JPWO2017022330A1 - パージ装置、パージストッカ、及びパージガスの供給方法 - Google Patents

パージ装置、パージストッカ、及びパージガスの供給方法 Download PDF

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Abstract

【課題】構成を簡略化してコンパクト化することが可能なパージ装置、パージストッカ、及びパージガスの供給方法を提供する。【解決手段】容器Fが載置されるグループ化された複数の載置部3と、載置部3に容器Fが載置されることにより容器Fにパージガスを供給する流路が開くように形成されたノズル30と、グループG内の容器Fの個数に基づいてグループG内に供給するパージガスの流量を調整する流量制御装置32と、を備える。

Description

本発明は、パージ装置、パージストッカ、及びパージガスの供給方法に関する。
ウェハやレチクルなどを収容するFOUP、SMIF Pod、レチクルPodなどの容器は、保管に際してパージ装置により容器内に清浄乾燥空気や窒素ガスなどのパージガスを充填し、収容物の汚染や酸化などを抑制している。このパージ装置は、容器を保管するためのパージストッカに備えられることが知られている。パージ装置によるパージガスの供給が不足するなどパージの異常が発生すると、収容物の汚染等が生じるため、容器へ供給されるパージガスの流量を測定し、パージの異常を検出する技術が提案されている(例えば、特許文献1参照)。特許文献1では、載置部に載置された容器内部に供給されるパージガスの流量や圧力をセンサにより測定し、良好なパージが行われているかを判定している。このようなパージ装置では、載置部ごとに電磁弁や流量制御装置を配置することにより、各容器に対するパージガスの流量を調整している。
特許第4670808号明細書
しかしながら、載置部ごとに電磁弁や流量制御装置を配置する構成では、これらの機器を配置するためのスペースが必要となるため、各パージ装置が大掛かりになってしまう。近年では、パージストッカに収容可能な容器数を確保しつつ、パージストッカの小型化が求められており、そのためには各載置部に設けられるパージ装置をコンパクト化することが求められている。
以上のような事情に鑑み、本発明は、構成を簡略化してコンパクト化することが可能なパージ装置、パージストッカ、及びパージガスの供給方法を提供することを目的とする。
本発明に係るパージ装置は、容器が載置されるグループ化された複数の載置部と、載置部に容器が載置されることにより容器にパージガスを供給する流路が開くように形成されたノズルと、グループ内の容器の個数に基づいてグループ内に供給するパージガスの流量を調整する流量制御装置と、を備える。
また、載置部のぞれぞれは、容器が載置されているか否かを検出する検出部を有してもよい。また、ノズルは、載置部に容器が載置されない状態においてパージガスの圧力によって流路を閉塞する蓋部を有し、蓋部は、載置部に容器が載置された場合に容器の重量によって流路を開放してもよい。また、流量制御装置は、グループ内に新たな容器が載置された場合、パージガスの流量を一旦減少させてから徐々に所定流量まで増加させてもよい。また、水平方向又は鉛直方向に並んだ複数の載置部をグループとしてもよい。
本発明に係るパージストッカは、上記のパージ装置を複数備える。
また、パージ装置の複数の載置部に沿って走行可能であり、載置部に対して容器を移載する搬送装置を備え、パージ装置の流量制御装置は、搬送装置の走行範囲の端部側にまとめて配置されてもよい。
本発明に係るパージガスの供給方法は、グループ化された複数の載置部に載置された容器に対してパージガスを供給する方法であって、載置部に容器が載置されることにより容器にパージガスを供給する流路を開くことと、グループ内の容器の個数に基づいてグループ内に供給するパージガスの流量を調整することと、を含む。
本発明に係るパージ装置によれば、グループ内において、容器が載置された載置部の流路にはパージガスが流れるが、容器が載置されない載置部の流路にはパージガスが流れない。したがって、グループ内の容器の個数に基づいてパージガスの流量を調整することで、各容器に供給されるパージガスの流量が調整される。これにより、載置部ごとに電磁弁や流量制御装置を設ける必要がなく、全体として構成を簡略化することにより省スペース化を図り、パージ装置をコンパクト化することができる。
また、載置部のそれぞれが、容器が載置されているか否かを検出する検出部を有するものでは、グループ内の容器の個数をより確実に検出することができる。また、載置部に容器が載置されない状態においてパージガスの圧力によって流路を閉塞する蓋部をノズルが有し、載置部に容器が載置された場合に容器の重量によって蓋部が流路を開放するものでは、蓋部によって流路の開閉を確実に行うことができる。また、流量制御装置が、グループ内に新たな容器が載置された場合、パージガスの流量を一旦減少させてから徐々に所定流量まで増加させるものでは、新たに載置された容器に突然大量のパージガスが供給されることを抑制でき、容器内の収容物の振動を防止できる。また、水平方向又は鉛直方向に並んだ複数の載置部をグループとするものでは、水平方向又は鉛直方向に並んだ複数の載置部毎に流量制御装置を設ければよいため、省スペース化を図ることが可能となる。
本発明に係るパージストッカによれば、省スペース化を図ることが可能なパージ装置を複数備えるため、各載置部の奥行寸法を小さくすることができ、コンパクトなパージストッカとすることができる。
また、パージ装置の複数の載置部に沿って走行可能であり、載置部に対して容器を移載する搬送装置を備え、パージ装置の流量制御装置が、搬送装置の走行範囲の端部側にまとめて配置されるものでは、流量制御装置をパージストッカの一部にまとめて配置するので、パージストッカのコンパクト化を図りつつ、作業者にとって流量制御装置の設置やメンテナンス等を容易に行うことができる。
本発明に係るパージガスの供給方法によれば、載置部に容器を載置した場合、容器が載置された載置部の流路にはパージガスが流れるが、容器が載置されない載置部の流路にはパージガスが流れない状態となる。従って、グループ内の容器の個数に基づいてパージガスの流量を調整することで、各容器に供給されるパージガスの流量を適切に調整することができる。これにより、載置部ごとに電磁弁や流量制御装置を設ける必要がなく、各電磁弁や各流量制御装置の制御が不要となり、パージガスの供給における制御を容易にすることができる。
本実施形態に係るパージストッカの一例を示す図である。 本実施形態に係るパージ装置の一例を示す図である。 載置部に容器が載置された状態を示す図である。 ノズルに使用される蓋部の一例を示す斜視図である。 図4に示す蓋部を備えた供給ノズルの一例を示す図である。 変形例に係るノズルの蓋部を示す斜視図である。 図6に示す蓋部を備えた供給ノズルの一例を示す図である。 流量制御装置の配置の一例を示す図である。 本実施形態に係るパージガスの供給方法の一例を示すフローチャートである。 変形例に係るパージストッカを示す図である。 変形例に係る流量制御装置の配置を示す図である。
以下、実施形態について図面を参照しながら説明する。また、図面においては実施形態を説明するため、一部分を大きくまたは強調して記載するなど適宜縮尺を変更して表現している。以下の各図において、XYZ座標系を用いて図中の方向を説明する。このXYZ座標系においては、鉛直方向をZ方向とし、水平方向をX方向、Y方向とする。X方向、Y方向及びZ方向のそれぞれは、図中の矢印の方向が+方向であり、矢印の方向とは反対の方向が−方向であるものとして説明する。
図1は、本実施形態に係るパージストッカ1の一例を示す図である。パージストッカ1は、例えば、半導体素子の製造に用いられるウェハや、レチクルなどの物品を収容する容器Fを保管する自動倉庫である。容器Fは、例えば、FOUP、SMIF Pod、レチクルPodなどである。
図1に示すように、パージストッカ1は、外郭を形成するストッカ筐体2と、ストッカ筐体2内に設置された棚状の複数の載置部3と、複数のパージ装置4と、容器Fの搬送装置としてのスタッカクレーン5と、制御装置6と、を備える。なお、載置部3は、例えば保管棚と称す場合がある。ストッカ筐体2は、外部に対して隔離可能な内部空間2aを有する。ストッカ筐体2は、ストッカ筐体2の外部と内部空間2aとで容器Fが受け渡される入出庫ポート(図示せず)を備えている。複数の載置部3、複数のパージ装置4、及びスタッカクレーン5は、ストッカ筐体2の内部空間2aに配置されている。なお、複数の載置部3は、スタッカクレーン5の走行範囲(X方向)の両側(+Y側及び−Y側)にそれぞれ配置されてもよい。制御装置6は、パージ装置4およびスタッカクレーン5を制御する。なお、パージ装置4を制御する制御装置と、スタッカクレーン5を制御する制御装置とが別に設けられていてもよい。
スタッカクレーン5は、X方向、Y方向、及びZ方向の各方向に容器Fを搬送可能であり、例えば、入出庫ポートと載置部3との間や、載置部3から他の載置部3に容器Fを搬送可能である。スタッカクレーン5は、例えば、走行台車10、支持柱11、支持台12、及び移載装置13を備える。走行台車10は、複数の車輪14を有し、床面に設けられたレール15に沿って水平方向(X方向)に移動する。
支持柱11は、走行台車10の上面から鉛直方向(Z方向)に延びて設けられる。支持台12は、支持柱11に支持され、支持柱11に沿ってZ方向にスライド可能に設けられる。移載装置13は、例えば、伸縮可能なアーム部と、上面に容器Fを載置可能なハンド部と、を備える。なお、支持柱11の上端がストッカ筐体2の天井等に敷設されたレール等に案内されるものでもよい。また、容器Fの搬送装置としては、上記のように容器Fを載置して搬送するスタッカクレーン5に代えて、例えば容器Fの上部に備えるフランジ部28(図2参照)を把持して、容器Fを吊り下げて搬送するものや、容器Fの側面を把持して搬送するものが使用されてもよい。また、図1には1台のスタッカクレーン5を図示したが、ストッカ筐体2内に配置されるスタッカクレーン5は2台以上であってもよい。
載置部3は、鉛直方向(Z方向)に複数段並んで配置され、水平方向(X方向)に複数列並んで配置されている。複数の載置部3には、それぞれ、容器Fを載置可能である。複数の載置部3は、グループ化されている。本実施形態では、水平方向に並ぶ複数の載置部3が1つのグループGに設定されている。
図2は、容器Fおよびパージ装置4の一例を示す図である。図3は、パージストッカ1内の一部を示す図であり、載置部3に載置された状態を示している。図2に示すように、載置部3の上面にはピン20が設けられ、容器Fの位置決めに利用される。容器Fは、図2ではFOUPの一例を示しており、開口21aを有する箱状の本体部21と、開口21aを塞ぐ蓋部22とを備える。ウェハなどの物品は、開口21aを介して容器Fの内部Faに収容される。本体部21は、その底面側に、位置決め用の凹部23を備える。凹部23は、例えば、本体部21の底面の中心から放射状に延びる溝である。この凹部23には、移載装置13のハンド部に備える不図示のピンが入り込み、容器Fを搬送する際の位置決めを行っている。
また、図3に示すように、各載置部3の上面には、プレースメントセンサ29が設けられる。プレースメントセンサ29は、載置部3に容器Fが載置されているか否かを検出する。図3に示すプレースメントセンサ29は、上方に突出したスイッチ29aを有している。スイッチ29aは、載置部3に容器Fが載置されることにより押下される。プレースメントセンサ29の内部には光センサが設けられている。この光センサは、光源から射出される光を受光部で受光し、電気信号に変換する。受光部で変換される電気信号は、制御装置6に送信される。プレースメントセンサ29では、スイッチ29aが押下されることにより、光源からの光が遮光されるようになっている。制御装置6では、プレースメントセンサ29から送信される電気信号により、載置部3ごとに容器Fが載置されたとして判断する。なお、プレースメントセンサ29は、上記構成に限定されず、容器Fが載置されたことを検出可能な接触式又は非接触式のセンサを用いることができる。
載置部3は、移載装置13のハンド部が鉛直方向に通行可能な切り欠き部(図8等参照)を有する。移載装置13は、ハンド部を載置部3の上方から下方に、切り欠き部を通って移動することにより、載置部3の上面に容器Fを移載する。その際、容器Fは、凹部23に載置部3のピン20が挿入されることで、載置部3に対して位置決めされる。本体部21は、底面側に、パージガスの導入口24、逆止弁25、排気口26、及び逆止弁27を備える。導入口24および排気口26は、それぞれ、本体部21の内部Faと外部と連通する。逆止弁25、27は、それぞれ導入口24、排気口26に設けられる。
パージ装置4は、供給ノズル(ノズル)30、排気ノズル31、及び流量制御装置32を備える。図2及び図3では、供給ノズル30や排気ノズル31を概念的に示している。供給ノズル30及び排気ノズル31は、載置部3の上面に設けられる。供給ノズル30及び排気ノズル31は、載置部3に容器Fを載置した際に、それぞれ導入口24、排気口26と接続するように配置される。容器Fの導入口24は、載置部3に容器Fを載置した際に、供給ノズル30を介して配管34に接続され、さらに流量制御装置32を介してパージガス源40と接続される。排気ノズル31は、配管35を介してパージガスの排気経路(パージガス排気41)に接続される。なお、パージ装置4は、排気ノズル31及び配管35を備えなくてもよい。この場合、容器Fの排気口26から排気されたパージガスは、パージストッカ1の内部空間2a内に排気される。
供給ノズル30は、図3に示すように、載置部3に容器Fが載置されない状態においてパージガスの流路を閉塞し、また、載置部3に容器Fが載置された場合に容器Fの重量によって流路を開放する。図3では、上段及び下段の載置部3に容器Fが載置されてパージガスの流路が形成された状態を示しており、中段の載置部には容器Fが載置されていないため、パージガスの流路が閉塞された状態を示している。なお、供給ノズル30の詳細な構成については後述する。
図2に示すように、パージガス源40は、例えば窒素ガスなど、収納した物品に対して不活性なガスをパージガスとして供給する。パージガスは、容器Fに収容される物品に応じて選択され、例えば、物品に対する酸化抑制、分子汚染等を抑制するガスや、容器F内の水分を減少させるガスなどが用いられる。パージガスは、窒素ガスや、清浄乾燥空気(CDA)などが用いられる。パージガス源40は、パージストッカ1の一部であってもよいし、パージストッカ1の外部の装置であってもよく、例えば、パージストッカ1が配置される工場内の設備が利用されてもよい。パージガス源40をパージストッカ1と別体のものとした場合、パージストッカ1側の圧力調整装置等でパージガス源40からのパージガスを一旦受け、この圧力調整装置等から各流量制御装置32へパージガスを供給するようにしてもよい。
容器Fをパージする際、パージガス源40からのパージガスは、流量制御装置32および配管34を介して、容器Fの導入口24から内部Faに供給され、容器Fの内部Faに充填される。配管34は、流路の途中で分岐しており、グループG内の供給ノズル30にパージガスを供給する。また、容器Fの内部Faのガスは、排気口26から容器Fの外部に排出され、配管35を介してパージガス排気41により外部に排気される。なお、パージガス排気41は、ポンプなどによりガスを吸引する装置が設けられてよい。
流量制御装置32は、例えばマスフローコントローラであり、配管34におけるパージガスの流量を制御することにより、パージガス源40から供給ノズル30へ供給されるパージガスの流量を制御する。流量制御装置32は、制御装置6と通信可能に設けられる。流量制御装置32は、流量の設定値を定めた流量設定信号を制御装置6から受けて、パージガスの流量を設定値に近づけるように制御する。この設定値は、グループG内の容器Fの個数に基づいて設定される。制御装置6は、上記したプレースメントセンサ29からの信号により、グループG内の容器Fの個数を判断し、個数に応じた流量設定信号を流量制御装置32に出力する。
なお、制御装置6は、プレースメントセンサ29からの信号に代えて、例えばスタッカクレーン5により移載した容器Fの情報に基づいて、グループG内の容器Fの個数を判断して流量制御装置32に出力してもよい。この場合、載置部3にプレースメントセンサ29が不要となるため、製造コストと低減できる。また、流量制御装置32は、制御装置6から流量設定信号を受けることに代えて、グループG内の容器Fの個数に関する情報を受信し、流量制御装置32内部の制御回路等において容器Fの個数に基づいて設定値を算出するようにしてもよい。
流量制御装置32は、グループG内の容器Fの個数に基づいて、グループG内に供給するパージガスの流量を調整する。例えば、パージガスの流量は、容器Fの個数に比例した値に設定可能であるが、これに限定するものではない。流量制御装置32は、グループG内に配置される複数の載置部3の供給ノズル30に接続される。グループG内において、容器Fが載置された載置部3の流路にはパージガスが流れるが、容器Fが載置されない載置部3の流路にはパージガスが流れない。したがって、流量制御装置32は、グループG内の容器Fの個数に基づいてパージガスの流量を調整することで、各容器Fに供給されるパージガスの流量を調整可能である。
また、流量制御装置32は、制御装置6から動作指令(コマンド)を受けて、各種の動作を行う。流量制御装置32は、例えば、各種信号の出力を求める動作指令を受けた場合、動作指令に対する応答として出力信号を制御装置6へ出力する。
制御装置6には、入力部7および表示部8が接続されている。入力部7は、例えば、操作パネル、タッチパネル、キーボード、マウス、トラックボールなどである。入力部7は、オペレータからの入力を検出し、入力された情報を制御装置6に供給する。例えば、オペレータは、入力部7を操作することによりパージガスの流量などを設定、変更することができる。表示部8は、例えば液晶ディスプレイなどであり、制御装置6から供給される画像を表示する。例えば、制御装置6は、パージストッカ1の動作状況、各種設定、パージの状態を示す画像などを表示部8に表示させる。
図2に示すように、パージ装置4は、配管34において流量制御装置32の下流側に圧力検出部37が接続されてもよい。圧力検出部37は、流量制御装置32を介して配管34を流れるパージガスの圧力を監視し、容器Fにおけるパージの状態を検出する。圧力検出部37は、その測定結果(測定値)を有線または無線により制御装置6に出力する。制御装置6は、例えば、圧力検出部37の測定結果と所定値(閾値)とを比較することにより、パージの状態を判定してもよい。圧力検出部37の測定値は、パージガスが適正に供給されている場合はほぼ一定値となるが、容器Fやパージ装置4の異常が生じると、所定範囲より大きくまたは小さくなる。これにより、容器Fに対するパージの異常を確認することができる。なお、圧力検出部37は、排気側の配管35に接続されてもよいし、配管34及び35の両方にそれぞれ配置されてもよい。
容器Fがパージ装置4に接続される際に、容器Fとパージ装置4との位置ずれなどにより、容器Fの導入口24と供給ノズル30との接続不良が発生する可能性がある。この場合、導入口24と供給ノズル30との隙間からパージガスが漏れることにより、容器Fの内部Faに供給されるパージガスが不足し、パージ不良が発生する。また、配管34、35の詰まりなどが発生した場合や、容器Fの蓋部22と本体部21との隙間などからパージガスが多量に漏れる場合にも、パージ不良が発生する。制御装置6は、容器Fに対するパージの良否判定を行った結果、例えば、いつ、どのパージ装置4でパージの不良があったか等の判定結果をログに残すものでもよく、また、判定結果を表示部8に表示させるものや他の報知手段により報知するものでもよい。
図4は、供給ノズル30に使用される蓋部の一例を示す斜視図である。図4に示すように、蓋部50は、大径の第1筒状部51と、小径の第2筒状部52と、第2筒状部の上面側に形成されたスペーサ部53と、を有する。第2筒状部52は、第1筒状部51の上側においてほぼ中央部分に設けられる。第1筒状部51と第2筒状部52とは、段部51aを介して一体化されている。第1筒状部51の下部は、開口されている。第2筒状部52は、上面側が天井部52aによって閉塞されている。第2筒状部52の下部は、段部51aに接続されて開口している。スペーサ部53は、天井部52a上に、天井部52aの周縁部に沿って複数設けられる。スペーサ部53は、天井部52aの周方向に複数の隙間53aを空けて配置される。スペーサ部53の上面は、容器Fの底部に当接する部分として用いられる。
上記した蓋部50を有する供給ノズル30は、載置部3に容器Fが載置されない状態においてパージガスの流路を閉塞する。また、蓋部50は、載置部3に容器Fが載置された場合に容器Fの重量によって流路を開放する。図5は、図4に示す蓋部50を備えた供給ノズル30の一例を示す図である。図5(A)及び(B)に示すように、蓋部50は、載置部3に配置された流路形成部55に収容される。流路形成部55は、円筒状に形成され、上部に環状部材56が取り付けられている。
また、流路形成部55は、配管34の端部が接続され、内部にパージガスが供給される。流路形成部55は、パージガスの流路を構成する。環状部材56は、ほぼ中央部分に貫通穴56aが形成され、この貫通穴56aの周りを囲むように上面側に角リング57が設けられる。角リング57は、例えばゴムなどの弾性部材を用いて形成される。角リング57は、断面が矩形に形成された環状の部材である。角リング57の上面は、容器Fの底部に当接される。
蓋部50は、第1筒状部51が流路形成部55内に配置され、第2筒状部52が貫通穴56aから上方に突出した状態で配置される。第2筒状部52と貫通穴56aとの間には、パージガスが流通可能な隙間が形成される。図5(A)に示すように、容器Fが載置部3に載置されない状態においては、配管34から供給されるパージガスの圧力により、蓋部50が上方に押圧され、蓋部50の段部51aが環状部材56の下面に押し付けられる。これにより、貫通穴56aが塞がった状態となる。このように、蓋部50は、載置部3に容器Fが載置されない状態においてパージガスの圧力によって流路を閉塞する。なお、蓋部50を上方に押圧するために、例えばコイルスプリング等の弾性部材が配置されてもよい。
一方、図5(B)に示すように、容器Fが載置部3に載置されると、容器Fの重量によって蓋部50が下方に移動し、容器Fの底面が角リング57に接触する。これにより、角リング57で囲まれた領域が密閉される。また、蓋部50は、スペーサ部53が容器Fの底部で押されて下方に移動し、段部51aが環状部材56の下面から離れる。このため、段部51aと環状部材56の下面との間に隙間が形成される。これにより、流路形成部55内のパージガスは、段部51aと環状部材56との隙間から、第2筒状部52と貫通穴56aとの隙間を介して角リング57で囲まれた領域に入り込み、スペーサ部53の隙間53aを介して容器Fの導入口24に連通される。このように、蓋部50は、載置部3に容器Fが載置された場合に容器Fの重量によってパージガスの流路を開放する。配管34から供給されるパージガスは、この流路を介して導入口24から容器Fの内部に供給される。
なお、載置部3に載置された容器Fが上方に移動すると、蓋部50は、配管34からのパージガスの圧力によって上方に移動し、段部51aが環状部材56の下面に接触することによりパージガスの流路を閉塞した状態に戻る。
なお、供給ノズル30は、上記した構成の蓋部50を用いることに限定するものではなく、他の蓋部が使用されてもよい。図6は、変形例に係る蓋部50Aの一例を示す斜視図である。図6に示すように、蓋部50Aは、大径の取付部61と、小径の容器支持部62と、環状の変形部63と、鍔部64と、を有している。取付部61は、円筒状に形成され、後述する流路形成部65に取り付けられる。容器支持部62は、円筒状に形成され、取付部61の上部から内側に延びた変形部63上に形成される。容器支持部62の上端は、容器Fの底面と接触する部分として用いられる。鍔部64は、容器支持部62の内側において内方に突出するように環状に形成される。蓋部50Aは、ゴムなどの弾性部材を用いて一体に形成され、少なくとも変形部63が変形可能に形成される。
図7(A)及び(B)は、蓋部50Aを備えた供給ノズル30の一例を示す図である。図7(A)に示すように、蓋部50Aは、取付部61の下端内側に形成された突出部61aが、流路形成部65の上部外周に形成された環状溝部65dに入り込んだ状態で、流路形成部65に取り付けられる。流路形成部65は、内部に配管34が接続され、底部のほぼ中央から起立する柱部65cの上部に円板状の閉塞部65bが設けられる。閉塞部65bは、蓋部50Aの容器支持部62内に配置可能な外径に形成される。蓋部50Aを流路形成部65に取り付けた状態では、蓋部50Aの鍔部64の上面が閉塞部65bの下面に当接した状態となる。
図7(A)に示すように、容器Fが載置部3に載置されない状態においては、配管34から供給されるパージガスの圧力により、蓋部50Aが上方に押圧され、鍔部64の上面が閉塞部65bの下面に押し付けられる。また、取付部61の突出部61aが環状溝部65dに入り込んでいることにより、容器Fへのパージガスの流路が閉塞される。このように、蓋部50Aは、載置部3に容器Fが載置されない状態においてパージガスの圧力によって流路を閉塞する。なお、蓋部50Aを上方に押圧するために、例えばコイルスプリング等の弾性部材が配置されてもよい。
一方、図7(B)に示すように、容器Fが載置部3に載置されると、容器支持部62が容器Fの底部と当接し、容器Fの重量によって下方に押圧される。これにより、容器支持部62が下方に移動した状態に変形部63が変形する。これにより、鍔部64の上面が閉塞部65bの下面から離れる。これにより、流路形成部65内のパージガスは、鍔部64と閉塞部65bとの隙間から容器支持部62を介して導入口24に達する流路が形成される。なお、変形部63の下面は、流路形成部65の内壁65aの上端に接触しており、パージガスが外部に漏れるのを防止している。このように、蓋部50Aは、載置部3に容器Fが載置された場合に容器Fの重量によって流路を開放する。配管34から供給されるパージガスは、開放された流路に沿って流れ、導入口24から容器Fの内部に供給される。
なお、載置部3に載置された容器Fが上方に移動すると、蓋部50Aは、配管34からのパージガスの圧力と自身の弾性力によって元の形態に復帰し、鍔部64が閉塞部65bに接触することによりパージガスの流路を閉塞した状態に戻る。
図8は、流量制御装置32の配置の一例を示す図である。図8に示すように、流量制御装置32は、載置部3のグループG毎に1つずつ設けられる。流量制御装置32は、パージストッカ1において、例えばスタッカクレーン5の走行範囲の端部5E側にまとめて配置される。図8に示すように、載置部3がスタッカクレーン5を挟んで2列に配置され、各列についてグループGが設定される場合には、流量制御装置32は、列ごとに設けられる。なお、スタッカクレーン5を挟んだ2列の載置部3を1つのグループGとして1つの流量制御装置32が配置されてもよい。
このように、流量制御装置32が、スタッカクレーン5の走行範囲の端部5E側にまとめて配置されることにより、載置部3の奥に流量制御装置32を配置することが不要となる。さらに、載置部3ごとの電磁弁も不要であることから、載置部の奥行の寸法を小さくすることができ、パージストッカ1を小型化することができる。また、流量制御装置32がパージストッカの一部にまとめて配置されるので、作業者にとって流量制御装置32の設置やメンテナンス等を容易に行うことができる。
図9は、本実施形態に係るパージガスの供給方法の一例を示すフローチャートである。上記したように、スタッカクレーン5により載置部3に容器Fが載置された場合、供給ノズル30はパージガスの流路を開く(ステップS1)。これにより、載置部3に載置された容器Fに対して、パージ装置4によるパージガスの供給が開始される。
また、載置部3に容器Fが載置されることにより、プレースメントセンサ29から容器Fが載置されたことの信号が制御装置6に送信される。制御装置6は、この信号に基づいて、グループGの容器Fの数を取得する(ステップS2)。なお、制御装置6は、パージストッカ1の制御装置等からグループG内の容器Fの個数を取得してもよい。制御装置6は、グループG内の容器Fの個数に基づいてパージガスの流量を設定し、設定値を流量制御装置32に送信する。流量制御装置32は、制御装置6からの設定値に基づいてパージガスの流量を制御する(ステップS3)。
次に、制御装置6は、グループG内に新たな容器Fが載置されたかを判断する(ステップS4)。新たな容器Fの載置は、プレースメントセンサ29の信号に基づくものでもよく、また、パージストッカ1の制御装置等から送られる情報であってもよい。新たな容器Fが載置された場合(ステップS4のYes)、制御装置6は、流量制御装置32に対してパージガスの流量を一旦減少させて徐々に所定流量まで増加させるように指示する(ステップS5)。これにより、パージガスの流量が急に増加するのを抑制し、容器F内の収容物が振動するのを防止する。なお、このようなステップS4及びS5を実施するか否かは任意である。
次に、制御装置6は、圧力検出部37の検出信号に基づいて、パージの良否判定を行う(ステップS6)。制御装置6は、表示部8に対して判定結果を表示させ(ステップS5)、一連の処理を終了する。なお、ステップS6におけるパージの良否判定は、複数に分岐した供給側の配管34に圧力検出部37が配置されている場合、グループGのいずれかの容器Fにおいてパージ不良が発生していることを判定する。また、載置部3ごとに排気側の配管35に圧力検出部37が配置されている場合(図2参照)、どの容器Fがパージ不良であるかを判定することが可能である。
このように、本実施形態によれば、グループG内において、容器Fが載置された載置部3の流路にはパージガスが流れるが、容器Fが載置されない載置部3の流路にはパージガスが流れない。したがって、グループG内の容器Fの個数に基づいてパージガスの流量を調整することで、各容器Fに供給されるパージガスの流量が調整される。これにより、載置部3ごとに電磁弁や流量制御装置32を設ける必要がなく、各電磁弁や各流量制御装置32の制御が不要となり、制御装置6においてパージガスの供給における制御を容易にすることができる。
なお、上記した実施形態では、パージストッカ1内の複数の載置部3について、水平方向に並ぶ1列の載置部3ごとにグループGを設定したが、これに限定するものではない。図10は、変形例に係るパージストッカ1Aの一例を示す図である。図10の左側の例に示すように、鉛直方向に1列に並んだ複数の載置部3を1つのグループGとして設定してもよい。また、図10の右上の例に示すように、水平方向及び鉛直方向に2列以上に並んだ複数の載置部3を1つのグループGとして設定してもよい。また、図10に示す例に限定するものではなく、複数の載置部3を含むものであればグループGの載置部3は任意に設定可能である。例えば、互いに離れて配置される複数の載置部3を1つのグループGとして設定してもよい。
また、図8に示す例では、流量制御装置32をスタッカクレーン5の走行範囲の端部5E側にまとめて配置する構成を例に挙げて説明したが、これに限定するものではない。例えば、図10の左下に示すように、鉛直方向に1列に並んだ載置部3の下方に流量制御装置32が配置されてもよいし、図示しないが、鉛直方向に1列に並んだ載置部3の上方に流量制御装置32が配置されてもよい。
図11は、変形例に係るパージストッカ1Bの一例を示す図である。図11に示すように、流量制御装置32は、パージストッカ1Bにおいて、載置部3に保持された容器Fの背面Fb側に配置されてもよい。ここで、容器Fの背面Fb側とは、スタッカクレーン5の移載装置13がアクセスする側とは反対側をいう。図11においては、ストッカ筐体2の壁部が配置される側である。この場合、流量制御装置32は、容器Fの背面Fb側のうち、例えば載置部3と壁部との間の空間に配置される。また、流量制御装置32は、容器Fの背面Fb側に配置される場合、例えば、隣り合う2つの載置部3の間に配置されてもよい。
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明の技術範囲は、上記した実施形態あるいは変形例に限定されない。また、上記した実施形態あるいは変形例で説明した要件は、適宜組み合わせることができる。例えば、図1に示すパージストッカ1では、全ての載置部3がいずれかのグループG内となるように設定してパージ装置4に接続されるが、一部の載置部3についてはグループG内とはせずに個別にパージ装置4を備えるものでもよい。また、一部の載置部3はグループG外としてパージ装置4に接続されなくてもよい。パージ装置4に接続されない載置部3の場合、スタッカクレーン5は、パージ装置4に接続された載置部3に容器Fを載置し、パージが施された容器Fを、パージ装置4に接続されない載置部3に移載してもよい。また、法令で許容される限りにおいて、日本特許出願である特願2015−153757、及び上述の実施形態などで引用した全ての文献、の内容を援用して本文の記載の一部とする。
F…容器 G…グループ 1、1A、1B…パージストッカ 2…ストッカ筐体 2a…内部空間 3…載置部 3a…貫通穴 3b…角リング 4…パージ装置 5…スタッカクレーン(搬送装置) 5E…走行端 6…制御装置 24…導入口 29…プレースメントセンサ(検出部) 29a…スイッチ 30…供給ノズル(ノズル) 32…流量制御装置 34…配管 50、50A…蓋部

Claims (8)

  1. 容器が載置されるグループ化された複数の載置部と、
    前記載置部に前記容器が載置されることにより前記容器にパージガスを供給する流路が開くように形成されたノズルと、
    前記グループ内の前記容器の個数に基づいて前記グループ内に供給する前記パージガスの流量を調整する流量制御装置と、を備えるパージ装置。
  2. 前記載置部のそれぞれは、前記容器が載置されているか否かを検出する検出部を有する、請求項1記載のパージ装置。
  3. 前記ノズルは、前記載置部に前記容器が載置されない状態において前記パージガスの圧力によって流路を閉塞する蓋部を有し、
    前記蓋部は、前記載置部に前記容器が載置された場合に前記容器の重量によって前記流路を開放する、請求項1又は請求項2記載のパージ装置。
  4. 前記流量制御装置は、前記グループ内に新たな前記容器が載置された場合、前記パージガスの流量を一旦減少させてから徐々に所定流量まで増加させる、請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載のパージ装置。
  5. 水平方向又は鉛直方向に並んだ前記複数の載置部を前記グループとする、請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載のパージ装置。
  6. 請求項1〜請求項5のいずれか一項に記載のパージ装置を複数備える、パージストッカ。
  7. 前記パージ装置の前記複数の載置部に沿って走行可能であり、前記載置部に対して前記容器を移載する搬送装置を備え、
    前記パージ装置の前記流量制御装置は、前記搬送装置の走行範囲の端部側にまとめて配置される、請求項6記載のパージストッカ。
  8. グループ化された複数の載置部に載置された容器に対してパージガスを供給する方法であって、
    前記載置部に前記容器が載置されることにより前記容器にパージガスを供給する流路を開くことと、
    前記グループ内の前記容器の個数に基づいて前記グループ内に供給する前記パージガスの流量を調整することと、を含むパージガスの供給方法。
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Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6623988B2 (ja) * 2016-09-09 2019-12-25 株式会社ダイフク 容器収納設備
JP6817757B2 (ja) * 2016-09-16 2021-01-20 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置及び基板移送方法
CN109983568B (zh) * 2017-02-20 2023-02-28 村田机械株式会社 吹扫储料器
JP6794898B2 (ja) * 2017-03-29 2020-12-02 株式会社ダイフク 収納棚
EP3809454B1 (en) * 2018-06-15 2023-05-03 Murata Machinery, Ltd. Storage shelf
JP7090513B2 (ja) * 2018-09-06 2022-06-24 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置及びパージ方法
CN117402277B (zh) * 2023-12-15 2024-04-09 万华化学集团股份有限公司 一种淤浆法生产超高分子量聚乙烯出料线防堵塞的工艺方法

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11314703A (ja) * 1998-04-30 1999-11-16 Ebara Corp 基板保管装置
JP2005340330A (ja) * 2004-05-25 2005-12-08 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体基板の保管容器および半導体基板の保管方法
JP2008159734A (ja) * 2006-12-22 2008-07-10 Asyst Technologies Japan Inc コンテナの搬送システム及び測定用コンテナ
JP2010182747A (ja) * 2009-02-03 2010-08-19 Dan Takuma:Kk 保管システムおよび保管方法
JP2013131712A (ja) * 2011-12-22 2013-07-04 Daifuku Co Ltd 不活性ガス注入装置
JP2013133193A (ja) * 2011-12-26 2013-07-08 Daifuku Co Ltd 物品保管設備
JP2013142009A (ja) * 2012-01-06 2013-07-22 Daifuku Co Ltd 物品保管設備
JP2015065259A (ja) * 2013-09-25 2015-04-09 村田機械株式会社 ガス供給装置、自動倉庫、及びガス供給方法
JP2015142104A (ja) * 2014-01-30 2015-08-03 村田機械株式会社 パージ装置、パージストッカ、及び容器

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009022908A (ja) * 2007-07-20 2009-02-05 Chugoku Electric Power Co Inc:The 汚水浄化システム
JP5598729B2 (ja) 2011-12-26 2014-10-01 株式会社ダイフク 物品保管設備
JP5888288B2 (ja) * 2013-06-26 2016-03-16 株式会社ダイフク 物品保管設備の検査装置

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11314703A (ja) * 1998-04-30 1999-11-16 Ebara Corp 基板保管装置
JP2005340330A (ja) * 2004-05-25 2005-12-08 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体基板の保管容器および半導体基板の保管方法
JP2008159734A (ja) * 2006-12-22 2008-07-10 Asyst Technologies Japan Inc コンテナの搬送システム及び測定用コンテナ
JP2010182747A (ja) * 2009-02-03 2010-08-19 Dan Takuma:Kk 保管システムおよび保管方法
JP2013131712A (ja) * 2011-12-22 2013-07-04 Daifuku Co Ltd 不活性ガス注入装置
JP2013133193A (ja) * 2011-12-26 2013-07-08 Daifuku Co Ltd 物品保管設備
JP2013142009A (ja) * 2012-01-06 2013-07-22 Daifuku Co Ltd 物品保管設備
JP2015065259A (ja) * 2013-09-25 2015-04-09 村田機械株式会社 ガス供給装置、自動倉庫、及びガス供給方法
JP2015142104A (ja) * 2014-01-30 2015-08-03 村田機械株式会社 パージ装置、パージストッカ、及び容器

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