JPWO2018074486A1 - 方向性電磁鋼板および方向性電磁鋼板の製造方法 - Google Patents
方向性電磁鋼板および方向性電磁鋼板の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2018074486A1 JPWO2018074486A1 JP2018505748A JP2018505748A JPWO2018074486A1 JP WO2018074486 A1 JPWO2018074486 A1 JP WO2018074486A1 JP 2018505748 A JP2018505748 A JP 2018505748A JP 2018505748 A JP2018505748 A JP 2018505748A JP WO2018074486 A1 JPWO2018074486 A1 JP WO2018074486A1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- steel sheet
- grain
- electrical steel
- ceramic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 83
- 229910001224 Grain-oriented electrical steel Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 73
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 21
- 229910000976 Electrical steel Inorganic materials 0.000 title description 4
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims abstract description 136
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 claims abstract description 113
- 239000010959 steel Substances 0.000 claims abstract description 113
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims abstract description 59
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims abstract description 43
- 238000005524 ceramic coating Methods 0.000 claims abstract description 35
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 claims abstract description 16
- 239000010431 corundum Substances 0.000 claims abstract description 16
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 claims description 16
- 238000009413 insulation Methods 0.000 claims description 14
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 41
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 40
- 239000010408 film Substances 0.000 description 371
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical group [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 116
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 57
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 34
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 24
- 229910052839 forsterite Inorganic materials 0.000 description 24
- HCWCAKKEBCNQJP-UHFFFAOYSA-N magnesium orthosilicate Chemical compound [Mg+2].[Mg+2].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] HCWCAKKEBCNQJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 24
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 18
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 18
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 18
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 17
- 230000005381 magnetic domain Effects 0.000 description 17
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 15
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 15
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 13
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 13
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 description 13
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 13
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 12
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 11
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 11
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 11
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 10
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 description 10
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 10
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 9
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 9
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 8
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 7
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 7
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 7
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 6
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 6
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 6
- QOSATHPSBFQAML-UHFFFAOYSA-N hydrogen peroxide;hydrate Chemical compound O.OO QOSATHPSBFQAML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 6
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 6
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 5
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 5
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 5
- 238000002003 electron diffraction Methods 0.000 description 5
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 5
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 5
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 5
- 229910010037 TiAlN Inorganic materials 0.000 description 4
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 4
- 238000005536 corrosion prevention Methods 0.000 description 4
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 4
- 238000010008 shearing Methods 0.000 description 4
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 4
- 235000002639 sodium chloride Nutrition 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 239000011162 core material Substances 0.000 description 3
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 3
- VAKIVKMUBMZANL-UHFFFAOYSA-N iron phosphide Chemical compound P.[Fe].[Fe].[Fe] VAKIVKMUBMZANL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 2
- 238000000682 scanning probe acoustic microscopy Methods 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000851 Alloy steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- -1 TiCrN Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 238000005097 cold rolling Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000005261 decarburization Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- SOCTUWSJJQCPFX-UHFFFAOYSA-N dichromate(2-) Chemical compound [O-][Cr](=O)(=O)O[Cr]([O-])(=O)=O SOCTUWSJJQCPFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 description 1
- 238000002149 energy-dispersive X-ray emission spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 238000013467 fragmentation Methods 0.000 description 1
- 238000006062 fragmentation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- JEGUKCSWCFPDGT-UHFFFAOYSA-N h2o hydrate Chemical compound O.O JEGUKCSWCFPDGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- GVALZJMUIHGIMD-UHFFFAOYSA-H magnesium phosphate Chemical compound [Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O GVALZJMUIHGIMD-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 239000004137 magnesium phosphate Substances 0.000 description 1
- 229960002261 magnesium phosphate Drugs 0.000 description 1
- 229910000157 magnesium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000010994 magnesium phosphates Nutrition 0.000 description 1
- QQFLQYOOQVLGTQ-UHFFFAOYSA-L magnesium;dihydrogen phosphate Chemical compound [Mg+2].OP(O)([O-])=O.OP(O)([O-])=O QQFLQYOOQVLGTQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 230000000116 mitigating effect Effects 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 238000005554 pickling Methods 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002791 soaking Methods 0.000 description 1
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002230 thermal chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000002233 thin-film X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
- C23C28/04—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings of inorganic non-metallic material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D8/00—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment
- C21D8/02—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment during manufacturing of plates or strips
- C21D8/0205—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment during manufacturing of plates or strips of ferrous alloys
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D8/00—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment
- C21D8/02—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment during manufacturing of plates or strips
- C21D8/0221—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment during manufacturing of plates or strips characterised by the working steps
- C21D8/0226—Hot rolling
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D8/00—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment
- C21D8/02—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment during manufacturing of plates or strips
- C21D8/0221—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment during manufacturing of plates or strips characterised by the working steps
- C21D8/0236—Cold rolling
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D8/00—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment
- C21D8/12—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment during manufacturing of articles with special electromagnetic properties
- C21D8/1277—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment during manufacturing of articles with special electromagnetic properties involving a particular surface treatment
- C21D8/1283—Application of a separating or insulating coating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D8/00—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment
- C21D8/12—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment during manufacturing of articles with special electromagnetic properties
- C21D8/1277—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment during manufacturing of articles with special electromagnetic properties involving a particular surface treatment
- C21D8/1288—Application of a tension-inducing coating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C38/00—Ferrous alloys, e.g. steel alloys
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C38/00—Ferrous alloys, e.g. steel alloys
- C22C38/04—Ferrous alloys, e.g. steel alloys containing manganese
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C38/00—Ferrous alloys, e.g. steel alloys
- C22C38/18—Ferrous alloys, e.g. steel alloys containing chromium
- C22C38/34—Ferrous alloys, e.g. steel alloys containing chromium with more than 1.5% by weight of silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/0641—Nitrides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/08—Oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/14—Metallic material, boron or silicon
- C23C14/16—Metallic material, boron or silicon on metallic substrates or on substrates of boron or silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/32—Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
- C23C14/325—Electric arc evaporation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/58—After-treatment
- C23C14/5846—Reactive treatment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
- C23C28/04—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings of inorganic non-metallic material
- C23C28/042—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings of inorganic non-metallic material including a refractory ceramic layer, e.g. refractory metal oxides, ZrO2, rare earth oxides
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F1/00—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties
- H01F1/01—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials
- H01F1/03—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity
- H01F1/12—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials
- H01F1/14—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials metals or alloys
- H01F1/147—Alloys characterised by their composition
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F1/00—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties
- H01F1/01—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials
- H01F1/03—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity
- H01F1/12—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials
- H01F1/14—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials metals or alloys
- H01F1/147—Alloys characterised by their composition
- H01F1/14708—Fe-Ni based alloys
- H01F1/14716—Fe-Ni based alloys in the form of sheets
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F1/00—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties
- H01F1/01—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials
- H01F1/03—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity
- H01F1/12—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials
- H01F1/14—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials metals or alloys
- H01F1/147—Alloys characterised by their composition
- H01F1/153—Amorphous metallic alloys, e.g. glassy metals
- H01F1/15383—Applying coatings thereon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D2201/00—Treatment for obtaining particular effects
- C21D2201/05—Grain orientation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D8/00—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment
- C21D8/12—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment during manufacturing of articles with special electromagnetic properties
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D9/00—Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor
- C21D9/46—Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor for sheet metals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C22/00—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
- C23C22/73—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals characterised by the process
- C23C22/74—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals characterised by the process for obtaining burned-in conversion coatings
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Soft Magnetic Materials (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
Abstract
Description
方向性電磁鋼板の低鉄損化としては、結晶粒のゴス方位への先鋭化、被膜張力の増大、薄手化などの手法のほかに、鋼板の表面加工による方法が知られている。
ただし、この方法による場合、全鉄損の一部であるヒステリシス損は低減されるものの、渦電流損は十分に低減されない。
しかし、鋼板に引張応力を印加することによって、同一の引張応力であっても、粗度が高い場合に確認される以上に渦電流損を低減できることが分かっている。
また、さらに高い引張応力を印加すれば、従来よりも極めて低い鉄損が実現可能である。このため、表面を平滑化した鋼板に高張力を付与しようと、高張力被膜の開発が行なわれている。
問題の1つは、成膜にかかる製造コストが高いことである。PVD法またはCVD法による成膜の場合、蒸発源となる金属元素(例えばTiN被膜を形成する場合にはTi)のコストが高く、また、成膜歩留りも低いため、成膜量が多いほど製造コストが増大する。
したがって、セラミクス被膜は可能な限り薄く成膜したい。しかし、そうすると、低鉄損が得られにくくなる。
しかし、本発明者らの実験結果から、セラミクス被膜の硬度を低くした場合、同時にヤング率が低下してしまう傾向が認められた。セラミクス被膜の硬度には、それに内在する欠損などの存在頻度に影響されている可能性が考えられ、欠損が多い材料は硬度が低く、またヤング率も低くなることが容易に推定される。被膜のヤング率は、鋼板に付与する張力の大きさに比例すると考えられるため、低ヤング率化は原理的に鉄損上好ましくない。
まず、極薄のセラミクス被膜上に、公知の条件で絶縁張力酸化物被膜を形成しても、鋼板に高い被膜張力が形成されない場合がある。この場合、低鉄損などの優れた磁気特性が得られない。
また、歪取り焼鈍などの焼鈍を施した後に、セラミクス被膜が剥離する場合がある。すなわち、焼鈍後の被膜密着性が劣る場合がある。これは、セラミクス被膜が薄膜である場合に、特に顕著である。
[1]鋼板と、上記鋼板上に配置されたセラミクス被膜と、上記セラミクス被膜上に配置された絶縁張力酸化物被膜と、を備える方向性電磁鋼板であって、上記セラミクス被膜が、窒化物および酸化物を含有し、上記窒化物が、Cr、Ti、Zr、Mo、Nb、Si、Al、Ta、Hf、WおよびYからなる群から選ばれる少なくとも1種の元素を含み、上記酸化物が、コランダム型の結晶構造を有し、上記セラミクス被膜のナノインデンテーション法により測定されるヤング率が、230GPa以上であり、上記セラミクス被膜の平均膜厚が、0.01μm以上0.30μm以下であり、上記絶縁張力酸化物被膜の張力が、10MPa以上である、方向性電磁鋼板。
[2]上記セラミクス被膜は、上記絶縁張力酸化物被膜側の表層に、上記酸化物を含有する、上記[1]に記載の方向性電磁鋼板。
[3]上記窒化物が、立方晶系の結晶構造を有する、上記[1]または[2]に記載の方向性電磁鋼板。
[4]上記窒化物が、2種以上の上記元素を含む、上記[1]〜[3]のいずれかに記載の方向性電磁鋼板。
[5]上記窒化物の結晶方位が、{111}、{100}および{110}のいずれか1つの方向に集積している、上記[1]〜[4]のいずれかに記載の方向性電磁鋼板。
[6]上記[1]〜[5]のいずれかに記載の方向性電磁鋼板を製造する方法であって、上記セラミクス被膜を、AIP法によって成膜する、方向性電磁鋼板の製造方法。
[7]上記絶縁張力酸化物被膜を成膜する際に、ロールコーターを用いる、上記[6]に記載の方向性電磁鋼板の製造方法。
図1は、絶縁張力酸化物被膜の成膜前後における鉄損の変化量を示すグラフである。より詳細には、平滑化した鋼板上に、PVD法の一種であるイオンプレーティングHCD(Hollow Cathode Discharge)法によって、0.20μmのTiN被膜を形成した材料、および、従来の方向性電磁鋼板の途中工程材である、鋼板上にフォルステライト被膜が成膜された材料に、処理液をロール塗布して820℃で焼き付けることによって、リン酸塩系の絶縁張力酸化物被膜を成膜した。成膜後の鉄損W17/50から成膜前の鉄損W17/50を引いた値を、鉄損の変化量ΔW17/50(単位:W/kg)とした。
PVD法としては、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティングなど各種の方法が知られている。しかし、従来知見で多く用いられているイオンプレーティング法の一種のHCD法では、成膜できる被膜の種類がTiNやCrN等に限定されていた。これに対し、スパッタリング法では、AlN被膜や種々の酸化物被膜を形成できることが知られている。近年は、イオンプレーティング法の1種であるAIP(Ark Ion Plating)法やスパッタリング法等の技術によって、TiAlNやAlCrNなどの複数の金属を含むセラミクス被膜の形成も可能になっている。以降の実験では、窒化物被膜はAIP法、酸化物被膜はスパッタリング法によって形成している。
丸棒巻き付け法とは、幅30mm×圧延方向長さ280mmの鋼板を、直径数十mmの丸棒に巻き付けることにより、鋼板に内部応力を生じさせ、被膜のクラック発生有無を調査し、クラックが発生しない最小の丸棒径の値を密着性の評価指標とするものである。最小曲げ径が10mm以下の場合には、曲げ径の評価値は10mmとした。
図2のグラフに示す結果より、セラミクス被膜として、窒化物被膜の方が、酸化物被膜よりも良好な密着性を有することが明らかとなった。
図3のグラフに示す結果から、CrNまたはAlCrNのセラミクス被膜を成膜した場合においては、酸素侵入深さが比較的小さくなることが分かった。
その結果、TiNには立方晶系のTiO、TiO2またはTi2O3が生成し、CrNにはCr2O3(コランダム型)が生成し、AlNにはAl2O3(主に立方晶系)が生成し、TiAlNにはTiO2(立方晶系)が生成し、AlCrNにはAl2O3(主にコランダム型)が生成したことが確認された。Cr2O3およびAl2O3については、回折ピークが他に比べて非常に低かった。
この結果から、コランダム型の酸化物が、窒化物被膜における絶縁張力酸化物被膜側の表層に形成されることによって、絶縁張力酸化物被膜と窒化物被膜とが物理的に隔離され、窒化物被膜の酸化がさらに進行することが抑制されるものと推定した。
図4のグラフに示すように、6時間焼鈍した場合は、1時間焼鈍した場合と比較して、到達鉄損が高くなっていた。絶縁張力酸化物被膜の表面をSEMを用いて観察したところ、6時間焼鈍した方において、直径数μmほどの気泡らしき穴がより多く確認された。このことから、6時間焼鈍した方は、AlCrN被膜と絶縁張力酸化物被膜との反応がより進行することにより、絶縁張力酸化物被膜の張力付与効果が小さくなったと推定される。
図5のグラフに示すように、わずか0.10μmの膜厚であるにもかかわらず、CrN被膜を成膜した場合と比べて、AlCrN被膜を成膜した場合は、鉄損が著しく低減した。
X線回折法により、各セラミクス被膜の結晶面{220}に対応するd値を求めたところ、AlCrN被膜は「1.4568Å」、CrN被膜は「1.4755Å」、および、TiN被膜は「1.5074Å」であった。
各セラミクス被膜のヤング率をナノインデンテーション法により求めたところ、AlCrN被膜は「330GPa」、CrN被膜は「260GPa」、および、TiN被膜は「302GPa」であった。
セラミクス被膜としては、上述した3種(AlCrN、CrN、および、TiN)のセラミクス被膜のほか、さらに、TiCN、TiAlN、TiCrN、および、バイアス電圧を変えて成膜したTiN(ヤング率:333GPa)のセラミクス被膜を成膜した。
図6のグラフに示すように、セラミクス被膜のヤング率が高いほど、鉄損低減量が増大する傾向が認められた。その理由は明らかではないが、ヤング率が高いほど、セラミクス被膜を成膜したときに鋼板の引張変形が生じやすくなり、引張残留応力が形成されたと推定される。
このとき、低鉄損化および被膜密着性の効果をより良好にするためには、セラミクス被膜において、単に、窒化物を酸化して酸化物を形成するのではなく、セラミクス被膜における鋼板側の表面付近には、酸化されない窒化物が維持されていることも重要である。
窒化物被膜の酸化に、絶縁張力酸化物被膜の焼き付けを利用することも、従来にはない新規な手法である。
以下、改めて、本発明の方向性電磁鋼板について説明する。
本発明の方向性電磁鋼板は、鋼板と、上記鋼板上に配置されたセラミクス被膜と、上記セラミクス被膜上に配置された絶縁張力酸化物被膜と、を備える方向性電磁鋼板であって、上記セラミクス被膜が、窒化物および酸化物を含有し、上記窒化物が、Cr、Ti、Zr、Mo、Nb、Si、Al、Ta、Hf、WおよびYからなる群から選ばれる少なくとも1種の元素を含み、上記酸化物が、コランダム型の結晶構造を有し、上記セラミクス被膜のナノインデンテーション法により測定されるヤング率が、230GPa以上であり、上記セラミクス被膜の平均膜厚が、0.01μm以上0.30μm以下であり、上記絶縁張力酸化物被膜の張力が、10MPa以上である、方向性電磁鋼板である。
本発明の方向性電磁鋼板は、鉄損などの磁気特性および被膜密着性がともに優れる。
以下の説明は、本発明の方向性電磁鋼板の製造方法の説明も兼ねる。
本発明に用いる鋼板としては、例えば、フォルステライト被膜付きの方向性電磁鋼板(二次再結晶板)からフォルステライト被膜を除去することにより得られる鋼板(態様A)、または、フォルステライト被膜を形成させずに製造した方向性電磁鋼板(態様B)が好適に挙げられる。
いずれの態様であっても、セラミクス被膜が成膜される鋼板表面は平滑であることが好ましく、酸化物などの不純物が極力形成されていないことがより好ましい。
機械研磨の場合、研磨により鋼板に歪が導入されるため、歪を除去する目的で、研磨後に追加で化学研磨を行なうことが好ましい。
化学研磨の場合、例えば、塩酸とフッ化水素との混合液、硝酸、および/または、フッ化水素水と過酸化水素水との混合水溶液などが用いられ、フォルステライト被膜と鋼板とを同時に研磨することもできる。
電解研磨には、例えば、NaCl水溶液を電解液として用いることができる。
研磨後は、鋼板表面のRa(算術平均粗さ)を0.3μm以下とすることが好ましく、0.1μm以下にすることがより好ましい。しかし、過度に研磨すると、鋼板の歩留まりが減少する場合があるため、フォルステライト被膜を除去した後の鋼板の研磨量は、研磨前の5%以内とすることが好ましい。
Cは、過度に含有すると磁気時効により鉄損を損なうことがあるため、30ppm以下とすることが好ましい。
Siは、比抵抗を高めて鉄損を低減することから1%以上含有することが好ましいが、含有量が多すぎると製造性が損なわれるおそれがあるため、7%以下が好ましい。
Pも、比抵抗を高めるので含有してもよいが、製造性を低くするほか、飽和磁束密度を低くすることがあるため、0.1%以下とすることが好ましい。
MnおよびSは、過度に含有すると、MnSなどの析出物を形成して鉄損を劣化させることがあるため、それぞれ0.1%以下および10ppm未満とすることが好ましい。
Nは、歪取り焼鈍の際に、窒化ケイ素などを析出して鉄損を損なうことがあるため、極力含有していないことが好ましい。
その他の成分については、従来知見に基づき、二次再結晶後の結晶方位がゴス方位に先鋭化されるように添加されていてもよいが、フォルステライト被膜を形成する場合には、アンカーを発達させるCrは極力少ない方が好ましく、0.1%以下がより好ましい。
Ti、Nb、V、ZrおよびTaは、炭化物または窒化物を形成することにより鉄損を劣化させてしまうことがあるため、合計で0.01%以下とすることが好ましい。
特に、鋼板表面に、溝を形成したり、レーザまたは電子ビームなどを用いて局所的に歪を導入したりする磁区細分化処理を施さない場合には、平均β角は1°以上3°以下がより好ましい。β角が0°に近いと、渦電流損が著しく増大するためである。
セラミクス被膜を成膜する前の鋼板の表面には、視認できる程度の錆が発生していないことが好ましい。錆が認められる場合には、塩酸または硝酸などを用いた酸洗処理によって除去しておくことが好ましい。
しかし、極微細な酸化物は不可避的に鋼板表面に形成されるため、セラミクス被膜を成膜する前に、10Pa以下の真空中において、イオンクリーニングによって除去することが好ましい。イオンクリーニングは、例えば、鋼板に−300V以下の負のバイアス電圧を印加することによりイオンを加速し、加速したイオンを10秒間以上鋼板に衝突させることにより行なう。バイアス電圧は、−500V以下が好ましく、−800V以下がより好ましい。これにより、イオンの運動エネルギーが高くなって、クリーニング能力が上昇し、必要時間が短縮し、生産性が上がる。一方、バイアス電圧を過度に低くした場合は、鋼板に歪を与えることによって、鉄損を増大させてしまう場合があるため、バイアス電圧の下限は−2000Vが好ましい。
クリーニング時間は、5分間以内が好ましく、2分間以内がより好ましい。
本発明の方向性電磁鋼板は、上述した鋼板上に、窒化物および酸化物を含有するセラミクス被膜を有する。
セラミクス被膜の態様としては、例えば、以下の2態様が好適に挙げられる。
態様1:セラミクス被膜として窒化物被膜を成膜し、その後、後述する絶縁張力酸化物被膜を成膜する際の焼き付けによって、この窒化物の一部が酸化されて酸化物が生成することにより、セラミクス被膜が窒化物とともに酸化物も含有する態様
態様2:セラミクス被膜が、その成膜当初(絶縁張力酸化物被膜を成膜する前の時点)から、窒化物とともに酸化物も含有する態様
セラミクス被膜が含有する窒化物は、Cr、Ti、Zr、Mo、Nb、Si、Al、Ta、Hf、WおよびYからなる群から選ばれる少なくとも1種の元素を含む。
窒化物の具体例としては、AlCrN、CrN、TiN、TiCN、TiAlN、および、TiCrNなどが挙げられる。これらのうち、AlCrNおよびCrNなどのAlおよびCrからなる群から選ばれる少なくとも1種の元素を含む窒化物が好ましい。
セラミクス被膜のヤング率をより高めるために、例えば、AlCrNに、Siなどを例えば数%以内で固溶させてもよい。以下、これを、便宜的に「AlSiCrN」とも表記する。
上述したように、セラミクス被膜が含有する酸化物は、コランダム型の結晶構造を有する。セラミクス被膜の酸化物がコランダム型の結晶構造を有することは、例えば、電子線回折法により確認することができる。
上述した態様1である場合、上述したように、セラミクス被膜は、絶縁張力酸化物被膜側の表層(表面を含む厚さ10nm以下の領域)に酸化物を含有することが好ましく、この表層のみに酸化物が形成されていることがより好ましい。
セラミクス被膜のヤング率は、上述したように、高いほど鉄損低減量が増大する傾向が認められることから、230GPa以上であり、300GPa以上が好ましい。上限は特に限定されないが、例えば、500GPa以下とする。
Ei:圧子材質(ダイヤモンド)のヤング率(=1141GPa)
ν:試料のポアソン比
νi:圧子材質(ダイヤモンド)のポアソン比(=0.070)
セラミクス被膜の平均膜厚は、0.01μm以上0.30μm以下とする。
製造コストを抑えるため、膜厚は小さい方がよく、上限を0.30μmとする。
一方で、膜厚を過度に薄くしすぎると、絶縁張力酸化物被膜の被膜密着性が劣化するため、下限は0.01μmとする。より好ましい平均膜厚は、0.03μm以上0.10μm以下である。
セラミクス被膜の平均膜厚は、本発明においては、予めそれぞれの組成で既知の膜厚の標準板を用い、蛍光X線によって任意の3箇所で測定した膜厚の平均値とする。
セラミクス被膜が含有する窒化物の結晶方位は、{111}、{100}({200}も同じ)、および、{110}({220}も同じ)のいずれか1つの方向に集積していることが好ましい。
ここで、セラミクス被膜は、AIP法を用いて、種々のバイアス電圧条件にて成膜した、膜厚0.10μmのCrN被膜とした。最小曲げ径は、絶縁張力酸化物被膜を形成した後、窒素雰囲気中で800℃×30分間の焼鈍を行なった後に測定した。
X線回折法を用いて、CrN被膜の{111}、{200}および{220}に対応する回折ピークの強度(CPS)を測定し、そのうち最大の値を「Ipeak1」、次に高い値を「Ipeak2」とした。さらに、セラミクス被膜の単一方位集積の簡易的な指標として、「Ipeak1/Ipeak2」を用いた。
従来の方向性電磁鋼板の最小曲げ径が30mm以下であることを考えると、「Ipeak1/Ipeak2」の値は、1.5以上であることが好ましい。そのための製造方法は特に限定するものではないが、AIP法で成膜する場合であれば、成膜のバイアス電圧を−50〜500Vの範囲において適宜調整すればよい。
セラミクス被膜の成膜には、CVD法またはPVD法などが用いられるが、例えば熱CVD法は、成膜温度が高いために成膜組織が成長して軟質化してしまう傾向があることから、PVD法を用いることが好ましい。
真空通板装置を用いる場合、その構造は、2段以上の差圧式構造にすることが好ましい。蒸着前の鋼板には、水分が吸着しているため、1段目の真空室でこの水分を除去することができるからであり、3段の差圧構造にすることがより好ましい。水分があると、セラミクス被膜内に欠損を生じ、硬度が低下し、被膜密着性が低減する場合がある。
品質安定のため、セラミクス被膜の源である蒸発源(または「ターゲット」ともいう)は、鋼板全体にムラなく均一にセラミクス被膜を成膜できるように配置する。
炉長は、所望するクリーニング時間および成膜速度などが達成できるように、事前に決めておけばよい。
本発明の方向性電磁鋼板は、上述したセラミクス被膜上に、絶縁張力酸化物被膜を有する。絶縁張力酸化物被膜は、酸化物被膜であって、かつ、変圧器鉄心として使用するため、絶縁被膜である。
絶縁張力酸化物被膜は、酸化物を含有するが、この酸化物は、例えば、後述する処理液に含まれるリン酸塩に由来し、その具体例としては、珪リン酸ガラスが挙げられる。
絶縁張力酸化物被膜は、このような酸化物の含有量が85質量%以上であることが好ましく、95質量%以上であることがより好ましく、実質的に酸化物のみからなることがさらに好ましい。
絶縁張力酸化物被膜は、10MPa以上の張力を有する。
絶縁張力酸化物被膜の張力の評価方法(測定方法)は、次の通りである。まず、鋼板(フォルステライト被膜なし)の両面にセラミクス被膜および絶縁張力酸化物被膜がこの順に形成された反りのない試験片(圧延方向:280mm、圧延直角方向:30mm)を準備する。準備した試験片の片面の全面に、腐食防止テープを貼り付ける。その後、腐食防止テープを貼り付けた試験片を、110℃程度の水酸化ナトリウム水溶液に、10分間程度、浸漬させることにより、腐食防止テープを貼り付けていない側の面の絶縁張力酸化物被膜を除去する。片面側の絶縁張力酸化物被膜が無いので、鋼板は、板厚方向−圧延方向面内において曲率(反り)を生じる。腐食防止テープを除去し、鋼板の曲率半径Rを求める。絶縁張力酸化物被膜の張力σは、式「σ=Ed/3R」として与えられる。ここで、Eは、圧延方向の鋼板のヤング率、dは片面の被膜の膜厚である。
絶縁張力酸化物被膜の片面の膜厚は、高い張力が得られやすいという理由から、1.0μm以上が好ましく、2.0μm以上がより好ましい。
一方、占積率という観点からは、絶縁張力酸化物被膜の片面の膜厚は、10.0μm以下が好ましく、4.0μm以下がより好ましい。
絶縁張力酸化物被膜を成膜する方法は、特に限定されないが、後述する処理液を、ロールコーターによって塗布し、その後、焼き付けして形成する方法が、コスト的に有利である。
焼き付けの際の雰囲気は、例えば、窒素雰囲気である。
処理液は、コロイダルシリカを含有することが好ましい。コロイダルシリカの平均粒子径は、5〜200nmが好ましい。コロイダルシリカの含有量は、固形分換算で、リン酸塩100質量部に対して、50〜150質量部が好ましい。
処理液には、さらに、無水クロム酸および/または重クロム酸塩を含有させることができ、その含有量は、固形分換算(乾固分比率)で、リン酸塩100質量部に対して、10〜50質量部が好ましい。
処理液には、さらに、シリカ粉末およびアルミナ粉末などの無機鉱物粒子を添加でき、その含有量は、固形分換算で、リン酸塩100質量部に対して、0.1〜10質量部が好ましい。
鋼板の表面に溝を形成することにより磁区細分化できる。この場合、セラミクス被膜の成膜後に溝を形成するとセラミクス被膜の除去に追加コストが発生することから、セラミクス被膜の成膜前に溝を形成することが好ましい。
電子ビームまたはレーザの照射による非耐熱型の磁区細分化を行なう場合、絶縁張力酸化物被膜を形成した後に行なうことが好ましい。絶縁張力酸化物被膜によっては、700℃以上の高温で成膜する被膜があるため、絶縁張力酸化物被膜の形成前に電子ビームなどによって歪みを導入しても、絶縁張力酸化物被膜を形成する際に、導入された歪みが消失してしまい、磁区細分化の効果が減少するためである。
非耐熱型の磁区細分化の手法としては、レーザ照射の場合、平滑化された鋼板表面で反射されて、エネルギー照射効率が低くなる場合があることから、レーザ照射よりも、電子ビーム照射の方が好ましい。
本発明の方向性電磁鋼板を変圧器などの鉄心として用いる場合、本発明の方向性電磁鋼板に対して、歪取りなどを目的として焼鈍を施すことができる。
焼鈍の際の温度範囲は、700℃以上900℃以下が好ましい。700℃未満では歪が除去しにくい場合がある。一方、900℃より高くなると、被膜密着性が損なわれる傾向がある。
焼鈍の際の均熱時間は、0.2〜3時間が好ましい。0.2時間未満であると歪が除去しきれない場合がある。一方、3時間を超えると、被膜密着性が損なわれ、鉄損が増大することがある。
〈方向性電磁鋼板の作製〉
鋼組成が質量%でC:20ppm、Si:3.4%であるフォルステライト被膜付きの二次再結晶板(板厚:0.23mm、平均結晶粒径:28〜35mm、平均β角:2.0°)を準備した。
準備した二次再結晶板のフォルステライト被膜を、塩酸、フッ化水素および硝酸の混合液を用いて除去し、その後、フッ化水素水(47%)と過酸化水素水(34.5%)とを1:20で混合した水溶液を用いて、化学研磨を行ない、板厚を0.20mmまで減厚し、Raが0.1μm以下になるまで表面を平滑化し、鋼板を得た。
平滑化の後、鋼板を直ちに真空槽に入れ、−1000Vのバイアス電圧で加速したTiイオンを、1分間、鋼板の表裏面に衝突させ、化学研磨後に不可避的に生成した表面酸化物を除去した。
処理液としては、リン酸マグネシウム(第一リン酸マグネシウム)を100質量部、コロイダルシリカ(ADEKA社製AT−30、平均粒子径:10nm)を80質量部、および、無水クロム酸を20質量部含有する処理液を用いた(後述する試験例2〜6においても、同様)。
セラミクス被膜のヤング率は、350GPaであった。
X線回折法によって、セラミクス被膜のZrSiNが、立方晶系ZrNに近い結晶構造を有すること、および、最も高い回折ピークは{220}であることが分かった。Ipeak1/Ipeak2は、1.5であった。
STEM−EDX(Scanning Transmission Electron Microscope - Energy Dispersive X-ray Analysis)を用いた元素分析によって、セラミクス被膜における絶縁張力酸化物被膜側の表層のみが酸化されている(表層に酸化物が形成されている)ことが確認できた。形成された酸化物は、X線回折法などによっても同定できなかったが、電子線回折法よりコランダム型の結晶構造を有することが確認できた。
〈方向性電磁鋼板の作製〉
鋼組成が質量%でC:20ppm、Si:3.4%であるフォルステライト被膜付きの二次再結晶板(板厚:0.23mm、平均結晶粒径:28〜35mm、平均β角:2.0°)を準備した。
準備した二次再結晶板のフォルステライト被膜を、塩酸、フッ化水素および硝酸の混合液を用いて除去し、その後、フッ化水素水(47%)と過酸化水素水(34.5%)とを1:20で混合した水溶液を用いて、化学研磨を行ない、板厚を0.20mmまで減厚し、Raが0.1μm以下になるまで表面を平滑化し、鋼板を得た。
平滑化の後、鋼板を直ちに真空槽に入れ、−800Vのバイアス電圧で加速したTiイオンを、1分間、鋼板の表裏面に衝突させ、化学研磨後に不可避的に生成した表面酸化物を除去した。
セラミクス被膜のヤング率は、いずれも、330GPa以上であった。
X線回折法によって、セラミクス被膜のCrSiMNが、立方晶系CrNに近い結晶構造を有することが分かった。Ipeak1/Ipeak2は、1.5以上であった。
STEM−EDXを用いた元素分析によって、セラミクス被膜における絶縁張力酸化物被膜側の表層のみが酸化されている(表層に酸化物が形成されている)ことが確認できた。形成された酸化物は、電子線回折法により、コランダム型の結晶構造を有することが確認できた。
〈方向性電磁鋼板の作製〉
鋼組成が質量%でC:20ppm、Si:3.4%であるフォルステライト被膜付きの二次再結晶板(板厚:0.23mm、平均結晶粒径:28〜35mm、平均β角:2.0°)を準備した。
準備した二次再結晶板のフォルステライト被膜を、塩酸、フッ化水素および硝酸の混合液を用いて除去し、その後、フッ化水素水(47%)と過酸化水素水(34.5%)とを1:20で混合した水溶液を用いて、化学研磨を行ない、板厚を0.20mmまで減厚し、Raが0.1μm以下になるまで表面を平滑化し、鋼板を得た。
平滑化の後、鋼板を直ちに真空槽に入れ、−1000Vのバイアス電圧で加速したTiイオンを、1分間、鋼板の表裏面に衝突させ、化学研磨後に不可避的に生成した表面酸化物を除去した。
セラミクス被膜のヤング率は、320GPaであった。
X線回折測定によって、セラミクス被膜のAlCrNが、立方晶系AlNに近い結晶構造を有すること、および、最も高い回折ピークは{111}であることが分かった。Ipeak1/Ipeak2は、2.0であった。
STEM−EDXを用いた元素分析によって、セラミクス被膜における絶縁張力酸化物被膜側の表層のみが酸化されている(表層に酸化物が形成されている)ことが確認できた。形成された酸化物は、X線回折法などによっても同定できなかったが、電子線回折法によりコランダム型の結晶構造を有することが確認できた。
〈方向性電磁鋼板の作製〉
30μmの深さで幅方向に延びた溝が圧延方向に3mm間隔で周期的に形成され、かつ、鋼組成が質量%でC:20ppm、Si:3.4%であるフォルステライト被膜付きの二次再結晶板(板厚:0.23mm、平均結晶粒径:30mm、平均β角:2.0°)を準備した。
準備した二次再結晶板のフォルステライト被膜を、塩酸、フッ化水素および硝酸の混合液を用いて除去し、板厚を0.210mmまで減厚し、その後、NaCl水溶液を電解液として用いた電解研磨によって、板厚を0.200mmまで減厚し、Raが0.1μm以下になるまで表面を平滑化し、鋼板を得た。
平滑化の後、鋼板を直ちに真空槽に入れ、−800Vのバイアス電圧で加速したTiイオンを、3分間、鋼板の表裏面に衝突させ、化学研磨後に不可避的に生成した表面酸化物を除去した。
セラミクス被膜のヤング率は、330GPaであった。
X線回折測定によって、セラミクス被膜のAlSiCrNが、立方晶系AlNに近い結晶構造を有すること、および、最も高い回折ピークは{200}であることが分かった。Ipeak1/Ipeak2は、6.1であった。
STEM−EDXを用いた元素分析によって、セラミクス被膜における絶縁張力酸化物被膜側の表層のみが酸化されている(表層に酸化物が形成されている)ことが確認できた。形成された酸化物は、電子線回折法よりコランダム型の結晶構造を有することが確認できた。
〈方向性電磁鋼板の作製〉
鋼組成が質量%でC:20ppm、Si:3.4%であるフォルステライト被膜付きの二次再結晶板(板厚:0.23mm、平均結晶粒径:28〜35mm、平均β角:2.0°)を準備した。
準備した二次再結晶板のフォルステライト被膜を、塩酸、フッ化水素および硝酸の混合液を用いて除去し、その後、フッ化水素水(47%)と過酸化水素水(34.5%)とを1:20で混合した水溶液を用いて、化学研磨を行ない、板厚を0.20mmまで減厚し、Raが0.1μm以下になるまで表面を平滑化し、鋼板を得た。
平滑化の後、鋼板を直ちに真空槽に入れ、−1000Vのバイアス電圧で加速したTiイオンを、1分間、鋼板の表裏面に衝突させ、化学研磨後に不可避的に生成した表面酸化物を除去した。
セラミクス被膜のヤング率は、300GPaであった。
X線回折法によって、セラミクス被膜のTiNが、立方晶系TiNに近い結晶構造を有すること、および、最も高い回折ピークは{200}であることが分かった。Ipeak1/Ipeak2は、6.4であった。
STEM−EDXを用いた元素分析によって、セラミクス被膜における絶縁張力酸化物被膜側の表層のみが酸化されている(表層に酸化物が形成されている)ことが確認できた。形成された酸化物は、電子線回折法により、コランダム型の結晶構造を有するとは認められなかった。
〈方向性電磁鋼板の作製〉
平均β角が3.3°または2.1°(下記表6参照)であり、かつ、鋼組成が質量%でC:20ppm、Si:3.4%であるフォルステライト被膜付きの二次再結晶板(板厚0.23mm、平均結晶粒径28〜35mm)を準備した。
準備した二次再結晶板のフォルステライト被膜を、塩酸、フッ化水素および硝酸の混合液を用いて除去し、その後、フッ化水素水(47%)と過酸化水素水(34.5%)とを1:20で混合した水溶液を用いて、化学研磨を行ない、板厚を0.20mmまで減厚し、Raが0.1μm以下になるまで表面を平滑化し、鋼板を得た。
平滑化の後、鋼板を直ちに真空槽に入れ、−1000Vのバイアス電圧で加速したTiイオンを、1分間、鋼板の表裏面に衝突させ、化学研磨後に不可避的に生成した表面酸化物を除去した。
セラミクス被膜のヤング率は、280GPaであった。
X線回折測定によって、セラミクス被膜のCrNが、立方晶系CrNに近い結晶構造を有すること、および、最も高い回折ピークは{111}であることが分かった。Ipeak1/Ipeak2は、1.8であった。
STEM−EDXを用いた元素分析によって、セラミクス被膜における絶縁張力酸化物被膜側の表層のみが酸化されている(表層に酸化物が形成されている)ことが確認できた。形成された酸化物は、電子線回折法により、コランダム型の結晶構造を有することが確認できた。
No.1〜8、10および12〜13の方向性電磁鋼板を対比すると、セラミクス被膜の窒化物がAlCrN(No.8)、AlSiCrN(No.10)、または、CrN(No.12〜13)である方向性電磁鋼板は、最小曲げ径の値がより小さく、被膜密着性もより良好であった。
Claims (7)
- 鋼板と、前記鋼板上に配置されたセラミクス被膜と、前記セラミクス被膜上に配置された絶縁張力酸化物被膜と、を備える方向性電磁鋼板であって、
前記セラミクス被膜が、窒化物および酸化物を含有し、
前記窒化物が、Cr、Ti、Zr、Mo、Nb、Si、Al、Ta、Hf、WおよびYからなる群から選ばれる少なくとも1種の元素を含み、
前記酸化物が、コランダム型の結晶構造を有し、
前記セラミクス被膜のナノインデンテーション法により測定されるヤング率が、230GPa以上であり、
前記セラミクス被膜の平均膜厚が、0.01μm以上0.30μm以下であり、
前記絶縁張力酸化物被膜の張力が、10MPa以上である、方向性電磁鋼板。 - 前記セラミクス被膜は、前記絶縁張力酸化物被膜側の表層に、前記酸化物を含有する、請求項1に記載の方向性電磁鋼板。
- 前記窒化物が、立方晶系の結晶構造を有する、請求項1または2に記載の方向性電磁鋼板。
- 前記窒化物が、2種以上の前記元素を含む、請求項1〜3のいずれか1項に記載の方向性電磁鋼板。
- 前記窒化物の結晶方位が、{111}、{100}および{110}のいずれか1つの方向に集積している、請求項1〜4のいずれか1項に記載の方向性電磁鋼板。
- 請求項1〜5のいずれか1項に記載の方向性電磁鋼板を製造する方法であって、
前記セラミクス被膜を、AIP法によって成膜する、方向性電磁鋼板の製造方法。 - 前記絶縁張力酸化物被膜を成膜する際に、ロールコーターを用いる、請求項6に記載の方向性電磁鋼板の製造方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016204244 | 2016-10-18 | ||
JP2016204244 | 2016-10-18 | ||
PCT/JP2017/037588 WO2018074486A1 (ja) | 2016-10-18 | 2017-10-17 | 方向性電磁鋼板および方向性電磁鋼板の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2018074486A1 true JPWO2018074486A1 (ja) | 2018-10-18 |
JP6516064B2 JP6516064B2 (ja) | 2019-05-22 |
Family
ID=62018711
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018505748A Active JP6516064B2 (ja) | 2016-10-18 | 2017-10-17 | 方向性電磁鋼板および方向性電磁鋼板の製造方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11326219B2 (ja) |
EP (1) | EP3514262A4 (ja) |
JP (1) | JP6516064B2 (ja) |
KR (1) | KR102243871B1 (ja) |
CN (1) | CN109804105B (ja) |
RU (1) | RU2706940C1 (ja) |
WO (1) | WO2018074486A1 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
PL3653758T3 (pl) * | 2017-07-13 | 2022-07-04 | Nippon Steel Corporation | Blacha cienka ze stali elektrotechnicznej o ziarnach zorientowanych |
KR102419354B1 (ko) | 2017-07-13 | 2022-07-13 | 닛폰세이테츠 가부시키가이샤 | 방향성 전자 강판 및 그 제조 방법 |
US20210269921A1 (en) * | 2018-08-17 | 2021-09-02 | Jfe Steel Corporation | Production method for treatment solution for forming insulating coating, production method for steel sheet having insulating coating, and production apparatus for treatment solution for forming insulating coating |
WO2020149345A1 (ja) * | 2019-01-16 | 2020-07-23 | 日本製鉄株式会社 | 方向性電磁鋼板及びその製造方法 |
JP7492109B2 (ja) * | 2020-02-05 | 2024-05-29 | 日本製鉄株式会社 | 方向性電磁鋼板 |
CN112987158B (zh) * | 2021-04-09 | 2022-03-18 | 广东晟铂纳新材料科技有限公司 | 一种铁基光变颜料及其制造方法和应用 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5224499B2 (ja) * | 1973-01-22 | 1977-07-01 | ||
JPS6354767B2 (ja) * | 1985-02-22 | 1988-10-31 | Kawasaki Steel Co | |
JP2005240157A (ja) * | 2004-02-27 | 2005-09-08 | Jfe Steel Kk | クロムを含まず耐吸湿性に優れたリン酸塩系絶縁被膜を有する方向性電磁鋼板およびクロムを含まず耐吸湿性に優れたリン酸塩系絶縁被膜の被成方法。 |
JP2005264236A (ja) * | 2004-03-18 | 2005-09-29 | Jfe Steel Kk | 鉄損が極めて低くかつ被膜密着性に優れた方向性電磁鋼板およびその製造方法 |
JP2013121191A (ja) * | 2011-12-06 | 2013-06-17 | Seiko Epson Corp | 圧電モーター、駆動装置、電子部品搬送装置、電子部品検査装置、ロボットおよびプリンター |
JP2015118200A (ja) * | 2013-12-18 | 2015-06-25 | 株式会社Jvcケンウッド | 光偏向素子及び光偏向素子の製造方法 |
WO2016125504A1 (ja) * | 2015-02-05 | 2016-08-11 | Jfeスチール株式会社 | 方向性電磁鋼板およびその製造方法並びに変圧器騒音特性の予測方法 |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5913077B2 (ja) | 1975-08-20 | 1984-03-27 | 松下電器産業株式会社 | 火災等の報知システム |
EP0215134B1 (en) | 1985-02-22 | 1990-08-08 | Kawasaki Steel Corporation | Process for producing unidirectional silicon steel plate with extraordinarily low iron loss |
EP0193324B1 (en) | 1985-02-22 | 1989-10-11 | Kawasaki Steel Corporation | Extra-low iron loss grain oriented silicon steel sheets |
JPS61235514A (ja) | 1985-04-10 | 1986-10-20 | Kawasaki Steel Corp | 熱安定性、超低鉄損一方向性珪素鋼板の製造方法 |
CN1039915C (zh) | 1989-07-05 | 1998-09-23 | 新日本制铁株式会社 | 方向性电磁钢板上的绝缘皮膜成型方法 |
US6287703B1 (en) * | 1997-12-24 | 2001-09-11 | Kawasaki Steel Corporation | Ultralow-iron-loss grain oriented silicon steel plate and process for producing the same |
DE10130308B4 (de) * | 2001-06-22 | 2005-05-12 | Thyssenkrupp Electrical Steel Ebg Gmbh | Kornorientiertes Elektroblech mit einer elektrisch isolierenden Beschichtung |
JP2004027345A (ja) | 2002-06-28 | 2004-01-29 | Jfe Steel Kk | 低鉄損方向性電磁鋼板およびその製造方法 |
JP4192818B2 (ja) | 2004-03-18 | 2008-12-10 | Jfeスチール株式会社 | 方向性電磁鋼板 |
PL2022874T3 (pl) | 2006-05-19 | 2012-12-31 | Nippon Steel Corp | Teksturowana elektrotechniczna blacha stalowa mająca film izolacyjny o wysokiej wytrzymałości na rozciąganie i sposób obróbki filmu izolacyjnego |
JP5224499B2 (ja) | 2007-03-05 | 2013-07-03 | 株式会社タオ | 教材学習用記憶媒体 |
US9011585B2 (en) | 2007-08-09 | 2015-04-21 | Jfe Steel Corporation | Treatment solution for insulation coating for grain-oriented electrical steel sheets |
RU2576355C1 (ru) * | 2011-12-26 | 2016-02-27 | ДжФЕ СТИЛ КОРПОРЕЙШН | Текстурированный лист электротехнической стали |
JP6354767B2 (ja) | 2016-02-05 | 2018-07-11 | 三菱電機株式会社 | 臭気監視システム |
-
2017
- 2017-10-17 JP JP2018505748A patent/JP6516064B2/ja active Active
- 2017-10-17 EP EP17862005.0A patent/EP3514262A4/en active Pending
- 2017-10-17 CN CN201780062699.6A patent/CN109804105B/zh active Active
- 2017-10-17 KR KR1020197010118A patent/KR102243871B1/ko active IP Right Grant
- 2017-10-17 WO PCT/JP2017/037588 patent/WO2018074486A1/ja active Application Filing
- 2017-10-17 US US16/342,879 patent/US11326219B2/en active Active
- 2017-10-17 RU RU2019111556A patent/RU2706940C1/ru active
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5224499B2 (ja) * | 1973-01-22 | 1977-07-01 | ||
JPS6354767B2 (ja) * | 1985-02-22 | 1988-10-31 | Kawasaki Steel Co | |
JP2005240157A (ja) * | 2004-02-27 | 2005-09-08 | Jfe Steel Kk | クロムを含まず耐吸湿性に優れたリン酸塩系絶縁被膜を有する方向性電磁鋼板およびクロムを含まず耐吸湿性に優れたリン酸塩系絶縁被膜の被成方法。 |
JP2005264236A (ja) * | 2004-03-18 | 2005-09-29 | Jfe Steel Kk | 鉄損が極めて低くかつ被膜密着性に優れた方向性電磁鋼板およびその製造方法 |
JP2013121191A (ja) * | 2011-12-06 | 2013-06-17 | Seiko Epson Corp | 圧電モーター、駆動装置、電子部品搬送装置、電子部品検査装置、ロボットおよびプリンター |
JP2015118200A (ja) * | 2013-12-18 | 2015-06-25 | 株式会社Jvcケンウッド | 光偏向素子及び光偏向素子の製造方法 |
WO2016125504A1 (ja) * | 2015-02-05 | 2016-08-11 | Jfeスチール株式会社 | 方向性電磁鋼板およびその製造方法並びに変圧器騒音特性の予測方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP3514262A1 (en) | 2019-07-24 |
CN109804105B (zh) | 2021-12-07 |
EP3514262A4 (en) | 2019-07-24 |
WO2018074486A1 (ja) | 2018-04-26 |
US11326219B2 (en) | 2022-05-10 |
CN109804105A (zh) | 2019-05-24 |
RU2706940C1 (ru) | 2019-11-21 |
JP6516064B2 (ja) | 2019-05-22 |
KR20190049819A (ko) | 2019-05-09 |
KR102243871B1 (ko) | 2021-04-22 |
US20200056256A1 (en) | 2020-02-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6516064B2 (ja) | 方向性電磁鋼板および方向性電磁鋼板の製造方法 | |
RU2532539C2 (ru) | Способ изготовления листа текстурированной электротехнической стали | |
WO2013046716A1 (ja) | 方向性電磁鋼板およびその製造方法 | |
JP6769587B1 (ja) | 方向性電磁鋼板およびその製造方法 | |
JP6624180B2 (ja) | 方向性電磁鋼板およびその製造方法 | |
JP6424875B2 (ja) | 方向性電磁鋼板およびその製造方法 | |
JP6624246B2 (ja) | 方向性電磁鋼板およびその製造方法 | |
KR102230629B1 (ko) | 방향성 전기 강판 및 방향성 전기 강판의 제조 방법 | |
JP6410002B1 (ja) | 方向性電磁鋼板および方向性電磁鋼板の製造方法 | |
WO2002097146A1 (en) | Unidirectional silicon steel sheet of ultra-low iron loss and method for production thereof | |
JP5047466B2 (ja) | 被膜密着性に優れた超低鉄損方向性電磁鋼板 | |
JP6856080B2 (ja) | 方向性電磁鋼板の製造方法 | |
JP6819654B2 (ja) | 方向性電磁鋼板およびその製造方法 | |
JP2006253555A6 (ja) | 被膜密着性に優れた超低鉄損方向性電磁鋼板 | |
JP6791389B2 (ja) | 方向性電磁鋼板の製造方法および連続成膜装置 | |
RU2771766C1 (ru) | Лист электротехнической стали с ориентированной зеренной структурой, имеющий превосходную адгезию изоляционного покрытия без покрытия из форстерита | |
JP2007162095A (ja) | フェライト被膜付き方向性電磁鋼板 | |
KR102443298B1 (ko) | 표면 처리 설비 | |
JP4206942B2 (ja) | 鉄損が極めて低くかつ被膜密着性に優れた方向性電磁鋼板およびその製造方法 | |
JP7269504B2 (ja) | 方向性電磁鋼板の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20181113 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190108 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20190108 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20190319 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20190401 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6516064 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |