JPWO2018008579A1 - 偏光子保護フィルム用樹脂組成物、偏光子保護フィルム - Google Patents

Abstract

寸法安定性、紫外線カット性能、透明性、外観に優れた偏光子保護フィルム用樹脂組成物及びその樹脂組成物を用いた偏光子保護フィルムを提供することを課題とする。
本発明によれば、スチレン系共重合体（Ａ）１０〜１００質量％とメタクリル樹脂（Ｂ）０〜９０質量％からなる熱可塑性樹脂組成物（Ｃ）１００質量部に対して、紫外線吸収剤（Ｄ）０．１〜１０質量部を含有し、スチレン系共重合体（Ａ）は、波長２００〜２７０ｎｍの光線透過率が５％以下であり、紫外線吸収剤（Ｄ）は、ＪＩＳ Ｋ０１１５に準拠して測定した波長３８０ｎｍの吸光度が０．０５以上である、偏光子保護フィルム用樹脂組成物及びその樹脂組成物を用いた偏光子保護フィルムが得られる。

Description

本発明は、偏光子保護フィルム用樹脂組成物及びその樹脂組成物を用いた偏光子保護フィルムに関するものである。

スマートフォンやタブレット端末、テレビ、パソコン、カーナビなどの液晶表示装置には、透明電極、液晶層、カラーフィルター等をガラス板で挟み込んだ液晶セルがあり、その液晶セルの両側には偏光板が使用されている。偏光板は、偏光子フィルムの両面に偏光子保護フィルムを貼り合わせた構成となっており、紫外線や熱、大気中の水分による影響を受け易い偏光子フィルムを偏光子保護フィルムで守っている。偏光子保護フィルムには、光学特性に優れるＴＡＣ（トリアセチルセルロース）フィルムが主に用いられてきたが、ＴＡＣフィルムの課題として、ＴＡＣ自身の高い吸水性により、寸法変形を発生し易い欠点がある。吸水性の高いＴＡＣフィルムの代替材としてアクリル系樹脂を使用した技術や、紫外線から偏光子フィルムを守る為に紫外線吸収剤を使用した技術があるが、寸法安定性や紫外線カット性能、透明性、外観のバランスに優れた偏光子保護フィルム用樹脂組成物及び偏光子保護フィルムは提案されていない。

特開２００６−３２８３３４号公報 特開２０１１−２２７５３０号公報

寸法安定性、紫外線カット性能、透明性、外観に優れた偏光子保護フィルム用樹脂組成物及びその樹脂組成物を用いた偏光子保護フィルムを提供することを課題とする。

即ち、本発明は以下の通りである。
（１）スチレン系共重合体（Ａ）１０〜１００質量％とメタクリル樹脂（Ｂ）０〜９０質量％からなる熱可塑性樹脂組成物（Ｃ）１００質量部に対して、紫外線吸収剤（Ｄ）０．１〜１０質量部を含有し、スチレン系共重合体（Ａ）は、波長２００〜２７０ｎｍの光線透過率が５％以下であり、紫外線吸収剤（Ｄ）は、ＪＩＳ Ｋ０１１５に準拠して測定した波長３８０ｎｍの吸光度が０．０５以上である、偏光子保護フィルム用樹脂組成物。
（２）スチレン系共重合体（Ａ）が、芳香族ビニル単量体単位４５〜８５質量％、(メタ)アクリル酸エステル単量体単位５〜４５質量％、不飽和ジカルボン酸無水物単量体単位１０〜３０質量％からなり、ＪＩＳ Ｋ７２０６に準拠して求めたビカット軟化温度が１１５℃以上であることを特徴とする（１）に記載の偏光子保護フィルム用樹脂組成物。
（３）スチレン系共重合体（Ａ）が、ＪＩＳ Ｋ７２０９に準拠して求めた飽和吸水率が１．０％以下であることを特徴とする（１）〜（２）記載の偏光子保護フィルム用樹脂組成物。
（４）（１）〜（３）いずれかに記載の偏光子保護フィルム用樹脂組成物からなる偏光子保護フィルム。

本発明の樹脂組成物は、寸法安定性、紫外線カット性能、透明性、外観に優れた偏光子保護フィルム用途に有用である。

＜用語の説明＞
本願明細書において、例えば、「Ａ〜Ｂ」なる記載は、Ａ以上でありＢ以下であることを意味する。

以下、本発明の実施形態について、詳細に説明する。

スチレン系共重合体（Ａ）とは、芳香族ビニル単量体単位、（メタ）アクリル酸エステル単量体単位、不飽和ジカルボン酸無水物単量体単位を有する共重合体のことであり、例えばスチレン−メチルメタクリレート−無水マレイン酸共重合体がある。

芳香族ビニル単量体単位としては、スチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、２，４−ジメチルスチレン、エチルスチレン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルスチレン、α−メチルスチレン、α−メチル−ｐ−メチルスチレン等の各スチレン系単量体に由来する単位が挙げられる。これらの中でも好ましくはスチレン単位である。これら芳香族ビニル単量体単位は、１種類でもよく、２種類以上の併用であってもよい。

（メタ）アクリル酸エステル単量体単位としては、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、ジシクロペンタニルメタクリレート、イソボルニルメタクリレートなどの各メタクリル酸エステル単量体、およびメチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、２−メチルヘキシルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、デシルアクリレート等の各アクリル酸エステル単量体に由来する単位が挙げられる。これらの中でも好ましくはメチルメタクリレート単位である。これら（メタ）アクリル酸エステル単量体単位は、１種類でもよく、２種類以上の併用であってもよい。

不飽和ジカルボン酸無水物単量体単位としては、マレイン酸無水物、イタコン酸無水物、シトラコン酸無水物、アコニット酸無水物等の各無水物単量体に由来する単位が挙げられる。これらの中でも好ましくはマレイン酸無水物単位である。不飽和ジカルボン酸無水物単量体単位は、１種でもよく、２種類以上の併用であってもよい。

スチレン系共重合体（Ａ）は、芳香族ビニル単量体単位、（メタ）アクリル酸エステル単量体単位、および不飽和ジカルボン酸無水物単量体単位以外の、共重合可能なビニル単量体の単位を共重合体中に発明の効果を阻害しない範囲で含んでもよく、好ましくは５質量％以下である。共重合可能なビニル単量体の単位としては、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のシアン化ビニル単量体、アクリル酸、メタクリル酸等のビニルカルボン酸単量体、Ｎ−メチルマレイミド、Ｎ−エチルマレイミド、Ｎ−ブチルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド等のＮ−アルキルマレイミド単量体、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−メチルフェニルマレイミド、Ｎ−クロルフェニルマレイミド等のＮ−アリールマレイミド単量体等の各単量体に由来する単位が挙げられる。共重合可能なビニル単量体の単位は、２種類以上の併用であってもよい。

スチレン系共重合体（Ａ）の構成単位は、芳香族ビニル単量体単位４５〜８５質量％、（メタ）アクリル酸エステル系単量体単位５〜４５質量％、不飽和ジカルボン酸無水物単量体単位１０〜３０質量％であり、好ましくは芳香族ビニル単量体単位５０〜８０質量％、（メタ）アクリル酸エステル単量体単位８〜３８質量％、不飽和ジカルボン酸無水物単量体単位１２〜２５質量％である。

芳香族ビニル単量体単位が４５質量％以上であれば、熱安定性、低吸湿性、紫外線カット性能、成形加工性に優れ、５０質量％以上であれば、さらに熱安定性、低吸湿性、紫外線カット性能、成形加工性に優れる。芳香族ビニル単量体単位が８５質量％以下であれば、透明性に優れ、８０質量％以下であれば、さらに透明性に優れる。

（メタ）アクリル酸エステル単量体単位が５質量％以上であれば、透明性に優れ、８質量％以上であれば、さらに透明性に優れる。（メタ）アクリル酸エステル単量体単位が４５質量％以下であれば、熱安定性、低吸湿性、紫外線カット性能、成形加工性に優れ、３８質量％以下であれば、さらに熱安定性、低吸湿性、紫外線カット性能、成形加工性に優れる。

不飽和ジカルボン酸無水物単量体単位が１０質量％以上であれば、耐熱性に優れ、１２質量％以上であれば、さらに耐熱性に優れる。不飽和ジカルボン酸無水物単量体単位が３０質量％以下であれば、熱安定性と成形加工性に優れ、２５質量％以下であれば、さらに熱安定性と成形加工性に優れる。

スチレン系共重合体（Ａ）の波長２００〜２７０ｎｍにおける光線透過率は５％以下であり、好ましくは３％以下、さらに好ましくは１％以下である。波長２００〜２７０ｎｍにおける光線透過率が５％以下であれば、共重合体単独で波長２００〜２７０ｎｍの紫外線を吸収する為、紫外線カット性能に優れる。また、共重合体自体に波長２００〜２７０ｎｍの紫外線カット性能があれば、波長２００〜２７０ｎｍの紫外線を吸収するような紫外線吸収剤を新たに添加する必要が無い為、透明性や色相、熱安定性に優れる。なお、波長２００〜２７０ｎｍの光線透過率は、溶融押出成形で作製した厚み６０μｍのフィルムを分光光度計（日本分光社製Ｖ−６７０）を用いて測定し、波長２００ｎｍ〜２７０ｎｍにおける光線透過率の平均値として算出した値のことである。

スチレン系共重合体（Ａ）は、ＪＩＳ Ｋ７２０６に準拠し荷重５０Ｎ、昇温速度５０℃／時間で求めたビカット軟化温度が１１５℃以上であることが好ましく、さらに好ましくは１２０℃以上、特に好ましくは１２５℃以上である。なお、ビカット軟化温度が高いほど耐熱性が良好となり、寸法安定性に優れる。

スチレン系共重合体（Ａ）は、ＪＩＳ Ｋ７２０９に準拠して求めた飽和吸水率が１．０％以下であることが好ましく、さらに好ましくは０．９以下、特に好ましくは０．８以下である。なお、飽和吸水率が低いほど低吸湿性となり、寸法安定性に優れる。

スチレン系共重合体（Ａ）の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１０万〜３０万であることが好ましく、さらに好ましくは１１万〜２５万である。重量平均分子量（Ｍｗ）が１０万より小さいと強度が低くなり、３０万を超えると成形加工性が悪くなる。スチレン系共重合体（Ａ）の重量平均分子量（Ｍｗ）は、重合工程での重合温度、重合開始剤の種類及び添加量、連鎖移動剤の種類及び添加量、重合時に使用する溶媒の種類及び量等によって制御することができる。なお、重量平均分子量（Ｍｗ）とは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）にて測定されるポリスチレン換算の値であり、下記記載の測定条件における測定値である。
装置名：ＳＹＳＴＥＭ−２１ Ｓｈｏｄｅｘ（昭和電工社製）
カラム：ＰＬ ｇｅｌ ＭＩＸＥＤ−Ｂを３本直列
温度：４０℃
検出：示差屈折率
溶媒：テトラヒドロフラン
濃度：２質量％
検量線：標準ポリスチレン（ＰＳ）（ＰＬ社製）を用いて作製した。

スチレン系共重合体（Ａ）のＡＳＴＭ Ｄ１００３に基づき測定した２ｍｍ厚みの全光線透過率は、８８％以上であることが好ましく、さらに好ましくは８９％以上であり、特に好ましくは９０％以上である。２ｍｍ厚みの全光線透過率が８８％以上であれば、メタクリル樹脂（Ｂ）に配合して得られる熱可塑性樹脂組成物（Ｃ）の透明性が良好となる。なお、全光線透過率は射出成形機（東芝機械社製ＩＳ−５０ＥＰＮ）を用いて、シリンダー温度２３０℃、金型温度４０℃の成形条件で成形された縦９０ｍｍ、横５５ｍｍ、厚み２ｍｍの鏡面プレートを、ＡＳＴＭ Ｄ１００３に準拠し、ヘーズメーター（日本電色工業社製ＮＤＨ−１００１ＤＰ型）を用いて測定した値である。

スチレン系共重合体（Ａ）の製造方法について説明する。重合様式においては特に限定はなく、溶液重合、塊状重合等公知の方法で製造できるが、溶液重合がより好ましい。溶液重合で用いる溶剤は、副生成物が出来難く、悪影響が少ないという観点から非重合性であることが好ましい。溶剤の種類としては、特に限定されるものではないが、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセトフェノン等のケトン類、テトラヒドロフラン、１、４−ジオキサン等のエーテル類、トルエン、エチルベンゼン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素等が挙げられるが、単量体や共重合体の溶解度、溶剤回収のし易さの観点から、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンが好ましい。溶剤の添加量は、得られる共重合体量１００質量部に対して、１０〜１００質量部が好ましく、さらに好ましくは３０〜８０質量部である。１０質量部以上であれば、反応速度および重合液粘度を制御する上で好適であり、１００質量部以下であれば、所望の重量平均分子量（Ｍｗ）を得る上で好適である。

重合プロセスは回分式重合法、半回分式重合法、連続重合法のいずれの方式であっても差し支えないが、所望の分子量範囲と透明性を得る上で回分式重合法が好適である。

重合方法は特に限定されないが、簡潔プロセスによって生産性良く製造することが可能であるという観点から、好ましくはラジカル重合法である。重合開始剤としては特に限定されるものではないが、例えばジベンゾイルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−２−メチルシクロヘキサン、ｔ−ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ｔ−ブチルパーオキシアセテート、ジクミルパーオキサイド、エチル−３，３−ジ−（ｔ−ブチルパーオキシ）ブチレート等の公知の有機過酸化物やアゾビスイソブチロニトリル、アゾビスシクロヘキサンカルボニトリル、アゾビスメチルプロピオニトリル、アゾビスメチルブチロニトリル等の公知のアゾ化合物を用いることができる。これらの重合開始剤は２種以上を併用することも出来る。これらの中でも１０時間半減期温度が、７０〜１１０℃である有機過酸化物を用いるのが好ましい。

重量平均分子量（Ｍｗ）が１０万〜３０万のスチレン系共重合体（Ａ）を得る方法については、重合温度、重合時間、および重合開始剤添加量の調整に加えて、溶剤添加量および連鎖移動剤添加量を調整することで得ることが出来る。連鎖移動剤としては、特に限定されるものではないが、例えば、ｎ−ドデシルメルカプタン、ｔ−ドデシルメルカプタンや２，４−ジフェニル−４−メチル−１−ペンテン等の公知の連鎖移動剤を用いることができる。

重合終了後、重合液には本発明の効果を阻害しない範囲で、ヒンダードフェノール系化合物、ラクトン系化合物、リン系化合物、イオウ系化合物等の耐熱安定剤、滑剤や可塑剤、着色剤、帯電防止剤、鉱油等の添加剤を加えても構わない。その添加量は全単量体単位１００質量部に対して０．２質量部未満であることが好ましい。これらの添加剤は単独で用いても、２種類以上を併用しても構わない。

重合液からスチレン系共重合体（Ａ）を回収する方法については、特に限定はなく、公知の脱揮技術を用いることが出来る。例えば、重合液を二軸脱揮押出機にギヤーポンプを用いて連続的にフィードし、重合溶剤や未反応モノマー等の脱揮処理を行い、脱揮された溶融状態のスチレン系共重合体（Ａ）は、造粒工程に移送され、多孔ダイよりストランド状に押出し、コールドカット方式や空中ホットカット方式、水中ホットカット方式にてペレット形状に加工することができる。なお、重合溶剤や未反応モノマー等を含む脱揮成分は、コンデンサー等を用いて凝縮させて回収し、凝縮液を蒸留塔にて精製することで、重合溶剤は再利用することが可能である。

メタクリル樹脂（Ｂ）とは、（メタ）アクリル酸エステル単量体単位を有する重合体であり、例えば、ポリメチルメタクリレートがあり、市販されている一般的なものを使用することが出来る。また本発明においては、さらにスチレン系単量体単位を有することができ、スチレン系単量体単位は２０質量％以下で用いることができる。

メタクリル樹脂（Ｂ）には、本発明の効果を阻害しない範囲でヒンダードフェノール系化合物、ラクトン系化合物、リン系化合物、イオウ系化合物等の耐熱安定剤、滑剤や可塑剤、着色剤、帯電防止剤、鉱油等の添加剤を加えても構わない。

紫外線吸収剤（Ｄ）とは、高分子材料の劣化要因となる紫外線を吸収する添加剤のことであり、例えば、ベンゾトリアゾール系、シアノアクリレート系、トリアジン系、ベンゾフェノン系、ベンゾエート系、サリシレート系、マロン酸エステル系、オキザニリド系（蓚酸アニリド系）等があり、市販されている一般的なものを使用することが出来る。いずれも紫外線を吸収して、高分子材料に対して無害な熱エネルギー等に転換する作用を持つ。

ベンゾトリアゾール系とは、例えば２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−６−ビス（１−メチル−１−フェニルエチル）フェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−ｐ−クレゾール、２−〔５−クロロ（２Ｈ）−ベンゾトリアゾール−２−イル〕−４−メチル−６−（ｔｅｒｔ−ブチル）フェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール、２，２'−メチルレンビス〔６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール〕、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−メチル−６−（３，４，５，６−テトラハイドロフタルイミディルメチル）フェノール、２−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ペンチル−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、６−（２−ベンゾトリアゾイル）−４−ｔ−オクチル−６'−ｔ−ブチル−４'−メチル−２，２'−メチレンビスフェノール等がある。

シアノアクリレート系とは、例えば２，２−ビス｛〔２−シアノー３，３−ジフェニルアクリロイル〕オキシ〕メチル｝プロパン−１，３−ジイル＝ビス（２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリラート）、２−シアノー３，３−ジフェニルアクリル酸エチル、２−シアノー３，３−ジフェニルアクリル酸２−エチルヘキシル等がある。

トリアジン系とは、例えば２−（４，６−ジフェニル―１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−〔（ヘキシル）オキシ〕−フェノール、２−（４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−〔２−（２−エチルヘキサノイルオキシ〕エトキシフェノール、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシ−３−メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン等がある。

ベンゾフェノン系とは、例えばオクタベンゾン、２，２'−ジヒドロキシ−４，４'−ジメトキシベンフェノン、２，２'−４，４'−テトラヒドロベンフェノン、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−５−スルホン酸三水和物、４−ドデシルオキシ−２−ヒドロキシベンゾフェノン、４−ベンジルオキシ−２−ヒドロキベンゾフェノン、１，４−ビス（４−ベンゾイル−３−ヒドロキシフェノキシ）−ブタン、２，２'−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン等がある。

ベンゾエート系とは、例えば２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル３，５−ビス−ｔｅｒｔ−４−ヒドロキシベンゾエート等がある。

サリシレート系とは、例えばフェニルサリシレート、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルサリシレート等がある。

マロン酸エステル系とは、例えばマロン酸［（４−メトキシフェニル）−メチレン］−ジメチルエステル、テトラエチル−２，２−（１，４−フェニレン−ジメチリデン）−ビスマロネート等がある。

オキザニリド系（蓚酸アニリド系）とは、例えば２−エチル−２'−エトキシ−オキザニリド等がある。

紫外線吸収剤（Ｄ）のＪＩＳ Ｋ０１１５に準拠して測定した波長３８０ｎｍの吸光度は０．０５以上であり、好ましくは０．１以上、さらに好ましくは０．１５以上である。ＪＩＳ Ｋ０１１５に準拠して測定した波長３８０ｎｍの吸光度が０．０５以上であれば、紫外線カット性能に優れる。また、波長３８０ｎｍの吸光度が大きいほど、少ない配合量で紫外線カット性能を発揮する為、熱可塑性樹脂組成物（Ｃ）に配合した際の耐熱性の低下度合を小さくすることができ、加えて透明性や色相、外観にも優れる。

紫外線吸収剤（Ｄ）の分子量は、２００ｇ／ｍｏｌ以上であることが好ましく、さらに好ましくは３００ｇ／ｍｏｌである。紫外線吸収剤（Ｄ）の分子量が小さいと、熱可塑性樹脂組成物（Ｃ）に配合した際の耐熱性の低下度合が大きくなる場合や押出機や射出成形機などの成形加工時に揮散してしまうこともある。

熱可塑性樹脂組成物（Ｃ）は、スチレン系共重合体（Ａ）１０〜１００質量％とメタクリル樹脂（Ｂ）０〜９０質量％からなり、好ましくはスチレン系共重合体（Ａ）２０〜１００質量％とメタクリル樹脂（Ｂ）０〜８０質量％であり、さらに好ましくはスチレン系共重合体（Ａ）３０〜１００質量％とメタクリル樹脂（Ｂ）０〜７０質量％である。熱可塑性樹脂組成物（Ｃ）におけるメタクリル樹脂（Ｂ）が９０質量％を超えると、耐熱性が低くなり、また飽和吸水率が高くなる為、寸法安定性に劣る。

偏光子保護フィルム用樹脂組成物は、スチレン系共重合体（Ａ）とメタクリル樹脂（Ｂ）からなる熱可塑性樹脂組成物（Ｃ）１００質量部に対して、紫外線吸収剤（Ｄ）０．１〜１０質量部を含有してなり、好ましくは紫外線吸収剤（Ｄ）０．５〜８質量部であり、さらに好ましくは紫外線吸収剤（Ｄ）１〜５質量部である。紫外線吸収剤（Ｄ）が０．１質量部以上であると、紫外線カット性能に優れ、１０質量部以下であれば、寸法安定性、透明性、外観に優れる。

偏光子保護フィルム用樹脂組成物は、波長２００〜２７０ｎｍの光線透過率が５％以下であるスチレン系共重合体（Ａ）１０〜１００質量％とメタクリル樹脂（Ｂ）０〜９０質量％からなる熱可塑性樹脂組成物（Ｃ）１００質量部に対して、ＪＩＳ Ｋ０１１５に準拠して測定した波長３８０ｎｍの吸光度が０．０５以上である紫外線吸収剤（Ｄ）０．１〜１０質量部を含有していれば、特に製造方法は限定されない。例えば、スチレン系共重合体（Ａ）とメタクリル樹脂（Ｂ）からなる熱可塑性樹脂組成物（Ｃ）に紫外線吸収剤（Ｄ）を添加し溶融押出混練する方法、スチレン系共重合体（Ａ）の重合工程、脱揮工程、造粒工程で紫外線吸収剤（Ｄ）を添加混合した後にメタクリル樹脂（Ｂ）と溶融押出混練する方法、メタクリル樹脂（Ｂ）に紫外線吸収剤（Ｄ）を添加混合した後にスチレン系共重合体（Ａ）と溶融押出混練する方法、スチレン系共重合体（Ａ）とメタクリル樹脂（Ｂ）、紫外線吸収剤（Ｄ）を同時に溶融押出混練する方法等が挙げられる。なお、溶融押出混練方法については、公知の溶融混練技術を用いることができ、好適に使用できる溶融混練装置としては、単軸押出機、噛合形同方向回転または噛合形異方向回転二軸押出機、非または不完全噛合形二軸押出機等のスクリュー押出機、バンバリーミキサー、コニーダー及び混合ロール等がある。

偏光子保護フィルム用樹脂組成物には、本発明の効果を阻害しない範囲でヒンダードアミン系光安定剤（ＨＡＬＳ）を併用することもできる。ヒンダードアミン系光安定剤は、テトラメチルピペリジン骨格を基本骨格とした光安定剤である。光劣化によって生じたポリマーラジカルやポリオキシラジカル等のラジカルを捕捉しラジカル連鎖反応による劣化の進行を停止すると考えられている。ヒンダードアミン系光安定剤は、例えばコハク酸ジメチルと４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジンエタノールの重縮合物、オレフィン（Ｃ２０−Ｃ２４）・無水マレイン酸・４−アミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン共重合物、ジブチルアミン・１，３，５−トリアジン・Ｎ，Ｎ'−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル−１，６−ヘキサメチレンジアミンとＮ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミンの重縮合物、ポリ［｛６−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）アミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル｝｛２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝ヘキサメチレン｛２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝］、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、Ｎ，Ｎ'−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−Ｎ，Ｎ'−ジホルミルヘキサメチレンジアミン、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）［［３，５−ビス（１，１−ジメチルエチル）−４−ヒドリキシフェニル］メチル］ブチルマロネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、テトラキス（２，２，６，６−テトラ−メチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、２，２，４，４−テトラメチル−７−オキサ−３，２０−ジアザ−ジスピロ−［５．１．１１．２］−ヘネイコサン−２１−オン、２，２，４，４−テトラメチル−２１−オキソ−７−オキサ−３．２０−ジアザジスピロ−ヘネイコサン−２０−プロパン酸ドデシルエステル／テトラデシルエステル、２，２，４，４−テトラメチル−７−オキサ−３，２０−ジアザ−２０（２，３−エポキシ−プロピル）ジスピロ−［５．１．１１．２］−ヘネイコサン−オン等がある。ヒンダードアミン系光安定剤の添加量は、熱可塑性樹脂組成物（Ｃ）１００質量部に対して、５質量部未満であることが好ましい。

偏光子保護フィルム用樹脂組成物には、本発明の効果を阻害しない範囲でヒンダードフェノール系化合物、ラクトン系化合物、リン系化合物、イオウ系化合物などの耐熱安定剤、滑剤や可塑剤、着色剤、帯電防止剤、鉱油等の添加剤を配合してもよい。

偏光子保護フィルムとは、例えばスマートフォンやタブレット端末、テレビ、パソコン、カーナビ等の液晶セルの両側に設けられた２枚の偏光板の中に使用されている偏光子フィルムを保護するフィルムのことである。偏光子フィルムは、ヨウ素で染色したＰＶＡ（ポリビニルアルコール）製フィルムを一軸延伸加工することによって偏光特性を持たせているが、紫外線や熱、大気中の水分による影響を受け易く、また薄く強度が弱い為、両面から偏光子保護フィルムで挟むことによって支持されている。

偏光子保護フィルム用樹脂組成物は、寸法安定性、紫外線カット性能、透明性、外観に優れている為、偏光子保護フィルムに好適に使用することが出来る。

偏光子保護フィルム用樹脂組成物を用いた偏光子保護フィルムを得る方法については、特に限定はなく、溶融押出フィルム成形法や溶液流涎成形法などの公知の成形加工法を用いることが出来る。

以下、本発明をさらに詳しく説明するため実施例を挙げる。しかし、本発明はこれら実施例等になんら限定されるものではない。

＜スチレン系共重合体（Ａ−１）の製造例＞
マレイン酸無水物が２０質量％濃度となるようにメチルイソブチルケトンに溶解させた２０％マレイン酸無水物溶液と、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエートが２質量％となるようにメチルイソブチルケトンに希釈した２％ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート溶液とを事前に調整し、重合に使用した。撹拌機を備えた１２０リットルのオートクレーブ中に、２０％マレイン酸無水物溶液２．６ｋｇ、スチレン２６ｋｇ、メチルメタクレリレート１１．４ｋｇ、ｔ−ドデシルメルカプタン３２ｇ、メチルイソブチルケトン２ｋｇを仕込み、気相部を窒素ガスで置換した後、撹拌しながら４０分かけて８７℃まで昇温した。昇温後８７℃を保持しながら、２０％マレイン酸無水物溶液を１．５ｋｇ／時、および２％ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート溶液を３７５ｇ／時の分添速度で各々連続的に８時間かけて添加し続けた。その後、２％ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート溶液の分添を停止し、ｔ−ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネートを３０ｇ添加した。２０％マレイン酸無水物溶液は、そのまま１．５ｋｇ／時の分添速度を維持しながら、８．２５℃／時の昇温速度で４時間かけて１２０℃まで昇温した。２０％マレイン酸無水物溶液の分添は、分添量が積算で１８ｋｇになった時点で停止した。昇温後、１時間１２０℃を保持して重合を終了させた。重合液は、ギヤーポンプを用いて二軸脱揮押出機に連続的にフィードし、メチルイソブチルケトンおよび微量の未反応モノマー等を脱揮処理して、ストランド状に押出し切断することによりペレット形状のスチレン系共重合体（Ａ−１）を得た。得られたスチレン系共重合体（Ａ−１）の各種測定結果を表１に示す。

＜スチレン系共重合体（Ａ−２）の製造例＞
２０％マレイン酸無水物溶液と２％ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート溶液は、実施例１と同様に調整した。撹拌機を備えた１２０リットルのオートクレーブ中に、２０％マレイン酸無水物溶液３．７ｋｇ、スチレン２９ｋｇ、メチルメタクレリレート４ｋｇ、ｔ−ドデシルメルカプタン３５ｇを仕込み、気相部を窒素ガスで置換した後、撹拌しながら４０分かけて９０℃まで昇温した。昇温後９０℃を保持しながら、２０％マレイン酸無水物溶液を２．７ｋｇ／時、および２％ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート溶液を５００ｇ／時の分添速度で各々連続的に８時間かけて添加し続けた。その後、２％ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート溶液の分添を停止し、ｔ−ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネートを３８ｇ添加した。２０％マレイン酸無水物溶液はそのまま２．７ｋｇ／時の分添速度を維持しながら、１０℃／時の昇温速度で４時間かけて１３０℃まで昇温した。２０％マレイン酸無水物溶液の分添は、分添量が積算で３２．５ｋｇになった時点で停止した。昇温後、１時間１３０℃を保持して重合を終了させた。重合液は、ギヤーポンプを用いて二軸脱揮押出機に連続的にフィードし、メチルイソブチルケトンおよび微量の未反応モノマー等を脱揮処理して、ストランド状に押出し切断することによりペレット形状のスチレン系共重合体（Ａ−２）を得た。得られたスチレン系共重合体（Ａ−２）の各種測定結果を表１に示す。

＜スチレン系共重合体（Ａ−３）の製造例＞
２０％マレイン酸無水物溶液と２％ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート溶液は、実施例１と同様に調整した。撹拌機を備えた１２０リットルのオートクレーブ中に、２０％マレイン酸無水物溶液３．８ｋｇ、スチレン３４．２ｋｇ、メチルメタクレリレート１．６ｋｇ、ｔ−ドデシルメルカプタン３３ｇ、メチルイソブチルケトン２ｋｇを仕込み、気相部を窒素ガスで置換した後、撹拌しながら４０分かけて９０℃まで昇温した。昇温後９０℃を保持しながら、２０％マレイン酸無水物溶液を０．９５ｋｇ／時、メチルメタクリレートを５３ｇ／時、および２％ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート溶液を３３３ｇ／時の分添速度で各々連続的に１２時間かけて添加し続けた。その後、２％ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート溶液の分添を停止し、ｔ−ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネートを４０ｇ添加した。２０％マレイン酸無水物溶液０．９５ｋｇ／時、およびメチルメタクリレート５３ｇ／時の分添速度を維持しながら、５℃／時の昇温速度で７時間かけて１２５℃まで昇温した。２０％マレイン酸無水物溶液の分添は積算で１８ｋｇ、メチルメタクリレートの分添は積算で１ｋｇになった時点で各々の分添を停止した。昇温後、１時間１２５℃を保持して重合を終了させた。重合液は、ギヤーポンプを用いて二軸脱揮押出機に連続的にフィードし、メチルイソブチルケトンおよび微量の未反応モノマー等を脱揮処理して、ストランド状に押出し切断することによりペレット形状のスチレン系共重合体（Ａ−３）を得た。得られたスチレン系共重合体（Ａ−３）の各種測定結果を表１に示す。

＜スチレン系共重合体（Ａ−４）の製造例＞
２０％マレイン酸無水物溶液と２％ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート溶液は、実施例１と同様に調整した。撹拌機を備えた１２０リットルのオートクレーブ中に、２０％マレイン酸無水物溶液３．６ｋｇ、スチレン１４ｋｇ、メチルメタクレリレート１７．７ｋｇ、ｔ−ドデシルメルカプタン２９ｇを仕込み、気相部を窒素ガスで置換した後、撹拌しながら４０分かけて８５℃まで昇温した。昇温後８５℃を保持しながら、２０％マレイン酸無水物溶液を２．０ｋｇ／時、スチレンを５００ｇ／時、および２％ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート溶液を６００ｇ／時の分添速度で各々連続的に６時間かけて添加し続けた。その後、２％ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート溶液の分添を停止し、ｔ−ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネートを３０ｇ添加した。２０％マレイン酸無水物溶液２．０ｋｇ／時、およびスチレン５００ｇ／時の分添速度を維持しながら、１０℃／時の昇温速度で３時間かけて１１５℃まで昇温した。２０％マレイン酸無水物溶液の分添は積算で１８ｋｇ、スチレンの分添は積算で４．５ｋｇになった時点で各々の分添を停止した。昇温後、１時間１１５℃を保持して重合を終了させた。重合液は、ギヤーポンプを用いて二軸脱揮押出機に連続的にフィードし、メチルイソブチルケトンおよび微量の未反応モノマー等を脱揮処理して、ストランド状に押出し切断することによりペレット形状のスチレン系共重合体（Ａ−４）を得た。得られたスチレン系共重合体（Ａ−４）の各種測定結果を表１に示す。

＜スチレン系共重合体（Ａ−５）の製造例＞
２０％マレイン酸無水物溶液と２％ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート溶液は、実施例１と同様に調整した。撹拌機を備えた１２０リットルのオートクレーブ中に、２０％マレイン酸無水物溶液２．３ｋｇ、スチレン２５．２ｋｇ、メチルメタクレリレート１１．４ｋｇ、ｔ−ドデシルメルカプタン４０ｇ、メチルイソブチルケトン２ｋｇを仕込み、気相部を窒素ガスで置換した後、撹拌しながら４０分かけて８７℃まで昇温した。昇温後８７℃を保持しながら、２０％マレイン酸無水物溶液を１．５ｋｇ／時、および２％ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート溶液を３７５ｇ／時の分添速度で各々連続的に８時間かけて添加し続けた。その後、２％ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート溶液の分添を停止し、ｔ−ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネートを３０ｇ添加した。２０％マレイン酸無水物溶液は、そのまま１．５ｋｇ／時の分添速度を維持しながら、８．２５℃／時の昇温速度で４時間かけて１２０℃まで昇温した。２０％マレイン酸無水物溶液の分添は、分添量が積算で１８ｋｇになった時点で停止した。昇温後、１時間１２０℃を保持して重合を終了させた。重合液は、ギヤーポンプを用いて二軸脱揮押出機に連続的にフィードし、メチルイソブチルケトンおよび微量の未反応モノマー等を脱揮処理して、ストランド状に押出し切断することによりペレット形状のスチレン系共重合体（Ａ−５）を得た。得られたスチレン系共重合体（Ａ−５）の各種測定結果を表１に示す。

＜スチレン系共重合体（Ａ−６）の製造例＞
２０％マレイン酸無水物溶液と２％ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート溶液は、実施例１と同様に調整した。撹拌機を備えた１２０リットルのオートクレーブ中に、２０％マレイン酸無水物溶液４ｋｇ、スチレン２３．１ｋｇ、メチルメタクレリレート８．８ｋｇ、ｔ−ドデシルメルカプタン２８ｇを仕込み、気相部を窒素ガスで置換した後、撹拌しながら４０分かけて９０℃まで昇温した。昇温後９０℃を保持しながら、２０％マレイン酸無水物溶液を２．９ｋｇ／時、および２％ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート溶液を５００ｇ／時の分添速度で各々連続的に８時間かけて添加し続けた。その後、２％ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート溶液の分添を停止し、ｔ−ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネートを４０ｇ添加した。２０％マレイン酸無水物溶液はそのまま２．９ｋｇ／時の分添速度を維持しながら、１０℃／時の昇温速度で４時間かけて１３０℃まで昇温した。２０％マレイン酸無水物溶液の分添は、分添量が積算で３４．８ｋｇになった時点で停止した。昇温後、１時間１３０℃を保持して重合を終了させた。重合液は、ギヤーポンプを用いて二軸脱揮押出機に連続的にフィードし、メチルイソブチルケトンおよび微量の未反応モノマー等を脱揮処理して、ストランド状に押出し切断することによりペレット形状のスチレン系共重合体（Ａ−６）を得た。得られたスチレン系共重合体（Ａ−６）の各種測定結果を表１に示す。

メタクリル樹脂（Ｂ）は、三菱レイヨン社製「アクリペット ＶＨ５ ０００」（ビカット軟化温度１０７℃、ＭＦＲ：５．５ｇ／１０ｍｉｎ）を使用した。

紫外線吸収剤（Ｄ−１）は、ＢＡＳＦ社製「ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤 Ｔｉｎｕｖｉｎ３２６」（吸光度０．２８、分子量３１６ｇ／ｍｏｌ）を使用した。

紫外線吸収剤（Ｄ−２）は、シプロ化成社製「ベンゾフェノン系紫外線吸収剤 ＳＥＥＳＯＲＢ１０６」（吸光度０．１５、分子量２４６ｇ／ｍｏｌ）を使用した。

紫外線吸収剤（Ｄ−３）は、ＢＡＳＦ社製「ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤 Ｔｉｎｕｖｉｎ２３４」（吸光度０．０９、分子量４４８ｇ／ｍｏｌ）を使用した。

紫外線吸収剤（Ｄ−４）は、シプロ化成社製「ベンゾフェノン系紫外線吸収剤 ＳＥＥＳＯＲＢ１０２」（吸光度０．０１、分子量３２６ｇ／ｍｏｌ）を使用した。

表１中の各種評価項目の測定条件は、以下の通りである。
（組成分析）
組成分析は、Ｃ−１３ＮＭＲ核磁気共鳴装置を用いて、下記記載の測定条件で実施した。
装置名：ＪＮＭ−ＥＣＸシリーズＦＴ−ＮＭＲ（ＪＥＯＬ社製）
溶媒：重水素化クロロホルム
濃度：１４質量％
温度：２７℃
積算回数：８０００回

（重量平均分子量）
重量平均分子量（Ｍｗ）は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）にて測定されるポリスチレン換算の値であり、下記記載の測定条件にて実施した。
装置名：ＳＹＳＴＥＭ−２１ Ｓｈｏｄｅｘ（昭和電工社製）
カラム：ＰＬ ｇｅｌ ＭＩＸＥＤ−Ｂを３本直列
温度：４０℃
検出：示差屈折率
溶媒：テトラヒドロフラン
濃度：２質量％
検量線：標準ポリスチレン（ＰＳ）（ＰＬ社製）を用いて作製した。

（２ｍｍ厚みの鏡面プレートの全光線透過率）
２ｍｍ厚みの鏡面プレートの全光線透過率は、射出成形機（東芝機械社製ＩＳ−５０ＥＰＮ）を用いて、シリンダー温度２３０℃、金型温度４０℃の成形条件で成形された縦９０ｍｍ、横５５ｍｍ、厚み２ｍｍの鏡面プレートを、ＡＳＴＭ Ｄ１００３に準拠し、ヘーズメーター（日本電色工業社製ＮＤＨ−１００１ＤＰ型）を用いて測定した。全光線透過率８８％以上を合格とした。

（波長２００〜２７０ｎｍの光線透過率）
波長２００〜２７０ｎｍの光線透過率は、単軸押出機（東芝機械社製ＳＥ−６５ＣＡ）を用いて、シリンダー温度２６０℃、Ｔダイ温度６０℃の加工条件で作製した厚み６０μｍのフィルムを分光光度計（日本分光社製Ｖ−６７０）を用いて測定し、波長２００ｎｍ〜２７０ｎｍにおける光線透過率の平均値として算出した。波長２００〜２７０ｎｍの光線透過率５％以下を合格とした。

（ビカット軟化温度）
ビカット軟化温度は、ＪＩＳ Ｋ７２０６に準拠し荷重５０Ｎ、昇温速度５０℃／時間の条件で測定した。ビカット軟化温度１１５℃以上を合格とした。

（飽和吸水率）
飽和吸水率は、ＪＩＳ Ｋ７２０９に準拠し温度２３℃の水中に浸漬させた条件で測定した。飽和吸水率１．０％以下を合格とした。

＜実施例・比較例＞
前記製造例で記したスチレン系共重合体（Ａ−１〜６）とメタクリル樹脂（Ｂ）、紫外線吸収剤（Ｄ−１〜４）を表２〜３で示した割合で混合した後、二軸押出機（東芝機械社製ＴＥＭ−３５Ｂ）にて、シリンダー温度２３０℃で溶融混練し樹脂組成物を得た。この樹脂組成物を単軸押出機（東芝機械社製ＳＥ−６５ＣＡ）を用いて、シリンダー温度２６０℃、Ｔダイ温度６０℃の加工条件にて、厚み６０μｍのフィルムを作製した。各種評価結果を表２〜３に示す。

表２〜表３中の各種評価項目の測定条件は、以下の通りである。
（反り量）
反り量は、単軸押出機（東芝機械社製ＳＥ−６５ＣＡ）を用いて、シリンダー温度２６０℃、Ｔダイ温度６０℃の加工条件で作製した厚み６０μｍのフィルムを縦９０ｍｍ、横９０ｍｍに切削後、環境試験機（エスペック社製ＰＬ−３ＫＰＨ）にて温度８５℃、湿度８５％の条件下で７２時間静置させた。その後、平坦なガラス基板上に試験後のフィルムを下に凸となる様に置き、フィルムの各頂点４箇所とガラス基板面との隙間、およびフィルム各辺の中央部（各辺を２等分する位置）４箇所とガラス基板面との隙間を計測し（計８箇所計測）、その平均値を反り量とした。反り量２ｍｍ以下を合格とした。

（波長２００〜２７０ｎｍの光線透過率）
波長２００〜２７０ｎｍの光線透過率は、単軸押出機（東芝機械社製ＳＥ−６５ＣＡ）を用いて、シリンダー温度２６０℃、Ｔダイ温度６０℃の加工条件で作製した厚み６０μｍのフィルムを分光光度計（日本分光社製Ｖ−６７０）を用いて測定し、波長２００ｎｍ〜２７０ｎｍにおける光線透過率の平均値として算出した。波長２００〜２７０ｎｍの光線透過率５％以下を合格とした。

（波長３８０ｎｍの光線透過率）
波長３８０ｎｍの光線透過率は、単軸押出機（東芝機械社製ＳＥ−６５ＣＡ）を用いて、シリンダー温度２６０℃、Ｔダイ温度６０℃の加工条件で作製した厚み６０μｍのフィルムを分光光度計（日本分光社製Ｖ−６７０）を用いて測定した。波長３８０ｎｍの光線透過率１０％以下を合格とした。

（全光線透過率、ＨＡＺＥ）
全光線透過率とＨＡＺＥは、単軸押出機（東芝機械社製ＳＥ−６５ＣＡ）を用いて、シリンダー温度２６０℃、Ｔダイ温度６０℃の加工条件で作製した厚み６０μｍのフィルムをＡＳＴＭ Ｄ１００３に準拠し、ヘーズメーター（日本電色工業社製ＮＤＨ−１００１ＤＰ型）を用いて測定した。全光線透過率８８％以上、ＨＡＺＥ３．０％以下を合格とした。

（外観）
外観は、単軸押出機（東芝機械社製ＳＥ−６５ＣＡ）を用いて、シリンダー温度２６０℃、Ｔダイ温度６０℃の加工条件で作製した厚み６０μｍのフィルムを縦９０ｍｍ、横９０ｍｍに切削したサンプル５０個を目視にて観察し、着色、気泡、焼けコンタミ、ブツなどの外観不良が発生したサンプル数を数えることによって、外観評価を行った。評価基準は以下の通りで、◎と○を合格とした。
◎：外観不良のサンプル数が０個
○：外観不良のサンプル数が１〜２個
△：外観不良のサンプル数が２〜５個
×：外観不良のサンプル数が６個以上

実施例は、寸法安定性、紫外線カット性能、透明性、外観に優れたフィルムを得ることが出来た。一方、比較例では、寸法安定性、紫外線カット性能、透明性、外観のいずれかの物性が劣るものであった。

本発明の樹脂組成物を用いることで、寸法安定性、紫外線カット性能、透明性、外観に優れた偏光子保護フィルムを提供することが出来る。

Claims (4)

1. スチレン系共重合体（Ａ）１０〜１００質量％とメタクリル樹脂（Ｂ）０〜９０質量％からなる熱可塑性樹脂組成物（Ｃ）１００質量部に対して、紫外線吸収剤（Ｄ）０．１〜１０質量部を含有し、
   スチレン系共重合体（Ａ）は、波長２００〜２７０ｎｍの光線透過率が５％以下であり、
   紫外線吸収剤（Ｄ）は、ＪＩＳ Ｋ０１１５に準拠して測定した波長３８０ｎｍの吸光度が０．０５以上である、偏光子保護フィルム用樹脂組成物。
2. スチレン系共重合体（Ａ）が、芳香族ビニル単量体単位４５〜８５質量％、(メタ)アクリル酸エステル単量体単位５〜４５質量％、不飽和ジカルボン酸無水物単量体単位１０〜３０質量％からなり、ＪＩＳ Ｋ７２０６に準拠して求めたビカット軟化温度が１１５℃以上であることを特徴とする請求項１に記載の偏光子保護フィルム用樹脂組成物。
3. スチレン系共重合体（Ａ）が、ＪＩＳ Ｋ７２０９に準拠して求めた飽和吸水率が１．０％以下であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の偏光子保護フィルム用樹脂組成物。
4. 請求項１〜請求項３のいずれかに記載の偏光子保護フィルム用樹脂組成物からなる偏光子保護フィルム。