JP5892113B2 - 物品保管設備 - Google Patents

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Description

本発明は、容器を収納自在な複数の収納部と、前記複数の収納部の夫々に不活性気体を供給する不活性気体供給路と、前記不活性気体供給路にて前記収納部に供給された不活性気体を当該収納部に収納された前記容器の内部に吐出する吐出部と、が設けられ、前記複数の収納部が、複数の区画に区分けされている物品保管設備に関する。
かかる物品保管設備の従来例として、容器を収納自在な複数の収納部と、複数の収納部の夫々に窒素ガスやアルゴンガス等の不活性気体を供給する不活性気体供給路とを備えて、不活性気体供給路にて不活性気体を吐出部に供給し、当該吐出部から不活性気体を吐出して収納部に収納されている容器内に不活性気体を供給するものが知られている(例えば、特許文献1参照。)。
上記特許文献1の物品保管設備では、容器を収納部に収納したときに不活性気体を容器内に供給することで、半導体基板の品質管理に不都合な酸素ガスや水蒸気等を容器内から排出させて、容器に収容された半導体基板の酸化等の不具合が生じることを抑制するようになっている。
このように、従来の物品保管設備として、収納部に収納されている容器内に不活性気体を供給して、容器内の物品の品質劣化の防止を図るものが知られている。
特開平11−168135号公報
上記特許文献1の物品保管設備では、6つの収納部が設けられており、その6つの収納部が、2つの区画に区分けされている。そして、2つの区画の夫々に対して各別に不活性気体供給路が設けられている。そのため、2経路の不活性気体供給路の夫々に対して不活性気体の供給源が設けられており、この2つの供給源から2経路の不活性気体供給路に各別に不活性気体が供給されている。
このような物品保管設備において、2経路の不活性気体供給路を共通の基幹供給部分に接続し、単一のガス供給源から2区画に属する収納部に不活性気体を供給することで、供給源の数を減らして物品保管設備の構成の簡素化を図ることが考えられる。
上述の如く物品保管設備を構成した場合、例えば、区画単位で設けられているメインバルブ21に故障が生じたために当該メインバルブ21を交換するときに、メインバルブ21が設けられている不活性気体供給路に対する不活性気体の供給を停止させるとともに、当該不活性気体供給路に圧縮された状態で残留している不活性気体の一部を外部に排出させて不活性気体供給路内の圧力を外部の圧力に合わす(排圧させる)必要がある。しかし、2経路の不活性気体供給路は共通の基幹供給部分に接続されているため、不活性気体の供給を停止させるために基幹供給部分における不活性気体の供給を停止させると、2経路とも不活性気体の供給が停止されてしまい、物品保管設備の全ての収納部に対する不活性気体の供給が停止される。そのため、区画単位で設けられている機器を交換する場合でも、物品保管設備の全ての収納部に対する不活性気体の供給を停止させる必要がある。
また、上述の如く機器を交換したときに不活性気体供給路に不純物が混入している虞があるため、運転再開前に不活性気体供給路に不活性気体を通流させて、不活性気体とともに不純物を外部に排出させる予備運転を行う必要がある。このとき、不活性気体供給路を通流させた不活性気体を吐出部から吐出させると、収納部に容器が収納されていると吐出部から吐出する不活性気体とともに不純物が容器に混入する虞がある。そのため、予備運転を行うときは、容器を収納部から取り出しておく必要があり、予備運転の為に事前準備の作業が煩わしいという問題があった。
このように、上述の如く物品保管設備を構成した場合、物品保管設備を簡素に構成できるものの、区画単位で設けられている機器を交換する場合は、当該機器が設けられている区画以外の区画にも影響が生じるため、機器のメンテナンス作業を行い難いものとなる。
本発明は、上記実状に鑑みて為されたものであって、その目的は、簡素な構成でありながら、区画単位で設けられている機器のメンテナンス作業を行い易い物品保管設備を提供する点にある。
本発明に係る物品保管設備の特徴構成は、
気密性の容器を収納自在な複数の収納部と、
前記複数の収納部の夫々に不活性気体を供給する不活性気体供給路と、
前記不活性気体供給路にて前記収納部に供給された不活性気体を当該収納部に収納された前記容器の内部に吐出する吐出部と、が設けられ、
前記複数の収納部が、複数の区画に区分けされている物品保管設備において、
前記不活性気体供給路が、基幹供給部分と、前記基幹供給部分から前記複数の区画ごとに分岐して前記基幹供給部分を通流する不活性気体を前記複数の区画ごとに分岐供給する複数の区画用供給部分と、前記区画用供給部分を通流する不活性気体を当該区画用供給部分に対応する前記区画に属する前記複数の収納部に各別に供給して前記吐出部から不活性気体を吐出させる複数の収納部用供給部分と、を備え、
前記複数の区画用供給部分の夫々に、不活性気体が通流可能な開き状態と通流不能な閉じ状態とに切り換え自在な第1切換弁が設けられ、
前記複数の区画用供給部分の夫々における前記第1切換弁が設けられている位置より気体供給方向の下流に、又は、前記複数の収納部用供給部分の夫々に、不活性気体が通流可能な開き状態と通流不能な閉じ状態とに切り換え自在な第2切換弁が設けられ、
前記複数の区画用供給部分の夫々に接続されて前記区画用供給部分から不活性気体を排出するための複数のリリーフ路が設けられ、
前記複数のリリーフ路が、前記不活性気体供給路における前記第1切換弁が設けられている位置より気体供給方向の下流で且つ前記第2切換弁が設けられている位置より前記気体供給方向の上流に接続され、
前記複数のリリーフ路の夫々に、不活性気体が通流可能な開き状態と通流不能な閉じ状態とに切り換え自在な区画用リリーフ切換弁が設けられている点にある。
この特徴構成によれば、不活性気体供給路は、基幹供給部分からの不活性気体を複数の区画用供給部分にて複数の区画ごとに分岐供給し、区画用供給部分の夫々について、区画用供給部分を通流する不活性気体を複数の収納部用供給部分にて複数の収納部に各別に供給する。そのため、1つの不活性気体供給路にて複数の区画に属する複数の収納部の夫々に不活性気体を供給できるため、複数の区画の夫々に対して各別に不活性気体供給路を設けた場合に比べて、物品保管設備の構成の簡素化を図ることができる。
そして、区画用供給部分に第1切換弁が設けられ、また、区画用供給部分又は複数の収納部用供給部分の夫々に、第2切換弁が設けられている。
そのため、第1切換弁、区画用供給部分に設けられている第2切換弁、又は、複数の収納部用供給部分の夫々に設けられている第2切換弁を閉じ状態と開き状態とに切り換えることで、収納部に不活性気体を供給する状態と供給しない状態とに区画単位で切り換えることができる。
第1切換弁が設けられている位置より気体供給方向の下流で且つ第2切換弁が設けられている位置より気体供給方向の上流の部分(以下、区画の対象部分と称する)に、リリーフ路が接続されている。そのため、第1切換弁及び第2切換弁を閉じ状態に切り換えて、区画単位で収納部に対する不活性気体の供給を停止し、区画用リリーフ切換弁を開き状態に切り換えることで、区画の対象部分に残留する窒素ガスをリリーフ路から排出して区画の対象部分のみを排圧することができる。
また、第1切換弁及び区画用リリーフ切換弁を開き状態に切り換え、第2切換弁を閉じ状態に切り換えることで、基幹供給部分から区画の対象部分に供給された不活性気体を区画リリーフ路から排出することができる。そのため、区画の対象部分に不活性気体を通流させるときに、不活性気体が吐出部から吐出されないので、収納部に収納されている容器を取り出す必要がなくなる。
このように、物品保管設備を簡素に構成できながら、区画単位で設けられている機器を交換する場合に、当該機器が設けられている区画以外の区画にも影響しないようにできるため、機器を交換等のメンテナンス作業が行い易いものとなる。
ここで、前記複数の収納部が設置される設置空間を覆う壁体が設けられ、
前記区画用リリーフ切換弁が、人為操作により前記開き状態と前記閉じ状態とに切り換える人為操作式の切換弁にて構成されて前記壁体の外部に設けられていると好適である。
この構成によれば、作業者が区画用リリーフ切換弁を開き状態に切り換えることで、区画用供給部分に供給された不活性気体をリリーフ路から排出させて、当該区画用供給部分を通流している不活性気体のサンプリングを行うことができる。
また、設置空間には容器から排出される不活性気体が充満している場合があるが、区画用リリーフ切換弁を壁体の外部に設けることで、作業者は設置空間に進入することなく区画用リリーフ切換弁を切り換えることができる。
また、前記複数のリリーフ路の夫々における前記区画用リリーフ切換弁が設けられた位置よりも気体排出方向の下流に接続された合流用リリーフ路が設けられ、
前記合流用リリーフ路に、人為操作により不活性気体が通流可能な開き状態と通流不能な閉じ状態とに切り換え自在な合流用リリーフ切換弁が設けられ、
前記合流用リリーフ切換弁が、前記壁体の外部に設けられていると好適である。
この構成によれば、作業者は設置空間に進入することなく区画用リリーフ切換弁及び合流用リリーフ切換弁を切り換えることができ、これら区画用リリーフ切換弁及び合流用リリーフ切換弁を開き状態に切り換えることで、不活性気体を区画単位で排出することができる。
そして、区画用リリーフ切換弁と合流用リリーフ切換弁とで人為操作式の切換弁が二重に設けられており、2つの切換弁のうち少なくとも一方を閉じ状態に切り換えれば不活性気体の排出を停止させることができるため、切換弁を閉じ状態に切り換えることを人為ミスで忘れることによる不活性気体の排出を抑制することができる。
また、前記基幹供給部分に基幹用リリーフ路が接続され、
前記基幹用リリーフ路に、不活性気体が通流可能な開き状態と通流不能な閉じ状態とに切り換え自在な基幹用リリーフ切換弁が備えられていると好適である。
この構成によれば、作業者が基幹用リリーフ切換弁を開き状態に切り換えることで、基幹供給部分に供給された不活性気体を基幹用リリーフ路から排出させて、基幹用供給部分を通流している不活性気体のサンプリングを行うことができる。
そして、区画単位で設けられたリリーフ路から排出されたサンプリングに基づく検出結果と、基幹用リリーフ路から排出されたサンプリングに基づく検出結果とに基づいて、基幹供給部分に汚染源があるのか区画用供給部分に汚染源があるのかを判断して、汚染源の特定に有利な情報を得ることができる。
物品保管設備の縦断側面図 同設備の一部を示す縦断正面図 収納部の斜視図 収納部の正面図 区画への不活性気体の供給形態を示す図 基幹供給部分と基幹用リリーフ路とを示す図 区画用供給部分と区画用リリーフ路とを示す図 収納部用供給部分を示す図 制御ブロック図
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。
(全体構成)
図1に示すように、物品保管設備には、容器50を収納自在な収納部10Sを複数備えた保管棚10と、容器50を搬送するスタッカークレーン20と、保管棚10(複数の収納部10S)とスタッカークレーン20とが設置される設置空間を覆う壁体Kと、壁体Kを貫通する状態で配設されて容器50を載置搬送する入出庫コンベヤCVと、が設けられている。
尚、保管棚10は対向する状態で一対設けられている。また、本実施形態では、半導体基板W(以下、基板Wと称する)を収容するFOUP(Front Opening Unified Pod)を容器50として保管している。
(容器50の構成)
図4に示すように、容器50は、基板Wを出し入れするための開口を備えたケーシング51と、ケーシング51の開口を閉じる着脱自在な蓋体52と、を備えている。
図1、図2及び図4に示すように、ケーシング51の上面には、ホイスト式の搬送車Dにより把持されるトップフランジ53が形成されている。また、ケーシング51の底面には、不活性気体としての窒素ガスを容器50内に注入するために給気口50i及び窒素ガスを容器50内から排出するための排気口50oが設けられている。図示は省略するが、給気口50iには注入側開閉弁が設けられ、排気口50oには排出側開閉弁が設けられている。
つまり、容器50は、基板Wを収容した状態で蓋体52にて開口を閉じ、給気口50i及び排気口50oの夫々が開閉弁にて閉じることで、気密性を有するように構成されている。
給気口50iの注入側開閉弁は、スプリング等の付勢体によって閉じ付勢されており、給気口50iに供給される窒素ガスの吐出圧力が大気圧よりも設定値高い設定開弁圧力以上となると、その圧力によって開き操作される。
また、排気口50oの排出側開閉弁は、スプリング等の付勢体によって閉じ付勢されており、容器50内部の圧力が大気圧よりも設定値高い設定開弁圧力以上となると、その圧力によって開き操作される。
(スタッカークレーン20の構成)
図1に示すように、スタッカークレーン20は、保管棚10の前面側を保管棚10の棚横幅方向に沿って走行移動する走行台車21と、その走行台車21に立設されたマスト22と、マスト22の上端に設けられて図示しない上部ガイドレールと係合する上部枠23と、上記マスト22に案内される状態で昇降移動する昇降台24と、を備えている。
昇降台24には、収納部10Sや入出庫コンベヤCVに対して容器50を移載する移載装置25が装備されている。
そして、スタッカークレーン20は、走行台車21の走行移動、昇降台24の昇降移動及び移載装置25の移載作動により、入出庫コンベヤCV上の容器50を収納部10Sに搬送する入庫作業、収納部10Sの容器50を入出庫コンベヤCV上に搬送する出庫作業、及び、収納部10Sの容器50を他の収納部10Sに搬送する退避作業を実行する。
(収納部10Sの構成)
図2に示すように、保管棚10には、収納部10Sが上下方向及び棚横幅方向に複数並設されている。説明を加えると、保管棚10には、上下方向に収納部10Sが8段並設され、棚横幅方向に収納部10Sが9列(図2には4列のみ図示している)並設されており、保管棚10には、収納部10Sが72箇所に設けられている。
そして、図5に示すように、上下方向に並設された4段、棚横幅方向に並設された3列の計12箇所の収納部10Sを1つの区画CHに属する収納部10Sとして、72箇所の収納部10Sが6つの区画CHのいずれか1つに属するように区分けされている。このように、保管棚10に設けられた複数の収納部10Sが、複数(6つ)の区画CHに区分けされている。
図3に示すように、複数の収納部10Sの夫々には、容器50を載置支持する載置支持部10aが備えられており、収納部10Sは、載置支持部10aに載置支持した状態で容器50を収納するようになっている。
また、載置支持部10aには、容器50の下面部に形成された被係合部(図示せず)に係合して当該容器50を規定位置に位置決めするための3個の位置決め突起10bと、載置支持部10a上に容器50が載置されているか否か(つまり、容器50が収納部10Sに収納されたか否か)を検出する2個の在荷センサ10zと、が設けられている。
また、図3及び図4に示すように、載置支持部10aには、収納部10Sに収納された容器50の内部に窒素ガスを供給する吐出部としての吐出ノズル10iと、容器50の内部から排出された気体を通流する排出用通気体10oと、が設けられている。
図4に示すように、吐出ノズル10iは、載置支持部10a上の規定位置に容器50が載置された状態で、その容器50の下面部に備えられた給気口50iに嵌合される箇所に設けられ、排出用通気体10oは、載置支持部10a上の規定位置に容器50が載置された状態で、その容器50の下面部に備えられた排気口50oに嵌合される箇所に設けられている。
つまり、容器50が収納部10Sに収納されて載置支持部10aに載置されると、位置決め突起10bにて水平方向での位置が規定位置に位置決めされるとともに、吐出ノズル10iが給気口50iに嵌合状態に接続され、且つ、排出用通気体10oが排気口50oに嵌合状態に接続される。
そして、容器50が載置支持部10aに載置支持された状態において、吐出ノズル10iから大気圧よりも設定値以上高い圧力の窒素ガスを吐出させることにより、容器50の給気口50iより窒素ガスを容器50の内部に注入し、容器50の排気口50oより容器50内の気体を外部に排出させる。
(窒素ガスの供給構成)
図5〜図8に示すように、物品保管設備には、複数の収納部10Sに窒素ガスを供給する不活性気体供給路としての窒素ガス供給路60が設けられている。そして、この窒素ガス供給路60は、一対の保管棚10の一方に対してのみ設けられており、その一方の保管棚10にのみ窒素ガスを供給するようになっている。次に、この窒素ガス供給路60について説明する。窒素ガス供給路60は、図外の窒素ガスの供給源に接続された基幹供給部分61と、その基幹供給部分61から区画CHに対応して分岐する区画用供給部分62、その区画用供給部分62からさらに収納部10Sに対応して分岐する収納部用供給部分63と、を備えている。
ちなみに、図5は、区画CHの夫々に対して窒素ガスを供給する構成を示す図である。図6〜図8は、窒素ガス供給路60を部分的に示す図である。ちなみに、図6及び図7では、窒素ガス供給路60を他のバイパス路77や窒素ガスリリーフ路80(基幹用リリーフ路81及び区画用リリーフ路82)に比べて太い線で図示している。
尚、窒素ガス供給路60を説明するに当たり、供給源から吐出ノズル10iに向けて窒素ガスが通流する方向を気体供給方向と称し、その気体供給方向の流れに基づいて、気体供給方向の上流及び下流を定義して説明する。
(基幹供給部分)
図6に示すように、基幹供給部分61の基幹設置部61aには、気体供給方向の上流から順に、第1基幹用手動弁65、基幹用制御弁66、第2基幹用手動弁67が設けられている。ちなみに、基幹供給部分61では、図6に矢印Aで示す方向が気体供給方向となっている。
第1基幹用手動弁65、基幹用制御弁66、第2基幹用手動弁67の夫々は、基幹供給部分61から区画用供給部分62に窒素ガスが通流可能な開き状態と通流不能な閉じ状態とに切換自在に構成されている。基幹用制御弁66は、制御装置Hの制御指令に基づいて開き状態と閉じ状態とに各別に切換操作される。また、第1基幹用手動弁65及び第2基幹用手動弁67は、作業者の人為操作により閉じ状態と開き状態とに切換操作される。
そして、第1基幹用手動弁65、基幹用制御弁66及び第2基幹用手動弁67の夫々を開き状態に切り換えることで、基幹供給部分61から区画用供給部分62に窒素ガスを通流可能な状態となり、第1基幹用手動弁65、基幹用制御弁66及び第2基幹用手動弁67のうちの少なくとも1つを閉じ状態に切り換えることで、基幹供給部分61から区画用供給部分62に窒素ガスが通流不能な状態となる。
(区画用供給部分)
図5に示すように、区画用供給部分62は、基幹供給部分61の基幹設置部61aより下流に位置する基幹接続部61bに接続されている。説明を加えると、窒素ガス供給路60には、区画CHの数と同じ6経路の区画用供給部分62が備えられており、基幹供給部分61の基幹接続部61bには、区画用供給部分62が6経路接続されている。
そして、区画用供給部分62の夫々における区画用接続部62bは、区画CHにおける収納部10Sの段数と同じ4経路に分岐されている。
ちなみに、区画用供給部分62では、図7に矢印Aで示す方向が気体供給方向となっている。また、区画用供給部分62は、基幹供給部分61より細い配管サイズとなっている。
図7に示すように、区画用供給部分62の区画用設置部62aには、気体供給方向の上流から順に、区画用手動弁69、圧力調整弁70、圧力検出センサ71、区画用制御弁72が設けられている。尚、本実施形態では、区画用手動弁69が本発明の第1切換弁に相当する。
区画用手動弁69及び区画用制御弁72は、区画用供給部分62から収納部用供給部分63に窒素ガスが通流可能な開き状態と通流不能な閉じ状態とに切換自在に構成されている。区画用制御弁72は、制御装置Hの制御指令に基づいて開き状態と閉じ状態とに各別に切換操作される。また、区画用手動弁69は、作業者の人為操作により閉じ状態と開き状態とに切換操作される。
そして、区画用手動弁69及び区画用制御弁72の夫々を開き状態に切り換えることで、区画用供給部分62から収納部用供給部分63に窒素ガスを通流可能な状態となり、区画用手動弁69及び区画用制御弁72のうちの少なくとも1つを閉じ状態に切り換えることで、区画用供給部分62から収納部用供給部分63に窒素ガスが通流不能な状態となる。
また、圧力調整弁70は、区画用供給部分62から収納部用供給部分63に通流する窒素ガスの通流量を調整することにより収納部用供給部分63における窒素ガスの圧力を調整する。圧力検出センサ71は、収納部用供給部分63における窒素ガスの圧力を検出する。
(収納部用供給部分)
図5に示すように、収納部用供給部分63は、区画用供給部分62の区画用接続部62bに接続されている。説明を加えると、窒素ガス供給路60には、収納部10Sの数と同じ72経路の収納部用供給部分63が備えられており、区画用供給部分62の1つの区画用接続部62bには、収納部用供給部分63が4経路接続されている。
ちなみに、収納部用供給部分63では、図8に矢印Aで示す方向が気体供給方向となっている。また、収納部用供給部分63は、区画用供給部分62より細い配管サイズとなっている。
図8に示すように、収納部用供給部分63には、気体供給方向の上流から順に、収納部用手動弁74、収納部用制御弁75、マスフローコントローラ40が設けられており、収納部用供給部分63の下流側端部には吐出ノズル10iが接続されている。
尚、本実施形態では、収納部用手動弁74が本発明の第2切換弁に相当する。
収納部用手動弁74及び収納部用制御弁75は、収納部用供給部分63から吐出ノズル10iに窒素ガスが通流可能な開き状態と通流不能な閉じ状態とに切換自在に構成されている。収納部用制御弁75は、制御装置Hの制御指令に基づいて開き状態と閉じ状態とに各別に切換操作される。また、収納部用手動弁74は、作業者の人為操作により閉じ状態と開き状態とに切換操作される。
そして、収納部用手動弁74及び収納部用制御弁75の夫々を開き状態に切り換えることで、収納部用供給部分63から吐出ノズル10iに窒素ガスを通流可能な状態となり、収納部用手動弁74及び収納部用制御弁75のうちの少なくとも1つを閉じ状態に切り換えることで、収納部用供給部分63から吐出ノズル10iに窒素ガスが通流不能な状態となる。
また、マスフローコントローラ40には、収納部用供給部分63から吐出ノズル10iに通流する窒素ガスの通流量を調整する流量調整弁と、収納部用供給部分63から吐出ノズル10iに通流する窒素ガスの流量を検出する流量検出センサと、の機能が備えられている。
基幹用制御弁66、区画用制御弁72及び収納部用制御弁75の夫々の制御弁は、制御装置Hの制御指令に基づいて開き状態と閉じ状態とに各別に切換操作される。
また、第1基幹用手動弁65、第2基幹用手動弁67、区画用手動弁69及び収納部用手動弁74の夫々の手動弁は、作業者の人為操作により閉じ状態と開き状態とに切換操作される。
(制御構成)
図9に示すように、制御装置Hは、在荷センサ10zの検出情報が入力され、また、スタッカークレーン20と通信自在に接続されている。これにより、制御装置Hは、保管棚10における容器50の在庫状態等を管理するとともに、図外の上位コントローラからの入庫指令及び出庫指令に基づいてスタッカークレーン20の作動を制御する。
説明を加えると、制御装置Hは、上位コントローラから入庫指令が指令されると、在庫状態に基づいて、容器50が収納されていない空の収納部10Sの1つを収納対象の収納部10Sとして選択し、容器50を入出庫コンベヤCVから収納対象の収納部10Sに搬送するべくスタッカークレーン20の作動を制御する入庫搬送処理を実行する。また、制御装置Hは、上位コントローラから出庫指令が指令されると、在庫状態に基づいて、出庫対象の容器50をそれが収納されている収納部10Sから入出庫コンベヤCV上に搬送するべくスタッカークレーン20の作動を制御する出庫搬送処理を実行する。
また、制御装置Hには、プログラマブルロジックコントローラPと複数のIO拡張モジュールAが通信自在に通信線にて接続されている。プログラマブルロジックコントローラPには、複数のマスフローコントローラ40が接続されている。IO拡張モジュールAには、対応する区画CHに属する在荷センサ10z、圧力検出センサ71、及び、マニホールド87が接続されている。
そして、制御装置Hは、基幹用制御弁66の作動を制御するとともに、プログラマブルロジックコントローラPに窒素ガスの供給量や窒素ガスを供給する収納部10Sを示す供給情報を送信する。プログラマブルロジックコントローラPは、制御装置Hからの供給情報に基づいて、マスフローコントローラ40(流量調整弁)の作動を制御するとともに、IO拡張モジュールAを介してマニホールド87に指令情報を送信する。マニホールド87は指令情報に基づいて作動し、窒素ガスを供給する供給対象の収納部10Sに対して窒素ガスを供給するべく区画用制御弁72及び収納部用制御弁75を作動させる。
このように、制御装置Hは、プログラマブルロジックコントローラPやIO拡張モジュールA等を介して、基幹用制御弁66、区画用制御弁72、収納部用制御弁75及びマスフローコントローラ40の作動を制御する。
(バイパス路)
図5に示すように、複数の収納部用供給部分63の2つを組として、組となる2つの収納部用供給部分63同士を連通させる状態で、バイパス路77が設けられている。
このバイパス路77は、上下方向に隣接する2つの区画CHに属する収納部用供給部分63同士を連通させる状態で設けられており、6つの区画CHに対して3経路設けられている。尚、バイパス路77は、区画用供給部分62と同じ配管サイズとなっている。
図7に示すように、バイパス路77には、バイパス路77を窒素ガスが通流可能な開き状態と通流不能な閉じ状態とに切り換え自在なバイパス用手動弁78が設けられている。このバイパス用手動弁78は、作業者の人為操作により閉じ状態と開き状態とに切換操作される。
(リリーフ路)
図5に示すように、窒素ガス供給路60に接続されて窒素ガス供給路60から窒素ガスを排出するための窒素ガスリリーフ路80が設けられている。そして、この窒素ガスリリーフ路80として、図5〜図7に示すように、基幹供給部分61に接続されて基幹供給部分61から窒素ガスを排出するための基幹用リリーフ路81と、複数の区画用供給部分62に接続されて区画用供給部分62から窒素ガスを排出するための区画用リリーフ路82と、が設けられている。尚、窒素ガスリリーフ路80を説明するに当たり、窒素ガス供給路60からの窒素ガスが通流する方向を気体排出方向と称し、その気体排出方向の流れに基づいて、気体排出方向の上流及び下流を定義して説明する。
(基幹リリーフ)
図6に示すように、基幹用リリーフ路81は、基幹供給部分61の基幹設置部61aにおける第1基幹用手動弁65及び基幹用制御弁66が設けられた位置より気体供給方向の下流で、且つ、第2基幹用手動弁67が設けられた位置より気体供給方向の上流に接続されている。尚、基幹用リリーフ路81は、区画用供給部分62と同じ配管サイズとなっている。
そして、基幹用リリーフ路81には、気体排出方向の上流側から順に、リリーフ用圧力調整弁86、不活性気体が通流可能な開き状態と通流不能な閉じ状態とに切り換え自在な基幹用リリーフ手動弁83が設けられている。リリーフ用圧力調整弁86は圧力調整弁70と同様に構成されている。基幹用リリーフ手動弁83は、作業者の人為操作により閉じ状態と開き状態とに切換操作される。尚、本実施形態では、基幹用リリーフ手動弁83が本発明の基幹用リリーフ切換弁に相当する。
そのため、第1基幹用手動弁65及び第2基幹用手動弁67を開き状態に切り換え、基幹用リリーフ手動弁83を閉じ状態に切り換えることで、図外の供給源からの窒素ガスの全てを区画用供給部分62に流動させることができる。
また、第1基幹用手動弁65、第2基幹用手動弁67及び基幹用リリーフ手動弁83を開き状態に切り換えることで、供給源からの窒素ガスを区画用供給部分62に流動させながら、供給源からの窒素ガスの一部を基幹用リリーフ路81に流動させて外部に排出させることができ、供給源からの窒素ガスのサンプリング等が行える。
また、第1基幹用手動弁65を開き状態に切り換え、第2基幹用手動弁67を閉じ状態に切り換え、基幹用リリーフ手動弁83を開き状態に切り換えることで、供給源からの窒素ガスの全てを基幹用リリーフ路81に流動させることができ、供給源と基幹供給部分61との間に窒素ガスを通流させることができる。
また、第1基幹用手動弁65を閉じ状態に切り換え、第2基幹用手動弁67及び基幹用リリーフ手動弁83を開き状態に切り換えることで、基幹供給部分61の窒素ガスを基幹用リリーフ路81に流動させることができ、基幹供給部分61の排圧が行える。
ちなみに、基幹用リリーフ路81では、図6に矢印Bで示す方向が気体排出方向となっている。
(区画リリーフ)
図7に示すように、区画用リリーフ路82は、複数の区画用供給部分62の夫々に接続されて区画用供給部分62から窒素ガスを排出するための複数の区画用リリーフ部分82a(本発明のリリーフ路に相当)と、複数の区画用リリーフ部分82aの夫々に接続された合流用リリーフ部分82b(本発明の合流用リリーフ路に相当)と、を備えている。尚、区画用リリーフ路82は、収納部用供給部分63と同じ配管サイズとなっている。
区画用リリーフ部分82aは、区画CHの数と同じ6経路備えられており、その6経路の区画用リリーフ部分82aの夫々には、区画用リリーフ手動弁84が設けられている。この区画用リリーフ手動弁84は、作業者の人為操作により窒素ガスが通流可能な開き状態と通流不能な閉じ状態とに切り換え自在に構成されている。尚、本実施形態では、区画用リリーフ手動弁84が本発明の区画用リリーフ切換弁に相当する。
そして、複数の区画用リリーフ部分82aは、区画用供給部分62の区画用設置部62aにおける区画用手動弁69が設けられた位置より気体供給方向の下流に接続されている。このように区画用リリーフ部分82aは、窒素ガス供給路60における区画用手動弁69が設けられた位置より気体供給方向の下流で且つ収納部用手動弁74が設けられている位置より気体供給方向の上流に接続されている。
また、合流用リリーフ部分82bは、複数の区画用リリーフ部分82aの夫々における区画用リリーフ手動弁84が設けられた位置よりも気体排出方向の下流に接続されており、合流用リリーフ部分82bには、作業者の人為操作により窒素ガスが通流可能な開き状態と通流不能な閉じ状態とに切り換え自在な合流用リリーフ手動弁85が設けられている。尚、本実施形態では、合流用リリーフ手動弁85が本発明の合流用リリーフ切換弁に相当する。
そのため、区画用手動弁69及び収納部用手動弁74を開き状態に切り換えることで、基幹供給部分61からの窒素ガスが吐出ノズル10iから吐出させることができる。
また、区画用手動弁69及び収納部用手動弁74を開き状態に切り換え、且つ、対応する区画用リリーフ手動弁84及び合流用リリーフ手動弁85を閉じ状態に切り換えることで、基幹供給部分61からの窒素ガスを吐出ノズル10iから吐出させながら、基幹供給部分61からの窒素ガスの一部を区画用リリーフ路82に流動させて外部に排出させることができ、区画単位で窒素ガスのサンプリング等が行える。
また、収納部用手動弁74を閉じ状態に切り換え、区画用手動弁69、区画用リリーフ手動弁84及び合流用リリーフ手動弁85を開き状態に切り換えることで、基幹供給部分61からの窒素ガスの全てを区画用リリーフ路82に流動させることができ、区画CH単位で窒素ガスを通流させることができる。
また、区画用手動弁69及び収納部用手動弁74を閉じ状態に切り換え、且つ、区画用リリーフ手動弁84及び合流用リリーフ手動弁85を開き状態に切り換えることで、区画用供給部分62の窒素ガスを区画用リリーフ路82に流動させることができ、区画用供給部分62の排圧が行える。
ちなみに、区画用リリーフ路82では、図7に矢印Bで示す方向が気体排出方向となっている。
このように本実施形態の物品保管設備では、複数の区画用供給部分62の夫々に区画用手動弁69を設け、複数の収納部用供給部分63の夫々に収納部用手動弁74が設けられている。また、窒素ガス供給路60における区画用手動弁69より下流で且つ収納部用手動弁74より上流に、区画用リリーフ路82が接続されている。そのため、区画単位での排圧やサンプリング、窒素ガスの通流を行うことができる。
〔別実施形態〕
(1)上記実施形態では、第1切換弁、第2切換弁、区画用リリーフ切換弁、合流用リリーフ切換弁及び基幹用リリーフ切換弁の全てを、作業者の人為操作により切り換える手動弁にて構成したが、これら切換弁の一部又は全部を、制御装置Hの制御指令に基づいて切り換える制御弁にて構成してもよい。
具体的には、例えば、区画用リリーフ切換弁と合流用リリーフ切換弁とを制御弁にて構成して、操作卓にて区画CHを指定するとともにサンプリング開始を入力すれば、制御装置Hの制御指令に基づいて該当する区画CHの区画用リリーフ切換弁と合流用リリーフ切換弁が開き操作され、設定時間経過する又は操作卓にてサンプリング終了を入力すれば、制御装置Hの制御指令に基づいて該当する区画用リリーフ切換弁と合流用リリーフ切換弁が閉じ操作されるように構成してもよい。
(2)上記実施形態では、複数の区画用リリーフ部分82aと合流用リリーフ部分82bとを設けて、区画用リリーフ路82から排出する不活性気体を1箇所から排出するように構成したが、複数の区画用リリーフ部分82aと合流用リリーフ部分82bとのうちの複数の区画用リリーフ部分82aのみを設けて、区画用リリーフ路82から排出する不活性気体を区画CHごとに別の箇所から排出するように構成してもよい。
(3)上記実施形態では、基幹用リリーフ切換弁、区画用リリーフ切換弁及び合流用リリーフ切換弁を壁体Kの外部に設けたが、これら切換弁の一部又は全部を壁体Kの内部に設けてもよい。
ちなみに、壁体Kの外部とは、保管棚10やスタッカークレーン20が設けられている設置空間の外部であればよく、例えば、壁体Kを、設置空間と制御装置Hを設ける第2の空間との2つの空間を形成するように構成した場合では、第2の空間を外部として当該第2の空間にリリーフ切換弁を設けてもよい。
また、壁体Kの外部に設けるにあたり、少なくともリリーフ切換弁の一部(具体的には、作業者が操作する操作レバー等の操作部分)を壁体Kの外部に設けていればよく、リリーフ切換弁の全体を壁体Kの外部に設けていなくてもよい。
(4)上記実施形態では、第2切換弁を、複数の収納部用供給部分63の夫々に設けたが、第2切換弁を、複数の区画用供給部分62の夫々に設けてもよい。この場合、第2切換弁は、区画用供給部分62における第1切換弁が設けられている位置及び区画用リリーフ路82(区画用リリーフ部分82a)が接続されている位置より下流に設けるとよい。
(5)上記実施形態では、容器50が、半導体基板Wを収容するFOUPである構成を例示したが、このような構成に限定されるものではなく、例えば、レチクルを収容するレチクル容器としてもよい。また、不活性気体を窒素ガスとしたが、不活性気体としては、窒素ガス以外にもアルゴンガス等、収容される基板Wに対して反応性の低い各種の気体を使用することができる。ちなみに、容器50に収容する物品としては、工業製品、食品、医薬品等に幅広く適用することができる。
(6)上記実施形態では、物品保管設備に設けた一対の保管棚10のうち、一方の保管棚10に対してのみ不活性気体供給路を設けたが、両方の保管棚10に対して不活性気体供給路を設けてもよい。ちなみに、両方の保管棚10に対して不活性気体供給路を設けた場合に、両方の保管棚10に対して基幹供給部分61や供給源を各別に設けてもよく、また、両方の保管棚61で基幹供給部分61や供給源を共用するように設けてもよい。
(7)その他の構成に関しても、本明細書において開示された実施形態は全ての点で例示であって、本発明の範囲はそれらによって限定されない。本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、適宜改変が可能である。従って、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で改変された別の実施形態も、当然、本発明の範囲に含まれる。
10i 吐出部
10S 収納部
50 容器
60 不活性気体供給路
61 基幹供給部分
62 区画用供給部分
63 収納部用供給部分
69 第1切換弁
74 第2切換弁
81 基幹用リリーフ路
82a リリーフ路
82b 合流用リリーフ路
83 基幹用リリーフ切換弁
84 区画用リリーフ切換弁
85 合流用リリーフ切換弁
K 壁体
W 基板
CH 区画

Claims (4)

  1. 気密性の容器を収納自在な複数の収納部と、
    前記複数の収納部の夫々に不活性気体を供給する不活性気体供給路と、
    前記不活性気体供給路にて前記収納部に供給された不活性気体を当該収納部に収納された前記容器の内部に吐出する吐出部と、が設けられ、
    前記複数の収納部が、複数の区画に区分けされている物品保管設備であって、
    前記不活性気体供給路が、基幹供給部分と、前記基幹供給部分から前記複数の区画ごとに分岐して前記基幹供給部分を通流する不活性気体を前記複数の区画ごとに分岐供給する複数の区画用供給部分と、前記区画用供給部分を通流する不活性気体を当該区画用供給部分に対応する前記区画に属する前記複数の収納部に各別に供給して前記吐出部から不活性気体を吐出させる複数の収納部用供給部分と、を備え、
    前記複数の区画用供給部分の夫々に、不活性気体が通流可能な開き状態と通流不能な閉じ状態とに切り換え自在な第1切換弁が設けられ、
    前記複数の区画用供給部分の夫々における前記第1切換弁が設けられている位置より気体供給方向の下流に、又は、前記複数の収納部用供給部分の夫々に、不活性気体が通流可能な開き状態と通流不能な閉じ状態とに切り換え自在な第2切換弁が設けられ、
    前記複数の区画用供給部分の夫々に接続されて前記区画用供給部分から不活性気体を排出するための複数のリリーフ路が設けられ、
    前記複数のリリーフ路が、前記不活性気体供給路における前記第1切換弁が設けられている位置より気体供給方向の下流で且つ前記第2切換弁が設けられている位置より前記気体供給方向の上流に接続され、
    前記複数のリリーフ路の夫々に、不活性気体が通流可能な開き状態と通流不能な閉じ状態とに切り換え自在な区画用リリーフ切換弁が設けられている物品保管設備。
  2. 前記複数の収納部が設置される設置空間を覆う壁体が設けられ、
    前記区画用リリーフ切換弁が、人為操作により前記開き状態と前記閉じ状態とに切り換える人為操作式の切換弁にて構成されて前記壁体の外部に設けられている請求項1記載の物品保管設備。
  3. 前記複数のリリーフ路の夫々における前記区画用リリーフ切換弁が設けられた位置よりも気体排出方向の下流に接続された合流用リリーフ路が設けられ、
    前記合流用リリーフ路に、人為操作により不活性気体が通流可能な開き状態と通流不能な閉じ状態とに切り換え自在な合流用リリーフ切換弁が設けられ、
    前記合流用リリーフ切換弁が、前記壁体の外部に設けられている請求項2記載の物品保管設備。
  4. 前記基幹供給部分に基幹用リリーフ路が接続され、
    前記基幹用リリーフ路に、不活性気体が通流可能な開き状態と通流不能な閉じ状態とに切り換え自在な基幹用リリーフ切換弁が備えられている請求項1又は2記載の物品保管設備。
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Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6032372B2 (ja) * 2013-09-26 2016-11-30 村田機械株式会社 パージ装置及びパージ方法
JP6160520B2 (ja) * 2014-03-11 2017-07-12 株式会社ダイフク 梯子及びそれを備えた収納棚用のメンテナンス設備
SG11201801353VA (en) * 2015-08-25 2018-03-28 Murata Machinery Ltd Purge device, purge stocker, and purge method
JP6414525B2 (ja) * 2015-09-02 2018-10-31 株式会社ダイフク 保管設備
JP6455404B2 (ja) * 2015-11-17 2019-01-23 株式会社ダイフク 容器搬送設備
JP6551240B2 (ja) * 2016-01-06 2019-07-31 株式会社ダイフク 物品収納棚、及び、それを備えた物品収納設備
JP6460015B2 (ja) * 2016-03-07 2019-01-30 株式会社ダイフク 容器搬送設備
JP6614174B2 (ja) * 2017-02-08 2019-12-04 株式会社ダイフク 流量測定システム
JP6794898B2 (ja) * 2017-03-29 2020-12-02 株式会社ダイフク 収納棚
US10703563B2 (en) * 2017-11-10 2020-07-07 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Stocker
JP6856015B2 (ja) * 2017-12-20 2021-04-14 株式会社ダイフク 保管設備
CN112262465B (zh) * 2018-06-15 2024-03-26 村田机械株式会社 保管架
JP7090513B2 (ja) * 2018-09-06 2022-06-24 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置及びパージ方法
KR102102413B1 (ko) * 2018-09-19 2020-04-20 크린팩토메이션 주식회사 모듈형 용기 스토커 장치 및 그에 사용되는 카로셀 타입의 용기 보관 모듈
JP7487703B2 (ja) * 2021-04-27 2024-05-21 株式会社ダイフク 収容棚

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3330166B2 (ja) * 1992-12-04 2002-09-30 東京エレクトロン株式会社 処理装置
JP3122311B2 (ja) * 1994-06-29 2001-01-09 東京エレクトロン株式会社 成膜処理室への液体材料供給装置及びその使用方法
NO972004D0 (no) * 1997-04-30 1997-04-30 Hatteland Electronic As Jacob Metode for organisering av vareflyt for en horisontalt lagdelt og dypstablet lagerbeholdning med uensartede komponenter, samt forflytningsutstyr for standariserte beholdere til formålet
JPH11168135A (ja) * 1997-12-03 1999-06-22 Toshiba Corp 基板保管装置および基板保管方法
JP2001284433A (ja) * 2000-01-28 2001-10-12 Sony Corp 基板移載装置及び基板移載方法
KR100572321B1 (ko) * 2003-10-02 2006-04-19 삼성전자주식회사 반도체 소자 제조 설비 및 방법 그리고 이에 사용되는스토커
US7274971B2 (en) * 2004-02-28 2007-09-25 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for electronic device manufacturing system monitoring and control
JP4428646B2 (ja) * 2004-06-18 2010-03-10 平田機工株式会社 容器内ガスパージ方法
US20060176928A1 (en) * 2005-02-08 2006-08-10 Tokyo Electron Limited Substrate processing apparatus, control method adopted in substrate processing apparatus and program
KR100706243B1 (ko) 2005-02-22 2007-04-11 삼성전자주식회사 질화 텅스텐 증착 장치 및 증착 방법
JP2007173695A (ja) * 2005-12-26 2007-07-05 Sokudo:Kk 基板処理方法、基板処理システムおよび基板処理装置
JP4670808B2 (ja) * 2006-12-22 2011-04-13 ムラテックオートメーション株式会社 コンテナの搬送システム及び測定用コンテナ
JP2009054859A (ja) * 2007-08-28 2009-03-12 Tokyo Electron Ltd 基板受入装置及び基板受入方法
WO2009117440A1 (en) 2008-03-17 2009-09-24 Applied Materials, Inc. Heated valve manifold for ampoule
JP5236518B2 (ja) * 2009-02-03 2013-07-17 株式会社ダン・タクマ 保管システムおよび保管方法
JP4940290B2 (ja) 2009-12-15 2012-05-30 三洋電機株式会社 光電変換装置及びその製造方法
US9032990B2 (en) * 2011-04-25 2015-05-19 Applied Materials, Inc. Chemical delivery system

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