５、Ｍ−５１０、Ｍ−５２０などが挙げられる。酸基を有するラジカル重合性化合物の酸価は、０．１〜４０ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。下限は５ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が好ましい。上限は、３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が好ましい。
ラジカル重合性化合物は、カプロラクトン構造を有する化合物であることも好ましい態様である。カプロラクトン構造を有するラジカル重合性化合物としては、分子内にカプロラクトン構造を有する限り特に限定されるものではないが、例えば、トリメチロールエタン、ジトリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ジトリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトール、グリセリン、ジグリセロール、トリメチロールメラミン等の多価アルコールと、（メタ）アクリル酸及びε−カプロラクトンをエステル化することにより得られる、ε−カプロラクトン変性多官能（メタ）アクリレートを挙げることができる。カプロラクトン構造を有する重合性化合物としては、特開２０１３−２５３２２４号公報の段落番号００４２〜００４５の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。カプロラクトン構造を有する化合物は、例えば、日本化薬（株）からＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＣＡシリーズとして市販されている、ＤＰＣＡ−２０、ＤＰＣＡ−３０、ＤＰＣＡ−６０、ＤＰＣＡ−１２０等、サートマー社製のエチレンオキシ鎖を４個有する４官能アクリレートであるＳＲ−４９４、イソブチレンオキシ鎖を３個有する３官能アクリレートであるＴＰＡ−３３０などが挙げられる。
ラジカル重合性化合物としては、特公昭４８−４１７０８号公報、特開昭５１−３７１９３号公報、特公平２−３２２９３号公報、特公平２−１６７６５号公報に記載されているウレタンアクリレート類や、特公昭５８−４９８６０号公報、特公昭５６−１７６５４号公報、特公昭６２−３９４１７号公報、特公昭６２−３９４１８号公報に記載されているエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。また、特開昭６３−２７７６５３号公報、特開昭６３−２６０９０９号公報、特開平１−１０５２３８号公報に記載されている分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する付加重合性化合物類を用いることができる。市販品としては、ウレタンオリゴマーＵＡＳ−１０、ＵＡＢ−１４０（山陽国策パルプ社製）、ＵＡ−７２００（新中村化学工業（株）製）、ＤＰＨＡ−４０Ｈ（日本化薬（株）製）、ＵＡ−３０６Ｈ、ＵＡ−３０６Ｔ、ＵＡ−３０６Ｉ、ＡＨ−６００、Ｔ−６００、ＡＩ−６００（共栄社化学（株）製）などが挙げられる。また、ラジカル重合性化合物として、８ＵＨ−１００６、８ＵＨ−１０１２（大成ファインケミカル（株）製）を用いることも好ましい。
近赤外線透過フィルタ用組成物がラジカル重合性化合物を含有する場合、ラジカル重合性化合物の含有量は、近赤外線透過フィルタ用組成物の全固形分に対して、０．１〜４０質量％が好ましい。下限は、例えば０．５質量％以上がより好ましく、１質量％以上が更に好ましい。上限は、例えば、３０質量％以下がより好ましく、２０質量％以下が更に好ましい。ラジカル重合性化合物は１種単独であってもよいし、２種以上を併用してもよい。ラジカル重合性化合物を２種以上併用する場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
（カチオン重合性化合物）
カチオン重合性化合物としては、カチオン重合性基を有する化合物が挙げられる。カチオン重合性基としては、エポキシ基、オキセタニル基などの環状エーテル基や、ビニルエーテル基やイソブテン基などの不飽和炭素二重結合基などが挙げる。カチオン重合性化合物は、環状エーテル基を有する化合物であることが好ましく、エポキシ基を有する化合物であることがより好ましい。
エポキシ基を有する化合物としては、１分子内にエポキシ基を１つ以上有する化合物が挙げられ、エポキシ基を２つ以上有する化合物が好ましい。エポキシ基は、１分子内に１〜１００個有することが好ましい。エポキシ基の上限は、例えば、１０個以下とすることもでき、５個以下とすることもできる。エポキシ基の下限は、２個以上が好ましい。
エポキシ基を有する化合物は、低分子化合物（例えば、分子量２０００未満、さらには、分子量１０００未満）でもよいし、高分子化合物（ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅ）（例えば、分子量１０００以上、ポリマーの場合は、重量平均分子量が１０００以上）のいずれでもよい。エポキシ基を有する化合物の重量平均分子量は、２００〜１０００００が好ましく、５００〜５００００がより好ましい。重量平均分子量の上限は、１００００以下が好ましく、５０００以下がより好ましく、３０００以下が更に好ましい。
エポキシ基を有する化合物が低分子化合物の場合、例えば、下記式（ＥＰ１）で表される化合物が挙げられる。
Figure 2018174147
式（ＥＰ１）中、ＲEP1〜ＲEP3は、それぞれ、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基を表し、アルキル基は、環状構造を有するものであってもよく、また、置換基を有していてもよい。またＲEP1とＲEP2、ＲEP2とＲEP3は、互いに結合して環構造を形成していてもよい。ＱEPは単結合若しくはｎEP価の有機基を表す。ＲEP1〜ＲEP3は、ＱEPとも結合して環構造を形成していても良い。ｎEPは２以上の整数を表し、好ましくは２〜１０、更に好ましくは２〜６である。但しＱEPが単結合の場合、ｎEPは２である。
ＲEP1〜ＲEP3、ＱEPの詳細について、特開２０１４−０８９４０８号公報の段落番号００８７〜００８８の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。式（ＥＰ１）で表される化合物の具体例としては、特開２０１４−０８９４０８号公報の段落００９０に記載の化合物、特開２０１０−０５４６３２号公報の段落番号０１５１に記載の化合物が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。
低分子化合物としては、市販品を用いることもできる。例えば、（株）ＡＤＥＫＡ製のアデカグリシロールシリーズ（例えば、アデカグリシロールＥＤ−５０５など）、（株）ダイセル製のエポリードシリーズ（例えば、エポリードＧＴ４０１など）などが挙げられる。
エポキシ基を有する化合物としては、エポキシ樹脂を好ましく用いることができる。エポキシ樹脂としては、例えばフェノール化合物のグリシジルエーテル化物であるエポキシ樹脂、各種ノボラック樹脂のグリシジルエーテル化物であるエポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、脂肪族系エポキシ樹脂、複素環式エポキシ樹脂、グリシジルエステル系エポキシ樹脂、グリシジルアミン系エポキシ樹脂、ハロゲン化フェノール類をグリシジル化したエポキシ樹脂、エポキシ基をもつケイ素化合物とそれ以外のケイ素化合物との縮合物、エポキシ基を持つ重合性不飽和化合物とそれ以外の他の重合性不飽和化合物との共重合体等が挙げられる。
エポキシ樹脂のエポキシ当量は、３１０〜３３００ｇ／ｅｑであることが好ましく、３１０〜１７００ｇ／ｅｑであることがより好ましく、３１０〜１０００ｇ／ｅｑであることが更に好ましい。
エポキシ樹脂は、市販品を用いることもできる。例えば、ＥＨＰＥ３１５０（（株）ダイセル製）、ＥＰＩＣＬＯＮ Ｎ−６９５（ＤＩＣ（株）製）、マープルーフＧ−０１５０Ｍ、Ｇ−０１０５ＳＡ、Ｇ−０１３０ＳＰ、Ｇ−０２５０ＳＰ、Ｇ−１００５Ｓ、Ｇ−１００５ＳＡ、Ｇ−１０１０Ｓ、Ｇ−２０５０Ｍ、Ｇ−０１１００、Ｇ−０１７５８（以上、日油（株）製、エポキシ基含有ポリマー）等が挙げられる。
本発明において、エポキシ基を有する化合物は、特開２０１３−０１１８６９号公報の段落番号００３４〜００３６、特開２０１４−０４３５５６号公報の段落番号０１４７〜０１５６、特開２０１４−０８９４０８号公報の段落番号００８５〜００９２に記載された化合物を用いることもできる。これらの内容は、本明細書に組み込まれる。
近赤外線透過フィルタ用組成物がカチオン重合性化合物を含有する場合、カチオン重合性化合物の含有量は、近赤外線透過フィルタ用組成物の全固形分に対して、０．１〜４０質量％が好ましい。下限は、例えば０．５質量％以上がより好ましく、１質量％以上が更に好ましい。上限は、例えば、３０質量％以下がより好ましく、２０質量％以下が更に好ましい。カチオン重合性化合物は１種単独であってもよいし、２種以上を併用してもよい。カチオン重合性化合物を２種以上併用する場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。
また、近赤外線透過フィルタ用組成物が、ラジカル重合性化合物とカチオン重合性化合物とを含む場合、両者の質量比は、ラジカル重合性化合物：カチオン重合性化合物＝１００：１〜１００：４００が好ましく、１００：１〜１００：１００がより好ましい。
＜＜光開始剤＞＞
近赤外線透過フィルタ用組成物は、光開始剤を含有することができる。光開始剤としては、光ラジカル重合開始剤、光カチオン重合開始剤などが挙げられる。硬化性化合物の種類に応じて選択して用いることが好ましい。硬化性化合物としてラジカル重合性化合物を用いた場合においては、光開始剤として光ラジカル重合開始剤を用いることが好ましい。また、硬化性化合物としてカチオン重合性化合物を用いた場合においては、光開始剤として光カチオン重合開始剤を用いることが好ましい。光開始剤としては、特に制限はなく、公知の光開始剤の中から適宜選択することができる。例えば、紫外領域から可視領域の光線に対して感光性を有する化合物が好ましい。
光開始剤の含有量は、近赤外線透過フィルタ用組成物の全固形分に対し０．１〜５０質量％が好ましく、０．５〜３０質量％がより好ましく、１〜２０質量％が更に好ましい。光開始剤の含有量が上記範囲であれば、より良好な感度とパターン形成性が得られる。近赤外線透過フィルタ用組成物は、光開始剤を１種類のみ含んでいてもよいし、２種類以上含んでいてもよい。光開始剤を２種類以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
（光ラジカル重合開始剤）
光ラジカル重合開始剤としては、例えば、ハロゲン化炭化水素誘導体（例えば、トリアジン骨格を有する化合物、オキサジアゾール骨格を有する化合物など）、アシルホスフィン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール、オキシム化合物、有機過酸化物、チオ化合物、ケトン化合物、芳香族オニウム塩、α−ヒドロキシケトン化合物、α−アミノケトン化合物などが挙げられる。光重合開始剤は、露光感度の観点から、トリハロメチルトリアジン化合物、ベンジルジメチルケタール化合物、α−ヒドロキシケトン化合物、α−アミノケトン化合物、アシルホスフィン化合物、ホスフィンオキサイド化合物、メタロセン化合物、オキシム化合物、トリアリールイミダゾールダイマー、オニウム化合物、ベンゾチアゾール化合物、ベンゾフェノン化合物、アセトフェノン化合物、シクロペンタジエン−ベンゼン−鉄錯体、ハロメチルオキサジアゾール化合物および３−アリール置換クマリン化合物が好ましく、オキシム化合物、α−ヒドロキシケトン化合物、α−アミノケトン化合物、および、アシルホスフィン化合物から選ばれる化合物がより好ましく、オキシム化合物が更に好ましい。光ラジカル重合開始剤としては、特開２０１４−１３０１７３号公報の段落００６５〜０１１１の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
α−ヒドロキシケトン化合物の市販品としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−１８４、ＤＡＲＯＣＵＲ−１１７３、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−５００、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−２９５９、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−１２７（以上、ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。α−アミノケトン化合物の市販品としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−９０７、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−３６９、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−３７９、及び、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−３７９ＥＧ（以上、ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。アシルホスフィン化合物の市販品としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−８１９、ＤＡＲＯＣＵＲ−ＴＰＯ（以上、ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。
オキシム化合物としては、特開２００１−２３３８４２号公報に記載の化合物、特開２０００−８００６８号公報に記載の化合物、特開２００６−３４２１６６号公報に記載の化合物、特開２０１６−２１０１２号公報に記載などを用いることができる。本発明において好適に用いることができるオキシム化合物としては、例えば、３−ベンゾイルオキシイミノブタン−２−オン、３−アセトキシイミノブタン−２−オン、３−プロピオニルオキシイミノブタン−２−オン、２−アセトキシイミノペンタン−３−オン、２−アセトキシイミノ−１−フェニルプロパン−１−オン、２−ベンゾイルオキシイミノ−１−フェニルプロパン−１−オン、３−（４−トルエンスルホニルオキシ）イミノブタン−２−オン、及び２−エトキシカルボニルオキシイミノ−１−フェニルプロパン−１−オンなどが挙げられる。また、Ｊ．Ｃ．Ｓ．Ｐｅｒｋｉｎ ＩＩ（１９７９年、ｐｐ．１６５３−１６６０）、Ｊ．Ｃ．Ｓ．Ｐｅｒｋｉｎ ＩＩ（１９７９年、ｐｐ．１５６−１６２）、Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｐｈｏｔｏｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ ａｎｄ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ（１９９５年、ｐｐ．２０２−２３２）、特開２０００−６６３８５号公報、特開２０００−８００６８号公報、特表２００４−５３４７９７号公報、特開２００６−３４２１６６号公報に記載の化合物等も挙げられる。市販品としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−ＯＸＥ０１、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−ＯＸＥ０２、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−ＯＸＥ０３、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−ＯＸＥ０４（以上、ＢＡＳＦ社製）も好適に用いられる。また、ＴＲ−ＰＢＧ−３０４（常州強力電子新材料有限公司製）、アデカオプトマーＮ−１９１９（（株）ＡＤＥＫＡ製、特開２０１２−１４０５２号公報に記載の光重合開始剤２）も用いることができる。また、オキシム化合物としては、着色性が無い化合物や、透明性が高く、その他の成分を変色させにくい化合物を用いることも好ましい。市販品としては、アデカアークルズＮＣＩ−７３０、ＮＣＩ−８３１、ＮＣＩ−９３０（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）などが挙げられる。
本発明において、光ラジカル重合開始剤として、フルオレン環を有するオキシム化合物を用いることもできる。フルオレン環を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１４−１３７４６６号公報に記載の化合物が挙げられる。この内容は本明細書に組み込まれる。
本発明において、光ラジカル重合開始剤として、フッ素原子を有するオキシム化合物を用いることもできる。フッ素原子を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１０−２６２０２８号公報に記載の化合物、特表２０１４−５００８５２号公報に記載の化合物２４、３６〜４０、特開２０１３−１６４４７１号公報に記載の化合物（Ｃ−３）などが挙げられる。この内容は本明細書に組み込まれる。
本発明において、光ラジカル重合開始剤として、ニトロ基を有するオキシム化合物を用いることができる。ニトロ基を有するオキシム化合物は、二量体とすることも好ましい。ニトロ基を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１３−１１４２４９号公報の段落番号００３１〜００４７、特開２０１４−１３７４６６号公報の段落番号０００８〜００１２、００７０〜００７９に記載されている化合物、特許４２２３０７１号公報の段落番号０００７〜００２５に記載されている化合物、アデカアークルズＮＣＩ−８３１（（株）ＡＤＥＫＡ製）が挙げられる。
本発明において好ましく使用されるオキシム化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
Figure 2018174147
Figure 2018174147
オキシム化合物は、３５０ｎｍ〜５００ｎｍの波長領域に極大吸収波長を有する化合物が好ましく、３６０ｎｍ〜４８０ｎｍの波長領域に極大吸収波長を有する化合物がより好ましい。また、オキシム化合物は、３６５ｎｍ及び４０５ｎｍの吸光度が高い化合物が好ましい。
オキシム化合物の３６５ｎｍ又は４０５ｎｍにおけるモル吸光係数は、感度の観点から、１,０００〜３００，０００であることが好ましく、２,０００〜３００，０００であることがより好ましく、５,０００〜２００，０００であることが特に好ましい。
化合物のモル吸光係数は、公知の方法を用いて測定することができる。例えば、分光光度計（Ｖａｒｉａｎ社製Ｃａｒｙ−５ ｓｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒ）にて、酢酸エチル溶媒を用い、０．０１ｇ／Ｌの濃度で測定することが好ましい。
光ラジカル重合開始剤は、オキシム化合物とα−アミノケトン化合物とを含むことも好ましい。両者を併用することで、現像性が向上し、矩形性に優れたパターンを形成しやすい。オキシム化合物とα−アミノケトン化合物とを併用する場合、オキシム化合物１００質量部に対して、α−アミノケトン化合物が５０〜６００質量部が好ましく、１５０〜４００質量部がより好ましい。
光ラジカル重合開始剤の含有量は、近赤外線透過フィルタ用組成物の全固形分に対し０．１〜５０質量％が好ましく、０．５〜３０質量％がより好ましく、１〜２０質量％が更に好ましい。光ラジカル重合開始剤の含有量が上記範囲であれば、より良好な感度とパターン形成性が得られる。近赤外線透過フィルタ用組成物は、光ラジカル重合開始剤を１種類のみ含んでいてもよいし、２種類以上含んでいてもよい。光ラジカル重合開始剤を２種類以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
（光カチオン重合開始剤）
光カチオン重合開始剤としては、光酸発生剤が挙げられる。光酸発生剤としては、光照射により分解して酸を発生する、ジアゾニウム塩、ホスホニウム塩、スルホニウム塩、ヨードニウム塩などのオニウム塩化合物、イミドスルホネート、オキシムスルホネート、ジアゾジスルホン、ジスルホン、ｏ−ニトロベンジルスルホネート等のスルホネート化合物などを挙げることができる。光カチオン重合開始剤の詳細については特開２００９−２５８６０３号公報の段落番号０１３９〜０２１４の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
光カチオン重合開始剤の含有量は、近赤外線透過フィルタ用組成物の全固形分に対し０．１〜５０質量％が好ましく、０．５〜３０質量％がより好ましく、１〜２０質量％が更に好ましい。光カチオン重合開始剤の含有量が上記範囲であれば、より良好な感度とパターン形成性が得られる。近赤外線透過フィルタ用組成物は、光カチオン重合開始剤を１種類のみ含んでいてもよいし、２種類以上含んでいてもよい。光カチオン重合開始剤を２種類以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜樹脂＞＞
近赤外線透過フィルタ用組成物は、樹脂を含有することが好ましい。樹脂は、例えば顔料などを組成物中で分散させる用途やバインダーの用途で配合される。なお、主に顔料などを分散させるために用いられる樹脂を分散剤ともいう。ただし、樹脂のこのような用途は一例であって、このような用途以外の目的で樹脂を使用することもできる。
樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、２,０００〜２,０００,０００が好ましい。上限は、１,０００,０００以下が好ましく、５００,０００以下がより好ましい。下限は、３,０００以上が好ましく、５,０００以上がより好ましい。
樹脂としては、（メタ）アクリル樹脂、エポキシ樹脂、エン・チオール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリフェニレン樹脂、ポリアリーレンエーテルホスフィンオキシド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、環状オレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、スチレン樹脂などが挙げられる。これらの樹脂から１種を単独で使用してもよく、２種以上を混合して使用してもよい。環状オレフィン樹脂としては、耐熱性向上の観点からノルボルネン樹脂が好ましく用いることができる。ノルボルネン樹脂の市販品としては、例えば、ＪＳＲ（株）製のＡＲＴＯＮシリーズ（例えば、ＡＲＴＯＮ Ｆ４５２０）などが挙げられる。また、樹脂は、国際公開ＷＯ２０１６／０８８６４５号公報の実施例に記載の樹脂を用いることもできる。また、樹脂として、側鎖にエチレン性不飽和結合を有する基を有する繰り返し単位を有する樹脂を用いることも好ましい。エチレン性不飽和結合を有する基としては、（メタ）アクリロイル基）などが挙げられる。また、繰り返し単位の主鎖と、エチレン性不飽和結合を有する基は、脂環構造を有する２価の連結基を介して結合していることが好ましい。
本発明において、樹脂として酸基を有する樹脂を用いることが好ましい。この態様によれば、矩形性に優れたパターンを形成しやすい。酸基としては、カルボキシル基、リン酸基、スルホ基、フェノール性水酸基などが挙げられ、カルボキシル基が好ましい。酸基を有する樹脂は、例えば、アルカリ可溶性樹脂として用いることができる。
酸基を有する樹脂としては、側鎖にカルボキシル基を有するポリマーが好ましい。具体例としては、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体、ノボラック樹脂などのアルカリ可溶性フェノール樹脂、側鎖にカルボキシル基を有する酸性セルロース誘導体、ヒドロキシル基を有するポリマーに酸無水物を付加させた樹脂が挙げられる。特に、（メタ）アクリル酸と、これと共重合可能な他のモノマーとの共重合体が、アルカリ可溶性樹脂として好適である。（メタ）アクリル酸と共重合可能な他のモノマーとしては、アルキル（メタ）アクリレート、アリール（メタ）アクリレート、ビニル化合物などが挙げられる。アルキル（メタ）アクリレートおよびアリール（メタ）アクリレートとしては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、トリル（メタ）アクリレート、ナフチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート等、ビニル化合物としては、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、グリシジルメタクリレート、アクリロニトリル、ビニルアセテート、Ｎ−ビニルピロリドン、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、ポリスチレンマクロモノマー、ポリメチルメタクリレートマクロモノマー等が挙げられる。また他のモノマーは、特開平１０−３００９２２号公報に記載のＮ位置換マレイミドモノマー、例えば、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド等を用いることもできる。なお、これらの（メタ）アクリル酸と共重合可能な他のモノマーは１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。
酸基を有する樹脂は、更に重合性基を有していてもよい。重合性基としては、アリル基、メタリル基、（メタ）アクリロイル基等が挙げられる。市販品としては、ダイヤナールＮＲシリーズ（三菱レイヨン（株）製）、Ｐｈｏｔｏｍｅｒ６１７３（カルボキシル基含有ポリウレタンアクリレートオリゴマー、Ｄｉａｍｏｎｄ Ｓｈａｍｒｏｃｋ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．製）、ビスコートＲ−２６４、ＫＳレジスト１０６（いずれも大阪有機化学工業株式会社製）、サイクロマーＰシリーズ（例えば、ＡＣＡ２３０ＡＡ）、プラクセル ＣＦ２００シリーズ（いずれも（株）ダイセル製）、Ｅｂｅｃｒｙｌ３８００（ダイセルユーシービー（株）製）、アクリキュアーＲＤ−Ｆ８(（株）日本触媒製)などが挙げられる。
酸基を有する樹脂は、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸共重合体、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸／２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート共重合体、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸／他のモノマーからなる多元共重合体が好ましく用いることができる。また、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートを共重合したもの、特開平７−１４０６５４号公報に記載の、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート／ポリメチルメタクリレートマクロモノマー／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、２−ヒドロキシエチルメタクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／メチルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、２−ヒドロキシエチルメタクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体なども好ましく用いることができる。
酸基を有する樹脂は、下記式（ＥＤ１）で示される化合物および／または下記式（ＥＤ２）で表される化合物（以下、これらの化合物を「エーテルダイマー」と称することもある。）を含むモノマー成分に由来する繰り返し単位を含むポリマーであることも好ましい。
Figure 2018174147
式（ＥＤ１）中、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ独立して、水素原子または置換基を有していてもよい炭素数１〜２５の炭化水素基を表す。
Figure 2018174147
 式（ＥＤ２）中、Ｒは、水素原子または炭素数１〜３０の有機基を表す。式（ＥＤ２）の具体例としては、特開２０１０−１６８５３９号公報の記載を参酌できる。
エーテルダイマーの具体例としては、例えば、特開２０１３−２９７６０号公報の段落番号０３１７を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。エーテルダイマーは、１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。
酸基を有する樹脂は、下記式（Ｘ）で示される化合物に由来する繰り返し単位を含んでいてもよい。
Figure 2018174147
 式（Ｘ）において、Ｒ1は、水素原子またはメチル基を表し、Ｒ2は炭素数２〜１０のアルキレン基を表し、Ｒ3は、水素原子またはベンゼン環を含んでもよい炭素数１〜２０のアルキル基を表す。ｎは１〜１５の整数を表す。
酸基を有する樹脂については、特開２０１２−２０８４９４号公報の段落番号０５５８〜０５７１（対応する米国特許出願公開第２０１２／０２３５０９９号明細書の段落番号０６８５〜０７００）の記載、特開２０１２−１９８４０８号公報の段落番号００７６〜００９９の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。また、酸基を有する樹脂は市販品を用いることもできる。例えば、アクリベースＦＦ−４２６（藤倉化成（株）製）などが挙げられる。
酸基を有する樹脂の酸価は、３０〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。下限は、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が好ましく、７０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がより好ましい。上限は、１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が好ましく、１２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましい。
酸基を有する樹脂としては、例えば下記構造の樹脂などが挙げられる。以下の構造式中、Ｍｅはメチル基を表す。
Figure 2018174147
近赤外線透過フィルタ用組成物は、分散剤としての樹脂を含むこともできる。分散剤は、酸性分散剤（酸性樹脂）、塩基性分散剤（塩基性樹脂）が挙げられる。ここで、酸性分散剤（酸性樹脂）とは、酸基の量が塩基性基の量よりも多い樹脂を表す。酸性分散剤（酸性樹脂）は、酸基の量と塩基性基の量の合計量を１００モル％としたときに、酸基の量が７０モル％以上を占める樹脂が好ましく、実質的に酸基のみからなる樹脂がより好ましい。酸性分散剤（酸性樹脂）が有する酸基は、カルボキシル基が好ましい。酸性分散剤（酸性樹脂）の酸価は、４０〜１０５ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましく、５０〜１０５ｍｇＫＯＨ／ｇがより好ましく、６０〜１０５ｍｇＫＯＨ／ｇがさらに好ましい。また、塩基性分散剤（塩基性樹脂）とは、塩基性基の量が酸基の量よりも多い樹脂を表す。塩基性分散剤（塩基性樹脂）は、酸基の量と塩基性基の量の合計量を１００モル％としたときに、塩基性基の量が５０モル％を超える樹脂が好ましい。塩基性分散剤が有する塩基性基は、アミノ基であることが好ましい。
分散剤として用いる樹脂は、酸基を有する繰り返し単位を含むことが好ましい。分散剤として用いる樹脂が酸基を有する繰り返し単位を含むことにより、フォトリソグラフィ法によりパターン形成する際、画素の下地に発生する残渣をより低減することができる。
分散剤として用いる樹脂は、グラフト共重合体であることも好ましい。グラフト共重合体は、グラフト鎖によって溶剤との親和性を有するために、顔料の分散性、及び、経時後の分散安定性に優れる。グラフト共重合体の詳細は、特開２０１２−２５５１２８号公報の段落番号００２５〜００９４の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。また、グラフト共重合体の具体例は、下記の樹脂が挙げられる。以下の樹脂は酸基を有する樹脂（アルカリ可溶性樹脂）でもある。また、グラフト共重合体としては特開２０１２−２５５１２８号公報の段落番号００７２〜００９４に記載の樹脂が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。
Figure 2018174147
また、本発明において、樹脂（分散剤）は、主鎖及び側鎖の少なくとも一方に窒素原子を含むオリゴイミン系分散剤を用いることも好ましい。オリゴイミン系分散剤としては、ｐＫａ１４以下の官能基を有する部分構造Ｘを有する構造単位と、原子数４０〜１０，０００の側鎖Ｙを含む側鎖とを有し、かつ主鎖及び側鎖の少なくとも一方に塩基性窒素原子を有する樹脂が好ましい。塩基性窒素原子とは、塩基性を呈する窒素原子であれば特に制限はない。オリゴイミン系分散剤については、特開２０１２−２５５１２８号公報の段落番号０１０２〜０１６６の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。オリゴイミン系分散剤としては、下記構造の樹脂や、特開２０１２−２５５１２８号公報の段落番号０１６８〜０１７４に記載の樹脂を用いることができる。
Figure 2018174147
分散剤は、市販品としても入手可能であり、そのような具体例としては、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１１１（ＢＹＫＣｈｅｍｉｅ社製）などが挙げられる。また、特開２０１４−１３０３３８号公報の段落番号００４１〜０１３０に記載された顔料分散剤を用いることもでき、この内容は本明細書に組み込まれる。また、上述した酸基を有する樹脂などを分散剤として用いることもできる。
近赤外線透過フィルタ用組成物が樹脂を含有する場合、樹脂の含有量は、近赤外線透過フィルタ用組成物の全固形分に対し、１４〜７０質量％が好ましい。下限は、１７質量％以上が好ましく、２０質量％以上がより好ましい。上限は、５６質量％以下が好ましく、４２質量％以下がより好ましい。
近赤外線透過フィルタ用組成物が酸基を有する樹脂を含有する場合、酸基を有する樹脂の含有量は、近赤外線透過フィルタ用組成物の全固形分に対し、１４〜７０質量％が好ましい。下限は、１７質量％以上が好ましく、２０質量％以上がより好ましい。上限は、５６質量％以下が好ましく、４２質量％以下がより好ましい。
近赤外線透過フィルタ用組成物がラジカル重合性化合物と樹脂とを含む場合、ラジカル重合性化合物と、樹脂との質量比は、ラジカル重合性化合物／樹脂＝０．４〜１．４であることが好ましい。上記質量比の下限は０．５以上が好ましく、０．６以上がより好ましい。上記質量比の上限は１．３以下が好ましく、１．２以下がより好ましい。上記質量比が、上記範囲であれば、より矩形性に優れたパターンを形成することができる。
また、ラジカル重合性化合物と酸基を有する樹脂との質量比は、ラジカル重合性化合物／酸基を有する樹脂＝０．４〜１．４であることが好ましい。上記質量比の下限は０．５以上が好ましく、０．６以上がより好ましい。上記質量比の上限は１．３以下が好ましく、１．２以下がより好ましい。上記質量比が、上記範囲であれば、より矩形性に優れたパターンを形成することができる。
＜＜顔料誘導体＞＞
近赤外線透過フィルタ用組成物は、更に顔料誘導体を含有することができる。顔料誘導体としては、顔料の一部を、酸基、塩基性基、塩構造を有する基又はフタルイミドメチル基で置換した構造を有する化合物が挙げられる。顔料誘導体としては、式（Ｂ１）で表される化合物が好ましい。
Figure 2018174147
 式（Ｂ１）中、Ｐは色素構造を表し、Ｌは単結合または連結基を表し、Ｘは酸基、塩基性基、塩構造を有する基またはフタルイミドメチル基を表し、ｍは１以上の整数を表し、ｎは１以上の整数を表し、ｍが２以上の場合は複数のＬおよびＸは互いに異なっていてもよく、ｎが２以上の場合は複数のＸは互いに異なっていてもよい。
式（Ｂ１）中、Ｐは、色素構造を表し、ピロロピロール色素構造、ジケトピロロピロール色素構造、キナクリドン色素構造、アントラキノン色素構造、ジアントラキノン色素構造、ベンゾイソインドール色素構造、チアジンインジゴ色素構造、アゾ色素構造、キノフタロン色素構造、フタロシアニン色素構造、ナフタロシアニン色素構造、ジオキサジン色素構造、ペリレン色素構造、ペリノン色素構造、ベンゾイミダゾロン色素構造、ベンゾチアゾール色素構造、ベンゾイミダゾール色素構造およびベンゾオキサゾール色素構造から選ばれる少なくとも１種が好ましく、ピロロピロール色素構造、ジケトピロロピロール色素構造、キナクリドン色素構造およびベンゾイミダゾロン色素構造から選ばれる少なくとも１種が更に好ましく、ピロロピロール色素構造が特に好ましい。
式（Ｂ１）中、Ｌは単結合または連結基を表す。連結基としては、１〜１００個の炭素原子、０〜１０個の窒素原子、０〜５０個の酸素原子、１〜２００個の水素原子、および０〜２０個の硫黄原子から成り立つ基が好ましく、無置換でもよく、置換基を更に有していてもよい。
式（Ｂ１）中、Ｘは、酸基、塩基性基、塩構造を有する基またはフタルイミドメチル基を表し、酸基または塩基性基が好ましい。酸基としては、カルボキシル基、スルホ基等が挙げられる。塩基性基としてはアミノ基が挙げられる。
顔料誘導体としては、下記構造の化合物が挙げられる。また、特開昭５６−１１８４６２号公報、特開昭６３−２６４６７４号公報、特開平１−２１７０７７号公報、特開平３−９９６１号公報、特開平３−２６７６７号公報、特開平３−１５３７８０号公報、特開平３−４５６６２号公報、特開平４−２８５６６９号公報、特開平６−１４５５４６号公報、特開平６−２１２０８８号公報、特開平６−２４０１５８号公報、特開平１０−３００６３号公報、特開平１０−１９５３２６号公報、国際公開ＷＯ２０１１／０２４８９６号公報の段落番号００８６〜００９８、国際公開ＷＯ２０１２／１０２３９９号公報の段落番号００６３〜００９４等に記載の化合物を用いることもでき、この内容は本明細書に組み込まれる。
Figure 2018174147
近赤外線透過フィルタ用組成物が顔料誘導体を含有する場合、顔料誘導体の含有量は、顔料１００質量部に対し、１〜５０質量部が好ましい。下限値は、３質量部以上が好ましく、５質量部以上がより好ましい。上限値は、４０質量部以下が好ましく、３０質量部以下がより好ましい。顔料誘導体の含有量が上記範囲であれば、顔料の分散性を高めて、顔料の凝集を効率よく抑制できる。顔料誘導体は１種のみを用いてもよく、２種以上を用いてもよい。２種以上を用いる場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜溶剤＞＞
近赤外線透過フィルタ用組成物は、溶剤を含有することができる。溶剤としては、有機溶剤が挙げられる。溶剤は、各成分の溶解性や組成物の塗布性を満足すれば基本的には特に制限はない。有機溶剤の例としては、例えば、エステル類、エーテル類、ケトン類、芳香族炭化水素類などが挙げられる。これらの詳細については、国際公開ＷＯ２０１５／１６６７７９号公報の段落番号０２２３を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。また、環状アルキル基が置換したエステル系溶剤、環状アルキル基が置換したケトン系溶剤を好ましく用いることもできる。有機溶剤の具体例としては、ジクロロメタン、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、エチルセロソルブアセテート、乳酸エチル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、酢酸ブチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、２−ヘプタノン、シクロヘキサノン、酢酸シクロヘキシル、シクロペンタノン、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどが挙げられる。本発明において有機溶剤は、１種単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。ただし溶剤としての芳香族炭化水素類（ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等）は、環境面等の理由により低減したほうがよい場合がある（例えば、有機溶剤全量に対して、５０質量ｐｐｍ（ｐａｒｔｓ ｐｅｒ ｍｉｌｌｉｏｎ）以下とすることもでき、１０質量ｐｐｍ以下とすることもでき、１質量ｐｐｍ以下とすることもできる）。
本発明においては、金属含有量の少ない溶剤を用いることが好ましく、溶剤の金属含有量は、例えば１０質量ｐｐｂ（ｐａｒｔｓ ｐｅｒ ｂｉｌｌｉｏｎ）以下であることが好ましい。必要に応じて質量ｐｐｔ（ｐａｒｔｓ ｐｅｒ ｔｒｉｌｌｉｏｎ）レベルの溶剤を用いてもよく、そのような高純度溶剤は例えば東洋合成社が提供している（化学工業日報、２０１５年１１月１３日）。
溶剤から金属等の不純物を除去する方法としては、例えば、蒸留（分子蒸留や薄膜蒸留等）やフィルタを用いたろ過を挙げることができる。ろ過に用いるフィルタのフィルタ孔径としては、１０μｍ以下が好ましく、５μｍ以下がより好ましく、３μｍ以下が更に好ましい。フィルタの材質は、ポリテトラフロロエチレン、ポリエチレンまたはナイロンが好ましい。
溶剤は、異性体（原子数が同じであるが構造が異なる化合物）が含まれていてもよい。また、異性体は、１種のみが含まれていてもよいし、複数種含まれていてもよい。
本発明において、有機溶剤は、過酸化物の含有率が０．８ｍｍｏｌ／Ｌ以下であることが好ましく、過酸化物を実質的に含まないことがより好ましい。
溶剤の含有量は、近赤外線透過フィルタ用組成物の全量に対し、１０〜９０質量％であることが好ましく、２０〜８０質量％であることがより好ましく、２５〜７５質量％であることが更に好ましい。また、環境面等の理由により、近赤外線透過フィルタ用組成物は、溶剤としての芳香族炭化水素類（ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等）を含有しないことが好ましい場合もある。
＜＜重合禁止剤＞＞
近赤外線透過フィルタ用組成物は、重合禁止剤を含有することができる。重合禁止剤としては、ハイドロキノン、ｐ−メトキシフェノール、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ピロガロール、ｔｅｒｔ−ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４’−チオビス（３−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシアミン塩（アンモニウム塩、第一セリウム塩等）が挙げられる。中でも、ｐ−メトキシフェノールが好ましい。重合禁止剤の含有量は、近赤外線透過フィルタ用組成物の全固形分に対して、０．００１〜５質量％が好ましい。
＜＜シランカップリング剤＞＞
近赤外線透過フィルタ用組成物は、シランカップリング剤を含有することができる。本発明において、シランカップリング剤は、加水分解性基とそれ以外の官能基とを有するシラン化合物を意味する。また、加水分解性基とは、ケイ素原子に直結し、加水分解反応及び縮合反応の少なくともいずれかによってシロキサン結合を生じ得る置換基をいう。加水分解性基としては、例えば、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシルオキシ基などが挙げられ、アルコキシ基が好ましい。すなわち、シランカップリング剤は、アルコキシシリル基を有する化合物が好ましい。また、加水分解性基以外の官能基としては、例えば、ビニル基、スチリル基、（メタ）アクリロイル基、メルカプト基、エポキシ基、オキセタニル基、アミノ基、ウレイド基、スルフィド基、イソシアネート基、フェニル基などが挙げられ、（メタ）アクリロイル基およびエポキシ基が好ましい。シランカップリング剤の市販品としては、例えば、ＫＢＭ−６０２（信越シリコーン製）などが挙げられる。また、シランカップリング剤は、特開２００９−２８８７０３号公報の段落番号００１８〜００３６に記載の化合物、特開２００９−２４２６０４号公報の段落番号００５６〜００６６に記載の化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
シランカップリング剤の含有量は、近赤外線透過フィルタ用組成物の全固形分に対して、０．０１〜１５．０質量％が好ましく、０．０５〜１０．０質量％がより好ましい。シランカップリング剤は、１種類のみでもよく、２種類以上でもよい。２種類以上の場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜界面活性剤＞＞
近赤外線透過フィルタ用組成物は、界面活性剤を含有させてもよい。界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤などの各種界面活性剤を使用することができる。界面活性剤は、国際公開ＷＯ２０１５／１６６７７９号公報の段落番号０２３８〜０２４５を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
本発明において、界面活性剤は、フッ素系界面活性剤であることが好ましい。近赤外線透過フィルタ用組成物にフッ素系界面活性剤を含有させることで液特性（特に、流動性）がより向上し、省液性をより改善することができる。また、厚みムラの小さい膜を形成することもできる。
フッ素系界面活性剤中のフッ素含有率は、３〜４０質量％が好適であり、より好ましくは５〜３０質量％であり、特に好ましくは７〜２５質量％である。フッ素含有率がこの範囲内であるフッ素系界面活性剤は、塗布膜の厚さの均一性や省液性の点で効果的であり、組成物中における溶解性も良好である。
フッ素系界面活性剤として具体的には、特開２０１４−４１３１８号公報の段落番号００６０〜００６４（対応する国際公開２０１４／１７６６９号公報の段落番号００６０〜００６４）等に記載の界面活性剤、特開２０１１−１３２５０３号公報の段落番号０１１７〜０１３２に記載の界面活性剤が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。フッ素系界面活性剤の市販品としては、例えば、メガファックＦ１７１、Ｆ１７２、Ｆ１７３、Ｆ１７６、Ｆ１７７、Ｆ１４１、Ｆ１４２、Ｆ１４３、Ｆ１４４、Ｒ３０、Ｆ４３７、Ｆ４７５、Ｆ４７９、Ｆ４８２、Ｆ５５４、Ｆ７８０（以上、ＤＩＣ（株）製）、フロラードＦＣ４３０、ＦＣ４３１、ＦＣ１７１（以上、住友スリーエム（株）製）、サーフロンＳ−３８２、ＳＣ−１０１、ＳＣ−１０３、ＳＣ−１０４、ＳＣ−１０５、ＳＣ−１０６８、ＳＣ−３８１、ＳＣ−３８３、Ｓ−３９３、ＫＨ−４０（以上、旭硝子（株）製）、ＰｏｌｙＦｏｘ ＰＦ６３６、ＰＦ６５６、ＰＦ６３２０、ＰＦ６５２０、ＰＦ７００２（以上、ＯＭＮＯＶＡ社製）等が挙げられる。
また、フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を含有する官能基を持つ分子構造で、熱を加えるとフッ素原子を含有する官能基の部分が切断されてフッ素原子が揮発するアクリル系化合物も好適に使用できる。このようなフッ素系界面活性剤としては、ＤＩＣ（株）製のメガファックＤＳシリーズ（化学工業日報、２０１６年２月２２日）（日経産業新聞、２０１６年２月２３日）、例えばメガファックＤＳ−２１が挙げられる。
フッ素系界面活性剤は、ブロックポリマーを用いることもできる。例えば特開２０１１−８９０９０号公報に記載された化合物が挙げられる。フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、アルキレンオキシ基（好ましくはエチレンオキシ基、プロピレンオキシ基）を２以上（好ましくは５以上）有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、を含む含フッ素高分子化合物も好ましく用いることができる。下記化合物も本発明で用いられるフッ素系界面活性剤として例示される。
Figure 2018174147
 上記の化合物の重量平均分子量は、好ましくは３，０００〜５０，０００であり、例えば、１４，０００である。上記の化合物中、繰り返し単位の割合を示す％は質量％である。
また、フッ素系界面活性剤は、エチレン性不飽和基を側鎖に有する含フッ素重合体を用いることもできる。具体例としては、特開２０１０−１６４９６５号公報の段落番号００５０〜００９０および段落番号０２８９〜０２９５に記載された化合物、例えばＤＩＣ（株）製のメガファックＲＳ−１０１、ＲＳ−１０２、ＲＳ−７１８Ｋ、ＲＳ−７２−Ｋ等が挙げられる。フッ素系界面活性剤は、特開２０１５−１１７３２７号公報の段落番号００１５〜０１５８に記載の化合物を用いることもできる。
ノニオン系界面活性剤としては、グリセロール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン並びにそれらのエトキシレート及びプロポキシレート（例えば、グリセロールプロポキシレート、グリセロールエトキシレート等）、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ソルビタン脂肪酸エステル、プルロニックＬ１０、Ｌ３１、Ｌ６１、Ｌ６２、１０Ｒ５、１７Ｒ２、２５Ｒ２（ＢＡＳＦ社製）、テトロニック３０４、７０１、７０４、９０１、９０４、１５０Ｒ１（ＢＡＳＦ社製）、ソルスパース２００００（日本ルーブリゾール（株）製）、ＮＣＷ−１０１、ＮＣＷ−１００１、ＮＣＷ−１００２（和光純薬工業（株）製）、パイオニンＤ−６１１２、Ｄ−６１１２−Ｗ、Ｄ−６３１５（竹本油脂（株）製）、オルフィンＥ１０１０、サーフィノール１０４、４００、４４０（日信化学工業（株）製）などが挙げられる。
界面活性剤の含有量は、近赤外線透過フィルタ用組成物の全固形分に対して、０．００１質量％〜５．０質量％が好ましく、０．００５〜３．０質量％がより好ましい。界面活性剤は、１種類のみでもよく、２種類以上でもよい。２種類以上の場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜紫外線吸収剤＞＞
近赤外線透過フィルタ用組成物は、紫外線吸収剤を含有することができる。紫外線吸収剤としては、共役ジエン化合物、アミノブタジエン化合物、メチルジベンゾイル化合物、クマリン化合物、サリシレート化合物、ベンゾフェノン化合物、ベンゾトリアゾール化合物、アクリロニトリル化合物、ヒドロキシフェニルトリアジン化合物などを用いることができる。これらの詳細については、特開２０１２−２０８３７４号公報の段落番号００５２〜００７２、特開２０１３−６８８１４号公報の段落番号０３１７〜０３３４の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。共役ジエン化合物の市販品としては、例えば、ＵＶ−５０３（大東化学（株）製）などが挙げられる。また、ベンゾトリアゾール化合物としてはミヨシ油脂製のＭＹＵＡシリーズ（化学工業日報、２０１６年２月１日）を用いてもよい。紫外線吸収剤としては、式（ＵＶ−１）〜式（ＵＶ−３）で表される化合物が好ましく、式（ＵＶ−１）または式（ＵＶ−３）で表される化合物がより好ましく、式（ＵＶ−１）で表される化合物が更に好ましい。
Figure 2018174147
式（ＵＶ−１）において、Ｒ101及びＲ102は、各々独立に、置換基を表し、ｍ１およびｍ２は、それぞれ独立して０〜４を表す。
式（ＵＶ−２）において、Ｒ201及びＲ202は、各々独立に、水素原子またはアルキル基を表し、Ｒ203及びＲ204は、各々独立に、置換基を表す。
式（ＵＶ−３）において、Ｒ301〜Ｒ303は、各々独立に、水素原子またはアルキル基を表し、Ｒ304及びＲ305は、各々独立に、置換基を表す。
式（ＵＶ−１）〜式（ＵＶ−３）で表される化合物の具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
Figure 2018174147
近赤外線透過フィルタ用組成物において、紫外線吸収剤の含有量は、近赤外線透過フィルタ用組成物の全固形分に対して、０．０１〜１０質量％が好ましく、０．０１〜５質量％がより好ましい。本発明において、紫外線吸収剤は１種のみを用いてもよく、２種以上を用いてもよい。２種以上を用いる場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜酸化防止剤＞＞
近赤外線透過フィルタ用組成物は、酸化防止剤を含有することができる。酸化防止剤としては、フェノール化合物、亜リン酸エステル化合物、チオエーテル化合物などが挙げられる。フェノール化合物としては、フェノール系酸化防止剤として知られる任意のフェノール化合物を使用することができる。好ましいフェノール化合物としては、ヒンダードフェノール化合物が挙げられる。フェノール性水酸基に隣接する部位（オルト位）に置換基を有する化合物が好ましい。前述の置換基としては炭素数１〜２２の置換又は無置換のアルキル基が好ましい。また、酸化防止剤は、同一分子内にフェノール基と亜リン酸エステル基を有する化合物も好ましい。また、酸化防止剤は、リン系酸化防止剤も好適に使用することができる。リン系酸化防止剤としてはトリス［２−［［２，４，８，１０−テトラキス（１，１−ジメチルエチル）ジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン−６−イル］オキシ］エチル］アミン、トリス［２−［（４，６，９，１１−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチルジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン−２−イル）オキシ］エチル］アミン、亜リン酸エチルビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−６−メチルフェニル）などが挙げられる。酸化防止剤の市販品としては、例えば、アデカスタブ ＡＯ−２０、アデカスタブ ＡＯ−３０、アデカスタブ ＡＯ−４０、アデカスタブ ＡＯ−５０、アデカスタブ ＡＯ−５０Ｆ、アデカスタブ ＡＯ−６０、アデカスタブ ＡＯ−６０Ｇ、アデカスタブ ＡＯ−８０、アデカスタブ ＡＯ−３３０（以上、（株）ＡＤＥＫＡ）などが挙げられる。
近赤外線透過フィルタ用組成物において、酸化防止剤の含有量は、近赤外線透過フィルタ用組成物の全固形分に対して、０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．３〜１５質量％であることがより好ましい。酸化防止剤は１種のみを用いてもよく、２種以上を用いてもよい。２種以上を用いる場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜その他成分＞＞
近赤外線透過フィルタ用組成物は、必要に応じて、増感剤、硬化促進剤、フィラー、熱硬化促進剤、可塑剤及びその他の助剤類（例えば、導電性粒子、充填剤、消泡剤、難燃剤、レベリング剤、剥離促進剤、香料、表面張力調整剤、連鎖移動剤など）を含有してもよい。これらの成分を適宜含有させることにより、膜物性などの性質を調整することができる。これらの成分は、例えば、特開２０１２−００３２２５号公報の段落番号０１８３以降（対応する米国特許出願公開第２０１３／００３４８１２号明細書の段落番号０２３７）の記載、特開２００８−２５００７４号公報の段落番号０１０１〜０１０４、０１０７〜０１０９等の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
近赤外線透過フィルタ用組成物の粘度（２３℃）は、例えば、塗布により膜を形成する場合、１〜１００ｍＰａ・ｓであることが好ましい。下限は、２ｍＰａ・ｓ以上がより好ましく、３ｍＰａ・ｓ以上が更に好ましい。上限は、５０ｍＰａ・ｓ以下がより好ましく、３０ｍＰａ・ｓ以下が更に好ましく、１５ｍＰａ・ｓ以下が特に好ましい。
＜カラーフィルタ層形成用組成物＞
次に、カラーフィルタ層の形成に好ましく用いることができる組成物（カラーフィルタ層形成用組成物）について説明する。カラーフィルタ層形成用組成物は、有彩色着色剤を含むことが好ましい。有彩色着色剤としては、顔料であってもよく、染料であってもよい。有彩色着色剤の詳細については、上述したものが挙げられる。有彩色着色剤の含有量は、カラーフィルタ層形成用組成物の全固形分に対して０．１〜７０質量％が好ましい。下限は、０．５質量％以上が好ましく、１．０質量％以上がより好ましい。上限は、６０質量％以下が好ましく、５０質量％以下がより好ましい。
カラーフィルタ層形成用組成物は、更に、硬化性化合物、光開始剤、樹脂、溶剤、重合禁止剤、界面活性剤、シランカップリング剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤などを含有することができる。これらの詳細については、上述した近赤外線透過フィルタ用組成物に用いられる前述の材料が挙げられ、好ましい範囲も同様である。また、これらの材料の好ましい含有量についても近赤外線透過フィルタ用組成物における含有量と同様である。
＜近赤外線カットフィルタ層形成用組成物＞
次に、近赤外線カットフィルタ層の形成に好ましく用いることができる組成物（近赤外線カットフィルタ層形成用組成物）について説明する。近赤外線カットフィルタ層形成用組成物は、近赤外線吸収色素を含むことが好ましい。近赤外線吸収色素の詳細については、上述したものが挙げられる。近赤外線吸収色素の含有量は、近赤外線カットフィルタ層形成用組成物の全固形分に対して０．１〜７０質量％が好ましい。下限は、０．５質量％以上が好ましく、１．０質量％以上がより好ましい。上限は、６０質量％以下が好ましく、５０質量％以下がより好ましい。
近赤外線カットフィルタ層形成用組成物は、更に、硬化性化合物、光開始剤、樹脂、溶剤、重合禁止剤、界面活性剤、シランカップリング剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤などを含有することができる。これらの詳細については、上述した近赤外線透過フィルタ用組成物に用いられる前述の材料が挙げられ、好ましい範囲も同様である。また、これらの材料の好ましい含有量についても近赤外線透過フィルタ用組成物における含有量と同様である。
＜透明層形成用組成物＞
次に、透明層の形成に好ましく用いることができる組成物（透明層形成用組成物）について説明する。透明層形成用組成物は、樹脂を含有することが好ましい。樹脂としては、上述した近赤外線透過フィルタ用組成物に用いられる前述の材料が挙げられ、好ましい範囲も同様である。また、樹脂の好ましい含有量についても近赤外線透過フィルタ用組成物における含有量と同様である。
透明層形成用組成物は、白色または無色の顔料（以下、白色系顔料ともいう）を含有してもよい。白色系顔料としては、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ａｓ、Ｃｒ、Ｈｇ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓｉ、ＰおよびＳから選択される少なくとも一種の元素を含む酸化物の粒子が挙げられる。白色系顔料の形状には特に制限はない。例えば、等方性形状（例えば、球状、多面体状等）、異方性形状（例えば、針状、棒状、板状等）、不定形状等の形状が挙げられる。白色系顔料の１次粒子の重量平均粒径は、１５０ｎｍ以下であることが好ましく、１００ｎｍ以下であることがより好ましく、８０ｎｍ以下であることが更に好ましい。下限値は特にないが、１ｎｍ以上であることが好ましい。白色系顔料の比表面積としては、１０〜４００ｍ2／ｇであることが好ましく、２０〜２００ｍ2／ｇであることがより好ましく、３０〜１５０ｍ2／ｇであることがさらに好ましい。白色系顔料の含有量は、透明層形成用組成物の全固形分に対して、２０〜７０質量％であることが好ましい。下限は、２５質量％以上がより好ましく、３０質量％以上がさらに好ましい。上限は、６５質量％以下がより好ましく、６０質量％以下が更に好ましい。
透明層形成用組成物は、硬化性化合物、光開始剤、樹脂、溶剤、重合禁止剤、界面活性剤、シランカップリング剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤などを含有することができる。これらの詳細については、上述した近赤外線透過フィルタ用組成物に用いられる前述の材料が挙げられ、好ましい範囲も同様である。また、これらの材料の好ましい含有量についても近赤外線透過フィルタ用組成物における含有量と同様である。また、透明層形成用組成物は、特開２０１３−２５４０４７号公報に記載された感放射線性組成物を用いることもでき、この内容は本明細書に組み込まれる。
＜収容容器＞
各組成物の収容容器としては、特に限定はなく、公知の収容容器を用いることができる。また、収納容器として、原材料や組成物中への不純物混入を抑制することを目的に、容器内壁を６種６層の樹脂で構成する多層ボトルや６種の樹脂を７層構造にしたボトルを使用することも好ましい。このような容器としては例えば特開２０１５−１２３３５１号公報に記載の容器が挙げられる。
＜構造体の製造方法＞
次に、本発明の構造体の製造方法について説明する。本発明の構造体は、支持体上に隔壁を形成する工程と、支持体上であって、隔壁で区画された領域に近赤外線透過フィルタ層を形成する工程を経て製造できる。
隔壁は、従来公知の方法を用いて形成することができる。例えば、次のようにして隔壁を形成することができる。
まず、支持体上に隔壁材料層を形成する。例えば、シリカ粒子にて隔壁を形成する場合、シリカ粒子を含む硬化性組成物を支持体上に塗布した後、硬化などを行って製膜して隔壁材料層を形成することができる。シリカ粒子を含む硬化性組成物としては特開２０１５−１６６４４９号公報、特開２０１４−６３１２５号公報の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。また、シロキサン樹脂またはフッ素樹脂で隔壁を形成する場合、シロキサン樹脂またはフッ素樹脂を含む樹脂組成物を支持体上に塗布した後、硬化などを行って製膜して隔壁材料層を形成することができる。また、例えば、二酸化ケイ素などの無機材料で構成された隔壁を形成する場合、支持体上に、二酸化ケイ素などの無機材料を、化学蒸着（ＣＶＤ）、真空蒸着などの蒸着法や、スパッタリングなどの方法で製膜して隔壁材料層を形成することができる。次いで、隔壁の形状に沿ったパターンを有するマスクを使用して隔壁材料層上にレジストパターンを形成する。次いで、このレジストパターンをマスクとして、隔壁材料層に対してドライエッチング法でエッチングを行う。次いで、レジストパターンを隔壁材料層から剥離除去する。このようにして隔壁を形成することができる。ドライエッチング法については、特開２０１６−１４８５６号公報の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。また、隔壁は、特開２００６−１２８４３３号公報に記載された方法を用いて形成することもできる。
隔壁を形成した後、隔壁の表面に保護層を形成してもよい。保護層は従来公知の方法を用いて形成できる。有機材料で構成された保護層を形成する場合は、例えば、有機材料を含む組成物を隔壁上に塗布および乾燥して形成することができる。無機材料で構成された保護層を形成する場合は、例えば、保護層を構成する無機材料を、化学蒸着（ＣＶＤ）、真空蒸着などの蒸着法や、スパッタリングなどの方法で保護層の表面に製膜して形成することができる。
次に、支持体上の隔壁で区画された領域に近赤外線透過フィルタ層を形成する。近赤外線透過フィルタ層は、上述した本発明の近赤外線透過フィルタ層形成用組成物（近赤外線透過フィルタ用組成物）を用いて形成することができる。具体的には、支持体上の隔壁で区画された領域に、近赤外線透過フィルタ層形成用組成物を適用し、乾燥する工程を経て形成することができる。
近赤外線透過フィルタ層形成用組成物の塗布方法としては、公知の方法を用いることができる。例えば、滴下法（ドロップキャスト）；スリットコート法；スプレー法；ロールコート法；回転塗布法（スピンコーティング）；流延塗布法；スリットアンドスピン法；プリウェット法（たとえば、特開２００９−１４５３９５号公報に記載されている方法）；インクジェット（例えばオンデマンド方式、ピエゾ方式、サーマル方式）、ノズルジェット等の吐出系印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷、グラビア印刷、反転オフセット印刷、メタルマスク印刷法などの各種印刷法；金型等を用いた転写法；ナノインプリント法などが挙げられる。インクジェットでの適用方法としては、特に限定されず、例えば「広がる・使えるインクジェット−特許に見る無限の可能性−、２００５年２月発行、住ベテクノリサーチ」に示された方法（特に１１５ページ〜１３３ページ）や、特開２００３−２６２７１６号公報、特開２００３−１８５８３１号公報、特開２００３−２６１８２７号公報、特開２０１２−１２６８３０号公報、特開２００６−１６９３２５号公報などに記載の方法が挙げられる。
近赤外線透過フィルタ層形成用組成物を適用して形成した組成物層は、乾燥（プリベーク）してもよい。プリベークを行う場合、プリベーク温度は、１５０℃以下が好ましく、１２０℃以下がより好ましく、１１０℃以下が更に好ましい。下限は、例えば、５０℃以上とすることができ、８０℃以上とすることもできる。プリベーク時間は、１０秒〜３０００秒が好ましく、４０〜２５００秒がより好ましく、８０〜２２０秒がさらに好ましい。プリベークは、ホットプレート、オーブン等を用いて行うことができる。
近赤外線透過フィルタ層を形成するに際して、更にパターンを形成する工程を含んでいてもよい。パターン形成方法としては、フォトリソグラフィ法を用いたパターン形成方法や、ドライエッチング法を用いたパターン形成方法が挙げられる。以下、パターンを形成する工程について詳細に説明する。
（フォトリソグラフィ法でパターン形成する場合）
フォトリソグラフィ法でのパターン形成方法は、支持体上の組成物層に対しパターン状に露光する工程（露光工程）と、未露光部の組成物層を現像除去してパターンを形成する工程（現像工程）と、を含むことが好ましい。必要に応じて、現像されたパターンをベークする工程（ポストベーク工程）を設けてもよい。以下、各工程について説明する。
＜＜露光工程＞＞
露光工程では組成物層をパターン状に露光する。例えば、組成物層に対し、ステッパー等の露光装置を用いて、所定のマスクパターンを有するマスクを介して露光することで、組成物層をパターン露光することができる。これにより、露光部分を硬化することができる。露光に際して用いることができる放射線（光）としては、ｇ線、ｉ線等の紫外線が好ましく、ｉ線がより好ましい。照射量（露光量）は、例えば、０．０３〜２．５Ｊ／ｃｍ2が好ましく、０．０５〜１．０Ｊ／ｃｍ2がより好ましく、０．０８〜０．５Ｊ／ｃｍ2が最も好ましい。露光時における酸素濃度については適宜選択することができ、大気下で行う他に、例えば酸素濃度が１９体積％以下の低酸素雰囲気下（例えば、１５体積％、５体積％、実質的に無酸素）で露光してもよく、酸素濃度が２１体積％を超える高酸素雰囲気下（例えば、２２体積％、３０体積％、５０体積％）で露光してもよい。また、露光照度は適宜設定することが可能であり、通常１０００Ｗ／ｍ2〜１０００００Ｗ／ｍ2（例えば、５０００Ｗ／ｍ2、１５０００Ｗ／ｍ2、３５０００Ｗ／ｍ2）の範囲から選択することができる。酸素濃度と露光照度は適宜条件を組み合わせてよく、例えば、酸素濃度１０体積％で照度１００００Ｗ／ｍ2、酸素濃度３５体積％で照度２００００Ｗ／ｍ2などとすることができる。
＜＜現像工程＞＞
次に、露光後の組成物層における未露光部の組成物層を現像除去してパターンを形成する。未露光部の組成物層の現像除去は、現像液を用いて行うことができる。これにより、露光工程における未露光部の組成物層が現像液に溶出し、光硬化した部分だけが支持体上に残る。現像液としては、下地の固体撮像素子や回路などにダメージを与えない、アルカリ現像液が望ましい。現像液の温度は、例えば、２０〜３０℃が好ましい。現像時間は、２０〜１８０秒が好ましい。また、残渣除去性を向上するため、現像液を６０秒ごとに振り切り、更に新たに現像液を供給する工程を数回繰り返してもよい。
現像液に用いるアルカリ剤としては、例えば、アンモニア水、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、ジグリコールアミン、ジエタノールアミン、ヒドロキシアミン、エチレンジアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、エチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ベンジルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ジメチルビス（２−ヒドロキシエチル）アンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセンなどの有機アルカリ性化合物や、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウムなどの無機アルカリ性化合物が挙げられる。アルカリ剤は、分子量が大きい化合物の方が環境面および安全面で好ましい。現像液は、これらのアルカリ剤を純水で希釈したアルカリ性水溶液が好ましく使用される。アルカリ性水溶液のアルカリ剤の濃度は、０．００１〜１０質量％が好ましく、０．０１〜１質量％がより好ましい。また、現像液は、界面活性剤を含有するものを用いてもよい。界面活性剤の例としては、上述した界面活性剤が挙げられ、ノニオン系界面活性剤が好ましい。現像液は、移送や保管の便宜などの観点より、一旦濃縮液として製造し、使用時に必要な濃度に希釈してもよい。希釈倍率は特に限定されないが、例えば１．５〜１００倍の範囲に設定することができる。なお、このようなアルカリ性水溶液からなる現像液を使用した場合には、現像後純水で洗浄（リンス）することが好ましい。
現像後、乾燥を施した後に加熱処理（ポストベーク）を行うこともできる。ポストベークは、膜の硬化を完全なものとするための現像後の加熱処理である。ポストベークを行う場合、ポストベーク温度は、例えば５０〜２４０℃が好ましい。膜硬化の観点から、２００〜２３０℃がより好ましい。また、発光光源として有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）素子を用いた場合や、イメージセンサの光電変換膜を有機素材で構成した場合は、ポストベーク温度は、１５０℃以下が好ましく、１２０℃以下がより好ましく、１００℃以下が更に好ましく、９０℃以下が特に好ましい。ポストベークは、現像後の膜に対して、上記条件になるようにホットプレートやコンベクションオーブン（熱風循環式乾燥機）、高周波加熱機等の加熱手段を用いて、連続式あるいはバッチ式で行うことができる。
（ドライエッチング法でパターン形成する場合）
ドライエッチング法でのパターン形成は、支持体上の組成物層を硬化して硬化物層を形成し、次いで、この硬化物層上にパターニングされたフォトレジスト層を形成し、次いで、パターニングされたフォトレジスト層をマスクとして硬化物層に対してエッチングガスを用いてドライエッチングするなどの方法で行うことができる。フォトレジスト層の形成においては、更にプリベーク処理を施すことが好ましい。特に、フォトレジストの形成プロセスとしては、露光後の加熱処理、現像後の加熱処理（ポストベーク処理）を実施する形態が望ましい。ドライエッチング法でのパターン形成については、特開２０１３−０６４９９３号公報の段落番号００１０〜００６７の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
本発明の構造体が、更に、カラーフィルタ層、近赤外線カットフィルタ層などの他の層を有する場合においては、各フィルタ層の形成用の組成物を用い、上述した近赤外線透過フィルタ層の形成工程で説明したことと同様の工程を行うことで形成できる。
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」、「％」は、質量基準である。
＜近赤外線透過フィルタ層形成用組成物（ＩＲ透過組成物）の調製＞
（顔料分散液Ｒ−１、Ｒ−２、Ｂ−１、Ｂ−２、Ｙ−１、Ｙ−２、Ｖ−１、ＩＲ−１、Ｂｋ−２の調製）
下記の表に記載の原料を混合し、更に直径０．３ｍｍのジルコニアビーズ２３０質量部を加えて、ペイントシェーカーを用いて５時間分散処理を行い、ビーズをろ過で分離して各顔料分散液を製造した。
Figure 2018174147
（ＩＲ透過組成物の調製）
下記の表に記載の原料を混合して、ＩＲ透過組成物１〜４を調製した。
Figure 2018174147
＜近赤外線カットフィルタ層形成用組成物（ＩＲ吸収組成物）の調製＞
下記の表に記載の原料を混合して、ＩＲ吸収組成物１〜３を調製した。なお、分散液は、下記表の分散液の欄に記載の種類の近赤外線吸収剤、誘導体、分散剤および溶剤を、それぞれ下記の表の分散液の欄に記載の質量部で混合し、更に直径０．３ｍｍのジルコニアビーズ２３０質量部を加えて、ペイントシェーカーを用いて５時間分散処理を行い、ビーズをろ過で分離して製造した分散液を用いた。
Figure 2018174147
上記表に記載の原料は以下の通りである。
（色材）
ＰＲ２５４ ： Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ ２５４
ＰＢ１５：６ ： Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ １５：６
ＰＹ１３９ ： Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ １３９
ＰＶ２３ ： Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｖｉｏｌｅｔ ２３
Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌａｃｋ ３２ ： Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌａｃｋ ３２
Ａ１〜Ａ４：下記構造の化合物（近赤外線吸収色素）。以下の式中、Ｍｅはメチル基を表し、Ｐｈはフェニル基を表す。
Figure 2018174147
（誘導体）
Ｂ１、Ｂ２、Ｂ４：下記構造の化合物。以下の構造式中、Ｐｈはフェニル基を表す。
Figure 2018174147
（分散剤）
Ｃ１：下記構造の樹脂。（主鎖に付記した数値はモル比であり、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数である。Ｍｗ＝２１０００）
Ｃ２：下記構造の樹脂。（主鎖に付記した数値はモル比であり、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数である。Ｍｗ＝２６０００）
Ｃ３：下記構造の樹脂。（主鎖に付記した数値はモル比であり、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数である。Ｍｗ＝２１０００）
Ｃ４：Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１１１（ＢＹＫＣｈｅｍｉｅ社製）
Figure 2018174147
（樹脂）
Ｐ１：下記構造の樹脂。（主鎖に付記した数値はモル比である。Ｍｗ＝１０，０００、酸価＝７０ｍｇＫＯＨ／ｇ）
Ｐ２：下記構造の樹脂。（主鎖に付記した数値はモル比である。Ｍｗ＝１０，０００、酸価＝７０ｍｇＫＯＨ／ｇ）
Figure 2018174147
（硬化性化合物）
Ｄ１：ＫＡＹＡＲＡＤ ＲＰ−１０４０（日本化薬（株）製、ラジカル重合性化合物）
Ｄ２：アロニックス ＴＯ−２３４９（東亞合成（株）製、ラジカル重合性化合物）
Ｄ３：アロニックス Ｍ−３０５（東亞合成（株）製、ラジカル重合性化合物）
Ｄ４：ＮＫエステル Ａ−ＴＭＭＴ（新中村化学工業（株）製、ラジカル重合性化合物）
Ｄ５：ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ（日本化薬（株）製、ラジカル重合性化合物）
（光開始剤）
Ｉ１：ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ０２（ＢＡＳＦ製、光ラジカル重合開始剤）
Ｉ２：ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ０３（ＢＡＳＦ製、光ラジカル重合開始剤）
Ｉ３：ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ０４（ＢＡＳＦ製、光ラジカル重合開始剤）
Ｉ４：ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ０１（ＢＡＳＦ製、光ラジカル重合開始剤）
（紫外線吸収剤）
ＵＶ１：ＵＶ−５０３（大東化学（株）製）
ＵＶ３：下記構造の化合物
Figure 2018174147
 （界面活性剤）
Ｆ１：下記混合物（Ｍｗ＝１４０００）。下記の式中、繰り返し単位の割合を示す％は質量％である。
Figure 2018174147
 （重合禁止剤）
Ｇ１：ｐ−メトキシフェノール
（酸化防止剤）
ＡＯ１：アデカスタブ ＡＯ−８０（(株)ＡＤＥＫＡ製）
（溶剤）
Ｊ１：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）
＜保護層形成用組成物の調製＞
（保護層形成用組成物１）
以下の原料を混合して、保護層形成用組成物１を調製した。
樹脂１の５４質量％プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）溶液・・・０．７質量部
界面活性剤１の０．２質量％プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）溶液・・・０．８質量部
ＰＧＭＥＡ・・・９８．５質量部
・樹脂１：サイクロマーＰ（ＡＣＡ）２３０ＡＡ （（株）ダイセル製、酸価＝３０ｍｇＫＯＨ／ｇ、Ｍｗ＝１５０００）
・界面活性剤１：上記界面活性剤Ｆ１
＜カラーフィルタ層形成用組成物の調製＞
（Ｒｅｄ組成物１）
以下に示す原料を混合し、撹拌した後、孔径０．４５μｍのナイロン製フィルタ（日本ポール（株）製）でろ過して、Ｒｅｄ組成物１を調製した。
Ｒｅｄ顔料分散液・・・５１．７質量部
樹脂２の４０質量％ＰＧＭＥＡ溶液・・・０．６質量部
硬化性化合物１・・・０．６質量部
光開始剤１・・・０．３質量部
界面活性剤１の０．２質量％ＰＧＭＥＡ溶液・・・４．２質量部
ＰＧＭＥＡ・・・４２．６質量部
（Ｇｒｅｅｎ組成物１）
以下に示す原料を混合し、撹拌した後、孔径０．４５μｍのナイロン製フィルタ（日本ポール（株）製）でろ過して、Ｇｒｅｅｎ組成物１を調製した。
Ｇｒｅｅｎ顔料分散液・・・７３．７質量部
樹脂２の４０質量％ＰＧＭＥＡ溶液・・・０．３質量部
硬化性化合物２・・・１．２質量部
光開始剤１・・・０．６質量部
界面活性剤１の０．２質量％ＰＧＭＥＡ溶液・・・４．２質量部
紫外線吸収剤１・・・０．５質量部
ＰＧＭＥＡ・・・１９．５質量部
（Ｂｌｕｅ組成物１）
以下に示す原料を混合し、撹拌した後、孔径０．４５μｍのナイロン製フィルタ（日本ポール（株）製）でろ過して、Ｂｌｕｅ組成物１を調製した。
Ｂｌｕｅ顔料分散液・・・４４．９質量部
樹脂２の４０質量％ＰＧＭＥＡ溶液・・・２．１質量部
硬化性化合物１・・・１．５質量部
硬化性化合物３・・・０．７質量部
光開始剤２・・・０．８質量部
界面活性剤１の０．２質量％ＰＧＭＥＡ溶液・・・４．２質量部
ＰＧＭＥＡ・・・４５．８質量部
カラーフィルタ層形成用組成物に用いた原料は以下である。
・Ｒｅｄ顔料分散液
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ ２５４を９．６質量部、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ １３９を４．３質量部、分散剤（Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１６１、ＢＹＫＣｈｅｍｉｅ社製）を６．８質量部、ＰＧＭＥＡを７９．３質量部からなる混合液を、ビーズミル（ジルコニアビーズ０．３ｍｍ径）を用いて３時間混合および分散して、顔料分散液を調製した。その後さらに、減圧機構付き高圧分散機ＮＡＮＯ−３０００−１０（日本ビーイーイー（株）製）を用いて、２０００ｋｇ／ｃｍ3の圧力下で流量５００ｇ／ｍｉｎとして分散処理を行なった。この分散処理を１０回繰り返し、Ｒｅｄ顔料分散液を得た。
・Ｇｒｅｅｎ顔料分散液
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｇｒｅｅｎ ３６を６．４質量部、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ １５０を５．３質量部、分散剤（Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１６１、ＢＹＫＣｈｅｍｉｅ社製）を５．２質量部、ＰＧＭＥＡを８３．１質量部からなる混合液を、ビーズミル（ジルコニアビーズ０．３ｍｍ径）を用いて３時間混合および分散して、顔料分散液を調製した。その後さらに、減圧機構付き高圧分散機ＮＡＮＯ−３０００−１０（日本ビーイーイー（株）製）を用いて、２０００ｋｇ／ｃｍ3の圧力下で流量５００ｇ／ｍｉｎとして分散処理を行なった。この分散処理を１０回繰り返し、Ｇｒｅｅｎ顔料分散液を得た。
・Ｂｌｕｅ顔料分散液
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ １５：６を９．７質量部、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｖｉｏｌｅｔ ２３を２．４質量部、分散剤（Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１６１、ＢＹＫＣｈｅｍｉｅ社製）を５．５質量部、ＰＧＭＥＡを８２．４質量部からなる混合液を、ビーズミル（ジルコニアビーズ０．３ｍｍ径）を用いて３時間混合および分散して、顔料分散液を調製した。その後さらに、減圧機構付き高圧分散機ＮＡＮＯ−３０００−１０（日本ビーイーイー（株）製）を用いて、２０００ｋｇ／ｃｍ3の圧力下で流量５００ｇ／ｍｉｎとして分散処理を行なった。この分散処理を１０回繰り返し、Ｂｌｕｅ顔料分散液を得た。
・樹脂２：上記樹脂Ｐ１
・界面活性剤１：上記界面活性剤Ｆ１
・硬化性化合物１：下記構造の化合物
Figure 2018174147
 ・硬化性化合物２：下記構造の化合物の混合物（左側化合物と右側化合物とのモル比が７：３の混合物）
Figure 2018174147
 ・硬化性化合物３：アロニックスＭ−３０５（トリアクリレートが５５〜６３質量％、東亞合成（株）製）
・光開始剤１：上記光開始剤Ｉ４
・光開始剤２：上記光開始剤Ｉ２
・光開始剤３：上記光開始剤Ｉ３
・紫外線吸収剤１：上記紫外線吸収剤ＵＶ１
＜透明層形成用組成物の調製＞
（Ｗｈｉｔｅ組成物）
以下に示す原料を混合し、撹拌した後、孔径０．４５μｍのナイロン製フィルタ（日本ポール（株）製）でろ過して、Ｗｈｉｔｅ組成物を調製した。
樹脂（特開２０１３−２５４０４７号公報の段落番号０２１３〜０２１６に記載の方法で製造した重合体１）・・・２０．５質量部
硬化性化合物（アロニックスＭ−５１０、東亞合成（株）製）・・・１２．２質量部
光開始剤（ＩＲＧＡＣＵＲＥ−ＯＸＥ０２、ＢＡＳＦ社製）・・・１．１質量部
紫外線吸収剤（ＵＶ−５０３（大東化学（株）製））・・・１．８質量部
ＰＧＭＥＡ・・・５２．７質量部
シクロヘキサノン・・・１１．４質量部
シランカップリング剤（信越シリコーン、ＫＢＭ−６０２）・・・０．１質量部
重合禁止剤（ｐ−メトキシフェノール）・・・０．１質量部
界面活性剤（下記混合物（Ｍｗ＝１４０００、繰り返し単位の割合を示す％は質量％である。）・・・０．１質量部
Figure 2018174147
＜構造体の製造＞
［試験例１］
（実施例１−１〜１−１５、比較例１−２〜１−４）
シリコンウエハ上に、下記表に記載の隔壁材料を用いて隔壁材料層を形成し、隔壁材料層に対して、特開２０１６−１４８５６号公報の段落番号０１２８〜０１３３に記載された条件にてドライエッチング法でパターニングして隔壁（幅５０ｎｍ、高さ１μｍ）を１μｍ間隔で格子状に形成した。シリコンウエハ上の隔壁の開口の寸法（シリコンウエハ上の隔壁で区切られた領域）は、縦１μｍ×横１μｍであった。次に、隔壁を形成したシリコンウエハ上に、下記表に記載のＩＲ透過組成物を用いて、フォトリソグラフィ法によりパターニングを行い、シリコンウエハ上の隔壁で区切られた領域に近赤外線透過フィルタ層（厚さ１μｍ）を形成した。次いで、近赤外線透過フィルタ層上にレンズを形成して、図１に示す構造体を製造した。
（比較例１−１、１−５〜１−７）
シリコンウエハ上に、下記表に記載のＩＲ透過組成物を用いて、フォトリソグラフィ法によりパターニングを行い１μｍ四方の近赤外線透過フィルタ層（厚さ１μｍ）を形成した。次いで、近赤外線透過フィルタ層上にレンズを形成して構造体を製造した。
（近赤外線の認識能の評価）
各構造体を公知の方法に従い光センサに組み込み、近赤外線の認識能を評価した。なお、ＩＲ透過組成物１を用いた構造体については、波長７２０ｎｍの光に対する認識能を評価した。また、ＩＲ透過組成物２または３を用いた構造体については、波長８５０ｎｍの光に対する認識能を評価した。また、ＩＲ透過組成物４を用いた構造体については、波長９４０ｎｍの光に対する認識能を評価した。
（判定基準）
４：ノイズがほとんどなく、近赤外線の認識能が良好であった。
３：ノイズがわずかに発生したが、近赤外線の認識能が良好であった。
２：ノイズがやや発生するが、近赤外線の認識能は良好であった。
１：近赤外線の認識能は有しているが、ノイズが多かった。
下記の表に記載の隔壁材料は以下の通りである。
隔壁材料１：二酸化ケイ素（波長７００〜１０００ｎｍの範囲の光に対する屈折率の最小値＝１．４６）。隔壁材料層は化学蒸着法で形成した。
隔壁材料２：フッ素樹脂（ＣＹＴＯＰ、旭硝子製、波長７００〜１０００ｎｍの範囲の光に対する屈折率の最小値＝１．３４）。隔壁材料層は、上記フッ素樹脂を含む組成物を支持体上に塗布した後、２２０℃で５分加熱して形成した。
隔壁材料３：シロキサン樹脂（特開２０１４−６３１２５号公報の段落番号０３４５のＡ０３の樹脂、波長７００〜１０００ｎｍの範囲の光に対する屈折率の最小値＝１．３６）。隔壁材料層は、上記シロキサン樹脂を含む組成物を支持体上に塗布した後、２２０℃で５分加熱して形成した。
隔壁材料４：特開２０１５−１６６４４９号公報の段落番号０１６０に記載された組成物１０７（シリカ粒子を含む組成物である。この組成物に含まれるシリカ粒子は、波長７００〜１０００ｎｍの範囲の光に対する屈折率の最小値が１．２４である）。隔壁材料層は、上記組成物１０７を支持体上に塗布した後、２２０℃で５分加熱して形成した。
隔壁材料５：特開２０１４−６３１２５号公報の段落番号０３４５に記載された組成物Ａ０２（シリカ粒子を含む組成物）。組成物Ａ０２に含まれるシリカ粒子は、波長７００〜１０００ｎｍの範囲の光に対する屈折率の最小値が１．２８である）。隔壁材料層は、上記組成物を支持体上に塗布した後、２２０℃で５分加熱して形成した。
隔壁材料６：シロキサン樹脂（特開２０１１−８４６７２号公報の実施例２に記載の組成物。この組成物に含まれるシロキサン樹脂（かご型シロキサン樹脂）は、波長７００〜１０００ｎｍの範囲の光に対する屈折率の最小値が１．３２である）。隔壁材料層は、上記シロキサン樹脂を含む組成物を支持体上に塗布した後、２２０℃で５分加熱して形成した。
比較隔壁材料１：ＳｉＮ（波長７００〜１０００ｎｍの範囲の光に対する屈折率の最小値が２．０２である）。隔壁材料層は化学蒸着で形成した。
比較隔壁材料２：ＴｉＯ2（波長７００〜１０００ｎｍの範囲の光に対する屈折率の最小値が２．８３である）。隔壁材料層は化学蒸着法で形成した。
比較隔壁材料３：タングステン（波長７００〜１０００ｎｍの範囲の光に対する屈折率の最小値が３．８４である）。隔壁材料層は化学蒸着法で形成した。
Figure 2018174147
なお、実施例１−１〜１−１５において、近赤外線透過フィルタ層が透過する近赤外線のうち少なくとも一部の波長において、隔壁の屈折率は、近赤外線透過フィルタ層の屈折率よりも小さかった。また、隔壁材料６を用いて隔壁を形成した実施例１−６、１−１４においては、隔壁の屈折率は、近赤外線透過フィルタ層の屈折率よりも０．２以上小さかった。
一方、比較隔壁材料１〜３を用いて隔壁を形成した比較例１−２、１−３、１−４においては、近赤外線透過フィルタ層が透過する近赤外線に対する隔壁の屈折率は、近赤外線透過フィルタ層の屈折率よりも大きかった。
上記表に示すように、実施例の構造体は、近赤外線の認識能について優れており、近赤外線を感度よく検出できた。また、隔壁材料２、３、６を用いて隔壁を形成した場合においては、幅寸法のばらつきや、欠陥の少ない隔壁を形成することができた。
各実施例において、隔壁の幅を２０ｎｍ、１００ｎｍまたは２００ｎｍに変更した場合でも、各実施例と同様の良好な認識能が得られた。
また、各実施例において、隔壁の高さを０．５μｍまたは１．５μｍに変更した場合においても各実施例と同様の良好な認識能が得られた。
また、各実施例において、シリコンウエハ上の隔壁の開口の寸法を、縦５μｍ×横５μｍ、縦２０μｍ×横２０μｍ、または、縦１００μｍ×横１００μｍに変更した場合においても各実施例と同様の良好な認識能が得られた。
また、各実施例において、シリコンウエハ上に下地材（ＣＴ−４０００Ｌ、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ製）を膜厚が１００ｎｍとなるように塗布し、２２０℃で５分加熱して下地層を形成した場合においても各実施例と同様の良好な認識能が得られた。
また、隔壁材料６を用いて形成した隔壁の表面に以下の保護層１を形成した場合は、隣接する近赤外線透過フィルタ層から隔壁への成分混入を効果的に抑制できた。また、隔壁材料４を用いて形成した隔壁の表面に以下の保護層２を形成した場合は、近赤外線透過フィルタ層と隔壁との密着性が特に優れていた。保護層１、２は、以下の方法で形成した。
保護層１：隔壁の表面に二酸化ケイ素を化学蒸着法で製膜して厚さ２０ｎｍの二酸化ケイ素膜（保護層１）を形成した。
保護層２：隔壁の表面に上述した保護層形成用組成物１をスピンコート法で塗布し、次いでホットプレートを用いて、１００℃で２分間加熱し、次いで、ホットプレートを用いて２３０℃で２分間加熱して膜厚１５ｎｍの有機物層（保護層２）を形成した。
［試験例２］
（実施例２−１〜２−１５、比較例２−２〜２−４）
シリコンウエハ上に、下記表に記載の隔壁材料を用いて隔壁材料層を形成し、隔壁材料層に対してドライエッチング法でパターニングして隔壁（幅５０ｎｍ、高さ１μｍ）を１μｍ間隔で格子状に形成した。シリコンウエハ上の隔壁の開口の寸法は、縦１μｍ×横１μｍであった。次に、隔壁を形成したシリコンウエハ上に、下記表に記載のＩＲ透過組成物を用いて、フォトリソグラフィ法によりパターニングを行い、シリコンウエハ上の隔壁で区切られた領域に近赤外線透過フィルタ層（厚さ１μｍ）を形成した。次に、ＩＲ吸収組成物を用いてフォトリソグラフィ法にてパターニングを行い、近赤外線カット層（厚さ１μｍ）を支持体上の隔壁で区切られた領域に形成した。次いで、近赤外線透過フィルタ層および近赤外線カットフィルタ層上にレンズを形成して、図２に示す構造体を製造した。
（比較例２−１、２−５〜２−７）
シリコンウエハ上に、下記表に記載のＩＲ透過組成物を用いて、フォトリソグラフィ法によりパターニングを行い、１μｍ四方の近赤外線透過フィルタ層（厚さ１μｍ）を形成した。次に、ＩＲ吸収組成物を用いてフォトリソグラフィ法にてパターニングを行い、１μｍ四方の近赤外線カット層（厚さ１μｍ）を形成し、近赤外線透過フィルタ層のパターンの抜け部に近赤外線カット層が設けられた構造体を形成した。次いで、近赤外線透過フィルタ層および近赤外線カットフィルタ層上にレンズを形成して構造体を製造した。
（近赤外線および可視光の認識能を評価）
各構造体を公知の方法に従い光センサに組み込み、近赤外線および可視光の認識能を評価した。なお、ＩＲ透過組成物１を用いた構造体については、波長７２０ｎｍの光に対する認識能を評価した。また、ＩＲ透過組成物２または３を用いた構造体については、波長８５０ｎｍの光に対する認識能を評価した。また、ＩＲ透過組成物４を用いた構造体については、波長９４０ｎｍの光に対する認識能を評価した。近赤外線の認識能の判定基準は試験例１と同じである。可視光の認識能は以下のようにして判定した。
（可視光の認識能の判定基準）
４：ノイズがほとんどなく、可視光の認識能が良好であった。
３：ノイズがわずかに発生したが、可視光の認識能が良好であった。
２：ノイズがやや発生するが、可視光の認識能は良好であった。
１：可視光の認識能は有しているが、ノイズが多かった。
Figure 2018174147
なお、実施例２−１〜２−１５において、近赤外線透過フィルタ層が透過する近赤外線のうち少なくとも一部の波長において、隔壁の屈折率は、近赤外線透過フィルタ層の屈折率よりも小さかった。また、隔壁材料６を用いて隔壁を形成した実施例２−６、２−１４においては、隔壁の屈折率は、近赤外線透過フィルタ層の屈折率よりも０．２以上小さかった。
一方、比較隔壁材料１〜３を用いて隔壁を形成した比較例２−２、２−３、２−４においては、近赤外線透過フィルタ層が透過する近赤外線に対する隔壁の屈折率は、近赤外線透過フィルタ層の屈折率よりも大きかった。
上記表に示すように、実施例の構造体は、近赤外線の認識能について優れており、近赤外線を感度よく検出できた。更には、可視光の認識能にも優れていた。
各実施例において、隔壁の幅を２０ｎｍ、１００ｎｍまたは２００ｎｍに変更した場合でも、各実施例と同様の良好な認識能が得られた。
また、各実施例において、隔壁の高さを０．５μｍまたは１．５μｍに変更した場合においても各実施例と同様の良好な認識能が得られた。
また、各実施例において、シリコンウエハ上の隔壁の開口の寸法を、縦５μｍ×横５μｍ、縦２０μｍ×横２０μｍ、または、縦１００μｍ×横１００μｍに変更した場合においても各実施例と同様の良好な認識能が得られた。
また、各実施例において、シリコンウエハ上に下地材（ＣＴ−４０００Ｌ、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ製）を膜厚が１００ｎｍとなるように塗布し、２２０℃で５分加熱して下地層を形成した場合においても各実施例と同様の良好な認識能が得られた。
また、隔壁材料６を用いて形成した隔壁の表面に上記保護層１を形成した場合は、隣接する近赤外線透過フィルタ層や近赤外線カットフィルタ層から隔壁への成分混入を効果的に抑制できた。また、隔壁材料４を用いて形成した隔壁の表面に上記保護層２を形成した場合は、近赤外線透過フィルタ層と隔壁との密着性、および、近赤外線カットフィルタ層と隔壁との密着性が特に優れていた。
［試験例３］
（実施例３−１〜３−１５、比較例３−２〜３−４）
シリコンウエハ上に、下記表に記載の隔壁材料を用いて隔壁材料層を形成し、隔壁材料層に対してドライエッチング法でパターニングして隔壁（幅５０ｎｍ、高さ１μｍ）を１μｍ間隔で格子状に形成した。シリコンウエハ上の隔壁の開口の寸法は、縦１μｍ×横１μｍであった。次に、隔壁を形成したシリコンウエハ上に、下記表に記載のＩＲ透過組成物を用いて、フォトリソグラフィ法によりパターニングを行い、シリコンウエハ上の隔壁で区切られた領域に近赤外線透過フィルタ層（厚さ１μｍ）を形成した。つぎに、ＩＲ吸収組成物を用いてフォトリソグラフィ法によりパターニングを行い、近赤外線カット層（厚さ０．５μｍ）を支持体上の隔壁で区切られた領域に形成した。次に、この近赤外線カット層上に、Ｒｅｄ組成物１、Ｇｒｅｅｎ組成物１およびＢｌｕｅ組成物１を用いてフォトリソグラフィ法にてパターニングを行い、赤色着色層、緑色着色層および青色着色層からなるカラーフィルタ層を形成した。次いで、近赤外線透過フィルタ層およびカラーフィルタ層上にレンズを形成して、図３に示す構造体を製造した。
（比較例３−１、３−５〜３−７）
シリコンウエハ上に、下記表に記載のＩＲ透過組成物を用いて、フォトリソグラフィ法によりパターニングを行い、１μｍ四方の近赤外線透過フィルタ層（厚さ１μｍ）を形成した。つぎに、ＩＲ吸収組成物を用いてフォトリソグラフィ法によりパターニングを行い、近赤外線カット層（厚さ０．５μｍ）を近赤外線透過フィルタ層のパターンの抜け部に形成した。次に、この近赤外線カット層上に、Ｒｅｄ組成物１、Ｇｒｅｅｎ組成物１およびＢｌｕｅ組成物１を用いてフォトリソグラフィ法にてパターニングを行い、赤色着色層、緑色着色層および青色着色層からなるカラーフィルタ層（各着色層の画素サイズは、それぞれ１μｍ四方）を形成した。次いで、近赤外線透過フィルタ層およびカラーフィルタ層上にレンズを形成して構造体を製造した。
（近赤外線および可視光の認識能を評価）
各構造体を公知の方法に従い光センサに組み込み、近赤外線および可視光の認識能を評価した。なお、ＩＲ透過組成物１を用いた構造体については、波長７２０ｎｍの光に対する認識能を評価した。また、ＩＲ透過組成物２または３を用いた構造体については、波長８５０ｎｍの光に対する認識能を評価した。また、ＩＲ透過組成物４を用いた構造体については、波長９４０ｎｍの光に対する認識能を評価した。近赤外線の認識能の判定基準は試験例１と同じである。可視光の認識能の判定基準は試験例２と同じである。
Figure 2018174147
なお、実施例３−１〜３−１５において、近赤外線透過フィルタ層が透過する近赤外線のうち少なくとも一部の波長において、隔壁の屈折率は、近赤外線透過フィルタ層の屈折率よりも小さかった。また、隔壁材料６を用いて隔壁を形成した実施例３−６、３−１４においては、隔壁の屈折率は、近赤外線透過フィルタ層の屈折率よりも０．２以上小さかった。
一方、比較隔壁材料１〜３を用いて隔壁を形成した比較例３−２、３−３、３−４においては、近赤外線透過フィルタ層が透過する近赤外線に対する隔壁の屈折率は、近赤外線透過フィルタ層の屈折率よりも大きかった。
上記表に示すように、実施例の構造体は、近赤外線の認識能について優れており、近赤外線を感度よく検出できた。更には、可視光の認識能にも優れていた。
各実施例において、隔壁の幅を２０ｎｍ、１００ｎｍまたは２００ｎｍに変更した場合でも、各実施例と同様の良好な認識能が得られた。
また、各実施例において、隔壁の高さを０．５μｍまたは１．５μｍに変更した場合においても各実施例と同様の良好な認識能が得られた。
また、各実施例において、シリコンウエハ上の隔壁の開口の寸法を、縦５μｍ×横５μｍ、縦２０μｍ×横２０μｍ、または、縦１００μｍ×横１００μｍに変更した場合においても各実施例と同様の良好な認識能が得られた。
また、各実施例において、シリコンウエハ上に下地材（ＣＴ−４０００Ｌ、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ製）を膜厚が１００ｎｍとなるように塗布し、２２０℃で５分加熱して下地層を形成した場合においても各実施例と同様の良好な認識能が得られた。
また、実施例３−７において、ＩＲ透過組成物１を用いて形成した近赤外線透過フィルタ層の代わりに、Ｒｅｄ組成物１を用いて形成した赤色着色層（厚さ０．５μｍ）と、Ｂｌｕｅ組成物１を用いて形成した青色着色層（厚さ０．５μｍ）との積層体で構成された近赤外線透過フィルタ層を用いた場合であっても、実施例３−７と同様の良好な認識能が得られた。
また、隔壁材料６を用いて形成した隔壁の表面に上記保護層１を形成した場合は、隣接する近赤外線透過フィルタ層や各着色層から隔壁への成分混入を効果的に抑制できた。また、隔壁材料４を用いて形成した隔壁の表面に上記保護層２を形成した場合は、近赤外線透過フィルタ層と隔壁との密着性、および、各着色層と隔壁との密着性が特に優れていた。
試験例１〜３においてＩＲ透過組成物４、ＩＲ吸収組成物１〜３における近赤外線吸収色素を、本明細書に記載の近赤外線吸収色素に置き換えても同様の効果が得られる。
［試験例４］
試験例１〜３と同様の方法により、図５、６、８〜１８に記載の構造体を製造した。このようにして製造した構造体を公知の方法に従い光センサに組み込み、近赤外線および可視光の認識能を評価した。これらの構造体は、近赤外線の認識能について優れており、近赤外線を感度よく検出できた。更には、可視光の認識能も優れていた。
図５、６、８〜１８に記載の構造体において、隔壁２、２ａ、２ｂは、隔壁材料１〜６を用いて形成した。ブラックマトリックス５は、タングステンを用いて形成した。着色層３１は、Ｒｅｄ組成物１を用いてフォトリソグラフィ法またはドライエッチング法にて形成した。着色層３２は、Ｇｒｅｅｎ組成物１を用いてフォトリソグラフィ法またはドライエッチング法にて形成した。着色層３３は、Ｂｌｕｅ組成物１を用いてフォトリソグラフィ法またはドライエッチング法にて形成した。近赤外線カットフィルタ層２２、２３は、ＩＲ吸収組成物２用いてフォトリソグラフィ法またはドライエッチング法にて形成した。近赤外線透過フィルタ層１１は、ＩＲ透過組成物２用いてフォトリソグラフィ法またはドライエッチング法にて形成した。透明層４１、４２は、透明層形成用組成物１を用いてフォトリソグラフィ法またはドライエッチング法にて形成した。上記の構造体において、近赤外線透過フィルタ層１１の画素サイズは１μｍ四方であった。また、着色層３１〜３３の画素サイズは１μｍ四方であった。また、透明層４２の画素サイズは１μｍ四方であった。
図５に示す構造体において、隔壁２は、幅５０ｎｍ、高さ１μｍであった。近赤外線透過フィルタ層１１は、厚さは１μｍであった。着色層３１〜３３は、厚さ０．５μｍであった。近赤外線カット層２２の厚さは０．５μｍであった。
図６に示す構造体において、隔壁２は、幅５０ｎｍ、高さ１μｍであった。近赤外線透過フィルタ層１１は、厚さは１μｍであった。着色層３１〜３３は、厚さ１μｍであった。
図８に示す構造体において、隔壁２は、幅５０ｎｍ、高さ１μｍであり、隔壁２ａは、幅５０ｎｍ、高さ０．５μｍであった。近赤外線透過フィルタ層１１は、厚さは１μｍであった。着色層３１〜３３は、厚さ０．５μｍであった。近赤外線カット層２２の厚さは０．５μｍであった。
図９に示す構造体において、隔壁２は、幅５０ｎｍ、高さ１μｍであり、隔壁２ｂは、幅５０ｎｍ、高さ０．５μｍであった。近赤外線透過フィルタ層１１は、厚さは１μｍであった。着色層３１〜３３は、厚さ０．５μｍであった。近赤外線カット層２２の厚さは０．５μｍであった。
図１０に示す構造体において、隔壁２は、幅５０ｎｍ、高さ１μｍであった。近赤外線透過フィルタ層１１は、厚さは１μｍであった。着色層３１〜３３は、厚さ０．５μｍであった。近赤外線カット層２２の厚さは０．５μｍであった。
図１１に示す構造体において、隔壁２は、幅５０ｎｍ、高さ１μｍであった。近赤外線透過フィルタ層１１は、厚さは１μｍであった。着色層３１〜３３は、厚さ１μｍであった。近赤外線カット層２２の厚さは０．５μｍであった。
図１２に示す構造体において、隔壁２は、幅５０ｎｍ、高さ１μｍであった。近赤外線透過フィルタ層１１は、厚さは１μｍであった。着色層３１〜３３は、厚さ０．５μｍであった。近赤外線カット層２２の厚さは０．２μｍであった。
図１３に示す構造体において、隔壁２は、幅５０ｎｍ、高さ１μｍであった。近赤外線透過フィルタ層１１は、厚さは１μｍであった。着色層３１〜３３は、厚さ０．５μｍであった。近赤外線カット層２２の厚さは０．２μｍであった。透明層４１の厚さは０．３μｍであった。
図１４に示す構造体において、隔壁２は、幅５０ｎｍ、高さ１μｍであった。近赤外線透過フィルタ層１１は、厚さは１μｍであった。着色層３１〜３３は、厚さ０．５μｍであった。近赤外線カット層２２、２３の厚さは０．５μｍであった。透明層４２の厚さは０．５μｍであった。
図１５に示す構造体において、隔壁２は、幅５０ｎｍ、高さ１μｍであった。近赤外線透過フィルタ層１１は、厚さは１．５μｍであった。着色層３１〜３３は、厚さ０．５μｍであった。近赤外線カット層２２の厚さは０．５μｍであった。
図１６に示す構造体において、隔壁２は、幅５０ｎｍ、高さ１μｍであった。近赤外線透過フィルタ層１１は、厚さは０．５μｍであった。着色層３１〜３３は、厚さ０．５μｍであった。近赤外線カット層２２の厚さは０．５μｍであった。
図１７に示す構造体において、隔壁２は、幅５０ｎｍ、高さ１μｍであった。近赤外線透過フィルタ層１１は、厚さは０．５μｍであった。着色層３１〜３３は、厚さ０．５μｍであった。近赤外線カット層２２の厚さは０．５μｍであった。透明層４１の厚さは０．５μｍであった。
図１８に示す構造体において、隔壁２は、幅５０ｎｍ、高さ１μｍであった。近赤外線透過フィルタ層１１は、厚さは１μｍであった。着色層３１〜３３は、厚さ０．５μｍであった。近赤外線カット層２２の厚さは０．５μｍであった。
１：支持体
２、２ａ、２ｂ：隔壁
４：下地層
３：保護層
５：ブラックマトリックス
１１：近赤外線透過フィルタ層
２１、２２、２３：近赤外線カットフィルタ層
３０：カラーフィルタ層
３１、３２、３３：着色層
４１、４２：透明層
５０：レンズ
１０１〜１１８：構造体

Claims (11)

  1. 支持体と、
    前記支持体上に設けられた隔壁と、
    前記隔壁で区切られた領域に設けられた、可視光を遮光し、近赤外線の少なくとも一部を透過させる近赤外線透過フィルタ層と、を有し、
    前記近赤外線透過フィルタ層が透過する近赤外線のうち少なくとも一部の波長において、前記隔壁の屈折率が、前記近赤外線透過フィルタ層の屈折率よりも小さい構造体。
  2. 前記近赤外線透過フィルタ層が透過する近赤外線のうち少なくとも一部の波長において、前記隔壁の屈折率が、前記近赤外線透過フィルタ層の屈折率よりも０．２以上小さい、請求項１に記載の構造体。
  3. 波長７００〜１０００ｎｍの範囲の全波長において、前記隔壁の屈折率が、前記近赤外線透過フィルタ層の屈折率よりも小さい、請求項１または２に記載の構造体。
  4. 前記隔壁の波長７００〜１０００ｎｍの範囲の光に対する屈折率の最大値が１．４以下である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の構造体。
  5. 前記隔壁の波長４００〜１０００ｎｍの範囲の光に対する屈折率の最大値が１．４以下である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の構造体。
  6. 前記隔壁が、シリカ粒子、シロキサン樹脂、フッ素樹脂および二酸化ケイ素から選ばれる少なくとも１種を含む、請求項１〜５のいずれか１項に記載の構造体。
  7. 前記隔壁の表面に保護層を有する、請求項１〜６のいずれか１項に記載の構造体。
  8. 前記支持体上に、前記隔壁で区切られた領域を複数有し、
    前記隔壁で区切られた領域の少なくとも１つの領域には近赤外線透過フィルタ層が設けられており、前記隔壁で区切られた残りの領域の少なくとも１つの領域には、カラーフィルタ層および近赤外線カットフィルタ層から選ばれる少なくとも１種の層が設けられている、請求項１〜７のいずれか１項に記載の構造体。
  9. 前記近赤外線透過フィルタ層に含まれる色材の含有量が５０〜７５質量％である、請求項１〜８のいずれか１項に記載の構造体。
  10. 請求項１〜９のいずれか１項に記載の構造体における近赤外線透過フィルタ層の形成に用いられる組成物であって、
    色材と硬化性化合物とを含む、近赤外線透過フィルタ層形成用組成物。
  11. 請求項１〜９のいずれか１項に記載の構造体を有する光センサ。
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Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2018163702A1 (ja) * 2017-03-07 2019-12-26 富士フイルム株式会社 積層体、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサおよびキット
JP2018200909A (ja) * 2017-05-25 2018-12-20 ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 撮像素子および撮像装置
US20220181732A1 (en) * 2019-04-05 2022-06-09 Scio Technology Gmbh Battery cell macromodule housing, contacting device for a battery cell macromodule housing, housing cover for a contacting device for a battery cell macromodule housing and a battery cell macromodule
JP7454592B2 (ja) * 2019-11-26 2024-03-22 富士フイルム株式会社 固体撮像素子
JP7500967B2 (ja) * 2019-12-24 2024-06-18 Ｔｏｐｐａｎホールディングス株式会社 赤外光カットフィルターの製造方法、固体撮像素子用フィルター、および、固体撮像素子
US11631709B2 (en) 2020-03-10 2023-04-18 Visera Technologies Company Limited Solid-state image sensor
WO2022004217A1 (ja) * 2020-06-30 2022-01-06 富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ株式会社 処理液の製造方法
FR3112426B1 (fr) * 2020-07-10 2023-07-07 Commissariat Energie Atomique Capteurs d'images comprenant une matrice de filtres interférentiels
FR3112425B1 (fr) * 2020-07-10 2024-01-12 Commissariat Energie Atomique Capteurs d'images comprenant une matrice de filtres interférentiels
US20220102409A1 (en) * 2020-09-25 2022-03-31 Visera Technologies Company Limited Semiconductor device
US11796723B2 (en) * 2021-03-12 2023-10-24 Visera Technologies Company Limited Optical devices
TWI811854B (zh) * 2021-07-23 2023-08-11 友達光電股份有限公司 光學感測裝置
KR102561457B1 (ko) * 2021-08-11 2023-07-31 한국광기술원 광학 모듈의 자외선 흡수 및 근적외선 투과를 위한 광학 코팅 구조 및 그의 코팅 방법, 광학 모듈의 자외선 흡수 및 근적외선 투과를 위한 광학 코팅 장치

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10268123A (ja) * 1997-03-25 1998-10-09 Toppan Printing Co Ltd カラーフィルタ及びその製造方法
JP2011071483A (ja) * 2009-08-28 2011-04-07 Fujifilm Corp 固体撮像装置，固体撮像装置の製造方法
JP2011258728A (ja) * 2010-06-08 2011-12-22 Sharp Corp 固体撮像素子および電子情報機器
JP2012209542A (ja) * 2011-03-14 2012-10-25 Sony Corp 固体撮像装置、固体撮像装置の製造方法及び電子機器
JP2012227478A (ja) * 2011-04-22 2012-11-15 Panasonic Corp 固体撮像装置
JP2015092521A (ja) * 2013-11-08 2015-05-14 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置およびその製造方法
JP2015166449A (ja) * 2014-02-12 2015-09-24 富士フイルム株式会社 硬化性樹脂組成物、これを用いた反射防止膜、固体撮像素子およびカメラモジュール
JP2016201524A (ja) * 2015-04-10 2016-12-01 采▲ぎょく▼科技股▲ふん▼有限公司ＶｉｓＥｒａ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ Ｃｏｍｐａｎｙ Ｌｉｍｉｔｅｄ イメージセンサ
WO2016194527A1 (ja) * 2015-05-29 2016-12-08 富士フイルム株式会社 近赤外線吸収性色素多量体、組成物、膜、光学フィルタ、パターン形成方法および装置
WO2017038252A1 (ja) * 2015-09-04 2017-03-09 富士フイルム株式会社 材料、組成物、硬化性組成物、硬化膜、光学フィルタ、固体撮像素子、赤外線センサ、カメラモジュールおよび材料の製造方法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007233376A (ja) * 2006-02-03 2007-09-13 Fujifilm Corp パターン状のカラーフィルタ層と光学異方性層とを有する液晶表示装置、及びその製造方法、ならびにカラーフィルタ基板及びその製造方法
JP2009111225A (ja) 2007-10-31 2009-05-21 Fujifilm Corp 固体撮像素子及びその製造方法
US8652859B2 (en) * 2011-01-31 2014-02-18 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Method for manufacturing light-emitting device and manufacturing apparatus of light-emitting device
TWI675907B (zh) 2015-01-21 2019-11-01 日商Ｊｓｒ股份有限公司 固體攝像裝置
TW201628179A (zh) 2015-01-21 2016-08-01 Jsr 股份有限公司 固體攝像裝置及紅外線吸收性組成物
KR102175480B1 (ko) 2016-09-30 2020-11-06 후지필름 가부시키가이샤 구조체, 컬러 필터, 고체 촬상 소자, 화상 표시 장치, 구조체의 제조 방법 및 유기물층 형성용 조성물

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10268123A (ja) * 1997-03-25 1998-10-09 Toppan Printing Co Ltd カラーフィルタ及びその製造方法
JP2011071483A (ja) * 2009-08-28 2011-04-07 Fujifilm Corp 固体撮像装置，固体撮像装置の製造方法
JP2011258728A (ja) * 2010-06-08 2011-12-22 Sharp Corp 固体撮像素子および電子情報機器
JP2012209542A (ja) * 2011-03-14 2012-10-25 Sony Corp 固体撮像装置、固体撮像装置の製造方法及び電子機器
JP2012227478A (ja) * 2011-04-22 2012-11-15 Panasonic Corp 固体撮像装置
JP2015092521A (ja) * 2013-11-08 2015-05-14 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置およびその製造方法
JP2015166449A (ja) * 2014-02-12 2015-09-24 富士フイルム株式会社 硬化性樹脂組成物、これを用いた反射防止膜、固体撮像素子およびカメラモジュール
JP2016201524A (ja) * 2015-04-10 2016-12-01 采▲ぎょく▼科技股▲ふん▼有限公司ＶｉｓＥｒａ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ Ｃｏｍｐａｎｙ Ｌｉｍｉｔｅｄ イメージセンサ
WO2016194527A1 (ja) * 2015-05-29 2016-12-08 富士フイルム株式会社 近赤外線吸収性色素多量体、組成物、膜、光学フィルタ、パターン形成方法および装置
WO2017038252A1 (ja) * 2015-09-04 2017-03-09 富士フイルム株式会社 材料、組成物、硬化性組成物、硬化膜、光学フィルタ、固体撮像素子、赤外線センサ、カメラモジュールおよび材料の製造方法

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