JP5892113B2 - 物品保管設備 - Google Patents
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- 238000005192 partition Methods 0.000 claims description 107
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 106
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 40
- 238000009434 installation Methods 0.000 claims description 13
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims description 12
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 7
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 82
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 76
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 9
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 8
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 7
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 4
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 3
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 3
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 description 3
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 description 2
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 2
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- -1 argon gas Chemical compound 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 235000013305 food Nutrition 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000003908 quality control method Methods 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
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- H01L21/67389—Closed carriers characterised by atmosphere control
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- H—ELECTRICITY
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- H01L21/6735—Closed carriers
- H01L21/67389—Closed carriers characterised by atmosphere control
- H01L21/67393—Closed carriers characterised by atmosphere control characterised by the presence of atmosphere modifying elements inside or attached to the closed carrierl
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
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- B65G2201/02—Articles
- B65G2201/0297—Wafer cassette
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T137/00—Fluid handling
- Y10T137/6851—With casing, support, protector or static constructional installations
- Y10T137/6966—Static constructional installations
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
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Description
本発明は、容器を収納自在な複数の収納部と、前記複数の収納部の夫々に不活性気体を供給する不活性気体供給路と、前記不活性気体供給路にて前記収納部に供給された不活性気体を当該収納部に収納された前記容器の内部に吐出する吐出部と、が設けられ、前記複数の収納部が、複数の区画に区分けされている物品保管設備に関する。
かかる物品保管設備の従来例として、容器を収納自在な複数の収納部と、複数の収納部の夫々に窒素ガスやアルゴンガス等の不活性気体を供給する不活性気体供給路とを備えて、不活性気体供給路にて不活性気体を吐出部に供給し、当該吐出部から不活性気体を吐出して収納部に収納されている容器内に不活性気体を供給するものが知られている（例えば、特許文献１参照。）。
上記特許文献１の物品保管設備では、容器を収納部に収納したときに不活性気体を容器内に供給することで、半導体基板の品質管理に不都合な酸素ガスや水蒸気等を容器内から排出させて、容器に収容された半導体基板の酸化等の不具合が生じることを抑制するようになっている。
このように、従来の物品保管設備として、収納部に収納されている容器内に不活性気体を供給して、容器内の物品の品質劣化の防止を図るものが知られている。
上記特許文献１の物品保管設備では、容器を収納部に収納したときに不活性気体を容器内に供給することで、半導体基板の品質管理に不都合な酸素ガスや水蒸気等を容器内から排出させて、容器に収容された半導体基板の酸化等の不具合が生じることを抑制するようになっている。
このように、従来の物品保管設備として、収納部に収納されている容器内に不活性気体を供給して、容器内の物品の品質劣化の防止を図るものが知られている。
上記特許文献１の物品保管設備では、６つの収納部が設けられており、その６つの収納部が、２つの区画に区分けされている。そして、２つの区画の夫々に対して各別に不活性気体供給路が設けられている。そのため、２経路の不活性気体供給路の夫々に対して不活性気体の供給源が設けられており、この２つの供給源から２経路の不活性気体供給路に各別に不活性気体が供給されている。
このような物品保管設備において、２経路の不活性気体供給路を共通の基幹供給部分に接続し、単一のガス供給源から２区画に属する収納部に不活性気体を供給することで、供給源の数を減らして物品保管設備の構成の簡素化を図ることが考えられる。
このような物品保管設備において、２経路の不活性気体供給路を共通の基幹供給部分に接続し、単一のガス供給源から２区画に属する収納部に不活性気体を供給することで、供給源の数を減らして物品保管設備の構成の簡素化を図ることが考えられる。
上述の如く物品保管設備を構成した場合、例えば、区画単位で設けられているメインバルブ２１に故障が生じたために当該メインバルブ２１を交換するときに、メインバルブ２１が設けられている不活性気体供給路に対する不活性気体の供給を停止させるとともに、当該不活性気体供給路に圧縮された状態で残留している不活性気体の一部を外部に排出させて不活性気体供給路内の圧力を外部の圧力に合わす（排圧させる）必要がある。しかし、２経路の不活性気体供給路は共通の基幹供給部分に接続されているため、不活性気体の供給を停止させるために基幹供給部分における不活性気体の供給を停止させると、２経路とも不活性気体の供給が停止されてしまい、物品保管設備の全ての収納部に対する不活性気体の供給が停止される。そのため、区画単位で設けられている機器を交換する場合でも、物品保管設備の全ての収納部に対する不活性気体の供給を停止させる必要がある。
また、上述の如く機器を交換したときに不活性気体供給路に不純物が混入している虞があるため、運転再開前に不活性気体供給路に不活性気体を通流させて、不活性気体とともに不純物を外部に排出させる予備運転を行う必要がある。このとき、不活性気体供給路を通流させた不活性気体を吐出部から吐出させると、収納部に容器が収納されていると吐出部から吐出する不活性気体とともに不純物が容器に混入する虞がある。そのため、予備運転を行うときは、容器を収納部から取り出しておく必要があり、予備運転の為に事前準備の作業が煩わしいという問題があった。
このように、上述の如く物品保管設備を構成した場合、物品保管設備を簡素に構成できるものの、区画単位で設けられている機器を交換する場合は、当該機器が設けられている区画以外の区画にも影響が生じるため、機器のメンテナンス作業を行い難いものとなる。
このように、上述の如く物品保管設備を構成した場合、物品保管設備を簡素に構成できるものの、区画単位で設けられている機器を交換する場合は、当該機器が設けられている区画以外の区画にも影響が生じるため、機器のメンテナンス作業を行い難いものとなる。
本発明は、上記実状に鑑みて為されたものであって、その目的は、簡素な構成でありながら、区画単位で設けられている機器のメンテナンス作業を行い易い物品保管設備を提供する点にある。
本発明に係る物品保管設備の特徴構成は、
気密性の容器を収納自在な複数の収納部と、
前記複数の収納部の夫々に不活性気体を供給する不活性気体供給路と、
前記不活性気体供給路にて前記収納部に供給された不活性気体を当該収納部に収納された前記容器の内部に吐出する吐出部と、が設けられ、
前記複数の収納部が、複数の区画に区分けされている物品保管設備において、
前記不活性気体供給路が、基幹供給部分と、前記基幹供給部分から前記複数の区画ごとに分岐して前記基幹供給部分を通流する不活性気体を前記複数の区画ごとに分岐供給する複数の区画用供給部分と、前記区画用供給部分を通流する不活性気体を当該区画用供給部分に対応する前記区画に属する前記複数の収納部に各別に供給して前記吐出部から不活性気体を吐出させる複数の収納部用供給部分と、を備え、
前記複数の区画用供給部分の夫々に、不活性気体が通流可能な開き状態と通流不能な閉じ状態とに切り換え自在な第１切換弁が設けられ、
前記複数の区画用供給部分の夫々における前記第１切換弁が設けられている位置より気体供給方向の下流に、又は、前記複数の収納部用供給部分の夫々に、不活性気体が通流可能な開き状態と通流不能な閉じ状態とに切り換え自在な第２切換弁が設けられ、
前記複数の区画用供給部分の夫々に接続されて前記区画用供給部分から不活性気体を排出するための複数のリリーフ路が設けられ、
前記複数のリリーフ路が、前記不活性気体供給路における前記第１切換弁が設けられている位置より気体供給方向の下流で且つ前記第２切換弁が設けられている位置より前記気体供給方向の上流に接続され、
前記複数のリリーフ路の夫々に、不活性気体が通流可能な開き状態と通流不能な閉じ状態とに切り換え自在な区画用リリーフ切換弁が設けられている点にある。
気密性の容器を収納自在な複数の収納部と、
前記複数の収納部の夫々に不活性気体を供給する不活性気体供給路と、
前記不活性気体供給路にて前記収納部に供給された不活性気体を当該収納部に収納された前記容器の内部に吐出する吐出部と、が設けられ、
前記複数の収納部が、複数の区画に区分けされている物品保管設備において、
前記不活性気体供給路が、基幹供給部分と、前記基幹供給部分から前記複数の区画ごとに分岐して前記基幹供給部分を通流する不活性気体を前記複数の区画ごとに分岐供給する複数の区画用供給部分と、前記区画用供給部分を通流する不活性気体を当該区画用供給部分に対応する前記区画に属する前記複数の収納部に各別に供給して前記吐出部から不活性気体を吐出させる複数の収納部用供給部分と、を備え、
前記複数の区画用供給部分の夫々に、不活性気体が通流可能な開き状態と通流不能な閉じ状態とに切り換え自在な第１切換弁が設けられ、
前記複数の区画用供給部分の夫々における前記第１切換弁が設けられている位置より気体供給方向の下流に、又は、前記複数の収納部用供給部分の夫々に、不活性気体が通流可能な開き状態と通流不能な閉じ状態とに切り換え自在な第２切換弁が設けられ、
前記複数の区画用供給部分の夫々に接続されて前記区画用供給部分から不活性気体を排出するための複数のリリーフ路が設けられ、
前記複数のリリーフ路が、前記不活性気体供給路における前記第１切換弁が設けられている位置より気体供給方向の下流で且つ前記第２切換弁が設けられている位置より前記気体供給方向の上流に接続され、
前記複数のリリーフ路の夫々に、不活性気体が通流可能な開き状態と通流不能な閉じ状態とに切り換え自在な区画用リリーフ切換弁が設けられている点にある。
この特徴構成によれば、不活性気体供給路は、基幹供給部分からの不活性気体を複数の区画用供給部分にて複数の区画ごとに分岐供給し、区画用供給部分の夫々について、区画用供給部分を通流する不活性気体を複数の収納部用供給部分にて複数の収納部に各別に供給する。そのため、１つの不活性気体供給路にて複数の区画に属する複数の収納部の夫々に不活性気体を供給できるため、複数の区画の夫々に対して各別に不活性気体供給路を設けた場合に比べて、物品保管設備の構成の簡素化を図ることができる。
そして、区画用供給部分に第１切換弁が設けられ、また、区画用供給部分又は複数の収納部用供給部分の夫々に、第２切換弁が設けられている。
そのため、第１切換弁、区画用供給部分に設けられている第２切換弁、又は、複数の収納部用供給部分の夫々に設けられている第２切換弁を閉じ状態と開き状態とに切り換えることで、収納部に不活性気体を供給する状態と供給しない状態とに区画単位で切り換えることができる。
そのため、第１切換弁、区画用供給部分に設けられている第２切換弁、又は、複数の収納部用供給部分の夫々に設けられている第２切換弁を閉じ状態と開き状態とに切り換えることで、収納部に不活性気体を供給する状態と供給しない状態とに区画単位で切り換えることができる。
第１切換弁が設けられている位置より気体供給方向の下流で且つ第２切換弁が設けられている位置より気体供給方向の上流の部分（以下、区画の対象部分と称する）に、リリーフ路が接続されている。そのため、第１切換弁及び第２切換弁を閉じ状態に切り換えて、区画単位で収納部に対する不活性気体の供給を停止し、区画用リリーフ切換弁を開き状態に切り換えることで、区画の対象部分に残留する窒素ガスをリリーフ路から排出して区画の対象部分のみを排圧することができる。
また、第１切換弁及び区画用リリーフ切換弁を開き状態に切り換え、第２切換弁を閉じ状態に切り換えることで、基幹供給部分から区画の対象部分に供給された不活性気体を区画リリーフ路から排出することができる。そのため、区画の対象部分に不活性気体を通流させるときに、不活性気体が吐出部から吐出されないので、収納部に収納されている容器を取り出す必要がなくなる。
このように、物品保管設備を簡素に構成できながら、区画単位で設けられている機器を交換する場合に、当該機器が設けられている区画以外の区画にも影響しないようにできるため、機器を交換等のメンテナンス作業が行い易いものとなる。
このように、物品保管設備を簡素に構成できながら、区画単位で設けられている機器を交換する場合に、当該機器が設けられている区画以外の区画にも影響しないようにできるため、機器を交換等のメンテナンス作業が行い易いものとなる。
ここで、前記複数の収納部が設置される設置空間を覆う壁体が設けられ、
前記区画用リリーフ切換弁が、人為操作により前記開き状態と前記閉じ状態とに切り換える人為操作式の切換弁にて構成されて前記壁体の外部に設けられていると好適である。
前記区画用リリーフ切換弁が、人為操作により前記開き状態と前記閉じ状態とに切り換える人為操作式の切換弁にて構成されて前記壁体の外部に設けられていると好適である。
この構成によれば、作業者が区画用リリーフ切換弁を開き状態に切り換えることで、区画用供給部分に供給された不活性気体をリリーフ路から排出させて、当該区画用供給部分を通流している不活性気体のサンプリングを行うことができる。
また、設置空間には容器から排出される不活性気体が充満している場合があるが、区画用リリーフ切換弁を壁体の外部に設けることで、作業者は設置空間に進入することなく区画用リリーフ切換弁を切り換えることができる。
また、設置空間には容器から排出される不活性気体が充満している場合があるが、区画用リリーフ切換弁を壁体の外部に設けることで、作業者は設置空間に進入することなく区画用リリーフ切換弁を切り換えることができる。
また、前記複数のリリーフ路の夫々における前記区画用リリーフ切換弁が設けられた位置よりも気体排出方向の下流に接続された合流用リリーフ路が設けられ、
前記合流用リリーフ路に、人為操作により不活性気体が通流可能な開き状態と通流不能な閉じ状態とに切り換え自在な合流用リリーフ切換弁が設けられ、
前記合流用リリーフ切換弁が、前記壁体の外部に設けられていると好適である。
前記合流用リリーフ路に、人為操作により不活性気体が通流可能な開き状態と通流不能な閉じ状態とに切り換え自在な合流用リリーフ切換弁が設けられ、
前記合流用リリーフ切換弁が、前記壁体の外部に設けられていると好適である。
この構成によれば、作業者は設置空間に進入することなく区画用リリーフ切換弁及び合流用リリーフ切換弁を切り換えることができ、これら区画用リリーフ切換弁及び合流用リリーフ切換弁を開き状態に切り換えることで、不活性気体を区画単位で排出することができる。
そして、区画用リリーフ切換弁と合流用リリーフ切換弁とで人為操作式の切換弁が二重に設けられており、２つの切換弁のうち少なくとも一方を閉じ状態に切り換えれば不活性気体の排出を停止させることができるため、切換弁を閉じ状態に切り換えることを人為ミスで忘れることによる不活性気体の排出を抑制することができる。
そして、区画用リリーフ切換弁と合流用リリーフ切換弁とで人為操作式の切換弁が二重に設けられており、２つの切換弁のうち少なくとも一方を閉じ状態に切り換えれば不活性気体の排出を停止させることができるため、切換弁を閉じ状態に切り換えることを人為ミスで忘れることによる不活性気体の排出を抑制することができる。
また、前記基幹供給部分に基幹用リリーフ路が接続され、
前記基幹用リリーフ路に、不活性気体が通流可能な開き状態と通流不能な閉じ状態とに切り換え自在な基幹用リリーフ切換弁が備えられていると好適である。
前記基幹用リリーフ路に、不活性気体が通流可能な開き状態と通流不能な閉じ状態とに切り換え自在な基幹用リリーフ切換弁が備えられていると好適である。
この構成によれば、作業者が基幹用リリーフ切換弁を開き状態に切り換えることで、基幹供給部分に供給された不活性気体を基幹用リリーフ路から排出させて、基幹用供給部分を通流している不活性気体のサンプリングを行うことができる。
そして、区画単位で設けられたリリーフ路から排出されたサンプリングに基づく検出結果と、基幹用リリーフ路から排出されたサンプリングに基づく検出結果とに基づいて、基幹供給部分に汚染源があるのか区画用供給部分に汚染源があるのかを判断して、汚染源の特定に有利な情報を得ることができる。
そして、区画単位で設けられたリリーフ路から排出されたサンプリングに基づく検出結果と、基幹用リリーフ路から排出されたサンプリングに基づく検出結果とに基づいて、基幹供給部分に汚染源があるのか区画用供給部分に汚染源があるのかを判断して、汚染源の特定に有利な情報を得ることができる。
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。
（全体構成）
図１に示すように、物品保管設備には、容器５０を収納自在な収納部１０Ｓを複数備えた保管棚１０と、容器５０を搬送するスタッカークレーン２０と、保管棚１０（複数の収納部１０Ｓ）とスタッカークレーン２０とが設置される設置空間を覆う壁体Ｋと、壁体Ｋを貫通する状態で配設されて容器５０を載置搬送する入出庫コンベヤＣＶと、が設けられている。
尚、保管棚１０は対向する状態で一対設けられている。また、本実施形態では、半導体基板Ｗ（以下、基板Ｗと称する）を収容するＦＯＵＰ（Front Opening Unified Pod）を容器５０として保管している。
（全体構成）
図１に示すように、物品保管設備には、容器５０を収納自在な収納部１０Ｓを複数備えた保管棚１０と、容器５０を搬送するスタッカークレーン２０と、保管棚１０（複数の収納部１０Ｓ）とスタッカークレーン２０とが設置される設置空間を覆う壁体Ｋと、壁体Ｋを貫通する状態で配設されて容器５０を載置搬送する入出庫コンベヤＣＶと、が設けられている。
尚、保管棚１０は対向する状態で一対設けられている。また、本実施形態では、半導体基板Ｗ（以下、基板Ｗと称する）を収容するＦＯＵＰ（Front Opening Unified Pod）を容器５０として保管している。
（容器５０の構成）
図４に示すように、容器５０は、基板Ｗを出し入れするための開口を備えたケーシング５１と、ケーシング５１の開口を閉じる着脱自在な蓋体５２と、を備えている。
図１、図２及び図４に示すように、ケーシング５１の上面には、ホイスト式の搬送車Ｄにより把持されるトップフランジ５３が形成されている。また、ケーシング５１の底面には、不活性気体としての窒素ガスを容器５０内に注入するために給気口５０ｉ及び窒素ガスを容器５０内から排出するための排気口５０ｏが設けられている。図示は省略するが、給気口５０ｉには注入側開閉弁が設けられ、排気口５０ｏには排出側開閉弁が設けられている。
つまり、容器５０は、基板Ｗを収容した状態で蓋体５２にて開口を閉じ、給気口５０ｉ及び排気口５０ｏの夫々が開閉弁にて閉じることで、気密性を有するように構成されている。
図４に示すように、容器５０は、基板Ｗを出し入れするための開口を備えたケーシング５１と、ケーシング５１の開口を閉じる着脱自在な蓋体５２と、を備えている。
図１、図２及び図４に示すように、ケーシング５１の上面には、ホイスト式の搬送車Ｄにより把持されるトップフランジ５３が形成されている。また、ケーシング５１の底面には、不活性気体としての窒素ガスを容器５０内に注入するために給気口５０ｉ及び窒素ガスを容器５０内から排出するための排気口５０ｏが設けられている。図示は省略するが、給気口５０ｉには注入側開閉弁が設けられ、排気口５０ｏには排出側開閉弁が設けられている。
つまり、容器５０は、基板Ｗを収容した状態で蓋体５２にて開口を閉じ、給気口５０ｉ及び排気口５０ｏの夫々が開閉弁にて閉じることで、気密性を有するように構成されている。
給気口５０ｉの注入側開閉弁は、スプリング等の付勢体によって閉じ付勢されており、給気口５０ｉに供給される窒素ガスの吐出圧力が大気圧よりも設定値高い設定開弁圧力以上となると、その圧力によって開き操作される。
また、排気口５０ｏの排出側開閉弁は、スプリング等の付勢体によって閉じ付勢されており、容器５０内部の圧力が大気圧よりも設定値高い設定開弁圧力以上となると、その圧力によって開き操作される。
また、排気口５０ｏの排出側開閉弁は、スプリング等の付勢体によって閉じ付勢されており、容器５０内部の圧力が大気圧よりも設定値高い設定開弁圧力以上となると、その圧力によって開き操作される。
（スタッカークレーン２０の構成）
図１に示すように、スタッカークレーン２０は、保管棚１０の前面側を保管棚１０の棚横幅方向に沿って走行移動する走行台車２１と、その走行台車２１に立設されたマスト２２と、マスト２２の上端に設けられて図示しない上部ガイドレールと係合する上部枠２３と、上記マスト２２に案内される状態で昇降移動する昇降台２４と、を備えている。
図１に示すように、スタッカークレーン２０は、保管棚１０の前面側を保管棚１０の棚横幅方向に沿って走行移動する走行台車２１と、その走行台車２１に立設されたマスト２２と、マスト２２の上端に設けられて図示しない上部ガイドレールと係合する上部枠２３と、上記マスト２２に案内される状態で昇降移動する昇降台２４と、を備えている。
昇降台２４には、収納部１０Ｓや入出庫コンベヤＣＶに対して容器５０を移載する移載装置２５が装備されている。
そして、スタッカークレーン２０は、走行台車２１の走行移動、昇降台２４の昇降移動及び移載装置２５の移載作動により、入出庫コンベヤＣＶ上の容器５０を収納部１０Ｓに搬送する入庫作業、収納部１０Ｓの容器５０を入出庫コンベヤＣＶ上に搬送する出庫作業、及び、収納部１０Ｓの容器５０を他の収納部１０Ｓに搬送する退避作業を実行する。
そして、スタッカークレーン２０は、走行台車２１の走行移動、昇降台２４の昇降移動及び移載装置２５の移載作動により、入出庫コンベヤＣＶ上の容器５０を収納部１０Ｓに搬送する入庫作業、収納部１０Ｓの容器５０を入出庫コンベヤＣＶ上に搬送する出庫作業、及び、収納部１０Ｓの容器５０を他の収納部１０Ｓに搬送する退避作業を実行する。
（収納部１０Ｓの構成）
図２に示すように、保管棚１０には、収納部１０Ｓが上下方向及び棚横幅方向に複数並設されている。説明を加えると、保管棚１０には、上下方向に収納部１０Ｓが８段並設され、棚横幅方向に収納部１０Ｓが９列（図２には４列のみ図示している）並設されており、保管棚１０には、収納部１０Ｓが７２箇所に設けられている。
そして、図５に示すように、上下方向に並設された４段、棚横幅方向に並設された３列の計１２箇所の収納部１０Ｓを１つの区画ＣＨに属する収納部１０Ｓとして、７２箇所の収納部１０Ｓが６つの区画ＣＨのいずれか１つに属するように区分けされている。このように、保管棚１０に設けられた複数の収納部１０Ｓが、複数（６つ）の区画ＣＨに区分けされている。
図２に示すように、保管棚１０には、収納部１０Ｓが上下方向及び棚横幅方向に複数並設されている。説明を加えると、保管棚１０には、上下方向に収納部１０Ｓが８段並設され、棚横幅方向に収納部１０Ｓが９列（図２には４列のみ図示している）並設されており、保管棚１０には、収納部１０Ｓが７２箇所に設けられている。
そして、図５に示すように、上下方向に並設された４段、棚横幅方向に並設された３列の計１２箇所の収納部１０Ｓを１つの区画ＣＨに属する収納部１０Ｓとして、７２箇所の収納部１０Ｓが６つの区画ＣＨのいずれか１つに属するように区分けされている。このように、保管棚１０に設けられた複数の収納部１０Ｓが、複数（６つ）の区画ＣＨに区分けされている。
図３に示すように、複数の収納部１０Ｓの夫々には、容器５０を載置支持する載置支持部１０ａが備えられており、収納部１０Ｓは、載置支持部１０ａに載置支持した状態で容器５０を収納するようになっている。
また、載置支持部１０ａには、容器５０の下面部に形成された被係合部（図示せず）に係合して当該容器５０を規定位置に位置決めするための３個の位置決め突起１０ｂと、載置支持部１０ａ上に容器５０が載置されているか否か（つまり、容器５０が収納部１０Ｓに収納されたか否か）を検出する２個の在荷センサ１０ｚと、が設けられている。
また、載置支持部１０ａには、容器５０の下面部に形成された被係合部（図示せず）に係合して当該容器５０を規定位置に位置決めするための３個の位置決め突起１０ｂと、載置支持部１０ａ上に容器５０が載置されているか否か（つまり、容器５０が収納部１０Ｓに収納されたか否か）を検出する２個の在荷センサ１０ｚと、が設けられている。
また、図３及び図４に示すように、載置支持部１０ａには、収納部１０Ｓに収納された容器５０の内部に窒素ガスを供給する吐出部としての吐出ノズル１０ｉと、容器５０の内部から排出された気体を通流する排出用通気体１０ｏと、が設けられている。
図４に示すように、吐出ノズル１０ｉは、載置支持部１０ａ上の規定位置に容器５０が載置された状態で、その容器５０の下面部に備えられた給気口５０ｉに嵌合される箇所に設けられ、排出用通気体１０ｏは、載置支持部１０ａ上の規定位置に容器５０が載置された状態で、その容器５０の下面部に備えられた排気口５０ｏに嵌合される箇所に設けられている。
図４に示すように、吐出ノズル１０ｉは、載置支持部１０ａ上の規定位置に容器５０が載置された状態で、その容器５０の下面部に備えられた給気口５０ｉに嵌合される箇所に設けられ、排出用通気体１０ｏは、載置支持部１０ａ上の規定位置に容器５０が載置された状態で、その容器５０の下面部に備えられた排気口５０ｏに嵌合される箇所に設けられている。
つまり、容器５０が収納部１０Ｓに収納されて載置支持部１０ａに載置されると、位置決め突起１０ｂにて水平方向での位置が規定位置に位置決めされるとともに、吐出ノズル１０ｉが給気口５０ｉに嵌合状態に接続され、且つ、排出用通気体１０ｏが排気口５０ｏに嵌合状態に接続される。
そして、容器５０が載置支持部１０ａに載置支持された状態において、吐出ノズル１０ｉから大気圧よりも設定値以上高い圧力の窒素ガスを吐出させることにより、容器５０の給気口５０ｉより窒素ガスを容器５０の内部に注入し、容器５０の排気口５０ｏより容器５０内の気体を外部に排出させる。
そして、容器５０が載置支持部１０ａに載置支持された状態において、吐出ノズル１０ｉから大気圧よりも設定値以上高い圧力の窒素ガスを吐出させることにより、容器５０の給気口５０ｉより窒素ガスを容器５０の内部に注入し、容器５０の排気口５０ｏより容器５０内の気体を外部に排出させる。
（窒素ガスの供給構成）
図５〜図８に示すように、物品保管設備には、複数の収納部１０Ｓに窒素ガスを供給する不活性気体供給路としての窒素ガス供給路６０が設けられている。そして、この窒素ガス供給路６０は、一対の保管棚１０の一方に対してのみ設けられており、その一方の保管棚１０にのみ窒素ガスを供給するようになっている。次に、この窒素ガス供給路６０について説明する。窒素ガス供給路６０は、図外の窒素ガスの供給源に接続された基幹供給部分６１と、その基幹供給部分６１から区画ＣＨに対応して分岐する区画用供給部分６２、その区画用供給部分６２からさらに収納部１０Ｓに対応して分岐する収納部用供給部分６３と、を備えている。
図５〜図８に示すように、物品保管設備には、複数の収納部１０Ｓに窒素ガスを供給する不活性気体供給路としての窒素ガス供給路６０が設けられている。そして、この窒素ガス供給路６０は、一対の保管棚１０の一方に対してのみ設けられており、その一方の保管棚１０にのみ窒素ガスを供給するようになっている。次に、この窒素ガス供給路６０について説明する。窒素ガス供給路６０は、図外の窒素ガスの供給源に接続された基幹供給部分６１と、その基幹供給部分６１から区画ＣＨに対応して分岐する区画用供給部分６２、その区画用供給部分６２からさらに収納部１０Ｓに対応して分岐する収納部用供給部分６３と、を備えている。
ちなみに、図５は、区画ＣＨの夫々に対して窒素ガスを供給する構成を示す図である。図６〜図８は、窒素ガス供給路６０を部分的に示す図である。ちなみに、図６及び図７では、窒素ガス供給路６０を他のバイパス路７７や窒素ガスリリーフ路８０（基幹用リリーフ路８１及び区画用リリーフ路８２）に比べて太い線で図示している。
尚、窒素ガス供給路６０を説明するに当たり、供給源から吐出ノズル１０ｉに向けて窒素ガスが通流する方向を気体供給方向と称し、その気体供給方向の流れに基づいて、気体供給方向の上流及び下流を定義して説明する。
尚、窒素ガス供給路６０を説明するに当たり、供給源から吐出ノズル１０ｉに向けて窒素ガスが通流する方向を気体供給方向と称し、その気体供給方向の流れに基づいて、気体供給方向の上流及び下流を定義して説明する。
（基幹供給部分）
図６に示すように、基幹供給部分６１の基幹設置部６１ａには、気体供給方向の上流から順に、第１基幹用手動弁６５、基幹用制御弁６６、第２基幹用手動弁６７が設けられている。ちなみに、基幹供給部分６１では、図６に矢印Ａで示す方向が気体供給方向となっている。
図６に示すように、基幹供給部分６１の基幹設置部６１ａには、気体供給方向の上流から順に、第１基幹用手動弁６５、基幹用制御弁６６、第２基幹用手動弁６７が設けられている。ちなみに、基幹供給部分６１では、図６に矢印Ａで示す方向が気体供給方向となっている。
第１基幹用手動弁６５、基幹用制御弁６６、第２基幹用手動弁６７の夫々は、基幹供給部分６１から区画用供給部分６２に窒素ガスが通流可能な開き状態と通流不能な閉じ状態とに切換自在に構成されている。基幹用制御弁６６は、制御装置Ｈの制御指令に基づいて開き状態と閉じ状態とに各別に切換操作される。また、第１基幹用手動弁６５及び第２基幹用手動弁６７は、作業者の人為操作により閉じ状態と開き状態とに切換操作される。
そして、第１基幹用手動弁６５、基幹用制御弁６６及び第２基幹用手動弁６７の夫々を開き状態に切り換えることで、基幹供給部分６１から区画用供給部分６２に窒素ガスを通流可能な状態となり、第１基幹用手動弁６５、基幹用制御弁６６及び第２基幹用手動弁６７のうちの少なくとも１つを閉じ状態に切り換えることで、基幹供給部分６１から区画用供給部分６２に窒素ガスが通流不能な状態となる。
（区画用供給部分）
図５に示すように、区画用供給部分６２は、基幹供給部分６１の基幹設置部６１ａより下流に位置する基幹接続部６１ｂに接続されている。説明を加えると、窒素ガス供給路６０には、区画ＣＨの数と同じ６経路の区画用供給部分６２が備えられており、基幹供給部分６１の基幹接続部６１ｂには、区画用供給部分６２が６経路接続されている。
そして、区画用供給部分６２の夫々における区画用接続部６２ｂは、区画ＣＨにおける収納部１０Ｓの段数と同じ４経路に分岐されている。
ちなみに、区画用供給部分６２では、図７に矢印Ａで示す方向が気体供給方向となっている。また、区画用供給部分６２は、基幹供給部分６１より細い配管サイズとなっている。
図５に示すように、区画用供給部分６２は、基幹供給部分６１の基幹設置部６１ａより下流に位置する基幹接続部６１ｂに接続されている。説明を加えると、窒素ガス供給路６０には、区画ＣＨの数と同じ６経路の区画用供給部分６２が備えられており、基幹供給部分６１の基幹接続部６１ｂには、区画用供給部分６２が６経路接続されている。
そして、区画用供給部分６２の夫々における区画用接続部６２ｂは、区画ＣＨにおける収納部１０Ｓの段数と同じ４経路に分岐されている。
ちなみに、区画用供給部分６２では、図７に矢印Ａで示す方向が気体供給方向となっている。また、区画用供給部分６２は、基幹供給部分６１より細い配管サイズとなっている。
図７に示すように、区画用供給部分６２の区画用設置部６２ａには、気体供給方向の上流から順に、区画用手動弁６９、圧力調整弁７０、圧力検出センサ７１、区画用制御弁７２が設けられている。尚、本実施形態では、区画用手動弁６９が本発明の第１切換弁に相当する。
区画用手動弁６９及び区画用制御弁７２は、区画用供給部分６２から収納部用供給部分６３に窒素ガスが通流可能な開き状態と通流不能な閉じ状態とに切換自在に構成されている。区画用制御弁７２は、制御装置Ｈの制御指令に基づいて開き状態と閉じ状態とに各別に切換操作される。また、区画用手動弁６９は、作業者の人為操作により閉じ状態と開き状態とに切換操作される。
そして、区画用手動弁６９及び区画用制御弁７２の夫々を開き状態に切り換えることで、区画用供給部分６２から収納部用供給部分６３に窒素ガスを通流可能な状態となり、区画用手動弁６９及び区画用制御弁７２のうちの少なくとも１つを閉じ状態に切り換えることで、区画用供給部分６２から収納部用供給部分６３に窒素ガスが通流不能な状態となる。
また、圧力調整弁７０は、区画用供給部分６２から収納部用供給部分６３に通流する窒素ガスの通流量を調整することにより収納部用供給部分６３における窒素ガスの圧力を調整する。圧力検出センサ７１は、収納部用供給部分６３における窒素ガスの圧力を検出する。
また、圧力調整弁７０は、区画用供給部分６２から収納部用供給部分６３に通流する窒素ガスの通流量を調整することにより収納部用供給部分６３における窒素ガスの圧力を調整する。圧力検出センサ７１は、収納部用供給部分６３における窒素ガスの圧力を検出する。
（収納部用供給部分）
図５に示すように、収納部用供給部分６３は、区画用供給部分６２の区画用接続部６２ｂに接続されている。説明を加えると、窒素ガス供給路６０には、収納部１０Ｓの数と同じ７２経路の収納部用供給部分６３が備えられており、区画用供給部分６２の１つの区画用接続部６２ｂには、収納部用供給部分６３が４経路接続されている。
ちなみに、収納部用供給部分６３では、図８に矢印Ａで示す方向が気体供給方向となっている。また、収納部用供給部分６３は、区画用供給部分６２より細い配管サイズとなっている。
図５に示すように、収納部用供給部分６３は、区画用供給部分６２の区画用接続部６２ｂに接続されている。説明を加えると、窒素ガス供給路６０には、収納部１０Ｓの数と同じ７２経路の収納部用供給部分６３が備えられており、区画用供給部分６２の１つの区画用接続部６２ｂには、収納部用供給部分６３が４経路接続されている。
ちなみに、収納部用供給部分６３では、図８に矢印Ａで示す方向が気体供給方向となっている。また、収納部用供給部分６３は、区画用供給部分６２より細い配管サイズとなっている。
図８に示すように、収納部用供給部分６３には、気体供給方向の上流から順に、収納部用手動弁７４、収納部用制御弁７５、マスフローコントローラ４０が設けられており、収納部用供給部分６３の下流側端部には吐出ノズル１０ｉが接続されている。
尚、本実施形態では、収納部用手動弁７４が本発明の第２切換弁に相当する。
尚、本実施形態では、収納部用手動弁７４が本発明の第２切換弁に相当する。
収納部用手動弁７４及び収納部用制御弁７５は、収納部用供給部分６３から吐出ノズル１０ｉに窒素ガスが通流可能な開き状態と通流不能な閉じ状態とに切換自在に構成されている。収納部用制御弁７５は、制御装置Ｈの制御指令に基づいて開き状態と閉じ状態とに各別に切換操作される。また、収納部用手動弁７４は、作業者の人為操作により閉じ状態と開き状態とに切換操作される。
そして、収納部用手動弁７４及び収納部用制御弁７５の夫々を開き状態に切り換えることで、収納部用供給部分６３から吐出ノズル１０ｉに窒素ガスを通流可能な状態となり、収納部用手動弁７４及び収納部用制御弁７５のうちの少なくとも１つを閉じ状態に切り換えることで、収納部用供給部分６３から吐出ノズル１０ｉに窒素ガスが通流不能な状態となる。
また、マスフローコントローラ４０には、収納部用供給部分６３から吐出ノズル１０ｉに通流する窒素ガスの通流量を調整する流量調整弁と、収納部用供給部分６３から吐出ノズル１０ｉに通流する窒素ガスの流量を検出する流量検出センサと、の機能が備えられている。
また、マスフローコントローラ４０には、収納部用供給部分６３から吐出ノズル１０ｉに通流する窒素ガスの通流量を調整する流量調整弁と、収納部用供給部分６３から吐出ノズル１０ｉに通流する窒素ガスの流量を検出する流量検出センサと、の機能が備えられている。
基幹用制御弁６６、区画用制御弁７２及び収納部用制御弁７５の夫々の制御弁は、制御装置Ｈの制御指令に基づいて開き状態と閉じ状態とに各別に切換操作される。
また、第１基幹用手動弁６５、第２基幹用手動弁６７、区画用手動弁６９及び収納部用手動弁７４の夫々の手動弁は、作業者の人為操作により閉じ状態と開き状態とに切換操作される。
また、第１基幹用手動弁６５、第２基幹用手動弁６７、区画用手動弁６９及び収納部用手動弁７４の夫々の手動弁は、作業者の人為操作により閉じ状態と開き状態とに切換操作される。
（制御構成）
図９に示すように、制御装置Ｈは、在荷センサ１０ｚの検出情報が入力され、また、スタッカークレーン２０と通信自在に接続されている。これにより、制御装置Ｈは、保管棚１０における容器５０の在庫状態等を管理するとともに、図外の上位コントローラからの入庫指令及び出庫指令に基づいてスタッカークレーン２０の作動を制御する。
説明を加えると、制御装置Ｈは、上位コントローラから入庫指令が指令されると、在庫状態に基づいて、容器５０が収納されていない空の収納部１０Ｓの１つを収納対象の収納部１０Ｓとして選択し、容器５０を入出庫コンベヤＣＶから収納対象の収納部１０Ｓに搬送するべくスタッカークレーン２０の作動を制御する入庫搬送処理を実行する。また、制御装置Ｈは、上位コントローラから出庫指令が指令されると、在庫状態に基づいて、出庫対象の容器５０をそれが収納されている収納部１０Ｓから入出庫コンベヤＣＶ上に搬送するべくスタッカークレーン２０の作動を制御する出庫搬送処理を実行する。
図９に示すように、制御装置Ｈは、在荷センサ１０ｚの検出情報が入力され、また、スタッカークレーン２０と通信自在に接続されている。これにより、制御装置Ｈは、保管棚１０における容器５０の在庫状態等を管理するとともに、図外の上位コントローラからの入庫指令及び出庫指令に基づいてスタッカークレーン２０の作動を制御する。
説明を加えると、制御装置Ｈは、上位コントローラから入庫指令が指令されると、在庫状態に基づいて、容器５０が収納されていない空の収納部１０Ｓの１つを収納対象の収納部１０Ｓとして選択し、容器５０を入出庫コンベヤＣＶから収納対象の収納部１０Ｓに搬送するべくスタッカークレーン２０の作動を制御する入庫搬送処理を実行する。また、制御装置Ｈは、上位コントローラから出庫指令が指令されると、在庫状態に基づいて、出庫対象の容器５０をそれが収納されている収納部１０Ｓから入出庫コンベヤＣＶ上に搬送するべくスタッカークレーン２０の作動を制御する出庫搬送処理を実行する。
また、制御装置Ｈには、プログラマブルロジックコントローラＰと複数のＩＯ拡張モジュールＡが通信自在に通信線にて接続されている。プログラマブルロジックコントローラＰには、複数のマスフローコントローラ４０が接続されている。ＩＯ拡張モジュールＡには、対応する区画ＣＨに属する在荷センサ１０ｚ、圧力検出センサ７１、及び、マニホールド８７が接続されている。
そして、制御装置Ｈは、基幹用制御弁６６の作動を制御するとともに、プログラマブルロジックコントローラＰに窒素ガスの供給量や窒素ガスを供給する収納部１０Ｓを示す供給情報を送信する。プログラマブルロジックコントローラＰは、制御装置Ｈからの供給情報に基づいて、マスフローコントローラ４０（流量調整弁）の作動を制御するとともに、ＩＯ拡張モジュールＡを介してマニホールド８７に指令情報を送信する。マニホールド８７は指令情報に基づいて作動し、窒素ガスを供給する供給対象の収納部１０Ｓに対して窒素ガスを供給するべく区画用制御弁７２及び収納部用制御弁７５を作動させる。
そして、制御装置Ｈは、基幹用制御弁６６の作動を制御するとともに、プログラマブルロジックコントローラＰに窒素ガスの供給量や窒素ガスを供給する収納部１０Ｓを示す供給情報を送信する。プログラマブルロジックコントローラＰは、制御装置Ｈからの供給情報に基づいて、マスフローコントローラ４０（流量調整弁）の作動を制御するとともに、ＩＯ拡張モジュールＡを介してマニホールド８７に指令情報を送信する。マニホールド８７は指令情報に基づいて作動し、窒素ガスを供給する供給対象の収納部１０Ｓに対して窒素ガスを供給するべく区画用制御弁７２及び収納部用制御弁７５を作動させる。
このように、制御装置Ｈは、プログラマブルロジックコントローラＰやＩＯ拡張モジュールＡ等を介して、基幹用制御弁６６、区画用制御弁７２、収納部用制御弁７５及びマスフローコントローラ４０の作動を制御する。
（バイパス路）
図５に示すように、複数の収納部用供給部分６３の２つを組として、組となる２つの収納部用供給部分６３同士を連通させる状態で、バイパス路７７が設けられている。
このバイパス路７７は、上下方向に隣接する２つの区画ＣＨに属する収納部用供給部分６３同士を連通させる状態で設けられており、６つの区画ＣＨに対して３経路設けられている。尚、バイパス路７７は、区画用供給部分６２と同じ配管サイズとなっている。
図７に示すように、バイパス路７７には、バイパス路７７を窒素ガスが通流可能な開き状態と通流不能な閉じ状態とに切り換え自在なバイパス用手動弁７８が設けられている。このバイパス用手動弁７８は、作業者の人為操作により閉じ状態と開き状態とに切換操作される。
図５に示すように、複数の収納部用供給部分６３の２つを組として、組となる２つの収納部用供給部分６３同士を連通させる状態で、バイパス路７７が設けられている。
このバイパス路７７は、上下方向に隣接する２つの区画ＣＨに属する収納部用供給部分６３同士を連通させる状態で設けられており、６つの区画ＣＨに対して３経路設けられている。尚、バイパス路７７は、区画用供給部分６２と同じ配管サイズとなっている。
図７に示すように、バイパス路７７には、バイパス路７７を窒素ガスが通流可能な開き状態と通流不能な閉じ状態とに切り換え自在なバイパス用手動弁７８が設けられている。このバイパス用手動弁７８は、作業者の人為操作により閉じ状態と開き状態とに切換操作される。
（リリーフ路）
図５に示すように、窒素ガス供給路６０に接続されて窒素ガス供給路６０から窒素ガスを排出するための窒素ガスリリーフ路８０が設けられている。そして、この窒素ガスリリーフ路８０として、図５〜図７に示すように、基幹供給部分６１に接続されて基幹供給部分６１から窒素ガスを排出するための基幹用リリーフ路８１と、複数の区画用供給部分６２に接続されて区画用供給部分６２から窒素ガスを排出するための区画用リリーフ路８２と、が設けられている。尚、窒素ガスリリーフ路８０を説明するに当たり、窒素ガス供給路６０からの窒素ガスが通流する方向を気体排出方向と称し、その気体排出方向の流れに基づいて、気体排出方向の上流及び下流を定義して説明する。
図５に示すように、窒素ガス供給路６０に接続されて窒素ガス供給路６０から窒素ガスを排出するための窒素ガスリリーフ路８０が設けられている。そして、この窒素ガスリリーフ路８０として、図５〜図７に示すように、基幹供給部分６１に接続されて基幹供給部分６１から窒素ガスを排出するための基幹用リリーフ路８１と、複数の区画用供給部分６２に接続されて区画用供給部分６２から窒素ガスを排出するための区画用リリーフ路８２と、が設けられている。尚、窒素ガスリリーフ路８０を説明するに当たり、窒素ガス供給路６０からの窒素ガスが通流する方向を気体排出方向と称し、その気体排出方向の流れに基づいて、気体排出方向の上流及び下流を定義して説明する。
（基幹リリーフ）
図６に示すように、基幹用リリーフ路８１は、基幹供給部分６１の基幹設置部６１ａにおける第１基幹用手動弁６５及び基幹用制御弁６６が設けられた位置より気体供給方向の下流で、且つ、第２基幹用手動弁６７が設けられた位置より気体供給方向の上流に接続されている。尚、基幹用リリーフ路８１は、区画用供給部分６２と同じ配管サイズとなっている。
そして、基幹用リリーフ路８１には、気体排出方向の上流側から順に、リリーフ用圧力調整弁８６、不活性気体が通流可能な開き状態と通流不能な閉じ状態とに切り換え自在な基幹用リリーフ手動弁８３が設けられている。リリーフ用圧力調整弁８６は圧力調整弁７０と同様に構成されている。基幹用リリーフ手動弁８３は、作業者の人為操作により閉じ状態と開き状態とに切換操作される。尚、本実施形態では、基幹用リリーフ手動弁８３が本発明の基幹用リリーフ切換弁に相当する。
図６に示すように、基幹用リリーフ路８１は、基幹供給部分６１の基幹設置部６１ａにおける第１基幹用手動弁６５及び基幹用制御弁６６が設けられた位置より気体供給方向の下流で、且つ、第２基幹用手動弁６７が設けられた位置より気体供給方向の上流に接続されている。尚、基幹用リリーフ路８１は、区画用供給部分６２と同じ配管サイズとなっている。
そして、基幹用リリーフ路８１には、気体排出方向の上流側から順に、リリーフ用圧力調整弁８６、不活性気体が通流可能な開き状態と通流不能な閉じ状態とに切り換え自在な基幹用リリーフ手動弁８３が設けられている。リリーフ用圧力調整弁８６は圧力調整弁７０と同様に構成されている。基幹用リリーフ手動弁８３は、作業者の人為操作により閉じ状態と開き状態とに切換操作される。尚、本実施形態では、基幹用リリーフ手動弁８３が本発明の基幹用リリーフ切換弁に相当する。
そのため、第１基幹用手動弁６５及び第２基幹用手動弁６７を開き状態に切り換え、基幹用リリーフ手動弁８３を閉じ状態に切り換えることで、図外の供給源からの窒素ガスの全てを区画用供給部分６２に流動させることができる。
また、第１基幹用手動弁６５、第２基幹用手動弁６７及び基幹用リリーフ手動弁８３を開き状態に切り換えることで、供給源からの窒素ガスを区画用供給部分６２に流動させながら、供給源からの窒素ガスの一部を基幹用リリーフ路８１に流動させて外部に排出させることができ、供給源からの窒素ガスのサンプリング等が行える。
また、第１基幹用手動弁６５を開き状態に切り換え、第２基幹用手動弁６７を閉じ状態に切り換え、基幹用リリーフ手動弁８３を開き状態に切り換えることで、供給源からの窒素ガスの全てを基幹用リリーフ路８１に流動させることができ、供給源と基幹供給部分６１との間に窒素ガスを通流させることができる。
また、第１基幹用手動弁６５を閉じ状態に切り換え、第２基幹用手動弁６７及び基幹用リリーフ手動弁８３を開き状態に切り換えることで、基幹供給部分６１の窒素ガスを基幹用リリーフ路８１に流動させることができ、基幹供給部分６１の排圧が行える。
ちなみに、基幹用リリーフ路８１では、図６に矢印Ｂで示す方向が気体排出方向となっている。
また、第１基幹用手動弁６５、第２基幹用手動弁６７及び基幹用リリーフ手動弁８３を開き状態に切り換えることで、供給源からの窒素ガスを区画用供給部分６２に流動させながら、供給源からの窒素ガスの一部を基幹用リリーフ路８１に流動させて外部に排出させることができ、供給源からの窒素ガスのサンプリング等が行える。
また、第１基幹用手動弁６５を開き状態に切り換え、第２基幹用手動弁６７を閉じ状態に切り換え、基幹用リリーフ手動弁８３を開き状態に切り換えることで、供給源からの窒素ガスの全てを基幹用リリーフ路８１に流動させることができ、供給源と基幹供給部分６１との間に窒素ガスを通流させることができる。
また、第１基幹用手動弁６５を閉じ状態に切り換え、第２基幹用手動弁６７及び基幹用リリーフ手動弁８３を開き状態に切り換えることで、基幹供給部分６１の窒素ガスを基幹用リリーフ路８１に流動させることができ、基幹供給部分６１の排圧が行える。
ちなみに、基幹用リリーフ路８１では、図６に矢印Ｂで示す方向が気体排出方向となっている。
（区画リリーフ）
図７に示すように、区画用リリーフ路８２は、複数の区画用供給部分６２の夫々に接続されて区画用供給部分６２から窒素ガスを排出するための複数の区画用リリーフ部分８２ａ（本発明のリリーフ路に相当）と、複数の区画用リリーフ部分８２ａの夫々に接続された合流用リリーフ部分８２ｂ（本発明の合流用リリーフ路に相当）と、を備えている。尚、区画用リリーフ路８２は、収納部用供給部分６３と同じ配管サイズとなっている。
図７に示すように、区画用リリーフ路８２は、複数の区画用供給部分６２の夫々に接続されて区画用供給部分６２から窒素ガスを排出するための複数の区画用リリーフ部分８２ａ（本発明のリリーフ路に相当）と、複数の区画用リリーフ部分８２ａの夫々に接続された合流用リリーフ部分８２ｂ（本発明の合流用リリーフ路に相当）と、を備えている。尚、区画用リリーフ路８２は、収納部用供給部分６３と同じ配管サイズとなっている。
区画用リリーフ部分８２ａは、区画ＣＨの数と同じ６経路備えられており、その６経路の区画用リリーフ部分８２ａの夫々には、区画用リリーフ手動弁８４が設けられている。この区画用リリーフ手動弁８４は、作業者の人為操作により窒素ガスが通流可能な開き状態と通流不能な閉じ状態とに切り換え自在に構成されている。尚、本実施形態では、区画用リリーフ手動弁８４が本発明の区画用リリーフ切換弁に相当する。
そして、複数の区画用リリーフ部分８２ａは、区画用供給部分６２の区画用設置部６２ａにおける区画用手動弁６９が設けられた位置より気体供給方向の下流に接続されている。このように区画用リリーフ部分８２ａは、窒素ガス供給路６０における区画用手動弁６９が設けられた位置より気体供給方向の下流で且つ収納部用手動弁７４が設けられている位置より気体供給方向の上流に接続されている。
そして、複数の区画用リリーフ部分８２ａは、区画用供給部分６２の区画用設置部６２ａにおける区画用手動弁６９が設けられた位置より気体供給方向の下流に接続されている。このように区画用リリーフ部分８２ａは、窒素ガス供給路６０における区画用手動弁６９が設けられた位置より気体供給方向の下流で且つ収納部用手動弁７４が設けられている位置より気体供給方向の上流に接続されている。
また、合流用リリーフ部分８２ｂは、複数の区画用リリーフ部分８２ａの夫々における区画用リリーフ手動弁８４が設けられた位置よりも気体排出方向の下流に接続されており、合流用リリーフ部分８２ｂには、作業者の人為操作により窒素ガスが通流可能な開き状態と通流不能な閉じ状態とに切り換え自在な合流用リリーフ手動弁８５が設けられている。尚、本実施形態では、合流用リリーフ手動弁８５が本発明の合流用リリーフ切換弁に相当する。
そのため、区画用手動弁６９及び収納部用手動弁７４を開き状態に切り換えることで、基幹供給部分６１からの窒素ガスが吐出ノズル１０ｉから吐出させることができる。
また、区画用手動弁６９及び収納部用手動弁７４を開き状態に切り換え、且つ、対応する区画用リリーフ手動弁８４及び合流用リリーフ手動弁８５を閉じ状態に切り換えることで、基幹供給部分６１からの窒素ガスを吐出ノズル１０ｉから吐出させながら、基幹供給部分６１からの窒素ガスの一部を区画用リリーフ路８２に流動させて外部に排出させることができ、区画単位で窒素ガスのサンプリング等が行える。
また、収納部用手動弁７４を閉じ状態に切り換え、区画用手動弁６９、区画用リリーフ手動弁８４及び合流用リリーフ手動弁８５を開き状態に切り換えることで、基幹供給部分６１からの窒素ガスの全てを区画用リリーフ路８２に流動させることができ、区画ＣＨ単位で窒素ガスを通流させることができる。
また、区画用手動弁６９及び収納部用手動弁７４を閉じ状態に切り換え、且つ、区画用リリーフ手動弁８４及び合流用リリーフ手動弁８５を開き状態に切り換えることで、区画用供給部分６２の窒素ガスを区画用リリーフ路８２に流動させることができ、区画用供給部分６２の排圧が行える。
ちなみに、区画用リリーフ路８２では、図７に矢印Ｂで示す方向が気体排出方向となっている。
また、区画用手動弁６９及び収納部用手動弁７４を開き状態に切り換え、且つ、対応する区画用リリーフ手動弁８４及び合流用リリーフ手動弁８５を閉じ状態に切り換えることで、基幹供給部分６１からの窒素ガスを吐出ノズル１０ｉから吐出させながら、基幹供給部分６１からの窒素ガスの一部を区画用リリーフ路８２に流動させて外部に排出させることができ、区画単位で窒素ガスのサンプリング等が行える。
また、収納部用手動弁７４を閉じ状態に切り換え、区画用手動弁６９、区画用リリーフ手動弁８４及び合流用リリーフ手動弁８５を開き状態に切り換えることで、基幹供給部分６１からの窒素ガスの全てを区画用リリーフ路８２に流動させることができ、区画ＣＨ単位で窒素ガスを通流させることができる。
また、区画用手動弁６９及び収納部用手動弁７４を閉じ状態に切り換え、且つ、区画用リリーフ手動弁８４及び合流用リリーフ手動弁８５を開き状態に切り換えることで、区画用供給部分６２の窒素ガスを区画用リリーフ路８２に流動させることができ、区画用供給部分６２の排圧が行える。
ちなみに、区画用リリーフ路８２では、図７に矢印Ｂで示す方向が気体排出方向となっている。
このように本実施形態の物品保管設備では、複数の区画用供給部分６２の夫々に区画用手動弁６９を設け、複数の収納部用供給部分６３の夫々に収納部用手動弁７４が設けられている。また、窒素ガス供給路６０における区画用手動弁６９より下流で且つ収納部用手動弁７４より上流に、区画用リリーフ路８２が接続されている。そのため、区画単位での排圧やサンプリング、窒素ガスの通流を行うことができる。
〔別実施形態〕
（１）上記実施形態では、第１切換弁、第２切換弁、区画用リリーフ切換弁、合流用リリーフ切換弁及び基幹用リリーフ切換弁の全てを、作業者の人為操作により切り換える手動弁にて構成したが、これら切換弁の一部又は全部を、制御装置Ｈの制御指令に基づいて切り換える制御弁にて構成してもよい。
具体的には、例えば、区画用リリーフ切換弁と合流用リリーフ切換弁とを制御弁にて構成して、操作卓にて区画ＣＨを指定するとともにサンプリング開始を入力すれば、制御装置Ｈの制御指令に基づいて該当する区画ＣＨの区画用リリーフ切換弁と合流用リリーフ切換弁が開き操作され、設定時間経過する又は操作卓にてサンプリング終了を入力すれば、制御装置Ｈの制御指令に基づいて該当する区画用リリーフ切換弁と合流用リリーフ切換弁が閉じ操作されるように構成してもよい。
（１）上記実施形態では、第１切換弁、第２切換弁、区画用リリーフ切換弁、合流用リリーフ切換弁及び基幹用リリーフ切換弁の全てを、作業者の人為操作により切り換える手動弁にて構成したが、これら切換弁の一部又は全部を、制御装置Ｈの制御指令に基づいて切り換える制御弁にて構成してもよい。
具体的には、例えば、区画用リリーフ切換弁と合流用リリーフ切換弁とを制御弁にて構成して、操作卓にて区画ＣＨを指定するとともにサンプリング開始を入力すれば、制御装置Ｈの制御指令に基づいて該当する区画ＣＨの区画用リリーフ切換弁と合流用リリーフ切換弁が開き操作され、設定時間経過する又は操作卓にてサンプリング終了を入力すれば、制御装置Ｈの制御指令に基づいて該当する区画用リリーフ切換弁と合流用リリーフ切換弁が閉じ操作されるように構成してもよい。
（２）上記実施形態では、複数の区画用リリーフ部分８２ａと合流用リリーフ部分８２ｂとを設けて、区画用リリーフ路８２から排出する不活性気体を１箇所から排出するように構成したが、複数の区画用リリーフ部分８２ａと合流用リリーフ部分８２ｂとのうちの複数の区画用リリーフ部分８２ａのみを設けて、区画用リリーフ路８２から排出する不活性気体を区画ＣＨごとに別の箇所から排出するように構成してもよい。
（３）上記実施形態では、基幹用リリーフ切換弁、区画用リリーフ切換弁及び合流用リリーフ切換弁を壁体Ｋの外部に設けたが、これら切換弁の一部又は全部を壁体Ｋの内部に設けてもよい。
ちなみに、壁体Ｋの外部とは、保管棚１０やスタッカークレーン２０が設けられている設置空間の外部であればよく、例えば、壁体Ｋを、設置空間と制御装置Ｈを設ける第２の空間との２つの空間を形成するように構成した場合では、第２の空間を外部として当該第２の空間にリリーフ切換弁を設けてもよい。
また、壁体Ｋの外部に設けるにあたり、少なくともリリーフ切換弁の一部（具体的には、作業者が操作する操作レバー等の操作部分）を壁体Ｋの外部に設けていればよく、リリーフ切換弁の全体を壁体Ｋの外部に設けていなくてもよい。
ちなみに、壁体Ｋの外部とは、保管棚１０やスタッカークレーン２０が設けられている設置空間の外部であればよく、例えば、壁体Ｋを、設置空間と制御装置Ｈを設ける第２の空間との２つの空間を形成するように構成した場合では、第２の空間を外部として当該第２の空間にリリーフ切換弁を設けてもよい。
また、壁体Ｋの外部に設けるにあたり、少なくともリリーフ切換弁の一部（具体的には、作業者が操作する操作レバー等の操作部分）を壁体Ｋの外部に設けていればよく、リリーフ切換弁の全体を壁体Ｋの外部に設けていなくてもよい。
（４）上記実施形態では、第２切換弁を、複数の収納部用供給部分６３の夫々に設けたが、第２切換弁を、複数の区画用供給部分６２の夫々に設けてもよい。この場合、第２切換弁は、区画用供給部分６２における第１切換弁が設けられている位置及び区画用リリーフ路８２（区画用リリーフ部分８２ａ）が接続されている位置より下流に設けるとよい。
（５）上記実施形態では、容器５０が、半導体基板Ｗを収容するＦＯＵＰである構成を例示したが、このような構成に限定されるものではなく、例えば、レチクルを収容するレチクル容器としてもよい。また、不活性気体を窒素ガスとしたが、不活性気体としては、窒素ガス以外にもアルゴンガス等、収容される基板Ｗに対して反応性の低い各種の気体を使用することができる。ちなみに、容器５０に収容する物品としては、工業製品、食品、医薬品等に幅広く適用することができる。
（６）上記実施形態では、物品保管設備に設けた一対の保管棚１０のうち、一方の保管棚１０に対してのみ不活性気体供給路を設けたが、両方の保管棚１０に対して不活性気体供給路を設けてもよい。ちなみに、両方の保管棚１０に対して不活性気体供給路を設けた場合に、両方の保管棚１０に対して基幹供給部分６１や供給源を各別に設けてもよく、また、両方の保管棚６１で基幹供給部分６１や供給源を共用するように設けてもよい。
（７）その他の構成に関しても、本明細書において開示された実施形態は全ての点で例示であって、本発明の範囲はそれらによって限定されない。本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、適宜改変が可能である。従って、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で改変された別の実施形態も、当然、本発明の範囲に含まれる。
１０ｉ 吐出部
１０Ｓ 収納部
５０ 容器
６０ 不活性気体供給路
６１ 基幹供給部分
６２ 区画用供給部分
６３ 収納部用供給部分
６９ 第１切換弁
７４ 第２切換弁
８１ 基幹用リリーフ路
８２ａ リリーフ路
８２ｂ 合流用リリーフ路
８３ 基幹用リリーフ切換弁
８４ 区画用リリーフ切換弁
８５ 合流用リリーフ切換弁
Ｋ 壁体
Ｗ 基板
ＣＨ 区画
１０Ｓ 収納部
５０ 容器
６０ 不活性気体供給路
６１ 基幹供給部分
６２ 区画用供給部分
６３ 収納部用供給部分
６９ 第１切換弁
７４ 第２切換弁
８１ 基幹用リリーフ路
８２ａ リリーフ路
８２ｂ 合流用リリーフ路
８３ 基幹用リリーフ切換弁
８４ 区画用リリーフ切換弁
８５ 合流用リリーフ切換弁
Ｋ 壁体
Ｗ 基板
ＣＨ 区画
Claims (4)
- 気密性の容器を収納自在な複数の収納部と、
前記複数の収納部の夫々に不活性気体を供給する不活性気体供給路と、
前記不活性気体供給路にて前記収納部に供給された不活性気体を当該収納部に収納された前記容器の内部に吐出する吐出部と、が設けられ、
前記複数の収納部が、複数の区画に区分けされている物品保管設備であって、
前記不活性気体供給路が、基幹供給部分と、前記基幹供給部分から前記複数の区画ごとに分岐して前記基幹供給部分を通流する不活性気体を前記複数の区画ごとに分岐供給する複数の区画用供給部分と、前記区画用供給部分を通流する不活性気体を当該区画用供給部分に対応する前記区画に属する前記複数の収納部に各別に供給して前記吐出部から不活性気体を吐出させる複数の収納部用供給部分と、を備え、
前記複数の区画用供給部分の夫々に、不活性気体が通流可能な開き状態と通流不能な閉じ状態とに切り換え自在な第１切換弁が設けられ、
前記複数の区画用供給部分の夫々における前記第１切換弁が設けられている位置より気体供給方向の下流に、又は、前記複数の収納部用供給部分の夫々に、不活性気体が通流可能な開き状態と通流不能な閉じ状態とに切り換え自在な第２切換弁が設けられ、
前記複数の区画用供給部分の夫々に接続されて前記区画用供給部分から不活性気体を排出するための複数のリリーフ路が設けられ、
前記複数のリリーフ路が、前記不活性気体供給路における前記第１切換弁が設けられている位置より気体供給方向の下流で且つ前記第２切換弁が設けられている位置より前記気体供給方向の上流に接続され、
前記複数のリリーフ路の夫々に、不活性気体が通流可能な開き状態と通流不能な閉じ状態とに切り換え自在な区画用リリーフ切換弁が設けられている物品保管設備。 - 前記複数の収納部が設置される設置空間を覆う壁体が設けられ、
前記区画用リリーフ切換弁が、人為操作により前記開き状態と前記閉じ状態とに切り換える人為操作式の切換弁にて構成されて前記壁体の外部に設けられている請求項１記載の物品保管設備。 - 前記複数のリリーフ路の夫々における前記区画用リリーフ切換弁が設けられた位置よりも気体排出方向の下流に接続された合流用リリーフ路が設けられ、
前記合流用リリーフ路に、人為操作により不活性気体が通流可能な開き状態と通流不能な閉じ状態とに切り換え自在な合流用リリーフ切換弁が設けられ、
前記合流用リリーフ切換弁が、前記壁体の外部に設けられている請求項２記載の物品保管設備。 - 前記基幹供給部分に基幹用リリーフ路が接続され、
前記基幹用リリーフ路に、不活性気体が通流可能な開き状態と通流不能な閉じ状態とに切り換え自在な基幹用リリーフ切換弁が備えられている請求項１又は２記載の物品保管設備。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013134267A JP5892113B2 (ja) | 2013-06-26 | 2013-06-26 | 物品保管設備 |
| TW103117672A TWI610866B (zh) | 2013-06-26 | 2014-05-20 | 物品保管設備 |
| KR1020140070761A KR102179872B1 (ko) | 2013-06-26 | 2014-06-11 | 물품 보관 설비 |
| SG10201403210VA SG10201403210VA (en) | 2013-06-26 | 2014-06-12 | Article storage facility |
| US14/310,233 US9679795B2 (en) | 2013-06-26 | 2014-06-20 | Article storage facility |
| CN201410287739.5A CN104249899B (zh) | 2013-06-26 | 2014-06-25 | 物品保管设备 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013134267A JP5892113B2 (ja) | 2013-06-26 | 2013-06-26 | 物品保管設備 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2015012041A JP2015012041A (ja) | 2015-01-19 |
| JP5892113B2 true JP5892113B2 (ja) | 2016-03-23 |
Family
ID=52114432
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2013134267A Active JP5892113B2 (ja) | 2013-06-26 | 2013-06-26 | 物品保管設備 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US9679795B2 (ja) |
| JP (1) | JP5892113B2 (ja) |
| KR (1) | KR102179872B1 (ja) |
| CN (1) | CN104249899B (ja) |
| SG (1) | SG10201403210VA (ja) |
| TW (1) | TWI610866B (ja) |
Families Citing this family (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6032372B2 (ja) * | 2013-09-26 | 2016-11-30 | 村田機械株式会社 | パージ装置及びパージ方法 |
| JP6160520B2 (ja) * | 2014-03-11 | 2017-07-12 | 株式会社ダイフク | 梯子及びそれを備えた収納棚用のメンテナンス設備 |
| SG11201801353VA (en) * | 2015-08-25 | 2018-03-28 | Murata Machinery Ltd | Purge device, purge stocker, and purge method |
| JP6414525B2 (ja) * | 2015-09-02 | 2018-10-31 | 株式会社ダイフク | 保管設備 |
| JP6455404B2 (ja) * | 2015-11-17 | 2019-01-23 | 株式会社ダイフク | 容器搬送設備 |
| JP6551240B2 (ja) * | 2016-01-06 | 2019-07-31 | 株式会社ダイフク | 物品収納棚、及び、それを備えた物品収納設備 |
| JP6460015B2 (ja) * | 2016-03-07 | 2019-01-30 | 株式会社ダイフク | 容器搬送設備 |
| JP6614174B2 (ja) * | 2017-02-08 | 2019-12-04 | 株式会社ダイフク | 流量測定システム |
| JP6794898B2 (ja) * | 2017-03-29 | 2020-12-02 | 株式会社ダイフク | 収納棚 |
| US10703563B2 (en) * | 2017-11-10 | 2020-07-07 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Stocker |
| JP6856015B2 (ja) * | 2017-12-20 | 2021-04-14 | 株式会社ダイフク | 保管設備 |
| CN112262465B (zh) * | 2018-06-15 | 2024-03-26 | 村田机械株式会社 | 保管架 |
| JP7090513B2 (ja) * | 2018-09-06 | 2022-06-24 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置及びパージ方法 |
| KR102102413B1 (ko) * | 2018-09-19 | 2020-04-20 | 크린팩토메이션 주식회사 | 모듈형 용기 스토커 장치 및 그에 사용되는 카로셀 타입의 용기 보관 모듈 |
| JP7487703B2 (ja) * | 2021-04-27 | 2024-05-21 | 株式会社ダイフク | 収容棚 |
Family Cites Families (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3330166B2 (ja) * | 1992-12-04 | 2002-09-30 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理装置 |
| JP3122311B2 (ja) * | 1994-06-29 | 2001-01-09 | 東京エレクトロン株式会社 | 成膜処理室への液体材料供給装置及びその使用方法 |
| NO972004D0 (no) * | 1997-04-30 | 1997-04-30 | Hatteland Electronic As Jacob | Metode for organisering av vareflyt for en horisontalt lagdelt og dypstablet lagerbeholdning med uensartede komponenter, samt forflytningsutstyr for standariserte beholdere til formålet |
| JPH11168135A (ja) * | 1997-12-03 | 1999-06-22 | Toshiba Corp | 基板保管装置および基板保管方法 |
| JP2001284433A (ja) * | 2000-01-28 | 2001-10-12 | Sony Corp | 基板移載装置及び基板移載方法 |
| KR100572321B1 (ko) * | 2003-10-02 | 2006-04-19 | 삼성전자주식회사 | 반도체 소자 제조 설비 및 방법 그리고 이에 사용되는스토커 |
| US7274971B2 (en) * | 2004-02-28 | 2007-09-25 | Applied Materials, Inc. | Methods and apparatus for electronic device manufacturing system monitoring and control |
| JP4428646B2 (ja) * | 2004-06-18 | 2010-03-10 | 平田機工株式会社 | 容器内ガスパージ方法 |
| US20060176928A1 (en) * | 2005-02-08 | 2006-08-10 | Tokyo Electron Limited | Substrate processing apparatus, control method adopted in substrate processing apparatus and program |
| KR100706243B1 (ko) | 2005-02-22 | 2007-04-11 | 삼성전자주식회사 | 질화 텅스텐 증착 장치 및 증착 방법 |
| JP2007173695A (ja) * | 2005-12-26 | 2007-07-05 | Sokudo:Kk | 基板処理方法、基板処理システムおよび基板処理装置 |
| JP4670808B2 (ja) * | 2006-12-22 | 2011-04-13 | ムラテックオートメーション株式会社 | コンテナの搬送システム及び測定用コンテナ |
| JP2009054859A (ja) * | 2007-08-28 | 2009-03-12 | Tokyo Electron Ltd | 基板受入装置及び基板受入方法 |
| WO2009117440A1 (en) | 2008-03-17 | 2009-09-24 | Applied Materials, Inc. | Heated valve manifold for ampoule |
| JP5236518B2 (ja) * | 2009-02-03 | 2013-07-17 | 株式会社ダン・タクマ | 保管システムおよび保管方法 |
| JP4940290B2 (ja) | 2009-12-15 | 2012-05-30 | 三洋電機株式会社 | 光電変換装置及びその製造方法 |
| US9032990B2 (en) * | 2011-04-25 | 2015-05-19 | Applied Materials, Inc. | Chemical delivery system |
-
2013
- 2013-06-26 JP JP2013134267A patent/JP5892113B2/ja active Active
-
2014
- 2014-05-20 TW TW103117672A patent/TWI610866B/zh active
- 2014-06-11 KR KR1020140070761A patent/KR102179872B1/ko active IP Right Grant
- 2014-06-12 SG SG10201403210VA patent/SG10201403210VA/en unknown
- 2014-06-20 US US14/310,233 patent/US9679795B2/en active Active
- 2014-06-25 CN CN201410287739.5A patent/CN104249899B/zh active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2015012041A (ja) | 2015-01-19 |
| TWI610866B (zh) | 2018-01-11 |
| KR20150001622A (ko) | 2015-01-06 |
| CN104249899A (zh) | 2014-12-31 |
| US9679795B2 (en) | 2017-06-13 |
| TW201506331A (zh) | 2015-02-16 |
| KR102179872B1 (ko) | 2020-11-17 |
| CN104249899B (zh) | 2018-01-05 |
| US20150000765A1 (en) | 2015-01-01 |
| SG10201403210VA (en) | 2015-01-29 |
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| A621 | Written request for application examination |
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| A977 | Report on retrieval |
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