KR102072621B1 - 퍼지 장치, 퍼지 스토커, 및 퍼지 방법 - Google Patents

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마사나오 무라타
타카시 야마지
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무라다기카이가부시끼가이샤
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Abstract

본 발명의 과제는, 용기의 종류에 따라 퍼지(purge)를 적절히 행하는 것이 가능한 퍼지 장치를 제공하는 데 있다.
상기의 과제를 해결하기 위한 본 발명의 퍼지 장치(4A)는, 퍼지 대상인 용기(F)의 종류를 검출하는 종류 검출부(41)와, 종류 검출부의 검출 결과에 근거하여, 용기에 대한 퍼지 조건을 결정하는 퍼지 제어부(42)를 구비한다.

Description

퍼지 장치, 퍼지 스토커, 및 퍼지 방법
[0001] 본 발명은, 퍼지 장치(purge device), 퍼지 스토커(purge stocker), 및 퍼지 방법에 관한 것이다.
[0002] 퍼지 스토커는, 웨이퍼, 레티클 등의 각종 물품을 수용하는 용기를 보관한다. 이 용기는, FOUP, SMIF Pod, 레티클 Pod 등이다. 퍼지 스토커는, 보관시에 있어서 퍼지 장치에 의해 용기 내에 청정 건조 공기 또는 질소 가스 등의 퍼지 가스를 충전하여, 수용물의 오염 또는 산화 등을 억제하고 있다(예컨대, 특허 문헌 1 참조). 상기의 용기에 관해서는, 종래부터 표준화된 규격이 존재하는데, 재질, 시일(seal) 구조, 퍼지 가스의 도입구(導入口)의 위치 등에 대해서는 규정되어 있지 않으므로, 용기의 종류에 따라 상이하다. 예컨대, 퍼지 장치의 종류에 따라 전용의 용기가 이용되었다. 최근, 용기와 퍼지 장치와의 인터페이스(예, 퍼지 가스의 공급구의 위치)의 일부의 규격화가 추가로 행해져, 1 종류의 퍼지 장치로 복수 종류의 용기에 퍼지 가능한 케이스가 증가하고 있다.
[0003] 1 : 일본 특허공개공보 제2010-182747호
[0004] 그러나, 용기의 종류에 따라 퍼지 특성이 상이하여, 퍼지를 적절히 행하는 것이 어려운 경우가 있다. 예컨대, 복수 종류의 용기에 있어서 최적인 가스 유량이 상이한 경우, 퍼지 가스의 공급량을 최적 유량이 작은 용기에 맞추면, 최적 유량이 큰 용기에 있어서 퍼지 가스가 부족하여, 퍼지 효과가 불충분해진다. 이에, 퍼지 가스의 공급량을 최적 유량이 큰 용기에 맞추면, 최적 유량이 작은 용기에 있어서 퍼지 가스가 과잉되어, 퍼지 가스의 낭비가 증가되어 버린다. 더욱이, 용기의 시일 성능의 악화 혹은 도입구의 필터 등이 손상될 우려가 생기는 등의 문제가 있다.
[0005] 본 발명은, 상기의 사정을 감안하여 이루어진 것으로서, 용기의 종류에 따라 퍼지를 적절히 행하는 것이 가능한 퍼지 장치, 퍼지 스토커, 및 퍼지 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
[0006] 본 발명의 퍼지 장치는, 퍼지 대상인 용기의 종류를 검출하는 종류 검출부와, 종류 검출부의 검출 결과에 근거하여, 용기에 대한 퍼지 조건을 결정하는 퍼지 제어부를 구비한다.
[0007] 또한, 퍼지 장치는, 용기의 퍼지 상태를 검출하는 상태 검출부를 구비하고, 종류 검출부가, 상태 검출부의 검출 결과에 근거하여, 용기의 종류를 검출하는 것이어도 된다. 또한, 퍼지 장치는, 용기에 접속되는 배관에 있어서의 퍼지 가스의 유량을 제어하는 유량 제어 장치를 구비하고, 상태 검출부가, 퍼지 상태로서, 배관에 있어서의 퍼지 가스의 압력을 검출하고, 종류 검출부가, 상태 검출부에서 검출한 압력을 토대로 얻어지는 용기의 퍼지 특성에 근거하여, 용기의 종류를 검출하는 것이어도 된다. 종류 검출부는, 압력과 용기의 종류를 관련지은 특성 정보, 및 상태 검출부의 검출 결과에 근거하여, 용기의 종류를 판별하는 것이어도 된다. 또한, 종류 검출부는, 용기에 설치되는 식별자를 검출하는 센서의 검출 결과, 및 식별자와 용기의 종류를 관련지은 식별자 정보에 근거하여, 용기의 종류를 판별하는 것이어도 된다. 또한, 식별자로서, 용기에 할당된 고유의 코드를 이용하는 것이어도 된다. 식별자로서, 용기의 바닥면(底面)에 설치되는 인포 패드를 이용하는 것이어도 된다. 또한, 퍼지 장치는, 용기에 공급되는 퍼지 가스의 유량을 제어하는 유량 제어 장치를 구비하고, 퍼지 제어부가, 용기의 종류와 퍼지 조건을 관련지은 조건 정보에 근거하여 퍼지 조건을 결정하고, 결정된 퍼지 조건에 근거하여 유량 제어 장치를 제어하는 것이어도 된다. 또한, 퍼지 조건은, 용기에 공급되는 퍼지 가스의 유량 및 공급 시간을 포함해도 된다.
[0008] 본 발명의 퍼지 스토커는, 상기의 퍼지 장치와, 퍼지 장치에 의해 퍼지된 용기를 유지(保持)하는 선반을 구비한다.
[0009] 본 발명의 퍼지 방법은, 퍼지 대상인 용기의 종류를 검출하는 것과, 검출의 결과에 근거하여, 용기에 대한 퍼지 조건을 결정하는 것을 포함한다.
[0010] 본 발명에 의하면, 퍼지 대상인 용기의 종류를 검출한 결과에 근거하여, 용기에 대한 퍼지 조건을 결정하므로, 용기의 종류에 따른 퍼지 조건으로 퍼지를 행하는 것이 가능해져, 퍼지를 적절히 행할 수 있다.
[0011] 또한, 용기의 퍼지 상태를 검출하는 상태 검출부를 구비하고, 종류 검출부는, 상태 검출부의 검출 결과에 근거하여, 용기의 종류를 검출하는 퍼지 장치에서는, 실제의 퍼지 상태에 근거하여 용기의 종류를 검출할 수 있다. 또한, 용기에 접속되는 배관에 있어서의 퍼지 가스의 유량을 제어하는 유량 제어 장치를 구비하고, 상태 검출부가, 퍼지 상태로서, 배관에 있어서의 퍼지 가스의 압력을 검출하고, 종류 검출부가, 상태 검출부가 검출한 압력을 토대로 얻어지는 용기의 퍼지 특성에 근거하여, 용기의 종류를 검출하는 퍼지 장치에서는, 예컨대, 퍼지 가스의 압력에 가스의 도입구 등의 압력손실(壓損)이 반영되므로, 용기의 종류를 고정밀도로 검출할 수 있다. 또한, 종류 검출부가, 압력과 용기의 종류를 관련지은 특성 정보, 및 상태 검출부의 검출 결과에 근거하여, 용기의 종류를 판별하는 퍼지 장치에서는, 압력의 검출 결과를 특성 정보와 대조(照合)함으로써 용기의 종류를 판별할 수 있으므로, 용기의 종류를 고정밀도로 용이하게 검출할 수 있다. 또한, 종류 검출부가, 용기에 설치되는 식별자를 검출하는 센서의 검출 결과, 및 식별자와 용기의 종류를 관련지은 식별자 정보에 근거하여, 용기의 종류를 판별하는 퍼지 장치에서는, 센서가 검출한 식별자를 식별자 정보와 대조함으로써 용기의 종류를 판별할 수 있으므로, 용기의 종류를 고정밀도로 용이하게 검출할 수 있다. 또한, 식별자로서, 용기에 할당된 고유의 코드를 이용하는 퍼지 장치에서는, 예컨대, 용기의 관리 등에 이용되는 코드를 이용하여, 용기의 종류를 검출할 수 있다. 또한, 식별자로서, 용기의 바닥면에 설치되는 인포 패드를 이용하는 퍼지 장치에서는, 용기에 표준적으로 설치되는 인포 패드를 이용하여, 용기의 종류를 검출할 수 있다. 또한, 용기에 공급되는 퍼지 가스의 유량을 제어하는 유량 제어 장치를 구비하고, 퍼지 제어부가, 용기의 종류와 퍼지 조건을 관련지은 조건 정보에 근거하여 퍼지 조건을 결정하고, 결정된 퍼지 조건에 근거하여 유량 제어 장치를 제어하는 퍼지 장치에서는, 용기의 종류를 조건 정보와 대조하여 퍼지 조건을 결정하므로, 용기의 종류에 합치된 퍼지 조건을 용이하게 결정할 수 있고, 또한, 결정된 퍼지 조건에 근거하여 유량 제어 장치를 제어하므로, 용기 내의 퍼지 상태를 고정밀도로 제어할 수 있다. 또한, 퍼지 조건이, 용기에 공급되는 퍼지 가스의 유량 및 공급 시간을 포함하는 퍼지 장치에서는, 퍼지 가스의 공급량의 시간 이력을 제어할 수 있으므로, 용기 내의 퍼지 상태를 고정밀도로 제어할 수 있다.
[0012] 도 1의 (A) 및 (B)는, 제1 실시형태에 따른 퍼지 스토커 및 퍼지 장치를 나타낸 도면이다.
도 2의 (A) 및 (B)는, 퍼지 특성 및 특성 정보의 설명도이다.
도 3의 (A) 내지 (C)는, 퍼지 특성, 조건 정보, 및 퍼지 조건의 설명도이다.
도 4의 (A) 및 (B)는, 실시형태에 따른 퍼지 방법을 나타낸 플로우챠트이다.
도 5의 (A) 및 (B)는, 제2 실시형태에 따른 퍼지 장치 및 용기의 식별자를 나타낸 도면이다.
도 6은, 제3 실시형태에 따른 퍼지 장치를 나타낸 도면이다.
도 7은, 제4 실시형태에 따른 퍼지 장치를 나타낸 도면이다.
[0013] 이하에서는, 실시형태에 대해 도면을 참조하면서 설명한다. 이하의 각 도면에 있어서, XYZ 좌표계를 이용하여 도면 중의 방향을 설명한다. 상기 XYZ 좌표계에 있어서는, 연직 방향을 Z방향으로 하고, 수평 방향을 X방향, Y방향으로 한다.
[0014] ［제1 실시형태］
도 1의 (A)는, 본 실시형태에 따른 퍼지 스토커(1)의 일례를 나타낸 도면이며, 도 1의 (B)는 용기(F) 및 퍼지 장치(4A)의 일례를 나타낸 도면이다. 퍼지 스토커(1)는, 예컨대, 반도체 소자의 제조에 이용되는 웨이퍼 혹은 레티클 등의 물품을 수용하는 용기(F)를 보관하는 자동 창고이다. 용기(F)는, 예컨대, FOUP, SMIF Pod, 레티클 Pod 등이다. 레티클은, 액침(液浸) 노광 장치에 이용되는 것이어도 되고, EUV 노광 장치에 이용되는 것이어도 된다.
[0015] 도 1의 (A)에 나타낸 바와 같이, 퍼지 스토커(1)는, 하우징(2), 복수의 보관 선반(3), 복수의 퍼지 장치(4A), 스태커 크레인(반송(搬送) 장치)(5), 및 스토커 제어 장치(6)를 구비한다. 하우징(2)은, 외부에 대해 격리 가능한 내부 공간(2a)을 가진다. 하우징(2)은, 하우징(2)의 외부와 내부 공간(2a) 간에 용기(F)가 전달되는 입출고 포트(도시 생략)를 구비하고 있다. 복수의 보관 선반(3), 복수의 퍼지 장치(4A), 및 스태커 크레인(5)은, 하우징(2)의 내부 공간(2a)에 배치되어 있다. 스토커 제어 장치(6)는, 하우징(2)의 내부 또는 외부의 어디에 배치되어도 된다. 스토커 제어 장치(6)는, 퍼지 장치(4A) 및 스태커 크레인(5)을 제어한다. 참고로, 퍼지 장치(4A)를 제어하는 제어 장치와, 스태커 크레인(5)을 제어하는 제어 장치가 따로 설치되어 있어도 된다.
[0016] 스태커 크레인(5)은, X방향, Y방향, 및 Z방향의 각 방향으로 용기(F)를 반송 가능하며, 예컨대, 입출고 포트와 보관 선반(3)과의 사이, 및/또는 보관 선반(3)으로부터 다른 보관 선반(3)으로 용기(F)를 반송 가능하다. 스태커 크레인(5)은, 예컨대, 주행대차(10), 지지기둥(11), 지지대(12), 및 이재(移載) 장치(13)를 구비한다. 주행대차(10)는, 복수의 차륜(14)을 가지며, 하우징(2)의 바닥면에 설치된 레일(15)을 따라 수평 방향(X방향)으로 이동한다.
[0017] 지지기둥(11)은, 주행대차(10)의 상면(上面)으로부터 연직 방향(Z방향)으로 연장되어 설치된다. 지지대(12)는, 지지기둥(11)에 지지되어, 지지기둥(11)을 따라 Z방향으로 슬라이드 가능하게 설치된다. 이재 장치(13)는, 예컨대, 신축 가능한 아암부와, 상면에 용기(F)를 올려놓을 수 있는 재치부(載置部)를 구비한다. 참고로, 스태커 크레인(5)에 있어서는, 용기(F)의 바닥면을 지지하여 반송하는 이재 장치(13)를 대신하여, 예컨대, 용기(F)의 상부의 플랜지부(23)(도 1의 (B) 참조)를 파지(把持)하여, 용기(F)를 매달아 반송하는 이재 장치, 혹은 용기(F)의 측면을 파지하여 반송하는 이재 장치여도 된다. 또한, 도 1에는 1대의 스태커 크레인(5)을 도시하였으나, 하우징(2) 내에 배치되는 스태커 크레인(5)은 2대 이상이어도 된다.
[0018] 보관 선반(3)은, 높이 방향(Z방향)으로 복수 단(段)이 나란히 배치되고, 수평 방향(X방향)으로 복수 열(列)이 나란히 배치되어 있다. 복수의 보관 선반(3)에는, 각각, 용기(F)를 올려놓을 수 있다. 복수의 보관 선반(3)은, 각각, 퍼지 장치(4A)에 의해 퍼지된 용기(F)를 유지(保持)시킬 수 있는 선반이다. 참고로, 용기(F)의 보관 상황에 따라서는, 일부의 보관 선반(3)에 용기(F)가 올려져 있지 않은 경우가 있다.
[0019] 도 1의 (B)에서는 용기(F)의 일례로서 FOUP를 나타내고 있으며, 용기(F)는, 전면(前面)에 개구(開口)(20)를 가지는 박스 형상의 본체부(21)와, 개구(20)를 막는 덮개부(22)를 구비한다. 웨이퍼 등의 물품은, 개구(20)를 통해 용기(F)의 내부(Fa)(내부 공간, 수용 스페이스)에 수용된다. 본체부(21)의 상부에는 플랜지부(23)가 설치된다. 본체부(21)는, 그 바닥면측에 위치결정용의 오목부(도시 생략)를 구비한다. 이 오목부는, 예컨대, 본체부(21)의 바닥면의 중심으로부터 방사상으로 연장되는 홈(溝) 형상이다. 용기(F)를 반송할 때, 상기 오목부에는 이재 장치(13)의 재치대(載置臺)에 설치되는 위치결정용의 핀(도시 생략)이 들어가서, 용기(F)가 이재 장치(13)의 재치대에 대해 위치결정된다.
[0020] 보관 선반(3)은, 이재 장치(13)의 재치대가 연직 방향으로 통행 가능한 노치(도시 생략)를 가진다. 이재 장치(13)는, 재치대를 보관 선반(3)의 상방으로부터 하방으로, 노치부를 통해 이동시킴으로써, 보관 선반(3)의 상면에 용기(F)를 이재한다. 보관 선반(3)의 상면에는 위치결정용 핀(도시 생략)이 설치된다. 용기(F)를 보관 선반(3)에 올려놓을 때, 용기(F)의 바닥면측의 오목부에는 보관 선반(3)의 상면의 핀이 들어가서, 용기(F)가 보관 선반(3)에 대해 위치결정된다. 용기(F)의 본체부(21)는, 바닥면측에, 가스 도입 포트(24) 및 가스 배기 포트(25)를 구비한다.
[0021] 가스 도입 포트(24)에는, 예컨대, 도입구, 필터, 및 체크 밸브가 설치된다. 도입구는, 본체부(21)의 내부(Fa)와 외부에 연통(連通)한다. 도입구의 내측은, 용기(F)의 내부(Fa)에 공급되는 퍼지 가스(G1)의 유로이며, 필터는 이 유로에 설치된다. 필터는, 예컨대 파티클 필터이며, 도입구를 통과하는 가스에 포함되는 먼지를 제거한다. 가스 도입 포트(24)의 체크 밸브는, 용기(F)의 내부(Fa)로부터 도입구를 통해 외부로 가스가 유출되는 것을 억제한다. 가스 배기 포트(25)에는, 예컨대, 배기구, 체크 밸브, 및 필터가 설치된다. 배기구는, 본체부(21)의 내부(Fa)와 외부에 연통한다. 가스 배기 포트(25)의 체크 밸브는, 용기(F)의 외부로부터 배기구를 통해 내부(Fa)로 가스가 유입되는 것을 억제한다. 필터는, 예컨대 파티클 필터이며, 배기구를 통과하는 가스에 포함되는 먼지를 제거한다. 배기구를 통과하는 가스는, 퍼지 개시 직후에 있어서, 퍼지 전의 용기(F)에 있어서의 내부(Fa)의 분위기 가스의 비율이 높고, 퍼지 개시로부터 시간이 경과함에 따라 퍼지 가스(G1)의 비율이 높아진다.
[0022] 퍼지 장치(4A)는, 퍼지 노즐(31), 배기 노즐(32), 유량 제어 장치(33), 상태 검출부(34), 및 퍼지 제어 장치(35)를 구비한다. 퍼지 노즐(31) 및 배기 노즐(32)은, 보관 선반(3)의 상면에 설치된다. 퍼지 노즐(31) 및 배기 노즐(32)은, 보관 선반(3)에 용기(F)를 올려놓았을 때, 각각 도입구, 배기구와 접속되도록 배치된다. 용기(F)의 도입구는, 보관 선반(3)에 용기(F)를 올려놓았을 때, 퍼지 노즐(31)을 통해 배관(36)에 접속되고, 나아가 유량 제어 장치(33)를 통해 가스원(37)에 접속된다. 배기 노즐(32)은, 배관(38)을 통해 퍼지 가스의 배기 경로(가스 배기(39))에 접속된다.
[0023] 가스원(37)은, 퍼지 가스(G1)를 공급한다. 퍼지 가스(G1)의 종류는, 용기(F)에 수용되는 수용물에 따라 선택된다. 예컨대, 수용물에 대한 산화 억제, 분자 오염 등을 억제하는 가스, 혹은 용기(F)의 내부의 수분을 감소시키는 가스 등이 이용된다. 예컨대, 수용물이 실리콘 웨이퍼인 경우, 퍼지 가스(G1)로서 질소 가스 등의 불활성화 가스가 이용된다. 질소 가스가 용기(F)의 내부(Fa)에 공급됨으로써, 산소를 포함하는 분위기 가스가 용기(F)의 내부로부터 외부로 배기(제거)되어, 실리콘 웨이퍼가 산화되는 것이 억제(방지)된다. 또한, 수용물이 레티클인 경우, 퍼지 가스(G1)로서 청정 건조 공기(CDA) 등의 건조 가스가 이용된다. 청정 건조 공기가 용기(F)의 내부(Fa)에 공급됨으로써, 수분을 포함하는 분위기 가스가 용기(F)의 내부로부터 외부로 배기(제거)되어, 레티클에 수분이 부착되는 것이 억제(방지)된다. 가스원(37)은, 퍼지 스토커(1)의 일부여도 되고, 퍼지 스토커(1)의 외부의 장치여도 되며, 예컨대, 퍼지 스토커(1)가 설치되는 공장의 설비여도 된다.
[0024] 용기(F)를 퍼지할 때, 가스원(37)으로부터의 퍼지 가스(G1)는, 유량 제어 장치(33) 및 배관(36)을 통해, 용기(F)의 도입구로부터 내부(Fa)로 공급되어, 용기(F)의 내부(Fa)에 충전된다. 또한, 내부(Fa)의 가스는, 배기구로부터 용기(F)의 외부로 배출되고, 배관(38)을 통해 가스 배기(39)에 의해 외부로 배기된다. 참고로, 가스 배기(39)는, 펌프 등에 의해 가스를 흡인하는 장치가 설치되어도 된다. 또한, 용기(F)는 가스 배기 포트(25)를 구비하지 않아도 되며, 이 경우, 퍼지 장치(4A)는 배기 노즐(32)을 구비하지 않아도 된다. 예컨대, 용기(F)의 내부(Fa)의 압력이 문턱값 이상이 되면, 용기(F)의 내부(Fa)의 가스가 개구(20)와 덮개부(22)의 틈새 등을 통해 외부로 누출되므로, 가스 배기 포트(25)가 없는 경우라도 용기(F)의 내부(Fa)의 가스를 외부로 배기할 수 있다.
[0025] 유량 제어 장치(33)는, 용기(F)에 접속되는 배관(36)(용기(F)의 도입구와 가스원(37) 사이의 유로)에 있어서의 퍼지 가스(G1)의 유량을 제어한다. 유량 제어 장치(33)는, 예컨대 매스 플로우 컨트롤러이며, 그 내부에 퍼지 가스(G1)가 흐르는 유로를 가진다. 유량 제어 장치(33) 내부의 유로에는, 예컨대, 자기발열형(自己發熱型) 저항체를 이용한 유량계, 및 전자 밸브 등의 유량 제어 밸브가 설치된다. 유량 제어 장치(33)는, 유량계의 측정 결과를 토대로 전자 밸브를 피드백 제어하여, 그 내부에 있어서의 퍼지 가스(G1)의 유량을 목표치에 근접시킨다. 유량 제어 장치(33)가 배관(36)에 있어서의 퍼지 가스의 유량을 제어함으로써, 가스원(37)으로부터 퍼지 노즐(31)에 공급되는 퍼지 가스(G1)의 유량이 제어된다. 유량 제어 장치(33)는, 퍼지 제어 장치(35)와 통신 가능하게 접속되어, 퍼지 제어 장치(35)로부터 공급되는 제어 신호에 근거하여, 퍼지 가스(G1)의 유량을 제어한다.
[0026] 그런데, 퍼지 장치(4A)는, 퍼지 대상인 용기(F)를 변경하여, 복수의 용기(F)에 퍼지를 반복하여 행하는 것이 가능하다. 예컨대, 퍼지 장치(4A)가 보관 선반(3)마다 설치되는 경우, 용기(F)가 보관 선반(3)으로부터 반출된 후, 다른 용기(F)가 보관 선반(3)에 반입되며, 퍼지 장치(4A)는, 이 용기(F)에 대해 퍼지를 행하는 것이 가능하다. 또한, 퍼지 장치(4A)가 예컨대 입출고 포트 등에 설치될 경우, 퍼지 장치(4A)는, 입출고 포트로 운반되는 용기(F)에 순서대로 퍼지를 행하는 것이 가능하다. 퍼지 장치(4A)가 퍼지의 대상으로 하는 용기(F)는, 가스 도입 포트(24) 등의 인터페이스의 평면 위치가 퍼지 장치(4A)와 정합(整合)되는 용기(F)이면 되고, 퍼지 특성(후술함)이 상이한 복수 종류의 용기(F)여도 된다. 예컨대, 용기(F)의 종류는, 동일한 메이커가 제조하는 것이라 하더라도 수용물 등에 따라 다른 경우가 있고, 또한 메이커의 상이(相異)에 따라서도 다른 경우가 있다. 종류가 상이한 용기(F)에서는 퍼지 특성이 다른 경우가 있으며, 본 실시형태에 있어서, 퍼지 장치(4A)는, 용기(F)의 종류에 따른 퍼지 조건으로 퍼지를 행한다.
[0027] 퍼지 특성은, 퍼지 조건과 퍼지 상태와의 관계를 나타내는 정보, 즉 퍼지 조건에 대한 응답(퍼지에 관한 용기(F)의 특성)을 나타내는 정보이다. 퍼지 조건은, 퍼지 가스의 유량, 공급 시간, 총 공급량 등이다. 유량이 시간적으로 변화하는 경우, 유량의 시간 이력도 퍼지 조건의 하나이며, 이 경우의 총 공급량은, 유량의 시간 적분이 된다. 퍼지 상태는, 예컨대, 공급압, 용기(F)의 내부에 있어서의 퍼지 가스의 양 혹은 비율, 용기(F)의 내부의 압력, 퍼지에 의해 제거할 대상인 물질(이하, 제거 대상 물질이라 함)의 농도 등이다.
[0028] 퍼지 특성은, 예컨대, 하기의 (A), (B), (C)의 항목에 포함되는 용기(F)의 요건에 의존한다. (A)의 항목은, 내부의 용적, 내부의 형상, 가스 도입구의 수, 가스 배기구의 유무, 가스 배기구의 수, 용기(F)의 밀폐 구조(예, 본체부(21)와 덮개부(22)와의 시일 구조) 등이다. (B)의 항목은, 가스 도입구의 면적(유로 면적, 내부 직경), 가스 배기구의 면적(유로 면적, 내부 직경), 파티클 필터의 압력손실, 파티클 필터의 면적 등이다. (C)의 항목은, 용기(F)의 내부(예, 내벽(內壁)의 표면)의 재질 등이다. 상기의 (A), (C)는, 예컨대, 제거 대상 물질의 용기(F)에 있어서의 농도의 시간 이력 등에 영향을 미친다. 제거 대상 물질은, 예컨대 산소, 수분 등이다. 상기의 (A), (C)의 항목이 다른 용기(F)에서는, 예컨대, 퍼지 가스를 일정한 유량으로 공급하는 경우의 제거 대상 물질의 농도 하락 방식, 퍼지 가스의 공급 정지 후의 제거 대상 물질의 상승 정도 등이 다르다. 상기의 (B)는, 퍼지 가스의 공급압 등에 영향을 미친다. 여기서는, 상기 (A)∼(C) 항목 중 적어도 하나가 다른 경우에, 용기(F)의 종류가 다른 것으로 한다.
[0029] 이하에서는, 용기(F)의 종류에 따른 퍼지 조건을 결정하는 구성에 대해 설명한다. 퍼지 제어 장치(35)는, 종류 검출부(41), 퍼지 제어부(42), 및 기억부(43)를 구비한다. 종류 검출부(41)는, 퍼지 대상인 용기(F)의 종류를 검출한다. 본 실시형태에 있어서, 퍼지 장치(4A)에는 용기(F)의 퍼지 상태를 검출하는 상태 검출부(34)가 구비되며, 종류 검출부(41)는, 상태 검출부(34)의 검출 결과에 근거하여, 용기(F)의 종류를 검출한다. 상태 검출부(34)는, 압력계(44)를 포함하여, 퍼지 상태로서, 배관(36)에 있어서의 퍼지 가스(G1)의 압력을 검출(측정)한다. 압력계(44)는, 유량 제어 장치(33)와 퍼지 노즐(31) 간의 퍼지 가스(G1)의 유로에 설치된다. 압력계(44)는, 퍼지 가스(G1)가 퍼지 노즐(31)에 공급될 때의 압력(이하, 공급압이라 함)을 측정한다. 용기(F)에 있어서의 가스 도입 포트(24)의 도입구에 퍼지 노즐(31)이 접속된 상태에 있어서, 퍼지 가스(G1)의 공급압은, 가스 도입 포트(24)에 있어서의 압력손실(壓損)의 영향을 받는다. 따라서, 퍼지 가스(G1)의 공급압은, 가스 도입 포트(24)의 구조에 따른 값, 즉 용기(F)의 종류에 따른 값이 되며, 압력계(44)의 검출 결과를 용기(F)의 종류의 검출에 이용할 수 있다. 종류 검출부(41)는, 예컨대, 압력(공급압)과 용기(F)의 종류를 관련지은 특성 정보, 및 상태 검출부(34)(압력계(44))의 검출 결과에 근거하여, 용기(F)의 종류를 판별(검출, 특정, 판정)한다.
[0030] 도 2는 퍼지 특성 및 특성 정보의 설명도로서, (A)에는 퍼지 가스의 유량에 대한 공급압의 그래프를 나타내고, (B)에는 특성 정보(D1)의 개념도를 나타내고 있다. 도 2의 부호 A1, A2는, 각각 용기(F)의 종류이며, 종류 A1인 용기(F)는, 종류 A2인 용기(F)에 비해 가스 도입 포트(24)에 있어서의 압력손실이 크다. 예컨대, 유량을 Q1으로 하는 데 필요한 공급압은, 종류 A1인 용기(F)가 종류 A2인 용기(F)보다 높다. 도 2의 (B)에서는, 특성 정보(D1)가 테이블 데이터의 형식으로 표시되어 있다. 특성 정보(D1)에 있어서, 1열째는, 공급압과 유량의 비율의 범위이며, 2행째는, 1행째에 대응하는 용기(F)의 종류이다. 예컨대, 특성 정보(D1)의 1행째는, P/Q가 1열째의 데이터 셀의 범위 내(k1a 이상 k1b 이하)에 있는 경우, 이 용기(F)의 종류가 2열째의 데이터 셀의 「A1」임을 나타낸다. 2행째 이후도 마찬가지로, 공급압과 유량의 비율이 1행째의 데이터 셀의 소정의 범위 내에 있는 경우, 이 용기(F)의 종류가 2열째에 데이터 셀의 종류임을 나타낸다. 이러한 용기(F)의 종류마다의 특성은, 미리 시험 등에 의해 조사해 둘 수도 있고, 공칭치(normal value)(예, 카탈로그치)로부터 취득할 수도 있다. 특성 정보(D1)는, 예컨대, 용기(F)의 종류마다의 특성을 테이블 데이터 등에 등록하는 등에 의해, 작성 가능하다.
[0031] 도 1의 설명으로 되돌아와서, 종류 검출부(41)는, 압력계(44)의 검출 결과(공급압(P))를 취득한다. 또한, 종류 검출부(41)는, 예컨대 유량 제어 장치(33)에 공급되는 유량의 목표치를, 유량(Q)으로서 취득한다. 종류 검출부(41)는, 취득한 P와 Q의 비율을 산출하여, 특성 정보(D1)(도 2의 (B) 참조)와 대조함으로써 용기(F)의 종류를 판별한다. 특성 정보(D1)는 기억부(43)에 기억되어 있으며, 종류 검출부(41)는, 기억부(43)로부터 특성 정보(D1)를 취득해서, 산출한 P와 Q의 비율을 특성 정보(D1)와 대조하여, 용기(F)의 종류를 판별한다. 참고로, 특성 정보(D1)는, 기억부(43)에 기억되어 있지 않아도 되며, 예컨대, 종류 검출부(41)는, 인터넷 회선 등의 통신회선을 통해, 외부의 데이터베이스 등으로부터 특성 정보(D1)를 취득해도 된다. 또한, 도 2의 (B)에 나타낸 특성 정보(D1)의 항목은 일례이며, 다른 파라미터를 이용한 것이어도 된다.
[0032] 퍼지 제어부(42)는, 종류 검출부(41)의 검출 결과에 근거하여, 용기(F)에 대한 퍼지 조건을 결정한다. 퍼지 조건은, 용기(F)에 공급되는 퍼지 가스(G1)의 유량 및 공급 시간을 포함한다. 퍼지 제어부(42)는, 용기(F)의 종류와 퍼지 조건을 관련지은 조건 정보에 근거하여 퍼지 조건을 결정한다. 퍼지 제어부(42)는, 결정된 퍼지 조건에 근거하여 유량 제어 장치(33)를 제어한다.
[0033] 도 3은, 퍼지 특성, 조건 정보, 및 퍼지 조건의 설명도이다. 도 3의 부호 A3, A4는, 각각 용기(F)의 종류이다. 도 3의 (A)에는, 제거 대상 물질의 농도의 시간 이력을 개념적으로 나타내었다. 도 3의 (A)에 있어서, 가로축은 퍼지 가스의 공급을 개시하고 나서의 시간이며, 세로축은 용기(F)의 내부에 있어서의 제거 대상 물질의 농도이다. 퍼지 가스의 공급을 개시하고 나서 시간(t1)이 경과한 시점에서 퍼지 가스의 공급을 정지한 것으로 한다. 퍼지 가스의 유량은, 종류 A3, A4 중 어느 것에 있어서도 동일하다. 퍼지 가스의 공급 개시부터 시간(t1)이 경과할 때까지의 기간에 있어서, 종류 A3인 용기(F)에 있어서의 제거 대상 물질의 농도는, 종류 A4인 용기(F)에 비해 감소가 현저하다. 예컨대, 종류 A3인 용기(F)의 용적이 종류 A4인 용기(F)보다 작은 경우, 종류 A3인 용기(F)는, 용적에 차지하는 퍼지 가스의 비율의 증가가 종류 A4인 용기(F)보다 현저하므로, 이와 같은 퍼지 특성이 된다. 또한, 퍼지 가스의 공급 개시부터 시간(t1)이 경과한 후의 기간에 있어서, 종류 A3인 용기(F)는, 제거 대상 물질의 농도가 시간 경과와 함께 완만하게 증가하며, 종류 A4인 용기(F)는, 제거 대상 물질의 농도의 증가(기울기)가 종류 A3에 비해 급하다. 이러한 퍼지 특성의 차이는, 예컨대, 종류 A3인 용기(F)와 종류 A4인 용기(F) 간에 재질이 다른 경우에 생긴다. 예컨대, 제거 대상 물질이 수분이며, 종류 A4인 용기(F)는, 종류 A3인 용기(F)에 비해, 내벽에서의 수분의 흡착량, 흡수량이 많은 경우, 퍼지 가스의 공급 정지 후에 내벽으로부터 방출되는 수분의 양이 많아, 제거 대상 물질의 농도의 증가(기울기)가 급해진다.
[0034] 도 3의 (B)에서는, 조건 정보(D2)가 테이블 데이터의 형식으로 표시되어 있다. 여기서는, 제거 대상 물질의 농도가 소정치 이하가 될 때까지 퍼지 가스를 소정의 유량으로 공급하여 초기 퍼지를 행하고, 이어서, 제거 대상 물질의 농도를 소정치 이하로 유지(維持)하도록, 퍼지 가스의 유량을 변경하여 유지 퍼지를 행하는 것으로 한다. 조건 정보(D2)에 있어서, 1열째는, 용기(F)의 종류(A1, A2, ···, An)이고, 2행째는 초기 퍼지의 유량(QA1, QA2, ···, QAn)이고, 3행째는 초기 퍼지의 시간(TA1, TA2, ···, TAn)이고, 4행째는 유지 퍼지의 유량(QB1, QB2, ···, QBn)이다. 예컨대, 조건 정보(D2)의 3행째는, 퍼지 대상인 용기(F)의 종류가 A3인 경우, 초기 퍼지에 있어서의 퍼지 가스의 유량을 QA3로 설정하고, 초기 퍼지의 시간(계속 시간)을 TA3로 설정하고, 유지 퍼지에 있어서의 퍼지 가스의 유량을 QB3로 설정하는 것을 나타낸다. 4행째에 대해서도 마찬가지로, 퍼지 대상인 용기(F)의 종류가 A4인 경우, 초기 퍼지의 유량을 QA4로 설정하고, 초기 퍼지의 시간을 TA4로 설정하고, 유지 퍼지의 유량을 QB4로 설정하는 것을 나타낸다.
[0035] 퍼지 제어부(42)(도 1 참조)는, 예컨대, 종류 검출부(41)가 검출한 용기(F)의 종류가 A3인 경우, 조건 정보(D2)의 3행째에 표시된 퍼지 조건에 따라 유량 제어 장치(33)를 제어한다. 예컨대, 용기(F)의 종류가 A3(도 3 참조)인 경우, 퍼지 제어부(42)는, 퍼지 가스의 유량의 목표치로서 QA3를 유량 제어 장치(33)에 지정하고, 초기 퍼지를 개시한다. 또한, 초기 퍼지의 개시로부터의 경과 시간이 TA3가 되는 타이밍에, 퍼지 제어부(42)는, 퍼지 가스의 유량의 목표치로서 QB3를 유량 제어 장치(33)에 지정하고, 유지 퍼지를 개시한다. 또한, 용기(F)의 종류가 A4(도 3 참조)인 경우, 퍼지 제어부(42)는, 퍼지 가스의 유량의 목표치로서 QA4를 유량 제어 장치(33)에 지정하고, 초기 퍼지를 개시한다. 여기서, QA4는, QA3와 거의 동일한 값이지만, QA3와 상이한 값이어도 된다. 또한, 초기 퍼지의 개시로부터의 경과 시간이 TA4가 되는 타이밍에, 퍼지 제어부(42)는, 퍼지 가스의 유량의 목표치로서 QB4를 유량 제어 장치(33)에 지정하고, 유지 퍼지를 개시한다. 도 3의 (A)에 있어서, 종류 A4인 용기(F)는, 종류 A3인 용기(F)에 비해, 제거 대상 물질의 농도가 감소하는 기울기가 작고, 종류 A4인 용기(F)에 대한 초기 퍼지의 시간(TA4)은, 종류 A3인 용기(F)에 대한 초기 퍼지의 시간(TA3)보다 긴 값으로 설정된다. 또한, 도 3의 (A)에 있어서, 종류 A4인 용기(F)는, 종류 A3인 용기(F)에 비해, 퍼지 가스의 공급 정지 후의 제거 대상 물질의 농도가 증가하는 기울기가 크고, 종류 A4인 용기(F)에 대한 유지 퍼지의 유량(QB4)은, 종류 A3인 용기(F)에 대한 유지 퍼지의 유량(QB3)보다 많은 값으로 설정된다.
[0036] 도 1의 설명으로 되돌아와서, 퍼지 제어부(42)는, 종류 검출부(41)가 검출한 용기(F)의 종류를 취득하고, 또한 조건 정보(D2)(도 3의 (B) 참조)를 취득한다. 조건 정보(D2)는 기억부(43)에 기억되어 있으며, 퍼지 제어부(42)는, 기억부(43)로부터 조건 정보(D2)를 취득해서, 용기(F)의 종류를 조건 정보(D2)와 대조하여 퍼지 조건을 결정한다. 참고로, 조건 정보(D2)는, 기억부(43)에 기억되어 있지 않아도 되며, 예컨대, 종류 검출부(41)는, 인터넷 회선 등의 통신회선을 통해, 외부의 데이터베이스 등으로부터 조건 정보(D2)를 취득해도 된다. 또한, 도 3의 (B)에 나타낸 조건 정보의 항목은 일례이며, 공급압에 따른 조건을 포함해도 된다. 예컨대, 용기(F)의 종류에 따라, 가스 도입 포트(24)에 허용되는 공급압을 고려한 유량의 상한치가 조건 정보로 정해져도 된다.
[0037] 스토커 제어 장치(6)는, 퍼지 제어 장치(35)에 제어 명령을 공급함으로써, 퍼지 장치(4A)를 제어한다. 스토커 제어 장치(6)는, 스태커 크레인(5)을 제어하여 퍼지 대상인 용기(F)를 퍼지 장치(4A)로 반송시키고, 이 퍼지 장치(4A)를 제어하여 용기(F)에 대한 퍼지를 실행시킨다. 보관 선반(3)에는, 용기(F)가 놓여졌음을 검출하는 재석(在席) 센서(45)가 설치되며, 퍼지 제어 장치(35)는 재석 센서(45)의 검출 결과에 근거하여, 퍼지를 개시한다. 재석 센서(45)는, 버튼 센서 등의 접촉형 센서이며, 용기(F)의 바닥면에 의해 눌러 내려짐으로써, 용기(F)가 보관 선반(3)에 놓여졌음을 검출한다. 재석 센서(45)는, 퍼지 제어 장치(35)와 통신 가능하게 접속되어, 그 검출 결과를 퍼지 제어 장치(35)에 공급한다.
[0038] 스토커 제어 장치(6)에는, 입력부 및 표시부가 접속된다. 상기 입력부는, 예컨대, 조작 패널, 터치 패널, 키보드, 마우스, 트랙볼(trackball) 등이다. 입력부는, 오퍼레이터로부터의 입력을 검출하여, 입력된 정보를 스토커 제어 장치에 공급한다. 또한, 상기 표시부는, 예컨대 액정 디스플레이 등이며, 스토커 제어 장치(6)로부터 공급되는 화상을 표시한다. 예컨대, 스토커 제어 장치(6)는, 퍼지 스토커(1)의 동작 상황, 각종 설정, 퍼지 상태를 나타내는 화상 등을 표시부에 표시시킨다.
[0039] 다음으로, 상술한 퍼지 장치(4A)의 동작에 근거하여, 실시형태에 따른 퍼지 방법에 대해 설명한다. 도 4의 (A)는, 실시형태에 따른 퍼지 방법을 나타낸 플로우챠트이고, 도 4의 (B)는 도 4의 (A)의 단계(S1)의 처리의 일례를 나타낸 플로우챠트이다. 단계(S1)에 있어서, 종류 검출부(41)는, 퍼지 대상인 용기(F)의 종류를 검출한다. 도 4의 (B)에 나타낸 바와 같이, 단계(S1)에 있어서의 단계(S11)에서, 퍼지 제어부(42)는, 유량 제어 장치(33)를 제어하여, 퍼지 가스의 유량을 소정치로 설정한다. 단계(S12)에 있어서, 상태 검출부(34)(압력계(44))는, 퍼지 가스의 유량이 소정치로 설정된 상태에서, 퍼지 가스의 압력(공급압)을 검출한다. 단계(S13)에 있어서, 종류 검출부(41)는, 압력의 검출 결과를 특성 정보(D1)와 대조하여, 용기(F)의 종류를 판별한다. 참고로, 종류 검출부(41)는, 다른 수법에 의해 용기(F)의 종류를 검출해도 되며, 다른 수법에 대해서는 제2 실시형태 이후에 설명한다. 도 4의 (A)의 설명으로 되돌아와서, 단계(S2)에 있어서, 퍼지 제어부(42)는, 용기(F)의 종류에 근거하여, 퍼지 조건을 결정한다. 예컨대, 퍼지 제어부(42)는, 종류 검출부(41)가 검출한 용기(F)의 종류를 조건 정보(D2)와 대조함으로써, 용기(F)의 종류에 따른 퍼지 조건을 결정한다. 단계(S3)에 있어서, 퍼지 제어부(42)는, 단계(S2)에서 결정한 퍼지 조건에 의해, 유량 제어 장치(33)를 제어하여, 퍼지를 실행한다.
[0040] ［제2 실시형태］
제2 실시형태에 대해 설명한다. 본 실시형태에 있어서, 상술한 실시형태와 동일한 구성에 대해서는, 적절히, 동일한 부호를 사용하며, 그 설명을 생략 혹은 간략화한다. 도 5의 (A)는, 본 실시형태에 따른 퍼지 장치(4B)를 나타낸 도면이고, 도 5의 (B)는, 용기(F)의 식별자(51)를 나타낸 도면이다. 퍼지 장치(4B)는, 용기(F)에 설치되는 식별자(51)(도 5의 (B) 참조)를 검출하는 센서(52)를 구비한다. 여기서는, 식별자(51)로서, 용기(F)의 바닥면에 설치되는 인포 패드(51a∼51d) 중 적어도 하나를 이용한다. 인포 패드(51a∼51d)의 각각의 위치는 규격으로 규정되어 있으며, 용기의 종류에 상관없다. 인포 패드(51a∼51d)는, 각각, 개구 형상이 원형(圓形)인 오목부에 캡이 끼워져 들어가는지의 여부, 즉 인포 패드(51a∼51d)의 각 평면 위치에서의 바닥면의 높이로 용기(F)의 정보(스펙, 제원(諸元) 등의 정보)를 나타낸다. 인포 패드(51a)는, 캐리어 용량(예, 수용 가능한 웨이퍼의 수)을 나타낸다. 인포 패드(51b)는, 캐리어 타입(예, 카세트, 박스)을 나타낸다. 인포 패드(51c, 51d)는, 캐리어가 전(前) 공정(FEOL) 전용인지, 후(後) 공정(BEOL) 전용인지를 택일적으로 나타낸다. 전 공정은, 금속 오염이 발생할 수 있는 공정보다 전의 공정이며, 후 공정은, 금속 오염이 발생할 수 있는 공정보다 후의 공정이다.
[0041] 센서(52)는, 예컨대 버튼 센서 등의 접촉식 센서이며, 인포 패드(51a∼51d)의 각각의 평면 위치에 배치된다. 예컨대, 캐리어 용량을 나타내는 인포 패드(51a)의 오목부에 캡이 끼워져 있는 경우, 센서(52)가 캡에 눌려 내려가며, 오목부에 캡이 끼워져 있지 않은 경우, 센서(52)가 오목부 내로 들어감으로써 눌려 내려가지 않는다. 이와 같이 센서가 눌려 내려가는지의 여부에 의해, 용기(F)에 수용 가능한 웨이퍼의 매수가 13매인지, 25매인지를 검출할 수 있다. 센서(52)는, 퍼지 제어 장치(35)와 통신 가능하게 접속되어, 그 검출 결과를 퍼지 제어 장치(35)에 공급한다. 참고로, 센서(52)는, 광학 센서 혹은 정전 용량 센서 등의 비접촉 센서여도 된다.
[0042] 본 실시형태에 있어서, 종류 검출부(41)는, 용기(F)에 설치되는 식별자(51)를 검출하는 센서(52)의 검출 결과, 및 식별자(51)와 용기(F)의 종류를 관련지은 식별자 정보에 근거하여, 용기(F)의 종류를 판별한다. 식별자 정보는, 예컨대, 인포 패드(51a∼51d) 상태와, 용기(F)의 종류를 관련지은 테이블 데이터이다. 여기서는, 캡이 끼워진 상태를 「1」, 캡이 끼워져 있지 않은 상태를 「0」으로 나타내는 것으로 한다. 인포 패드(51a∼51d)의 상태는, 상기의 「0」, 「1」을 이용하여, (1, 0, 0. 1) 등의 4 비드의 데이터로 표시된다. 식별자 정보에 있어서, 예컨대, 인포 패드(51a∼51d)의 상태(예, (1, 0, 0, 1))와, 상기 용기(F)의 종류(예, 도 3의 (B)의 종류 A3)가 관련지어져 있다. 이러한 식별자 정보는, 기억부(43)에 기억되어 있다. 종류 검출부(41)는, 기억부(43)로부터 식별자 정보를 취득하여, 센서(52)의 검출 결과(인포 패드(51a∼51d)의 상태)를 식별자 정보와 대조함으로써, 용기(F)의 종류를 판별한다. 퍼지 제어부(42)는, 종류 검출부(41)가 판별한 용기(F)의 종류에 근거하여, 퍼지 조건을 결정한다. 또한, 퍼지 제어부(42)는, 결정된 퍼지 조건에 의해 유량 제어 장치(33)를 제어하여, 퍼지를 실행한다.
[0043] ［제3 실시형태］
제3 실시형태에 대해 설명한다. 본 실시형태에 있어서, 상술한 실시형태와 동일한 구성에 대해서는, 적절히, 동일한 부호를 사용하며, 그 설명을 생략 혹은 간략화한다. 도 6은, 본 실시형태에 따른 퍼지 장치(4C)를 나타낸 도면이다. 퍼지 장치(4C)는, 용기(F)에 설치되는 식별자(55)를 검출하는 센서(56)를 구비한다. 제2 실시형태에서는 식별자(51)로서 패드(인포 패드(51a∼51d))를 이용하였으나, 본 실시형태에서는, 식별자(55)로서, 용기(F)에 할당된 고유의 코드를 이용한다. 상기 코드는, 예컨대, 「015 ····」, 「A27 ····」 등과 같이 소정 개수의 숫자, 영문자, 기호, 혹은 이들의 조합 등으로 나타내어지며, 복수의 용기(F)에서 중복되지 않도록 할당된다. 상기 코드는, 용기(F)에 설치되는 식별 부재(57)에 수용되며, 센서(56)는 식별 부재(57)로부터 코드를 취득한다. 예컨대, 식별 부재(57)는, RFID 태그, 바코드, QR 코드(등록상표)이며, 센서(56)는 리더이다. 센서(56)는, 예컨대, 용기(F)와 퍼지 장치(4A)가 퍼지 가능하게 접속된 상태에 있어서, 식별 부재(57)로부터 코드를 판독 가능한 위치에 설치된다. 도 6에서, 센서(56)는, 보관 선반(3)에 있어서 퍼지가 행해지는 위치의 근방에 배치된다.
[0044] 센서(56)는, 스토커 제어 장치(6)와 통신 가능하게 접속되어, 그 검출 결과(식별자(55)의 코드)를 스토커 제어 장치(6)에 공급한다. 스토커 제어 장치(6)는, 센서(56)로부터 취득한 코드를, 용기(F)의 관리에 이용한다. 예컨대, 스토커 제어 장치(6)는, 상기 코드에 근거하여 용기(F)의 반입원, 반입처, 수용물 등의 정보를 관리한다. 또한, 센서(56)는, 퍼지 제어 장치(35)와 통신 가능하게 접속되어, 그 검출 결과(식별자(55)의 코드)를 퍼지 제어 장치(35)에 공급한다. 종류 검출부(41)는, 취득한 코드에 근거하여, 용기(F)의 종류를 검출한다. 예컨대, 용기(F)의 코드는, 그 선두가 「0」인 경우에 용기(F)의 종류가 A3(도 3의 (B) 참조)이고, 코드의 선두가 「A」인 경우에 용기(F)의 종류가 A4라고 하는 것처럼, 소정의 자리수의 숫자, 문자, 부호 등이 용기(F)의 종류를 나타내도록 미리 설정된다. 종류 검출부(41)는, 소정의 자리수의 숫자, 문자, 부호 중 어느 하나, 또는 이들의 조합에 근거하여, 용기(F)의 종류를 판별한다. 퍼지 제어부(42)는, 종류 검출부(41)가 판별한 용기(F)의 종류에 근거하여, 퍼지 조건을 결정한다. 또한, 퍼지 제어부(42)는, 결정된 퍼지 조건에 의해 유량 제어 장치(33)를 제어하여, 퍼지를 실행한다. 참고로, 센서(56)는, 스토커 제어 장치(6)와 접속되지 않아도 되며, 그 검출 결과를 스토커 제어 장치(6)에 공급하지 않아도 된다.
[0045] ［제4 실시형태］
제4 실시형태에 대해 설명한다. 본 실시형태에 있어서, 상술한 실시형태와 동일한 구성에 대해서는, 적절히, 동일한 부호를 사용하며, 그 설명을 생략 혹은 간략화한다. 도 7은, 본 실시형태에 따른 퍼지 장치(4D)를 나타낸 도면이다. 제3 실시형태에서는, 센서(56)가 보관 선반(3)에 설치되었으나, 본 실시형태에 있어서, 센서(56)는, 보관 선반(3)과는 별도의 장소에 설치된다. 도 7에 있어서, 센서(56)는, 용기(F)를 올려놓을 수 있는 재치 장소(PS)에 배치된다. 재치 장소(PS)는, 퍼지 스토커(1)의 입출고 포트여도 되고, 천정 반송 장치의 임시 거치 장소(예, 오버헤드 버퍼; OHB, 사이드 트럭 스토리지; STS, 언더 트럭 스토리지; UTS), 용기(F)의 수용물을 처리하는(이용하는) 처리 장치의 임시 거치 장소(툴 버퍼), 용기(F)의 수용물을 바꾸어 넣는 체인저 등의 어느 것이어도 된다. 센서(56)는, 퍼지 제어 장치(35)와 통신 가능하게 접속되어, 그 검출 결과(식별자(55)의 코드)를 퍼지 제어 장치(35)에 공급한다. 종류 검출부(41)는, 취득한 코드에 근거하여, 용기(F)의 종류를 검출한다. 퍼지 제어부(42)는, 종류 검출부(41)가 판별한 용기(F)의 종류에 근거하여, 퍼지 조건을 결정한다. 또한, 퍼지 제어부(42)는, 결정된 퍼지 조건에 의해 유량 제어 장치(33)를 제어하여, 퍼지를 실행한다.
[0046] 참고로, 센서(56)는, 용기(F)의 반송 경로의 어느 위치에 설치되어도 되며, 재치 장소(PS)에 놓인 용기(F)의 식별자(55)로부터 코드를 판독하는 대신에, 반송 중인 용기(F)의 식별자(55)로부터 코드를 판독하는 것이어도 된다. 또한, 센서(56)의 개수는 임의이며, 반송 경로에 복수의 센서(56)가 설치되어도 된다. 센서(56)는, 퍼지 장치(4A)가 구비해도 되고, 퍼지 장치(4A)의 다른 장치(예, 스토커 제어 장치(6), 반송 장치)가 구비해도 된다. 또한, 센서(56)는, 제3 실시형태와 같이 스토커 제어 장치(6)와 접속되어, 그 검출 결과를 스토커 제어 장치(6)에 공급해도 된다. 또한, 본 실시형태와 같이 식별자를 이용하는 것과, 제1 실시형태와 같이 검출한 퍼지 특성을 이용하는 것을 병용해도 된다.
[0047] 상술한 실시형태에 있어서, 퍼지 제어 장치(35)는, 예컨대 컴퓨터 시스템을 포함한다. 퍼지 제어 장치(35)는, 기억부(43)에 기억되어 있는 프로그램을 읽어내어, 이 프로그램에 따라 각종 처리를 실행한다. 상기 프로그램은, 예컨대, 컴퓨터에, 퍼지 대상인 용기(F)의 종류를 검출하는 것과, 검출 결과에 근거하여, 용기(F)에 대한 퍼지 조건을 결정하는 것을 실행시킨다. 상기 프로그램은, 컴퓨터 판독 가능한 기억 매체에 기록된 상태로 제공되어도 된다. 또한, 법령으로 허용되는 한, 일본 특허출원인 제2015-165521호, 및 상술한 실시형태 등에서 인용한 모든 문헌의 내용을 원용하며 본문의 기재의 일부로 한다.
[0048] 1 : 퍼지 스토커
3 : 보관 선반
4A, 4B, 4C, 4D : 퍼지 장치
F : 용기
33 : 유량 제어 장치
34 : 상태 검출부
36 : 배관
41 : 종류 검출부
42 : 퍼지 제어부
51, 55 : 식별자
51a, 51b, 51c, 51d : 인포 패드
52, 56 : 센서
D1 : 특성 정보
D2 : 조건 정보
G1 : 퍼지 가스

Claims (11)

  1. 퍼지 대상인 용기의 종류를 검출하는 종류 검출부와,
    상기 종류 검출부의 검출 결과에 근거하여, 상기 용기에 대한 퍼지 조건을 결정하는 퍼지 제어부를 구비하고,
    상기 용기의 퍼지 상태를 검출하는 상태 검출부를 구비하며,
    상기 종류 검출부는, 상기 상태 검출부의 검출 결과에 근거하여, 상기 용기의 종류를 검출하는, 퍼지 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 용기에 접속되는 배관에 있어서의 퍼지 가스의 유량을 제어하는 유량 제어 장치를 구비하며,
    상기 상태 검출부는, 상기 퍼지 상태로서, 상기 배관에 있어서의 퍼지 가스의 압력을 검출하고,
    상기 종류 검출부는, 상기 상태 검출부가 검출한 압력을 토대로 얻어지는 상기 용기의 퍼지 특성에 근거하여, 상기 용기의 종류를 검출하는, 퍼지 장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 종류 검출부는, 상기 압력과 상기 용기의 종류를 관련지은 특성 정보, 및 상기 상태 검출부의 검출 결과에 근거하여, 상기 용기의 종류를 판별하는, 퍼지 장치.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 종류 검출부는, 상기 용기에 설치되는 식별자를 검출하는 센서의 검출 결과, 및 상기 식별자와 상기 용기의 종류를 관련지은 식별자 정보에 근거하여, 상기 용기의 종류를 판별하는, 퍼지 장치.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 식별자로서, 상기 용기에 할당된 고유의 코드를 이용하는, 퍼지 장치.
  6. 제4항에 있어서,
    상기 식별자로서, 상기 용기의 바닥면(底面)에 설치되는 인포 패드를 이용하는, 퍼지 장치.
  7. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 용기에 공급되는 퍼지 가스의 유량을 제어하는 유량 제어 장치를 구비하며,
    상기 퍼지 제어부는, 상기 용기의 종류와 상기 퍼지 조건을 관련지은 조건 정보에 근거하여 상기 퍼지 조건을 결정하고, 결정된 상기 퍼지 조건에 근거하여 상기 유량 제어 장치를 제어하는, 퍼지 장치.
  8. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 퍼지 조건은, 상기 용기에 공급되는 퍼지 가스의 유량 및 공급 시간을 포함하는, 퍼지 장치.
  9. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 기재된 퍼지 장치와,
    상기 퍼지 장치에 의해 퍼지된 상기 용기를 유지(保持)하는 선반을 구비하는, 퍼지 스토커.
  10. 용기의 퍼지 상태를 검출하는 것과,
    상기 용기의 퍼지 상태 검출의 결과에 근거하여, 퍼지 대상인 용기의 종류를 검출하는 것과,
    상기 용기의 종류 검출의 결과에 근거하여, 상기 용기에 대한 퍼지 조건을 결정하는 것을 포함하는, 퍼지 방법.
  11. 삭제
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Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017038269A1 (ja) * 2015-08-31 2017-03-09 村田機械株式会社 パージ装置、パージストッカ、及びパージ方法
DE102016205597B4 (de) * 2016-04-05 2022-06-23 Fabmatics Gmbh Purge-Messsystem für FOUPs
JP6572854B2 (ja) * 2016-09-09 2019-09-11 株式会社ダイフク 容器収納設備
US11608229B2 (en) 2017-09-08 2023-03-21 Murata Machinery, Ltd. Storage system and purge method in storage system
JP7090513B2 (ja) * 2018-09-06 2022-06-24 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置及びパージ方法
KR102126466B1 (ko) * 2018-09-27 2020-06-24 크린팩토메이션 주식회사 이에프이엠
WO2021019700A1 (ja) * 2019-07-30 2021-02-04 ミライアル株式会社 基板収納容器
CN114080666A (zh) * 2019-07-30 2022-02-22 未来儿股份有限公司 基板收纳容器及过滤部
KR102256132B1 (ko) * 2020-02-18 2021-05-25 (주)캔탑스 캐리어 내부의 오염 관리 기능을 갖는 자동 반송시스템
US11631604B2 (en) * 2020-07-17 2023-04-18 Nanya Technology Corporation Load port device, gas gate and gas-providing method

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008068888A (ja) * 2006-09-13 2008-03-27 Shin Etsu Polymer Co Ltd 識別部品の保持部材及び基板収納容器

Family Cites Families (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5827118A (en) * 1996-08-28 1998-10-27 Seh America, Inc. Clean storage unit air flow system
JPH10321714A (ja) * 1997-05-20 1998-12-04 Sony Corp 密閉コンテナ並びに密閉コンテナ用雰囲気置換装置及び雰囲気置換方法
JP4487302B2 (ja) 2003-05-20 2010-06-23 株式会社安川電機 ロードポート
WO2005078771A2 (en) * 2004-02-05 2005-08-25 Entegris Inc. Purging of a wafer conveyance container
JP4895222B2 (ja) * 2008-03-31 2012-03-14 信越ポリマー株式会社 基板収納容器
JP4898740B2 (ja) * 2008-05-12 2012-03-21 信越ポリマー株式会社 バルブ機構及び基板収納容器
JP4692584B2 (ja) * 2008-07-03 2011-06-01 村田機械株式会社 パージ装置
JP5236518B2 (ja) 2009-02-03 2013-07-17 株式会社ダン・タクマ 保管システムおよび保管方法
CN102422408B (zh) * 2009-05-12 2015-06-10 村田机械株式会社 洗净装置以及洗净方法
US8591809B2 (en) * 2010-03-15 2013-11-26 Samsung Electronics Co., Ltd. Substrate transfer container, gas purge monitoring tool, and semiconductor manufacturing equipment with the same
JP2012094822A (ja) * 2010-09-30 2012-05-17 Shibaura Mechatronics Corp 密閉型容器及び半導体製造装置
JP5229363B2 (ja) * 2010-11-04 2013-07-03 村田機械株式会社 搬送システム及び搬送方法
KR101171218B1 (ko) * 2011-09-06 2012-08-06 김호준 전면 개방 통합 포드 방식 웨이퍼 캐리어의 내부 정화 장치 및 방법
JP5598728B2 (ja) 2011-12-22 2014-10-01 株式会社ダイフク 不活性ガス注入装置
JP5716968B2 (ja) 2012-01-04 2015-05-13 株式会社ダイフク 物品保管設備
JP5598734B2 (ja) * 2012-01-06 2014-10-01 株式会社ダイフク 物品保管設備
US9878353B2 (en) * 2012-08-21 2018-01-30 Murata Machinery, Ltd Stocker provided with purging functionality, stocker unit, and method for supplying cleaning gas
KR101418812B1 (ko) * 2012-10-31 2014-07-16 크린팩토메이션 주식회사 웨이퍼 퍼지 가능한 천장 보관 장치
JP5874691B2 (ja) * 2013-06-26 2016-03-02 株式会社ダイフク 不活性気体供給設備
JP6044467B2 (ja) * 2013-06-26 2016-12-14 株式会社ダイフク 保管システム
JP5892113B2 (ja) * 2013-06-26 2016-03-23 株式会社ダイフク 物品保管設備
JP6403431B2 (ja) * 2013-06-28 2018-10-10 株式会社Ｋｏｋｕｓａｉ Ｅｌｅｃｔｒｉｃ 基板処理装置、流量監視方法及び半導体装置の製造方法並びに流量監視プログラム
JP6214954B2 (ja) * 2013-07-25 2017-10-18 三菱重工業株式会社 スクロール圧縮機
JP6217281B2 (ja) * 2013-09-25 2017-10-25 村田機械株式会社 自動倉庫、及びガス供給方法
CN105453247B (zh) * 2013-09-26 2017-11-24 村田机械株式会社 吹扫装置以及吹扫方法
JP2015149400A (ja) * 2014-02-06 2015-08-20 東京エレクトロン株式会社 容器入替方法
US10014200B2 (en) * 2014-02-07 2018-07-03 Murata Machinery, Ltd. Gas injection device and assisting member
CN105940487B (zh) * 2014-02-07 2018-12-04 村田机械株式会社 净化装置以及净化方法
US20170243776A1 (en) * 2014-02-27 2017-08-24 Murata Machinery, Ltd. Purge Device and Purge Method
US10610905B2 (en) * 2015-08-10 2020-04-07 Murata Machinery, Ltd. Purge device, purge stocker, and cleaning method
EP3343597B1 (en) * 2015-08-28 2022-04-20 Murata Machinery, Ltd. Storage device and storage method

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008068888A (ja) * 2006-09-13 2008-03-27 Shin Etsu Polymer Co Ltd 識別部品の保持部材及び基板収納容器

Also Published As

Publication number Publication date
EP3343596B1 (en) 2022-01-12
EP3343596A4 (en) 2019-05-01
WO2017033546A1 (ja) 2017-03-02
JPWO2017033546A1 (ja) 2018-06-14
IL257580B (en) 2022-01-01
US10586721B2 (en) 2020-03-10
KR20180033255A (ko) 2018-04-02
TW201712782A (zh) 2017-04-01
CN107924856A (zh) 2018-04-17
IL257580A (en) 2018-04-30
TWI699847B (zh) 2020-07-21
CN107924856B (zh) 2021-05-28
JP6551530B2 (ja) 2019-07-31
SG11201801353VA (en) 2018-03-28
US20180247846A1 (en) 2018-08-30
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