JPWO2018158837A1 - 温度制御装置、温度制御方法、コンピュータプログラム及び記憶媒体 - Google Patents

温度制御装置、温度制御方法、コンピュータプログラム及び記憶媒体 Download PDF

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Abstract

温度制御装置は、温度制御対象(110)を加熱又は冷却する吸放熱部(130)と、温度制御対象の周囲の第1温度を検出する温度検出部(210)と、可変目標温度に基づいて、吸放熱部を制御する制御部(260)と、第1温度及び目標温度を示す目標温度情報に基づいて、可変目標温度を第1可変目標温度に設定する可変目標温度設定器(240)と、を備える。このような温度制御装置によれば、目標温度が随時適切な値へと変更されるため、温度制御対象が目標温度になるまでの時間を短くすることができる。

Description

本発明は、温度制御対象の吸熱又は放熱を制御する温度制御装置、温度制御方法、コンピュータプログラム及び記憶媒体の技術分野に関する。
この種の装置として、例えばペルチェ素子等の熱量移動素子を利用して、温度制御対象の温度を制御するものが知られている。例えば特許文献1では、半導体レーザの温度をフィードバックして所定の目標温度に近づけようとする装置が開示されている。
特開昭63−191989号公報
目標温度を設定して温度制御を行う場合、現在の温度と目標温度との間に大きな温度差がある状態では、オーバーシュートやハンチングが発生するおそれがある。このため、仮に急速な加熱や冷却を行ったとしても、温度制御対象の温度が目標温度で安定するためには、比較的長い期間を要してしまうという技術的問題点が生ずる。
本発明が解決しようとする課題には上記のようなものが一例として挙げられる。本発明は、温度制御対象の吸熱又は放熱を制御して好適に温度制御を行うことが可能な温度制御装置、温度制御方法、コンピュータプログラム及び記憶媒体を提供することを課題とする。
上記課題を解決するための温度制御装置は、温度制御対象を加熱又は冷却する吸放熱部と、前記温度制御対象の周囲の第1温度を検出する温度検出部と、可変目標温度に基づいて、前記吸放熱部を制御する制御部と、前記第1温度及び目標温度を示す目標温度情報に基づいて、前記可変目標温度を第1可変目標温度に設定する可変温度設定部と、を備える。
上記課題を解決するための温度制御方法は、前記温度制御対象の周囲の第1温度を検出する温度検出工程と、可変目標温度に基づいて、前記吸放熱部を制御する制御工程と、前記第1温度及び目標温度を示す目標温度情報に基づいて、前記可変目標温度を第1可変目標温度に設定する可変温度設定工程と、を含む。
上記課題を解決するためのコンピュータプログラムは、温度制御対象を加熱又は冷却する吸放熱部を備える温度制御装置に用いるコンピュータプログラムであって、前記温度制御対象の周囲の第1温度を検出する温度検出工程と、可変目標温度に基づいて、前記吸放熱部を制御する制御工程と、前記第1温度及び目標温度を示す目標温度情報に基づいて、前記可変目標温度を第1可変目標温度に設定する可変温度設定工程と、を前記温度制御装置に実行させる。
上記課題を解決するための記憶媒体は、上述したコンピュータプログラムを記憶している。
実施例に係る温度制御装置の構成を示すブロック図である。 実施例に係る温度制御装置の動作の流れを示すフローチャートである。 目標温度初期設定処理の流れを示すフローチャートである。 一時目標温度の算出方法の一例を示す概念図である。 目標温度更新タイミング設定処理の流れを示すフローチャートである。 目標温度更新処理の流れを示すフローチャートである。 目標温度算出処理の流れを示すフローチャートである。 実施例に係る温度制御装置の動作の一例を示す図(その1)である。 ピーク判定時に発生し得る誤判定を示す図である。 ピーク判定時のフィルタリング処理を示す図である。 実施例に係る温度制御装置の動作の一例を示す図(その2)である。 引き込み範囲外で一時目標温度が漸近する例を示す図である。 最低引き込み単位を設定した場合の一時目標温度の変動を示す図である。 実施例に係る温度制御装置の冷却時の動作の一例を示す図である。 第1比較例に係る温度制御装置の動作の一例を示す図である。 第2比較例に係る温度制御装置の動作の一例を示す図である。 本実施例と第1及び第2比較例との違いを示す図である。 変形例に係る温度制御装置の構成を示すブロック図である。
<1>
本実施形態に係る温度制御装置は、温度制御対象を加熱又は冷却する吸放熱部と、前記温度制御対象の周囲の第1温度を検出する温度検出部と、可変目標温度に基づいて、前記吸放熱部を制御する制御部と、前記第1温度及び目標温度を示す目標温度情報に基づいて、前記可変目標温度を第1可変目標温度に設定する可変温度設定部と、を備える。
本実施形態に係る温度制御装置の動作時には、吸放熱部による加熱又は冷却によって、温度制御対象の温度が制御される。具体的には、吸放熱部による加熱又は冷却が、温度制御対象の周囲の第1温度と目標温度情報とに基づいて制御されることによって、温度制御対象の温度が目標温度に近づくような制御が実行される。
ここで本実施形態では特に、温度制御の目標温度が、可変目標温度(即ち、変動する値)として設定される。可変目標温度は、温度制御対象の周囲の第1温度と目標温度情報とに基づいて、第1可変目標温度として設定される。
このように可変目標温度を利用すれば、例えば固定値である目標温度を用いて温度制御を行う場合と比較して、より好適に温度制御を行うことが可能となる。例えば、温度制御対象を加熱又は冷却する場合には、熱遅延等によってオーバーシュート又はアンダーシュートが発生することになるが、このような挙動を考慮した上で適切な温度制御を行うことが可能となる。より具体的には、オーバーシュートやアンダーシュートが発生することを前提として、初期の目標温度を実際の目標温度より低い値又は高い値設定しておくことで、目標温度への到達時間(目標温度で安定するまでの時間)を短くすることができる。
<2>
本実施形態に係る温度制御装置の一態様では、前記可変温度設定部は、前記第1温度の前記第1可変目標温度に対するオーバーシュートのピーク又はアンダーシュートのボトムを形成する温度が、前記目標温度となるように、前記第1可変目標温度を設定する。
この態様によれば、仮にオーバーシュート又はアンダーシュートが発生したとしても、温度制御対象は目標温度よりも高い値に加熱される、或いは目標温度よりも低い値に冷却されることがない。従って、温度制御対象の温度を短期間で目標温度に到達させることが可能である。
<3>
本実施形態に係る温度制御装置の他の態様では、前記可変温度設定部は、前記第1温度が前記第1可変目標温度に設定された後、前記第1温度が前記ピーク又は前記ボトムとなる変化を検出した場合に、前記可変目標温度を、前記第1可変目標温度より前記目標温度に近い第2可変目標温度に設定する。
吸放熱部によって加熱又は冷却を行って、温度制御対象の温度が第1可変目標温度に到達した後は、加熱又は冷却が中止される、或いはオーバーシュートやアンダーシュートによる温度超過を解消するために逆の制御が実行される。このため、第1温度の温度変化量は、第1可変目標温度に到達した後は、徐々に小さい値へと変化していく。
本態様では、第1温度が第1可変目標温度に設定された後、第1温度の温度変化がピーク又はボトムとなった場合、可変目標温度が第1可変目標温度より目標温度に近い第2目標温度に設定される。このように可変目標温度を変更すれば、第1温度が適切な温度にまで加熱又は冷却された時点(例えば、オーバーシュートのピーク又はアンダーシュートのボトムに近い箇所)で新たな可変目標温度が設定されるため、極めて効率的に温度制御を行うことができる。


前記第1温度の温度変化がピークまたはボトムとなった場合、前記可変目標温度を、前記第1可変目標温度より前記目標温度に近い第2可変目標温度に設定する。前期第1可変目標温度設定時の前記第1温度より前期第1可変目標温度が高い場合は前記第1温度の温度変化量が第1所定値以下となることで前記第1温度の温度変化のオーバーシュートのピークを検出できる。また、前期第1可変目標温度設定時の前記第1温度より前記第1可変目標温度が低い場合は前記第1温度の温度変化量が第1所定値以上となることで前記第1温度の温度変化のアンダーシュートのボトムを検出することができる。
<4>
上述した可変目標温度を第2可変目標温度に設定する態様では、前記可変温度設定部は、(i)前記第1可変目標温度の設定時の前記第1温度が前記可変目標温度より低い場合は、前記第1温度の変化が第1所定値以下になったことで前記ピークとなる変化を検出し、(ii)前記第1可変目標温度の設定時の前記第1温度が前記可変目標温度より高い場合は、前記第1温度の変化が第1所定値以上になったことで前記ボトムとなる変化を検出してもよい。
この場合、第1温度より第1可変目標温度が高い場合(言い換えれば、加熱時)は、第1温度の温度変化量が第1所定値以下となった際に、第1温度の温度変化がオーバーシュートのピークであることが検出される。また、第1温度より第1可変目標温度が低い場合(言い換えれば、冷却時)は、第1温度の温度変化量が第1所定値以上となった際に、第1温度の温度変化がアンダーシュートのボトムであることが検出される。
なお、「第1所定値」は、第1温度の変化量が十分に小さくなったことを判定するために予め設定される値であり、例えば0あるいは0に極めて近い値として設定されている。第1可変目標温度設定時の第1温度より、第1可変目標温度が高い場合は、例えば0.0001等の値が第1所定値として設定され、第1可変目標温度設定時の第1温度より、第1可変目標温度が低い場合は、例えば−0.0001等の値が第1所定値として設定される。第1所定値として、0より僅かに大きな或いは小さな値を設定すれば、温度変化のピーク又はボトムがそのまま安定温度となった場合、すなわち温度変化量が0のまま動かなくなっても変化として検知できるため、第1所定値として、より好適である。
<5>
本実施形態に係る温度制御装置の他の態様では、前記可変温度設定部は、前記第1温度の前記目標温度に対する前記ピーク又は前記ボトムを形成する温度と前記吸放熱部を制御する前の前記第1温度である初期温度との差分と、前記目標温度と前記初期温度との差分との比率に基づいて、前記可変目標温度を設定する。
この態様によれば、オーバーシュート又はアンダーシュートの発生を想定して、余計な加熱又は冷却が実行されないような可変目標温度が設定できるため、温度制御対象の温度をより好適に制御することが可能である。
<6>
本実施形態に係る温度制御装置の他の態様では、前記可変温度設定部は、前記可変目標温度が徐々に前記目標温度に近づくように、前記可変目標温度を繰り返し設定する。
この態様によれば、第1目標温度を第2目標温度に設定する場合と同様のアルゴリズムが繰り返し実行され、可変目標温度が目標温度に徐々に近づけられる。よって、可変目標温度を複数回変更する場合であっても、極めてシンプルに温度制御を行うことができる。
<7>
本実施形態に係る温度制御装置の他の態様では、前記可変温度設定部は、前記目標温度と前記可変目標温度との差が第2所定値以下となった場合に、前記可変目標温度を前記目標温度に設定する。
可変目標温度を利用して温度制御を行う場合、可変目標温度は徐々に目標温度に近い値へと変更されていくことになるが、ある程度目標温度に近づいて温度変化が小さくなってくると、可変目標温度が目標温度から少しだけ外れた温度に漸近し、温度制御対象の温度が目標温度に収束するまで時間を要するおそれがある。
しかるに本態様では特に、目標温度と可変目標温度との差が第2所定値以下となった場合には、可変目標温度が目標温度に設定される。なお、「第2所定値」は、可変目標温度の引き込み範囲として設定される値であり、目標温度と可変目標温度との差が第2所定値以下となった時点で、強制的に(言い換えれば、それまでの変更アルゴリズムによらずに)可変目標温度が最終的な目標温度に設定される。よって、上述したような不都合の発生が回避され、温度制御対象の温度を短期間で目標温度に到達させることが可能となる。
<8>
本実施形態に係る温度制御装置の他の態様では、前記可変温度設定部は、前記可変目標温度を第3所定値以上の粒度で前記目標温度に近づける。
この態様によれば、可変目標温度が、ある程度の大きさを持った第3所定値以上の粒度で目標温度に近づけられるため、可変目標温度が極めてわずかに変化することが防止される。この結果、可変目標温度が目標温度に達しない温度に漸近する状況を回避することができ、最終的に第1温度を確実に目標温度に到達させることが可能となる。
<9>
本実施形態に係る温度制御方法は、温度制御対象を加熱又は冷却する吸放熱部を備える温度制御装置を用いた温度制御方法であって、前記温度制御対象の周囲の第1温度を検出する温度検出工程と、可変目標温度に基づいて、前記吸放熱部を制御する制御工程と、前記第1温度及び目標温度を示す目標温度情報に基づいて、前記可変目標温度を第1可変目標温度に設定する可変温度設定工程と、を含む。
本実施形態に係る温度制御方法によれば、上述した本実施形態に係る温度制御装置と同様に、オーバーシュート又はアンダーシュートが発生する場合であっても、温度制御対象の温度を好適に制御することが可能である。
なお、本実施形態に係る温度制御方法においても、上述した本実施形態に係る温度制御装置における各種態様と同様の各種態様を採ることが可能である。
<10>
本実施形態に係るコンピュータプログラムは、温度制御対象を加熱又は冷却する吸放熱部を備える温度制御装置に用いるコンピュータプログラムであって、前記温度制御対象の周囲の第1温度を検出する温度検出工程と、可変目標温度に基づいて、前記吸放熱部を制御する制御工程と、前記第1温度及び目標温度を示す目標温度情報に基づいて、前記可変目標温度を第1可変目標温度に設定する可変温度設定工程と、を前記温度制御装置に実行させる。
本実施形態に係るコンピュータプログラムによれば、上述した本実施形態に係る温度制御方法と同様の工程を実行させることで、オーバーシュート又はアンダーシュートが発生する場合であっても、温度制御対象の温度を好適に制御することが可能である。
なお、本実施形態に係るコンピュータプログラムにおいても、上述した本実施形態に係る温度制御装置における各種態様と同様の各種態様を採ることが可能である。
<11>
本実施形態に係る記憶媒体は、上述したコンピュータプログラムを記憶している。
本実施形態に係る記憶媒体によれば、上述した本実施形態に係るコンピュータプログラムを実行させることで、オーバーシュート又はアンダーシュートが発生する場合であっても、温度制御対象の温度を好適に制御することが可能である。
本実施形態に係る温度制御装置、温度制御方法、コンピュータプログラム及び記憶媒体の作用及び他の利得については、以下に示す実施例において、より詳細に説明する。
以下では、図面を参照して温度制御装置、温度制御方法、コンピュータプログラム及び記憶媒体の実施例について詳細に説明する。
<装置構成>
まず、本実施例に係る温度制御装置の構成について、図1を参照して説明する。図1は、実施例に係る温度制御装置の構成を示すブロック図である。
図1に示すように、実施例に係る温度制御装置は、温度制御対象である光源110を含む光学部100と、温度制御装置の主要な部分を構成する温度制御部200とを備えて構成されている。
光学部100は、光源110、サーミスタ120、ペルチェ素子130及び吸放熱板140を備えている。光源110は、例えば流体の流量や濃度等を測定するための光を照射する半導体レーザ等として構成されている。光源120の温度は、サーミスタ120によって検出可能に構成されている。光源110は、ペルチェ素子130を介して、吸放熱板140と熱量を授受可能に構成されている。
温度制御部200は、温度検出部210、CPU220、最終目標温度設定部230、可変目標温度生成器240、差分検出器250及び駆動制御部260を備えている。温度検出部210は、サーミスタ120が検出した光源110の温度をCPU220及び差分検出器250に出力可能に構成されている。CPU220は、温度検出部210で検出された光源110の温度、及び最終目標温度設定部230から取得した目標温度に基づいて、目標温度を制御可能に構成されている。なお、最終目標温度設定部230は、例えばROM等として構成されており、光源110の目標温度を記憶している。CPU220は更に、駆動制御部260のオンオフを切替可能に構成されている。可変目標温度生成器240は、CPU220からの指令に従い目標温度を変更可能に構成されている。また、可変目標温度生成器240は、現時点での目標温度を差分検出器250に出力可能に構成されている。差分検出器250は、温度検出器210から入力された光源110の温度と、可変目標温度生成器240から入力された目標温度との差分を、駆動制御部260に出力可能に構成されている。駆動制御部260は、差分検出器250から入力される温度差分に基づいて、ペルチェ素子130の駆動を制御可能に構成されている。
以上説明した本実施例に係る温度制御装置によれば、光源110の温度及び目標温度に基づいて、ペルチェ素子130の駆動(即ち、光源110と吸放熱板140間の熱量の移動)が制御されるため、光源110の温度を適切に吸放熱することが可能である。
<動作説明>
次に、本実施例に係る温度制御装置の動作について、図2を参照して詳細に説明する。図2は、実施例に係る温度制御装置の動作の流れを示すフローチャートである。なお、図2に示す各処理は、CPU220によって実行されるものである。
図2に示すように、本実施例に係る温度制御装置の動作時には、まず最終目標温度設定部230から、光源110の最終目標温度が取得され(ステップS101)、目標温度初期設定処理が実行される(ステップS102)。
ここで、目標温度初期設定処理について、図3及び図4を参照して詳細に説明する。図3は、目標温度初期設定処理の流れを示すフローチャートである。図4は、一時目標温度の算出方法の一例を示す概念図である。
図3に示すように、目標温度初期設定処理が開始されると、まずサーミスタ120によって検出された光源110の現在の温度が、温度検出部210を介して取得される(ステップS201)。そして、取得した光源110の現在の温度と、すでに取得されている最終目標温度とに基づいて、一時目標温度が設定される(ステップS202)。具体的には、一時目標温度は、下記の式(1)を用いて算出される。
一時目標温度=(最終目標温度−現在の温度)×漸近比率+現在の温度 ・・・(1)
図4に示すように、例えば現在の温度が30℃、最終目標温度が50℃に設定すると、オーバーシュートによる温度上昇のピークが60℃となる例を考える。
このような場合、ピーク比率は、下記の式(2)によって求めることができる。
ピーク比率=(ピーク温度−開始温度)/(目標温度−開始温度) ・・・(2)
上記例の数値を式(2)に代入すると、ピーク比率=3/2となる。漸近比率は、このピーク比率の逆数として求められるため、1/(3/2)=2/3となる。つまり、式(1)の漸近比率として2/3を用いれば、好適に一時目標温度が算出できる。具体的には、一時目標温度は、(50℃−30℃)×2/3+30℃=43.3℃となる。
図3に戻り、一時目標温度が設定された後には、目標温度更新タイミング設定処理が実行される(ステップS203)。目標温度更新タイミング設定処理では、可変である目標温度の更新タイミングが設定される。
ここで、目標温度更新タイミング設定処理について、図5を参照して詳細に説明する。図5は、目標温度更新タイミング設定処理の流れを示すフローチャートである。
図5に示すように、目標温度更新タイミング設定処理が開始されると、まず光源110の現在の温度が、一時目標温度より小さいか否かが判定される(ステップS301)。そして、現在の温度が一時目標温度より小さい場合(ステップS301:YES)、更新タイミングが温度ピークに設定され(ステップS302)、傾き閾値が0に極めて近い正の数値、例えば0.0001に設定される(ステップS303)。一方で、現在の温度が一時目標温度より大きい場合(ステップS301:NO)、更新タイミングが温度ボトムに設定され(ステップS304)、傾き閾値は0に極めて近い負の数値、例えば−0.0001に設定される(ステップS305)。
このように、光源110の温度が一時目標温度よりも低く、加熱方向に温度制御が行われる場合には、目標温度の更新タイミングは温度ピークに設定され、ピークを判定するための傾き閾値として0に極めて近い正の数値が設定される。一方で、光源110の温度が一時目標温度よりも高く、冷却方向に温度制御が行われる場合には、目標温度の更新タイミングは温度ボトムに設定され、ボトムを判定するための傾き閾値として0に極めて近い負の数値が設定される。
図2に戻り、上述した目標温度初期設定処理が終了すると、駆動制御部260がオンとされ、自律制御(即ち、光源110の温度を目標温度に近づけるためのペルチェ素子130の制御)が開始される(ステップS103)。駆動制御部260による自律制御の実行中には、目標温度更新処理が実行される(ステップS104)。
ここで、目標温度更新処理について、図6を参照して詳細に説明する。図6は、目標温度更新処理の流れを示すフローチャートである。
図6に示すように、目標温度更新処理が開始されると、まず光源110の現在の温度が取得される(ステップS401)。次に、今回取得した光源110の現在の温度と、前回取得した光源110の温度との差分(即ち、光源110の温度の変化量)が算出される(ステップS402)。
続いて、目標温度更新タイミング設定処理で更新タイミングが温度ピークに設定されている場合には、温度差分が傾き閾値より小さいか否かが判定される(ステップS403)。一方、目標温度更新タイミング設定処理で更新タイミングが温度ボトムに設定されている場合には、温度差分が傾き閾値より大きいか否かが判定される(ステップS403)。即ち、ここでは、目標温度を更新すべきタイミングであるか否かが判定される。
目標温度を更新すべきタイミングであると判定された場合には(ステップS403:YES)、目標温度算出処理が実行される(ステップS404)。なお、目標温度を更新すべきタイミングでないと判定された場合には(ステップS403:NO)、目標温度算出処理は実行されない。
ここで、目標温度算出処理について、図7を参照して詳細に説明する。図7は、目標温度算出処理の流れを示すフローチャートである。
図7に示すように、目標温度算出処理が開始されると、まず暫定目標温度が設定される(ステップS501)。具体的には、暫定目標温度は、下記の式(3)を用いて算出される。
暫定目標温度=(最終目標温度−現在の一時目標温度)×漸近比率+現在の温度 ・・・(3)
暫定目標温度が設定された後には、暫定目標温度が現在の一時目標温度よりも最終目標温度に近いか否かが判定される(ステップS502)。なお、暫定目標温度が現在の一時目標温度よりも最終目標温度に近くないと判定された場合(ステップS502:NO)、一時目標温度を変更すべきでないとして、以降の処理は実行されない。一方で、暫定目標温度が現在の一時目標温度よりも最終目標温度に近いと判定された場合(ステップS502:YES)、目標温度更新タイミング設定処理が実行される(ステップS203)。即ち、すでに図5で説明した処理と同様の処理が実行される。
目標温度の更新タイミング設定された後には、暫定目標温度が新たな一時目標温度として設定される(ステップS503)。即ち、一時目標温度が変更される。
再び図2に戻り、目標温度更新処理が終了した後には、一時目標温度が最終目標温度に極めて近い状態になっているか否かが判定される(ステップS105)。具体的には、一時目標温度と最終目標温度の差が、所定の第1閾値以下となっているか否かが判定される。なお、一時目標温度が最終目標温度に極めて近い状態になっていないと判定された場合(ステップS105:NO)、再び目標温度更新処理が実行される。
一方、一時目標温度が最終目標温度に極めて近い状態になっていると判定された場合(ステップS105:YES)、目標温度が最終目標温度に固定される(ステップS106)。即ち、一時目標温度の値によらず、目標温度は強制的に最終目標温度とされる。このような処理によれば、光源110の温度が目標温度に近づいて温度変化量が小さくなることで、一時目標温度が最終目標温度に到達しないという問題を回避できる。
目標温度が最終目標温度に固定された後は、駆動制御部260による自律制御のみに移行され(ステップS107)、一連の処理は終了する。
<具体的な動作例>
次に、本実施例に係る温度制御装置の具体的な動作例について、図8及び図11を参照して説明する。図8は、実施例に係る温度制御装置の動作の一例を示す図(その1)である。図11は、実施例に係る温度制御装置の動作の一例を示す図(その2)である。なお、図8及び図11で示す動作例は、光源110の温度が目標温度よりも低い(即ち、加熱して温度制御を行う)場合の一例である。
図8に示すように、本実施例に係る温度制御装置の動作が開始されると、まず光源110の現在の温度に基づいて一時目標温度Aが設定される。続いて、光源110の温度が一時目標温度Aに近づくようにペルチェ素子130が制御される。このため、光源110の温度は一時目標温度Aに向けて徐々に上昇する。
光源110の温度は、一時目標温度Aに到達した後もオーバーシュートによって上昇し続ける。その後、温度変化量が正から負方向に傾きが変わるタイミングでピークに達したと判定され、新たな一時目標温度Bが設定される。
ここで、温度ピークの判定方法について、図9及び図10を参照して具体的に説明する。図9は、ピーク判定時に発生し得る誤判定を示す図である。図10は、ピーク判定時のフィルタリング処理を示す図である。
図9に示すように、温度波形のベクトルは前回検出された温度との差分によって確認される。具体的には温度差分が温度差分基準を跨ぐタイミングがピーク又はボトムである。
この温度差分は、ピークのタイミングを正確に判定するために比較的高い周波数でサンプリングされている。しかしながら、サンプリング周波数が高いと、温度差は非常に微小となり、ノイズに埋もれてトレンドが見えにくくなってしまう。この結果、仮にサンプリングした温度差分をそのまま利用すると、図中の破線で囲んだ領域では、一時的に温度差分が負となり、実際にはピークでないにもかかわらず、ピークであると誤判定されてしまう可能性がある。
図10に示すように、本実施例では上述した不都合を回避するために、温度差分をフィルタリングして用いている。このようにすれば、温度差分からノイズ成分が除去され、上述したピーク、ボトムの誤判定を好適に防止することが可能である。
続いて図11に示すように、光源110の温度は、新たな一時目標温度Bに向けて上昇するように制御される。その後は、光源110の温度が再びピークになったか否かが判定されることになる。なお、目標温度が一時目標温度Bに変更された後、光源110の温度が下降から上昇に切り替わる部分で、温度差分の正負が逆転する(即ち、ボトムが検出される)が、加熱制御時にはボトムのタイミングでは一時目標温度は変更されない。一時目標温度Bは、温度差分が正から負方向に傾きが変わるタイミングで、新たな一時目標温度Cに変更される。
以上のように、一時目標温度は、徐々に最終目標温度に近づくように変更されていく。そして、一時目標温度と最終目標温度との差が第1閾値以下となった時点で(言い換えれば、一時目標温度が所定の引き込み範囲となったタイミングで)、目標温度が最終目標温度に引き込まれて固定される。
ここで、一時目標温度の最低引き込み範囲について、図12及び13を参照して詳細に説明する。図12は、引き込み範囲外で一時目標温度が漸近する例を示す図である。図13は、最低引き込み単位を設定した場合の一時目標温度の変動を示す図である。
図12に示すように、引き込み範囲を設定している場合であっても、条件次第では、一時目標温度が引き込み範囲外で漸近してしまい、最終目標温度への引き込みが実行されない場合もある。この場合、一時目標温度が最終目標温度へと切り替わらないため、光源110の温度は最終目標温度になかなか到達しない。
図13に示すように、本実施例では上述した不都合を回避するために、一時目標温度の最低引き込み単位が設定されている。これにより、一時目標温度が更新される場合には、少なくとも最低引き込み単位分だけ一時目標温度の値が変化する。言い換えれば、当該最低引き込み単位分以上の粒度をもって、一次目標温度の値が変化する。この結果、一時目標温度がわずかに変化することが抑制され、図12に示すような引き込み範囲外で漸近する状況が回避される。従って、光源110の温度を好適に最終目標温度に到達させることが可能となる。
ちなみに、上述した実施例では光源110が加熱される場合の動作について説明したが、冷却時についても同様の動作が実行される。以下では、実施例に係る温度制御装置の冷却時の動作について、図14を参照して説明する。図14は、実施例に係る温度制御装置の冷却時の動作の一例を示す図である。
図14に示すように、光源110を冷却する場合には、まず光源110の現在の温度に基づいて一時目標温度A’が設定される。続いて、光源110の温度が一時目標温度A’に近づくようにペルチェ素子130が制御される。このため、光源110の温度は一時目標温度A’に向けて徐々に下降する。
光源110の温度は、一時目標温度A’に到達した後もアンダーシュートによって下降し続ける。その後、温度変化量が負から正になるタイミングでボトムに達したと判定され、新たな一時目標温度B’が設定される。その後は再びボトムの判定が開始され、一時目標温度が徐々に最終目標温度に近い値に更新されていく。
<実施形態の効果>
次に、本実施例に係る温度制御装置によって得られる技術的効果について、図15から図17を参照して説明する。図15は、第1比較例に係る温度制御装置の動作の一例を示す図である。図16は、第2比較例に係る温度制御装置の動作の一例を示す図である。図17は、本実施例と第1及び第2比較例との違いを示す図である。
図15に示すように、第1比較例に係る温度制御装置では、目標温度が可変とされていない(即ち、最初から最終目標温度に固定されている)。このため、オーバーシュートが激しくなり、光源110の温度は目標温度の周辺で大きく増減を繰り返す。この結果、目標温度への収束には比較的長い時間がかかってしまうことになる。
図16に示すように、第2比較例では、第1比較例と比べて加熱冷却速度が小さくなるように設定されている。この場合、オーバーシュートを抑制することができるが、光源110の温度変化も遅くなってしまうため、結果的に目標温度への収束には比較的長い時間を要する。
図17に示すように、本実施例に係る温度制御装置では、既に説明したように、目標温度が可変に設定され、適切なタイミングで目標温度が更新されていく。このため、一時目標温度に対するオーバーシュートが発生しても、最終目標温度に対するオーバーシュートは発生しない。よって、オーバーシュートの影響を受けずに(言い換えれば、一時目標温度に対するオーバーシュートを上手く利用しつつ)、光源110の温度が制御される。従って、図を見ても分かるように、第1比較例や第2実施例と比べると、極めて早い段階で、光源110の温度を目標温度で安定させることができる。
<変形例>
次に、変形例に係る温度制御装置について、図18を参照して説明する。図18は、変形例に係る温度制御装置の構成を示すブロック図である。
なお、以下で説明する変形例は、上述した本実施例に係る温度制御装置と比較して一部の構成が異なるのみであり、その他の構成や動作については概ね同様である。このため、以下では、上述した実施例とは異なる部分について詳細に説明し、他の重複する部分については適宜説明を省略するものとする。
図18に示すように、変形例に係る光学部100bは、光源110を複数備えている。具体的には、光学部110bは、第1光源111、第2光源112、及び第3光源113を備えており、各光源は熱伝導板150を介して、ペルチェ素子130に熱結合されている。なお、ペルチェ素子130の周囲の温度を検出するサーミスタ120に加えて、温度制御対象である第1光源111周囲の温度を検出するために第2サーミスタ125が配置されている。
なお、上述したように光学部100bが構成されているのは、第1光源111の近くにペルチェ素子130を配置できないというレイアウト上の制約が存在するからである。第1光源111は熱伝導板150を介してペルチェ素子130との熱量の授受が可能であるが、その場合には熱伝導板150における熱遅延が発生する。このため、変形例に係る温度制御部200bは以下に詳述するように、2つの負帰還ループを利用して第1光源111の温度を制御する。
温度制御部200bは、上述した実施例の構成(図1参照)に加えて、第2温度検出部215を備えて構成されている。これにより、ペルチェ素子130、温度検出部210、差分検出器250、駆動制御部260によって形成される第1ループに加えて、第2温度検出部215、CPU220及び可変目標温度生成器240による第2ループが形成されている。
第1ループ及び第2ループを利用した重ループ温度制御においては、各ループでそれぞれ自律的に温度の収束制御が行われるため、レイアウト制約のある光学部100bであっても、光源111の温度を好適に目標温度に収束させることができる。なお、重ループ温度制御については、変形例に係る技術的な効果と直接的な関連が薄いため、より詳細な説明を省略する。
上述した変形例の構成では、熱伝導板150を配置せざるをえないために、サーミスタ120と第2サーミスタ125との間の熱遅延が大きくなる。この場合、温度制御時における装置全体で見た場合の温度収束に時間がかかることになり、過大なオーバーシュートが発生し易いという課題が発生する。
しかしながら、このような変形例においても、目標温度を可変に設定することにより、オーバーシュートの影響を受けずに温度制御を行うことが可能となる。目標温度を可変とする温度制御の技術的効果は、この変形例のように熱遅延が大きく、オーバーシュートが発生し易い状況において顕著に発揮される。
本発明は、上述した実施形態に限られるものではなく、特許請求の範囲及び明細書全体から読み取れる発明の要旨或いは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴う温度制御装置、温度制御方法、コンピュータプログラム及び記憶媒体もまた本発明の技術的範囲に含まれるものである。
100 光学部
110 光源
120 サーミスタ
130 ペルチェ素子
140 吸放熱版
200 温度制御部
210 温度検出部
220 CPU
230 最終目標温度設定部
240 可変目標温度生成器
250 差分検出器
260 駆動制御部

Claims (11)

  1. 温度制御対象を加熱又は冷却する吸放熱部と、
    前記温度制御対象の周囲の第1温度を検出する温度検出部と、
    可変目標温度に基づいて、前記吸放熱部を制御する制御部と、
    前記第1温度及び目標温度を示す目標温度情報に基づいて、前記可変目標温度を第1可変目標温度に設定する可変温度設定部と、
    を備えることを特徴とする温度制御装置。
  2. 前記可変温度設定部は、前記第1温度の前記第1可変目標温度に対するオーバーシュートのピーク又はアンダーシュートのボトムを形成する温度が、前記目標温度となるように、前記第1可変目標温度を設定することを特徴とする請求項1に記載の温度制御装置。
  3. 前記可変温度設定部は、前記第1温度が前記第1可変目標温度に設定された後、前記第1温度が前記ピーク又は前記ボトムとなる変化を検出した場合に、前記可変目標温度を、前記第1可変目標温度より前記目標温度に近い第2可変目標温度に設定することを特徴とする請求項1又は2に記載の温度制御装置。
  4. 前記可変温度設定部は、(i)前記第1可変目標温度の設定時の前記第1温度が前記可変目標温度より低い場合は、前記第1温度の変化が第1所定値以下になったことで前記ピークとなる変化を検出し、(ii)前記第1可変目標温度の設定時の前記第1温度が前記可変目標温度より高い場合は、前記第1温度の変化が第1所定値以上になったことで前記ボトムとなる変化を検出することを特徴とする請求項3に記載の温度制御装置。
  5. 前記可変温度設定部は、前記第1温度の前記目標温度に対する前記ピーク又は前記ボトムを形成する温度と前記吸放熱部を制御する前の前記第1温度である初期温度との差分と、前記目標温度と前記初期温度との差分との比率に基づいて、前記可変目標温度を設定することを特徴とする請求項1から4のいずれか一項に記載の温度制御装置。
  6. 前記可変温度設定部は、前記可変目標温度が徐々に前記目標温度に近づくように、前記可変目標温度を繰り返し設定することを特徴とする請求項3から5のいずれか一項に記載の温度制御装置。
  7. 前記可変温度設定部は、前記目標温度と前記可変目標温度との差が第2所定値以下となった場合に、前記可変目標温度を前記目標温度に設定することを特徴とする請求項3から6のいずれか一項に記載の温度制御装置。
  8. 前記可変温度設定部は、前記可変目標温度を第3所定値以上の粒度で前記目標温度に近づけることを特徴とする請求項3から6のいずれか一項に記載の温度制御装置。
  9. 温度制御対象を加熱又は冷却する吸放熱部を備える温度制御装置を用いた温度制御方法であって、
    前記温度制御対象の周囲の第1温度を検出する温度検出工程と、
    可変目標温度に基づいて、前記吸放熱部を制御する制御工程と、
    前記第1温度及び目標温度を示す目標温度情報に基づいて、前記可変目標温度を第1可変目標温度に設定する可変温度設定工程と、
    を含むことを特徴とする温度制御方法。
  10. 温度制御対象を加熱又は冷却する吸放熱部を備える温度制御装置に用いるコンピュータプログラムであって、
    前記温度制御対象の周囲の第1温度を検出する温度検出工程と、
    可変目標温度に基づいて、前記吸放熱部を制御する制御工程と、
    前記第1温度及び目標温度を示す目標温度情報に基づいて、前記可変目標温度を第1可変目標温度に設定する可変温度設定工程と、
    を前記温度制御装置に実行させることを特徴とするコンピュータプログラム。
  11. 請求項10に記載のコンピュータプログラムを記憶していることを特徴とする記憶媒体。
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Family Cites Families (36)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4495405A (en) * 1982-09-23 1985-01-22 Coulter Electronics, Inc. Automatic control system including error processing loop
EP0228813B1 (en) * 1985-11-27 1993-06-02 Nippondenso Co., Ltd. Air conditioner for automobiles
JPS63191989A (ja) 1987-02-04 1988-08-09 Mitsubishi Electric Corp レ−ザドツプラ速度計
JPH05333944A (ja) * 1992-06-04 1993-12-17 Matsushita Electric Ind Co Ltd 定着器の温度制御方法
JP2669309B2 (ja) * 1993-11-05 1997-10-27 日本電気株式会社 デバイスモジュール
JP3922593B2 (ja) * 1995-11-09 2007-05-30 株式会社堀場製作所 ガス分析計における温度制御方法
JPH09282004A (ja) * 1996-04-12 1997-10-31 Sekisui Chem Co Ltd Pid制御装置
JPH11163462A (ja) * 1997-11-27 1999-06-18 Hitachi Ltd 光波長安定制御装置、光送信器、光波長多重送信器
US7188001B2 (en) * 1998-03-23 2007-03-06 Cepheid System and method for temperature control
EP1132101B2 (en) * 1998-11-19 2015-12-09 Tomio Ohta Extracorporeal circulation device and method
JP2000294871A (ja) * 1999-04-09 2000-10-20 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体レーザ制御方法および半導体レーザ制御装置
US6951998B2 (en) * 2000-04-14 2005-10-04 Omron Corporation Controller, temperature regulator and heat treatment apparatus
JP2002341948A (ja) * 2001-05-21 2002-11-29 Seiko Instruments Inc 温度制御方法及び装置
KR100944660B1 (ko) 2001-12-26 2010-03-04 가부시키가이샤 고마쓰 세이사쿠쇼 열매체 유체를 이용해서 대상물의 온도를 조절하기 위한장치 및 방법
JP3786871B2 (ja) * 2001-12-26 2006-06-14 株式会社小松製作所 熱媒流体を用いて対象物の温度を調節するための装置及び方法
US6855916B1 (en) * 2003-12-10 2005-02-15 Axcelis Technologies, Inc. Wafer temperature trajectory control method for high temperature ramp rate applications using dynamic predictive thermal modeling
JP4639821B2 (ja) 2004-02-24 2011-02-23 オムロン株式会社 目標値加工装置、温度調節器および制御プロセス実行システム
JP4152348B2 (ja) * 2004-06-03 2008-09-17 株式会社ソニー・コンピュータエンタテインメント 電子デバイス冷却装置、電子デバイスシステムおよび電子デバイス冷却方法
JP5148815B2 (ja) * 2005-01-20 2013-02-20 住友電気工業株式会社 光送信モジュール
JP4839702B2 (ja) * 2005-07-04 2011-12-21 オムロン株式会社 温度制御方法、調整装置、温度調節器、プログラム、記録媒体および熱処理装置
JP4192986B2 (ja) * 2006-10-20 2008-12-10 ソニー株式会社 温度制御装置および方法、並びにプログラム
DE112008003714T5 (de) * 2008-10-29 2010-11-25 Advantest Corp. Temperatursteuerung für elektronische Bauelemente
JP5236525B2 (ja) * 2009-02-23 2013-07-17 ホシザキ電機株式会社 温度調整装置
CN101581512B (zh) * 2009-06-18 2011-04-13 浙江大成电气有限公司 精密空调及其控制方法
JP5481977B2 (ja) * 2009-07-10 2014-04-23 富士通株式会社 温度制御方法、温度制御装置及び光デバイス
JP5579409B2 (ja) * 2009-08-03 2014-08-27 日本信号株式会社 温度制御装置及び温度制御方法
JP5433387B2 (ja) * 2009-11-30 2014-03-05 株式会社日立製作所 車両用機器冷却暖房システム
CN101997483B (zh) * 2010-10-18 2014-12-17 中兴通讯股份有限公司 一种微机控制恒温晶体振荡器的方法和装置
RU2594371C2 (ru) * 2011-07-25 2016-08-20 Ковэй Ко., Лтд. Электронное устройство управления температурой, охладитель, использующий его, нагреватель, использующий его, и способ управления им
WO2014037988A1 (ja) * 2012-09-04 2014-03-13 富士通株式会社 温度管理システム
JP6058970B2 (ja) * 2012-10-19 2017-01-11 アズビル株式会社 制御装置および制御方法
WO2016092872A1 (ja) * 2014-12-11 2016-06-16 富士電機株式会社 制御装置、そのプログラム、プラント制御方法
US20180041007A1 (en) * 2015-05-27 2018-02-08 Mitsubishi Electric Corporation Temperature control circuit, transmitter, and temperature control method
JP6115609B2 (ja) * 2015-10-07 2017-04-19 ウシオ電機株式会社 レーザ光源装置
CN105425865B (zh) * 2015-11-03 2017-10-27 上海科勒电子科技有限公司 防温度过冲的控制方法及控制系统
JP6635262B2 (ja) * 2016-03-16 2020-01-22 ウシオ電機株式会社 レーザ光源装置

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