JPWO2016207966A1 - 容器用鋼板及び容器用鋼板の製造方法 - Google Patents

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Abstract

この容器用鋼板は、鋼板と、前記鋼板の少なくとも片面に形成されたSnめっき層と、前記Snめっき層上に形成された化成処理皮膜層とを備え、前記Snめっき層は、金属Sn量で300〜5600mg/m2のSnを含有し、前記化成処理皮膜層は、金属Zr量で5〜30mg/m2のZr化合物を含有し、走査型プローブ顕微鏡により求めた、前記化成処理皮膜層の最表面の平均粗度Raが10nm〜100nmである。前記化成処理皮膜層の前記最表面における1測定点について測定された黄色度の変化量を下記(1)式で表されるΔYIと定義したとき、前記最表面の単位面積に含まれる複数の前記測定点について得られた前記ΔYIの絶対値の平均値が5.0以下である。【数1】

Description

本発明は、容器用鋼板及び容器用鋼板の製造方法に関する。
飲料用又は食品用の容器として、Niめっき鋼板、Snめっき鋼板又はSn系合金めっき鋼板等の鋼板(容器用鋼板)を製缶して得られる金属容器が多く用いられている。このような金属容器を飲料用容器又は食品用容器として使用する際は、製缶前又は製缶後に金属容器表面に塗装を施すことが必要である。
しかしながら、近年、地球環境保全の観点から、廃溶剤等の塗料に起因する廃棄物及び炭酸ガス等の排ガスを低減するために、塗装を施す代わりにフィルムを金属容器の表面に貼り付けることが多く行われるようになってきている。
耐食性及び塗装密着性あるいはフィルム密着性を確保するために、6価クロム酸塩等を用いたクロメートによる防錆処理(クロメート処理)を施した鋼板が、塗料又はフィルムの下地として用いられている(例えば、下記の特許文献1を参照)。これらのクロメート処理を施した鋼板は、必要に応じて、耐有機溶剤性、耐指紋性、耐傷つき性、潤滑性等を向上させるために、クロメート処理により形成された皮膜層(クロメート皮膜層)の上に有機樹脂からなる被覆層が形成される。
しかしながら、最近では、クロメート処理に用いられる6価クロムは環境上有害であるため、6価クロムの使用が敬遠されている。一方、クロメート皮膜は、鋼板に対して優れた耐食性及び塗装密着性あるいはフィルム密着性を有するため、このようなクロメート処理を行わない場合には、耐食性及び塗装密着性あるいはフィルム密着性が著しく低下してしまう。
そのため、容器用鋼板の表面にクロメートに代わる防錆処理を施し、優れた耐食性及び塗装密着性あるいはフィルム密着性を有する防錆層を形成することが要求されるようになってきている。クロメート処理に替わる防錆処理としては、以下のような方法が提案されている。
例えば、下記の特許文献2及び特許文献3には、Snめっき鋼板又は合金Snを含有するSnめっき鋼板を、Zr含有化合物及びF含有化合物を含む化成処理液によって陰極電解処理する方法が開示されている。
下記の特許文献4には、リン酸イオンもしくはTiイオン又はZrイオンの少なくともいずれか1つを含む化成処理液を用い、Snめっき鋼板に対して、電解処理又はその他の化成処理を実施する方法が開示されている。
下記の特許文献5には、Zrイオン及びFを含み、リン酸イオンを含まない無機処理層と、有機処理層とを有する金属材料とその処理方法が開示されている。
下記の特許文献6には、Zrイオン及び有機物を含む化成処理液を用いて、Niめっき鋼板を電解処理又は浸漬処理する方法が開示されている。
下記の特許文献7〜10には、Zrイオン、リン酸イオン及び硝酸イオンを含む溶液を用いて、鋼板を電解処理する方法が開示されている。特に、特許文献8では、硝酸イオンを多く添加することによりZr皮膜の形成を促進する方法が開示されている。
日本国特開2000−239855号公報 日本国特開2005−325402号公報 日本国特開2005−23422号公報 日本国特開昭54−68734号公報 日本国特開2006−9047号公報 日本国特開2008−50641号公報 日本国特開2009−84623号公報 国際公開第2011/118588号 日本国特許第4920800号公報 日本国特許第4886811号公報
上述の通り、上記特許文献2〜10には、Zrイオン及びFイオンを含む溶液中で電解処理を行うことにより鋼板上にZr化合物を含む皮膜を形成する技術が開示されている。しかしながら、これらの技術では、ポリエステル等のフィルムの金属容器の表面に対する密着性を十分に確保できない場合があった。
フィルムと鋼鈑(金属容器)に形成した皮膜との間に接着剤、プライマー等を用いることにより、フィルム密着性を向上させることができる。しかしながら、接着剤、プライマー等を用いることにより、接着剤、プライマー等の塗布工程及び密着性確保のための焼き付け工程等の製造工程が増える。また、このような方法は、必ずしも経済的ではない。
連続的な電解処理により皮膜形成を行う場合、化成処理液がフェノール樹脂等の有機物を含有すると、陽極上で有機物が分解される、またはフェノール樹脂が金属イオンとの相互作用で不可避的に不溶化する等、化成処理液に含まれるフェノール樹脂の濃度を適切に保つことが困難な場合がある。
上述の理由により、フェノール樹脂を含有する皮膜が安定的に形成できない場合があるので、フェノール樹脂を含有しない方が望ましい。
食品用容器に用いる容器用鋼板は、耐硫化黒変性を有することが必要である。上記特許文献2〜8では、この耐硫化黒変性についての開示がなされていない。
容器用鋼板を、例えば、魚肉、豆類等の高蛋白質食品を内容物とする食品用容器に用いた場合、食品充填後のレトルト処理(水蒸気存在下での高温加熱滅菌処理)により、容器内面と内容物との少なくとも一方がまれに黒色に変色する場合がある。硫化黒変とは、このような黒変現象を硫化黒変という。
食品中に含まれる硫黄が、レトルト処理により熱分解して、硫化水素(HS)及びチオール類(HS)等が発生する。この硫化水素及びチオール類と、容器内面の構成金属とが反応を起こし、黒色の金属硫化物が生成するため、この硫化黒変が生じる。
この硫化黒変が原因で、容器の外観が悪くなる。さらに、消費者が、発生した黒色の金属硫化物を、容器内面の金属腐食又は内容物の腐食と誤解する。そのため、硫化黒変が極力発生しないようにする必要がある。
容器用鋼板は、耐硫化黒変性及びフィルム密着性の他に、溶接性、塗料密着性、及び耐食性を有することが求められる。
本発明は、上記の事情に鑑みてなされたものであり、優れたフィルム密着性、耐硫化黒変性、溶接性、塗料密着性、及び耐食性を有する容器用鋼板及び容器用鋼板の製造方法を提供することを目的とする。
本発明は、上記課題を解決して、係る目的を達成するために以下の手段を採用する。
(1)本発明の一態様に係る容器用鋼板は、鋼板と、前記鋼板の少なくとも片面に形成されたSnめっき層と、前記Snめっき層上に形成された化成処理皮膜層とを備えている。前記Snめっき層は、金属Sn量で300〜5600mg/mのSnを含有し、前記化成処理皮膜層は、金属Zr量で5〜30mg/mのZr化合物を含有し、走査型プローブ顕微鏡により求めた、前記化成処理皮膜層の最表面の平均粗度Raが10〜100nmである。前記化成処理皮膜層の前記最表面における1測定点について測定された黄色度の変化量を下記(1)式で表されるΔYIと定義したとき、前記最表面の単位面積に含まれる複数の前記測定点について得られた前記ΔYIの絶対値の平均値が5.0以下である。
Figure 2016207966
(2)上記(1)に記載の容器用鋼板において、前記Snめっき層の下層に、Niを含有するNiめっき層が形成されていてもよい。
(3)上記(2)に記載の容器用鋼板において、前記Snめっき層は、金属Sn量で300〜3000mg/mのSnを含有してもよい。
(4)上記(3)に記載の容器用鋼板において、前記Niめっき層は、金属Ni量で5〜150mg/mのNiを含んでもよい。
(5)上記(1)に記載の容器用鋼板において、前記Snめっき層は、Sn合金を含有してもよい。
(6)上記(2)〜(4)のいずれか一態様に記載の容器用鋼板において、前記Snめっき層はSn合金を含有し、前記Niめっき層はNi合金を含有してもよい。
(7)上記(1)〜(6)のいずれか一態様に記載の容器用鋼板において、前記化成処理皮膜層は、P量で2〜20mg/mのリン酸化合物を更に含有してもよい。
(8)上記(1)〜(6)のいずれか一態様に記載の容器用鋼板において、前記化成処理皮膜層は、Zrイオン及びFイオンを含む化成処理液中で陰極電解処理を行うことにより形成されていてもよい。
(9)上記(7)に記載の容器用鋼板において、前記化成処理皮膜層は、Zrイオン、Fイオン及びPイオンを含む化成処理液中で陰極電解処理を行うことにより形成されていてもよい。
(10)本発明の一態様に係る容器用鋼板の製造方法は、鋼板の表面に、Snを含有するSnめっき層を形成するめっき工程と、Zrイオン及びFイオンを少なくとも含有する化成処理液を用いて行われ、前記化成処理液の温度が10〜40℃である第一陰極電解処理と、前記化成処理液の温度が45〜60℃である第二陰極電解処理とを行うことで、前記Snめっき層の表面に化成処理皮膜層を形成する陰極電解処理工程と、少なくとも40℃以上の洗浄水を利用して0.5秒以上の洗浄処理を行う洗浄処理工程と、を有する。
(11)上記(10)に記載の容器用鋼板の製造方法において、前記めっき工程では、前記鋼板の表面に、Niを含有するNiめっき層を形成した後、前記Niめっき層の表面に、前記Snめっき層を形成してもよい。
(12)上記(10)又は(11)に記載の容器用鋼板の製造方法において、前記めっき工程後に、前記Snめっき層に含まれる少なくとも一部のSnを合金化する溶融溶錫処理工程を有してもよい。
(13)上記(10)〜(12)のいずれか一態様に記載の容器用鋼板の製造方法において、前記化成処理液は、更に、リン酸イオン、硝酸イオン及びアンモニウムイオンの少なくとも一種を含んでもよい。
上記各態様によれば、優れたフィルム密着性、耐硫化黒変性、溶接性、耐食性及び塗料密着性を有する容器用鋼板及び容器用鋼板の製造方法を提供することができる。
本発明の第1実施形態に係る容器用鋼板の構成図である。 本発明の第2実施形態に係る容器用鋼板の構成図である。 本発明の第1実施形態に係る容器用鋼板の製造方法の一例を示すフローチャートである。 本発明の第2実施形態に係る容器用鋼板の製造方法の一例を示すフローチャートである。
本発明者等は、クロメート皮膜層に代わる新たな皮膜層として、Zr化合物を含む化成処理皮膜層の活用を鋭意検討した。
その結果、Zr化合物を含む化成処理皮膜層またはZr化合物を含む化成処理皮膜層中にリン酸化合物を更に含む化成処理皮膜層に関して、鋼板上に形成された化成処理皮膜層の表面性状及び特定条件でのレトルト処理後の黄色度(YI値)の変化量(△YI値)を規定することで、従来のクロメート皮膜層以上の優れたフィルム密着性及び耐硫化黒変性、溶接性、塗料密着性及び耐食性が得られることを知見し、本発明に至った。
以下に、本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。
Zrイオン及びFイオンを含む溶液(化成処理液)を利用して、低温に続き高温で陰極電解処理を行うことにより、Snめっき層が形成された鋼板上にZr化合物を含有する化成処理皮膜層を形成する方法について、詳細に説明する。また、この化成処理皮膜層の表面粗度及び特定条件でのレトルト処理後の黄色度(YI値)の変化量(△YI値)を規定した容器用鋼板について、詳細に説明する。
[第一実施形態]
図1は、本発明の第1実施形態に係る容器用鋼板1の構成図を示す。
容器用鋼板1は、鋼板2と、鋼板2上に形成されたSnめっき層3と、Snめっき層3上に形成された化成処理皮膜層4とを有する。
本実施形態で用いられる鋼板2は、特に限定されず、通常、容器材料として使用される鋼板を用いることができる。この鋼板2の製造法及び材質なども特に限定されず、通常の鋼片製造工程から熱間圧延、酸洗、冷間圧延、焼鈍、及び調質圧延等の工程を経て製造されていればよい。
Snめっき層3におけるSnの含有量は、金属Sn量で300mg/m〜5600mg/mである。
なお、本明細書における「Snめっき層」とは、金属Snを含有するめっき層だけでなく、不可避的不純物が混入した金属Snによるめっき及び微量元素が添加された金属Snによるめっき層を含む。なお、不可避的不純物とは、製造上、不可避的に混入する元素を意味する。
Snは、優れた加工性、溶接性及び耐食性を有するが、これらの効果を発揮するためには、金属Sn量として300mg/m以上のSnが必要である。
金属Sn量が増加するほど上記効果は向上するが、金属Sn量が5600mg/mを越える場合、上記の効果は飽和する。そのため、経済的な観点からSnの含有量を、金属Sn量で5600mg/m以下とすることが好ましい。
本実施形態におけるSnめっき層3におけるSnの含有量のより好ましい範囲は、560〜5600mg/mである。
Snめっき層3中の金属Sn量は、例えば、蛍光X線法によって測定することができる。この場合、金属Sn量既知のサンプルを用いて、金属Sn量に関する検量線をあらかじめ特定しておき、この検量線を用いて相対的に金属Sn量を特定する。
Snめっき層3は、鋼板2の両面に形成されていてもよく、製造コスト削減等の観点から鋼板2の一方の面のみに形成されていてもよい。鋼板2の一方の面にのみSnめっき層3が形成されている鋼板2を製缶加工する場合には、例えば、Snめっき層3が形成されている面が容器の内面となるように加工することが好ましい。
本実施形態では、Snめっき層3の形成後に、溶融溶錫処理を行ってもよい。溶融溶錫処理が行われることにより、Snめっき層3に含まれる一部のSnは、鋼板2に含まれるFeと合金化される。本明細書では、溶融溶錫処理が施されたSnめっき層3を、合金Snめっき層と呼称する。合金Snめっき層は、合金化されていないSn(フリーSn)を含有してもよい。また、本明細書において、合金Snめっき層は、SnまたはSn合金が鋼板2の表面全体を覆う形態だけを指すのではなく、鋼板2の表面を部分的に被覆し、鋼板2が一部露出している形態(島状Snと呼称する)も指すものと定義する。
溶融溶錫処理では、Snめっき層3が形成された鋼板2を、Snの融点(232℃)以上に加熱し、Snめっき層3を溶融し、その後水冷する。
溶融溶錫処理を行う理由は次の通りである。
溶融溶錫処理を行う前のSnめっき層3に含まれるSnは、微粒子状で、付着力が比較的弱く、無光沢である。溶融溶錫処理を施すことによって、耐食性及び表面の外観品質(鏡面仕上げ品質等)をより一層向上できる。
鋼板2の表面にSnめっき層3のみが形成されている場合(Snめっき層3の形成後に溶融溶錫処理が行われることにより、鋼板2の表面に合金Snめっき層が形成されている場合を含む)、フィルムをSnめっき層3の表面に貼り付けても、又は塗料をSnめっき層3の表面に塗布しても、飲料又は食品中に含まれる硫黄が、フィルムあるいは塗料皮膜を透過し、Snと結合し、黒色のSnS又はSnSを形成する場合がある。
また、Snめっき層3が溶融溶錫処理されていない場合、前述したようにSnめっき層3に含まれるSnは微粒子状で、付着力が比較的弱い。そのため、Snめっき層3中には、複数の微細な孔からなる(微細孔性)めっき欠陥部位が存在する。その場合には、硫黄と鋼板2に含まれるFeとが結合し、黒色のFeS,Fe,及びFeSが形成される。
これらの黒変現象を低減するために、本実施形態に係る容器用鋼板1は、Snめっき層3の上層に、化成処理皮膜層4を有する。
化成処理皮膜層4の表面のうち、フィルムと密着する面(最表面)の表面粗度について説明する。
フィルムの密着には、機械的密着(投錨効果等)、化学的密着(一次結合・原子間引力等)、及び物理的密着(二次結合・分子間引力等)がある。本実施形態では、これらの中でも、特に機械的密着に主眼をおいた結果、化成処理皮膜層4表面の表面粗度(比表面積)を規定している。表面粗度(比表面積)を増大させることにより、機械的密着性が増大し、フィルムとの密着可能面積が増大することで、化学的密着及び物理的密着においても、これらの密着可能面積を増大させる効果がある。
本実施形態では、化成処理皮膜層4のZr含有量が、金属Zr量で5〜30mg/mである。
Zr含有量が5mg/m未満では、後述する表面粗度が安定的に得られないため、好ましくない。一方、Zr含有量が30mg/mを越える場合、当該表面粗度は安定的に得られるが、3ピース缶成形時における溶接性が不十分であるため、好ましくない。
化成処理皮膜層4のZr含有量は、より好ましくは、金属Zr量で6〜15mg/mであり、さらに好ましくは、金属Zr量で8〜13mg/mである。
ここで、上記化成処理皮膜層4中のZr含有量は、例えば、蛍光X線法によって測定することができる。この場合、Zr量既知のサンプルを用いて、Zr量に関する検量線をあらかじめ特定しておき、この検量線を用いて相対的にZr含有量を特定する。Snめっき層3上にZr量既知のサンプルを用いて、Zr量に関する検量線をあらかじめ特定することが、より好ましい。
化成処理皮膜層4の最表面において、1mあたり任意の20点の5μm角平面部位の平均粗度(Ra)が10nm以上100nm以下である。
平均粗度が10nm未満である場合には、フィルムの一次密着性は確保できるが、製缶加工及びエンド加工等の加工後のフィルム密着性(二次密着性)が安定的に確保できない場合があり、好ましくない。また、前記平均粗度が100nm超である場合には、化成処理皮膜層4のZr含有量を5〜30mg/mとすることが困難であること、外観不良を引き起こすこと、及びフィルム密着効果としては飽和することから、好ましくない。
フィルムの厚みが5μm以下の場合には、容器用鋼板1の表面に貼り付けられたフィルムの表面性状に影響を与える場合があり、好ましくない。フィルムの厚みは、好ましくは、5μm〜80μmの範囲内であり、より好ましくは、10μm〜60μm、さらにより好ましくは15μm〜45μmの範囲内である。
上記の平均粗度(Ra)の測定方法は、平均粗度(Ra)がnmオーダーで測定可能な装置を用いればよい。例えば、走査型トンネル顕微鏡(Scanning Tunneling Microscope:STM)、原子間力顕微鏡(Atomic Force Microscope:AFM)に代表される走査型プローブ顕微鏡(Scanning Probe Microscope:SPM)等の形状測定装置を使用することができる。
走査型プローブ顕微鏡を用いて、化成処理皮膜層4の最表面の1mあたり任意20点の5μm角平面部位の平均粗度(Ra)を測定する方法について説明する。
1mあたり任意の20点とは、「片面で任意の化成処理皮膜層4の最表面部の20点」の意味であり、両面では40点を測定する事を意味する。測定点は、少なくとも10cm以上離れた点とすることが好ましい。
具体的には、1m×1mの大板であれば、測定点をサンプリングし、その点から10cm以上離れた点をサンプリングし、測定することが好ましい。
なお、各点の測定条件における走査面積は、5μm×5μmが好ましい。その他、データ点数等の主要測定条件は、表1の測定条件に準じていればよい。
平均粗度(Ra)の定義は、国際規格ISO4287に記載されており、粗さ曲線の算術平均高さであって、平均線からの絶対値偏差の平均値と定義されており、同定義に準じて算出すればよい。
Figure 2016207966
走査型プローブ顕微鏡で化成処理皮膜層4の粗度を測定した場合、化成処理皮膜層4の下層のSnめっき層3等の粗度が、化成処理皮膜層4の粗度に影響を及ぼす場合がある。本実施形態での平均粗度は、Snめっき層3等の粗度の影響を含めた化成処理皮膜層4の最表面の粗度とする。また、測定面が湾曲している場合には、適宜平面補正を施すことが好ましい。また、補正範囲外の湾曲部分については、他の部分を測定することが好ましい。
本実施形態では、化成処理皮膜層4の最表面における1測定点について測定された黄色度の変化量をΔYIと定義する。ここで、黄色度(YI値)の変化量(ΔYI値)とは、容器用鋼板1の黄色度(YI値)と、容器用鋼板1に対して130℃の温度下でレトルト処理を5時間施した後のYI値との差を意味する。
加えて、本実施形態では、化成処理皮膜層4の最表面の単位面積(1m)に含まれる複数(例えば20個)の測定点について得られたΔYIの絶対値の平均値が5.0以下である。
なお、レトルト処理とは、高温高圧の飽和水蒸気による滅菌(オートクレーブ滅菌、高圧蒸気滅菌)処理のための装置(高圧蒸気滅菌器)を用い、本実施形態に係るSnめっき層3と化成処理皮膜層4とを有する容器用鋼板1を処理することを意味する。
なお、防錆を目的として一般的に容器用鋼板の表面に塗油されるDOS(セバシン酸ビス(2−エチルヘキシル))、ATBC(2−(アセチルオキシ)−1,2,3−プロパントリカルボン酸トリブチル)等が、容器用鋼板1の表面に塗油されていてもよい。
レトルト処理では、上記の装置内部の温度が130℃の状態を5時間保持する。なお、昇温時間及び降温時間は処理時間に含まない。昇温時間及び降温時間は装置により異なることが考えられるため、±20分の範囲内で条件を合わせることが好ましい。
黄色度(YI値)とは、無色又は白色から色相が黄色方向に変色する度合いであり、無色または白色から色相が黄色方向に変色する場合にはプラスの量として表示される。黄色度がマイナスの値で表示される場合には、色相が青色方向へ変色することを示す。黄色度は、測色色差計を用いて、三刺激値X,Y,Zを求め、これらを下記(2)式に代入することで算出される。
YI値=100×(1.28X−1.06Z)÷Y ・・・(2)
黄色度(YI値)は、色彩の三刺激値(人の目が感じる赤・青・黄の知覚感度)を数値化した値で、YI値がプラス側に高い値を示す程黄色味を帯び、マイナス側に高い値を示す程青白味を帯びる。
黄色度(YI値)の変化量(△YI値)は、上記のように、容器用鋼板1のYI値と、容器用鋼板1に対して130℃の温度下でレトルト処理を5時間施した後のYI値との差を意味する。すなわち、黄色度(YI値)の変化量(△YI値)は、下記(1)式によって計算される。
Figure 2016207966
従って、黄色度の変化量△YIがプラスの量の場合は、レトルト処理によって容器用鋼板1の黄色度が増加したことを示す。一方、黄色度の変化量△YIがマイナスの量の場合は、レトルト処理によって容器用鋼板1の黄色度が減少し、容器用鋼板1が青白味を帯びることを示す。
Snめっき層3の上層に化成処理皮膜層4を形成することにより、多くの場合、YI値はより高いプラスの値を示す。これは、化成処理皮膜層4そのものが白色〜淡黄色を呈するためである。
また、化成処理皮膜層4中のZr量が増加するに従い、YI値はさらにプラスに高い値を示す傾向がある。これは、前述したように化成処理皮膜層4そのものが白色〜淡黄色を呈し、Zr量が含有するに従いその淡黄色の色調程度が強調されるためである。
一方、Snめっき層3上に化成処理皮膜層4を形成し、130℃の温度下でレトルト処理を5時間行うことにより、△YI値はマイナスの値を示す場合が多いが、プラスの値を示す場合もある。後述するが、△YI値がプラスであっても、△YI値がマイナスであっても、△YI値の大きさ(つまり、黄色度の変化度合い)と、耐硫化黒変性との間には相関関係がある。そのため、本実施形態では、耐硫化黒変性の指標として、△YI値の絶対値を用いる。
なお、本実施形態の黄色度(YI値)の測定は、JIS Z−8722条件cに準拠した分光測色計を用いれば良い。黄色度(YI値)の測定方式としては表面性状の影響を受けにくいSCI(正反射光を含む)測定で行う。黄色度(YI値)の測定条件としては、光源、湿度、及び温度など、一定の条件下で測定を行う必要がある。
本実施形態では、黄色度(YI値)の変化量である△YI値の絶対値を、Snめっき層3及び化成処理皮膜層4の被覆度合いを示す指標として用いる。Snめっき層3または化成処理皮膜層4に欠陥がある場合には、黄色度(YI値)の変化量である△YI値は高い値を示す。一方、Snめっき層3及び化成処理皮膜層4に欠陥が無い場合には、黄色度(YI値)の変化量である△YI値は低い値を示す。
Snめっき層3または化成処理皮膜層4に欠陥がある場合とは、例えば、微細孔性欠陥により化成処理皮膜層4が不均一である場合またはSnめっき層3がレトルト処理により酸化される場合が挙げられる。
各測定点において、上記の方法によりΔYI値の絶対値を算出し、得られた全ての「ΔYI値の絶対値」を測定点の個数で平均化する。この値を、本実施形態では、130℃の温度下でレトルト処理を5時間施した後の1mあたり任意の20点での黄色度(YI値)の変化量(△YI値)の絶対値の平均値とする。
上記の△YI値の絶対値の平均が5.0以下であれば、緻密かつ均一なSnめっき層3及び化成処理皮膜層4が形成されている。
△YI値の絶対値の平均が5.0を越える場合、緻密かつ均一なSnめっき層3と化成処理皮膜層4との少なくとも一方が形成されていないことを意味する。
このことにより、△YI値の絶対値の平均は5.0以下である。△YI値の絶対値の平均は、好ましくは3.0以下であり、さらに好ましくは1.0以下であり、より更に好ましくは0.5以下である。
本発明者らは、ΔYI値の絶対値が、化成処理皮膜層4の被覆度合いを示すとともに、耐硫化黒変性とΔYI値との間に相関関係があることを知見した。すなわち、△YI値の絶対値の平均が高い値である場合には、容器用鋼板1は優れた耐硫化黒変性を有さず、△YI値の絶対値の平均が低い値である場合には、容器用鋼板1は優れた耐硫化黒変性を有する。
レトルト処理では、化成処理皮膜層4の被覆度合いが低い部分から水分子又は酸素分子が入り込むので、化成処理皮膜層4よりも下層にあるSnめっき層3のSn、更には鋼板2中の鉄等の金属が酸化される。つまり、レトルト処理に伴うSn及び鉄等の金属の酸化状態は、Snめっき層3及び化成処理皮膜層4の被覆度合いに影響される。
一方、ΔYI値は、容器用鋼板1の黄色度の変化量を表す。ここで、容器用鋼板1の黄色度はSnや鉄等の金属の酸化状態に影響される。
そのため、ΔYI値の絶対値の平均は、化成処理皮膜層4の被覆度合いを示すと考えられる。
一方、化成処理皮膜層4の被覆度合いが低い部分から硫化水素分子、チオールイオンまたは硫黄分子が入り込むので、化成処理皮膜層4よりも下層にあるSnめっき層3のSn、更には鋼板2中の鉄等の金属が硫化される。その結果、金属硫化物が形成されることにより、硫化黒変が生じる。つまり、耐硫化黒変性は、Snめっき層3及び化成処理皮膜層4の被覆度合いに影響される。
以上の理由により、容器用鋼板1の黄色度の変化量を示すΔYI値と、耐硫化黒変性とが相関関係を有するものと考えられる。
本発明者らは、容器用鋼板1が優れたフィルム密着性と優れた耐硫化黒変性とを発揮するために、化成処理皮膜層4には異なる機能を有する二層が形成されていることが好ましいとの知見を得た。
この知見に基づき、本実施形態において、化成処理皮膜層4は、表面からの水分子及び硫化水素分子等の外来分子を透過しにくくするために、Snめっき層3上に均一かつ緻密な層を有し、この均一かつ緻密な層の上には、フィルム密着性を確保するために、粗度が高い層を有する。
本明細書において、前者の均一かつ緻密な層を第一化成処理皮膜層と呼び、後者の粗度が高い層を第二化成処理皮膜層と呼ぶ。
本実施形態において、化成処理皮膜層4は、耐硫化黒変性、耐食性及びフィルム密着性を確保するために形成される。化成処理皮膜層4に含まれるZr化合物は、酸化Zr及び水酸化Zrで構成されているZr水和酸化物であると考えられる。化成処理液が更にリン酸イオンを含有する場合にはZr水和酸化物−リン酸化合物であると考えられる。これらのZr化合物は優れた耐硫化黒変性、耐食性、及びフィルム密着性を有している。
したがって、化成処理皮膜層4中のZr化合物量が増加すると耐硫化黒変性、耐食性、及びフィルム密着性が向上する。化成処理皮膜層4中のZr化合物量が、金属Zr量で、4mg/m以上であれば、上記の効果が発揮される。
第一化成処理皮膜層中のZr化合物量は、金属Zr量で4mg/m以上が好ましく、より好ましくは6mg/m以上であり、更に好ましくは8mg/m以上である。
第二化成処理皮膜層中のZr化合物量は、金属Zr量で1mg/m以上が好ましく、より好ましくは3mg/m以上であり、更に好ましくは6mg/m以上である。
Zr化合物量の増加に応じて、耐硫化黒変性、耐食性及びフィルム密着性が向上する。しかしながら、第一化成処理皮膜層及び第二化成処理皮膜層に含まれる全Zr化合物量が金属Zr量で30mg/mを超えると、化成処理皮膜層4が厚くなり過ぎ、化成処理皮膜層4自体の密着性が劣化する。更に、化成処理皮膜層4の電気抵抗が上昇するため、容器用鋼板1の溶接性が劣化する。
更に、第一化成処理皮膜層及び第二化成処理皮膜層に含まれる全Zr化合物量が金属Zr量で30mg/mを超えると、化成処理皮膜層4の表面(つまり、第2化成処理皮膜層の表面)に粉状のZr化合物が析出する場合がある。
したがって、第一化成処理皮膜層のZr化合物量は、金属Zr量で20mg/m以下が好ましく、より好ましくは15mg/m以下であり、更に好ましくは10mg/m以下である。
また、第二化成処理皮膜層のZr化合物量は、金属Zr量で10mg/m以下が好ましく、より好ましくは8mg/m以下であり、更に好ましくは5mg/m以下である。
上述を鑑み、化成処理皮膜層4中に含まれる全Zr化合物量は、金属Zr量で5〜30mg/mとする。
化成処理皮膜層4中のZr−リン酸化合物等のリン酸化合物が増加すると、より優れた耐硫化黒変性、耐食性、及びフィルム密着性を発揮する。しかしながら、この効果が認識できるのは、リン酸化合物量が、P量で0.5mg/m以上であり、はっきり認識できるのは、P量で2mg/m以上である。
したがって、第一化成処理皮膜層におけるZr−リン酸化合物等のリン酸化合物量は、P量で2mg/m以上が好ましく、より好ましくは3mg/m以上であり、更に好ましくは4mg/m以上である。
また、第二化成処理皮膜層におけるZr−リン酸化合物等のリン酸化合物量は、P量で0.5mg/m以上が好ましく、より好ましくは1.5mg/m以上であり、更に好ましくは3mg/m以上である。
一方、Zr−リン酸化合物等のリン酸化合物量が増加すると耐硫化黒変性、耐食性、及びフィルム密着性が向上する。しかしながら、化成処理皮膜層4中のZr−リン酸化合物等のリン酸化合物量がP量で20mg/mを超えると、Zr−リン酸化合物等のリン酸化合物が厚くなり過ぎる。そのため、リン酸化合物自体の密着性が劣化する。また、化成処理皮膜層4の電気抵抗が上昇するため、容器用鋼板1の溶接性が劣化する。更に、化成処理皮膜層4中のZr−リン酸化合物等のリン酸化合物量がP量で20mg/mを超えると、化成処理皮膜層4の表面に粉状のZr−P化合物が析出する場合がある。
したがって、第一化成処理皮膜層中のZr−リン酸化合物等のリン酸化合物量は、P量で15mg/m以下が好ましく、より好ましくは10mg/m以下であり、更に好ましくは8mg/m以下である。
また、第二化成処理皮膜層中のZr−リン酸化合物等のリン酸化合物量は、P量で8mg/m以下が好ましく、より好ましくは5mg/m以下であり、更に好ましくは3mg/m以下である。
このように、化成処理皮膜層4中に含まれるZr−リン酸化合物等の全リン酸化合物量は、P量で2〜20mg/mにすることが好ましい。より好ましくは、Zr−リン酸化合物等のリン酸化合物量が4〜15mg/mであり、さらに好ましくは、Zr−リン酸化合物等のリン酸化合物量が2.5〜10mg/mである。
なお、詳細は後述するが、化成処理皮膜層4を安定的に形成するために、化成処理液はフェノール樹脂等の有機物を含有しないことが好ましい。そのため、化成処理皮膜層4はフェノール樹脂等の有機物を含有しないことが好ましい。
なお、本実施形態の化成処理皮膜層4が含有する金属Zr量、P量及びSnめっき層3中の金属Sn量は、例えば、蛍光X線分析等の定量分析法により測定することが可能である。この場合、金属Sn量既知のSnめっき鋼板サンプルを用いて、金属Sn量に関する検量線をあらかじめ特定しておき、この検量線を用いることで相対的に金属Sn量を特定することができる。
また、金属Zr量既知のサンプル及びP量既知のサンプルを用いて、金属Zr量に関する検量線及びP量に関する検量線をあらかじめ特定しておき、これらの検量線を用いて相対的に金属Zr量及びP量を特定することができる。
以下、本実施形態に係る容器用鋼板1の製造方法について述べる。
図3は、本発明の第1実施形態に係る容器用鋼板の製造方法の一例を示すフローチャートである。
本実施形態では、鋼板2の少なくとも片面にSnめっき層3が形成される(ステップS3)。Snめっき層3を形成する方法は、特に限定されない。例えば、フェロスタン浴中において、電気めっき法、真空蒸着法、またはスパッタリング法などの公知技術を用いればよい。
上述の通り、Snめっき層3形成後に溶融溶錫処理を行ってもよい。溶融溶錫処理の条件としては、232℃(Snの融点)〜280℃、0.5sec〜30secで加熱処理し、Snめっき層を溶融し、ただちに水冷する例が挙げられる。
化成処理皮膜層4を形成する方法の例としては、浸漬処理及び陰極電解処理がある。
浸漬処理は、Zrイオン、Fイオン(必要に応じて、リン酸イオン)を溶解した酸性溶液に、Snめっき層3を形成した鋼板2を浸漬する方法である。ただし、浸漬処理では、下地(Snめっき層3)をエッチングして化成処理皮膜層4が形成されるため、化成処理皮膜層4の付着が不均一になる。また、化成処理皮膜層4の形成に必要な時間も長くなるため、工業生産的には不利である。
一方、陰極電解処理では、強制的な電荷移動及び鋼板2と化成処理液との界面における水素発生により、形成される化成処理皮膜層4の表面が清浄化される。また、陰極電解処理では、化成処理液のpHが上昇することにより、化成処理皮膜層4の付着が促進される。
以上の理由から、Snめっき層3が形成された鋼板2に対して陰極電解処理を行うことにより、均一な化成処理皮膜層4を形成することが可能である。
本実施形態では、Snめっき層3が形成された鋼板2に対して、Zrイオン及びFイオンを含む化成処理液中で陰極電解処理を行うことにより、Zr酸化物を含む化成処理皮膜層4が形成される。リン酸が添加された化成処理液中で陰極電解処理を行うことにより、Zr酸化物とZrリン酸化合物を共に含む化成処理皮膜層4が形成される。
本実施形態に係る容器用鋼板1の製造方法では、少なくとも2つ以上の陰極電解処理槽を用い、化成処理皮膜層4を陰極電解処理により形成する。この陰極電解処理では、化成処理液の温度を10℃〜40℃とする第一陰極電解処理(ステップS7)を行った後、続いて、化成処理液の温度を45℃〜60℃とする第二陰極電解処理(ステップS9)を行う。
上述の第一陰極電解処理により、Snめっき層3上に第一化成処理皮膜層が形成される。上述の第二陰極電解処理により、第一化成処理皮膜層上に第二化成処理皮膜層が形成される。
化成処理液の温度が10℃〜40℃である第一陰極電解処理を行うことにより、緻密な第一化成処理皮膜層を形成し、耐硫化黒変性を確保するとともに、耐食性を確保する。
化成処理液の温度が45℃〜60℃である第二陰極電解処理を行うことにより、第二化成処理皮膜層を形成し、主にフィルム密着性及び塗料密着性を確保する。
ZrイオンとFイオンとを少なくとも含む化成処理液中で陰極電解処理を行うことによりZr化合物を含有する化成処理皮膜層4を形成する技術に関しては、上記特許文献等で技術開示がなされている。しかしながら、上記特許文献等では、陰極電解処理条件を段階的に変更して、化成処理皮膜層4を多層化する技術については開示されていない。
一方、第二陰極電解処理のみでは、Zr化合物を含む化成処理皮膜層4の形成促進には効果的ではあるが、化成処理皮膜層4の緻密さが不十分、すなわち微細孔性欠陥を有する化成処理皮膜層4となると考えられる。そのため、耐硫化黒変性及び耐食性を確保することが困難となる場合があった。
第一陰極電解処理の化成処理液の温度は、10℃〜40℃である。
化成処理液の温度が10℃未満では、冷却装置の能力増強が必要となってしまう。化成処理液の温度が10℃未満に下げても、化成処理皮膜層4の緻密さは飽和しているため、より緻密な化成処理皮膜層4は形成できない。化成処理液の温度が10℃未満では、化成処理皮膜層4の形成速度が遅い。化成処理液の温度が10℃未満では、化成処理液の成分の溶解性が低下するため、不溶物が生成する。以上の理由から、化成処理液の温度が10℃未満であると好ましくない。
一方、化成処理液の温度が40℃を越えると、緻密な化成処理皮膜層4の形成ができず、耐硫化黒変性及び耐食性を確保することが困難となる。そのため、上述した第一化成処理皮膜層としての機能を発揮するのに困難となる。
第一陰極電解処理の化成処理液の温度は、好ましくは、20℃〜35℃である。
第二陰極電解処理の化成処理液の温度は、45℃〜60℃である。
化成処理液の温度が45℃未満だと、本実施形態で規定する表面粗度を確保することが困難となる。
一方、化成処理液の温度が60℃超の場合、本実施形態で規定する表面粗度を確保することはできるが、化成処理液の安定性を確保できなくなる。特に、陰極電解処理を連続的に行う場合には、ZrのF錯体成分等が徐々に分解し、不溶物となって当該処理液中に浮遊するため、化成処理皮膜層4表面に付着する等、悪影響を及ぼす。
第二陰極電解処理の化成処理液の温度は、好ましくは、45℃〜55℃である。
ラインスピードが150m/分を越える場合には、第二陰極電解処理の化成処理液の温度は、第一陰極電解処理の化成処理液の温度よりも10℃以上高温である必要がある。これは、ラインスピードが高速になる従い、例えば第一陰極電解処理槽の化成処理液が鋼板に付着し、第二陰極電解処理槽に混入することにより、第二陰極電解処理槽の化成処理液温度の低下を招く場合があり、結果として本発明の化成処理皮膜層4の二層構造の第二化成処理皮膜層の効率的な形成を妨げる場合があるためである。
電流密度は、陰極電解処理装置の構造、また長尺の鋼板であれば通板速度に依存するが、例えば0.1〜20A/dmである。
本実施形態の容器用鋼板1の製造方法では、少なくとも2つ以上の陰極電解処理槽を用いることが好ましい。これは、少なくとも1槽は第一陰極電解処理のための陰極電解処理槽とし、少なくとも1槽は第二陰極電解処理のための陰極電解処理槽とするためである。
陰極電解処理槽は縦型でも横型でもよく、鋼板の表裏面を陰極電解処理できる構造であれば、特に限定されない。
本実施形態では、化成処理液として、公知の化成処理液を用いることができる。例えば、上記特許文献9及び10に記載されているように、100ppm〜7500ppmのZrイオン及び120ppm〜4000ppmのFイオンを含む化成処理液を用いることができる。
また、陰極電解処理に用いる化成処理液として、上記Zrイオン及びFイオンに加えて、50ppm〜5000ppmのリン酸イオン、または、20000ppm以下の硝酸イオン及びアンモニウムイオン等を含む化成処理液を用いてもよい。
なお、化成処理液のpHは3.0〜4.5の範囲が好ましく、pHを下げたい場合には硝酸等を添加し、pHを上げたい場合にはアンモニア等を添加することにより適宜調整すればよい。
より優れたフィルム密着性、耐硫化黒変性、及び耐食性を確保するには、Zrイオン、Fイオンだけでなく、リン酸イオンを添加することが好ましい。
化成処理液中に硝酸イオンとアンモニウムイオンとを共存させることがより好ましい。化成処理液が上記イオンを含むことにより、陰極電解処理の処理時間を短縮することができる。また、化成処理液が上記イオンを含むことにより、耐食性及びフィルム密着性の向上に寄与するZr酸化物、Zr−リン酸化合物を含む化成処理皮膜層4の析出を促進することが可能である。よって、化成処理液が当該イオンを含むことは、工業的には極めて有利である。
従って、本実施形態の化成処理皮膜層4の形成には、陰極電解処理を用いることが望ましく、特に、硝酸イオンとアンモニウムイオンとを含む化成処理液で陰極電解処理を行うことが更に望ましい。
フェノール樹脂等の有機物を含有する化成処理液を用いて、連続的な電解処理により皮膜形成を行うとき、陽極上でフェノール樹脂等の有機物が分解される場合またはフェノール樹脂等の有機物が金属イオンとの相互作用で不可避的に不溶化する場合がある。そのため、化成処理液に含まれるフェノール樹脂等の有機物の濃度を適切に保つことが困難になる。
上述の理由により、フェノール樹脂等の有機物を含有する皮膜が安定的に形成できない場合があるので、化成処理液はフェノール樹脂等の有機物を含有しない方が望ましい。
Fイオンは化成処理液中に含まれることから、Zr化合物と共に化成処理皮膜層4中に取り込まれる。化成処理皮膜層4中のFイオンは、一次塗料密着性には影響を及ぼさないが、二次塗料密着性及び耐食性を劣化する原因となる。これは、水蒸気又は腐食液に化成処理皮膜層4中のFイオンが溶出することにより、Fイオンが、化成処理皮膜層4とフィルム、塗料等の有機皮膜層との結合を分解すること、または、鋼板2を腐食することが原因と考えられている。
化成処理皮膜層4中のFイオン量を減少させるため、第二陰極電解処理を行った後、容器用鋼板1に対して洗浄処理を行う(ステップS11)。この洗浄処理の例としては、浸漬処理及びスプレー処理が挙げられる。
この洗浄処理に用いる洗浄水の温度を高くし、洗浄処理の処理時間を長くすることにより、化成処理皮膜層4中のFイオン量をより減少させることができる。
化成処理皮膜層4中のFイオン量を減少するには、40℃以上の洗浄水を用いて浸漬処理またはスプレー処理を0.5秒以上行えばよい。洗浄水の温度が40℃を下回る、または処理時間が0.5秒を下回ると、化成処理皮膜層4中のFイオン量を減少させることができなくなり、上述の諸特性が発揮されなくなる。
上記のFイオンだけでなく、化成処理液中に存在する硝酸イオン、アンモニウムイオンも、Zr化合物と共に化成処理皮膜層4中に取り込まれる場合がある。これらのイオンを減少する場合も、上記洗浄水を用いて浸漬処理又はスプレー処理により洗浄処理を行えば良い。
化成処理皮膜層4中の硝酸イオン及びアンモニウムイオンを減少する場合も、洗浄水の温度を高く、あるいは処理時間を長くすることにより、硝酸イオン及びアンモニウムイオン量をより減少させることが出来る。
Fイオン、硝酸イオン及びアンモニウムイオンは、上記の浸漬処理又はスプレー処理によって、可能な限り化成処理皮膜層4中から除去することが好ましい。しかしながら、必ずしも全て除去できなくてもよく、不可避的に残存しても構わない。
[第2実施形態]
図2は、本発明の第2実施形態に係る容器用鋼板11の構成図を示す。
この容器用鋼板11は、鋼板12と、鋼板12上に形成されたNiめっき層15と、Niめっき層15上に形成されたSnめっき層13と、Snめっき層13上に形成された化成処理皮膜層14とを有する。
Niめっき層15は、鋼板12の少なくとも片面に形成される。Niめっき層15は、金属Niから構成されてもよく、または、Fe−Ni合金めっきから構成されてもよい。
Niは優れた耐食性を有する金属であるため、容器用鋼板11がNiめっき層15を有することにより、耐食性を確保することができる。
Niめっき層15のNi含有量が多いほど耐食性は向上する。Ni含有量が、金属Niで5mg/m以上であれば、優れた耐食性を有する。一方、Ni含有量が、金属Niで150mg/mを超えると、上記の効果が飽和する。また、Niは高価な金属であるため、Ni含有量が、金属Niで150mg/mを超えると経済的にも不利となる。
したがって、Niめっき層15のNi含有量は、金属Niで5mg/m〜150mg/mとすることが好ましい。
Snめっき層13は、耐食性と溶接性とを確保するために形成される。
Snめっき層13におけるSnの含有量が、金属Sn量で300mg/m以上であれば、Snによる耐食性が発揮される。従って、本実施形態におけるSnめっき層13における金属Sn量は、300mg/m以上とする。
上記の効果は、金属Sn量が5600mg/mを超えると飽和する。そのため、経済的な観点から、Sn含有量は、5600mg/m以下とする。
本実施形態におけるSnめっき層13のSnの含有量のより好ましい範囲は、300〜3000mg/mである。Snめっき層13におけるSnの含有量が300〜3000mg/mの場合であって、Snめっき層13の形成後に溶融溶錫処理を行う(合金Snめっき層を形成する)場合には、合金Snめっき層が島状に形成される。合金Snめっき層が島状に形成されることにより、合金Snめっき層が鋼板2を一様に被覆する場合と比べて、より優れた耐食性及び溶接性を発揮することができる。
本実施形態では、第1実施形態と同様に、Snめっき層13形成後に溶融溶錫処理を行ってもよい。
溶融溶錫処理により、鋼板2上には、Fe−Ni又はSn−Fe−Ni合金を含有する合金Niめっき層が形成され、合金Niめっき層上には合金Snめっき層が形成される。
なお、本明細書では、溶融溶錫処理が施されたNiめっき層15を、合金Niめっき層と呼称する。合金Niめっき層は、上述のように、Fe−Ni又はSn−Fe−Ni合金を含有し、合金化されていないNi(フリーNi)を含有してもよい。
合金Snめっき層は、Sn−Fe合金又はSn−Fe−Ni合金を含有し、合金化されていないSn(フリーSn)を含有してもよい。なお、Snめっき層13のSnの含有量が300〜3000mg/mの場合には、上述のように、合金Snめっき層は島状に形成される。合金Snめっき層が島状に形成される場合には、下層の合金Niめっき層が露出する。
製造コスト削減等の観点から、Niめっき層15及びSnめっき層13が、必ずしも鋼板12の両面に形成されていなくてもよい点については、第1実施形態と同様である。
本実施形態における化成処理皮膜層14は、第1実施形態における化成処理皮膜層4と同一の構造及び成分を有するため、説明を省略する。なお、化成処理皮膜層14がフェノール樹脂等の有機物を含有しないことが好ましい点については、第1実施形態と同様である。
以下、第2実施形態に係る容器用鋼板11の製造方法について述べる。
図4は、本発明の第2実施形態に係る容器用鋼板11の製造方法の一例を示すフローチャートである。
本実施形態では、鋼板12の少なくとも片面にNiめっき層15が形成される(ステップS101)。Niめっき及びFe−Ni合金めっきの方法としては、例えば、一般的に電気めっき法において行われている公知の方法(例えば、カソード電解法)を利用することができる。
拡散めっき法によりNiめっき層15を形成する場合には、鋼板12の表面にNiめっき層15を形成した後で、焼鈍炉において拡散層を形成するための拡散処理が行われるが、この拡散処理の前後又は拡散処理と同時に、窒化処理を行ってもよい。窒化処理を行った場合でも、本実施形態におけるNiめっき層15としてのNiの効果及び窒化処理層の効果は干渉し合うことはなく、これらの効果を共に発揮することができる。
上記のNiめっき又はFe−Niめっきの後に、Snめっき層13が形成される(ステップS103)。
Snめっき層13の形成方法は、特に限定されるわけではなく、例えば、公知の電気めっき法又は溶融したSnに鋼板12を浸漬してめっきする方法等を用いればよい。
上記のSnめっき層13の形成後に、溶融溶錫処理を行ってもよい。溶融溶錫処理による効果は、上述の通りである。なお、溶融溶錫処理の条件としては、232℃(Snの融点)〜280℃、0.5sec〜30secで加熱処理し、Snめっき層を溶融し、ただちに水冷する例が挙げられる。
Snめっき層13を形成した後、化成処理皮膜層14を形成する。
本実施形態における化成処理皮膜層14の形成方法は、第1実施形態における化成処理皮膜層4の形成方法と同様に、第一陰極電解処理(ステップS107)及び第二陰極電解処理(ステップS109)からなる。これらの第一陰極電解処理及び第二陰極電解処理は、第1実施形態と同一であるため、説明を省略する。
第二陰極電解処理を行った後、洗浄処理を行う(ステップS111)。本実施形態の洗浄処理は、第1実施形態の洗浄処理と同一であるため、説明を省略する。
なお、化成処理液がフェノール樹脂等の有機物を含有しない方が好ましい点については、第1実施形態と同様である。
以下に本発明の実施例及び比較例について述べる。なお、以下に示す実施例は、本発明の実施形態に係る容器用鋼板及び容器用鋼板の製造方法の一例にすぎず、本発明の実施形態に係る容器用鋼板及び容器用鋼板の製造方法が、以下に示す実施例に限定されない。
(第1実施例)
<鋼板上のめっき層>
(A1及びA2:めっき鋼板の製造方法)
以下の処理法(A1)または(A2)の方法を用いて、板厚0.17〜0.23mmの鋼板上に、Snめっき層を形成した。
(A1)冷間圧延後、焼鈍及び調圧された原板を、脱脂及び酸洗した後、PSA(フェノールスルフォン酸)60g/L、硫酸錫:54g/L(Snとして30g/L)、添加剤(エトキシ化−α−ナフトール)3g/L、添加剤(エトキシナフトールスルフォン酸)3g/Lの組成を有するフェロスタン浴を用いて浴温50℃、電流密度7〜10A/dmの条件でSnめっき層を形成した。付着量は電解時間で調整した。
(A2)冷間圧延後、焼鈍及び調圧された原板を、脱脂及び酸洗した後、PSA(フェノールスルフォン酸)60g/L、硫酸錫:54g/L(Snとして30g/L)、添加剤(エトキシ化−α−ナフトール)3g/L、添加剤(エトキシナフトールスルフォン酸)3g/Lの組成を有するフェロスタン浴を用いて浴温50℃、電流密度7〜10A/dmの条件でSnめっき層を形成した。付着量は電解時間で調整した。その後、Snめっき鋼板を260℃で加熱し、Snめっき層を溶融し、ただちに水冷(溶融溶錫処理)を行った。
得られためっき鋼板のSn含有量は、蛍光X線法により測定した。各水準のSn含有量を表2に示した。
Figure 2016207966
<化成処理皮膜層の形成>
上記(A1)又は(A2)の方法で作製しためっき鋼板を、表2に記す通電回数及び温度条件で陰極電解処理を行った。化成処理液の組成を表3に示した。なお、化成処理液は、蒸留水にヘキサフルオロジルコニウム(IV)酸アンモニウム、フッ化水素、硝酸アンモニウム及びリン酸を溶解し、pHを3.5に調整した。
Figure 2016207966
<洗浄処理>
上記の処理により化成処理皮膜層を形成した後、鋼板を20℃〜40℃の蒸留水中に0.5秒〜5秒浸漬した。その後、鋼板を80℃〜90℃の蒸留水中に0.5秒〜3秒浸漬した。
電流密度(0.1〜30A/dm)、電解時間(0.5〜5秒)を調整することにより、各水準のZr含有量及びP含有量を調整した。
<性能評価>
上記の処理を行った試験材について、以下に示す(A)〜(H)の各項目について性能評価を行った。評価結果を表4に示す。
(A)表面粗度
試験材の化成処理皮膜層側1mあたり任意の20部位(少なくとも10cm以上離れた部位)を切り出し、Pointprobe(登録商標)NCH−10T(NanoWorld AG社製)で表1に示した条件で測定した。得られたデータを、画像処理ソフトウェアであるImageJ(アメリカ国立衛生研究所(NIH)で開発されたオープンソースでパブリックドメインの画像処理ソフトウェア)にて各表面粗度(Ra)を求め、平均粗度を求めた。
(B)黄色度
試験材の化成処理皮膜層側1mあたり任意の20部位(少なくとも10cm以上離れた部位)を50mm×100mmの大きさに切り出した。評価する化成処理皮膜層側を表にして、ZクレーブS−020A(三浦工業株式会社製)を用いて、130℃の温度下で5時間レトルト処理を行った。装置内温度が60℃以下になった時点で取り出し、乾燥した上で、黄色度(YI値)を測定した。
YI値の測定は、分光測色計CM−2600d(コニカミノルタ社製)を用い、SCI(正反射光を含む)モードで、レトルト処理前の黄色度(YI)およびレトルト処理後の黄色度(YI)のそれぞれを測定した。この値から、YIとYIとの差分である△YI値の絶対値を求め、これらの合計値を測定点数で除することにより、平均を求めた。
(C)耐硫化黒変性
試験材を55mm×55mmの大きさに切り出し、5mmの長さで端部(剪断によって鋼板端面が露出した部分)をテープでマスキングした。1質量%NaS水溶液(乳酸でpH=7に調整)に浸漬し、125℃の温度下でレトルト処理を60分間行った。レトルト処理後の各鋼板の外観を目視で評価した。
評価は、Exellent(変色なし)、Good(若干の変色あり)、Average(クロメート処理材同等の変色あり)、Fair(クロメート処理材より若干変色度合いが大きい)、Poor(クロメート処理材より変色度合いが大きい)の5段階で評価した。
Average以上の評価結果が得られた場合を合格とした。
(D)フィルム密着性
試験材の両面に、厚さ20μmの二軸延伸PETフィルムを170℃で貼り付け、絞り加工及びしごき加工による製缶加工を段階的に行った。フィルムの疵、浮き、及び剥離を観察し、それらの面積率からフィルム密着性を評価した。
評価はExcellent(フィルムの疵、浮き、及び剥離が全くない)、Good(フィルムの疵、浮き、及び剥離の面積率が0%超0.5%以下)、Average(フィルムの疵、浮き、及び剥離の面積率が0.5%超3%以下)、Fair(フィルムの疵、浮き、及び剥離の面積率が3%超15%以下)、Poor(フィルムの疵、浮き、及び剥離の面積率が15%超又は破断し加工不能)の5段階で評価した。
Average以上の評価結果が得られた場合を合格とした。
(E)溶接性
ワイヤーシーム溶接機を用いて、溶接ワイヤースピード80m/minの条件で、電流を変更して試験材を溶接した。十分な溶接強度が得られる最小電流値とチリ及び溶接スパッタなどの溶接欠陥が目立ち始める最大電流値とからなる適正電流範囲から総合的に判断し、溶接性を評価した。
評価は、Excellent(二次側の適正電流範囲が1500A以上)、Good(二次側の電流適正電流範囲が800A以上1500A未満)、Fair(二次側の電流適正電流範囲が100A以上800A未満)、Poor(二次側の電流適正電流範囲が100A未満)の4段階で評価した。
Good以上の評価結果が得られた場合を合格とした。
(F)一次塗料密着性
試験材にエポキシ−フェノール樹脂を塗布し、200℃の温度下で焼付け処理を30分間行った。1mm間隔で地鉄に達する深さの格子状の切れ目を入れ、テープで剥離した。剥離状況を観察し、剥離面積率から一次塗料密着性を評価した。
評価は、Excellent(剥離面積率が0%)、Good(剥離面積率が0%超5%以下)、Fair(剥離面積率が5%超30%以下)、Poor(剥離面積率が30%超)の4段階で評価した。
Good以上の評価結果が得られた場合を合格とした。
(G)二次塗料密着性
試験材にエポキシ−フェノール樹脂を塗布し、200℃の温度下で焼付け処理を30分間行った。1mm間隔で地鉄に達する深さの格子状の切れ目を入れ、その後、125℃の温度下でレトルト処理を30分間行った。乾燥後、テープで塗膜を剥離し、剥離状況を観察し、剥離面積率から二次塗料密着性を評価した。
評価は、Excellent(剥離面積率が0%)、Good(剥離面積率が0%超5%以下)、Fair(剥離面積率が5%超30%以下)、Poor(剥離面積率が30%超)の4段階で評価した。
Good以上の評価結果が得られた場合を合格とした。
(H)耐食性
試験材にエポキシ−フェノール樹脂を塗布し、200℃の温度下で焼付け処理を30分間行った。その後、地鉄に達する深さの格子状の切れ目を入れ、1.5%クエン酸−1.5%食塩混合液からなる試験液に、45℃の温度下で72時間浸漬した。洗浄及び乾燥後、テープ剥離を行った。クロスカット部の塗膜下腐食状況と平板部の腐食状況とを観察し、塗膜下腐食の幅及び平板部の腐食面積率の評価から、耐食性を評価した。
評価は、Excellent(塗膜下腐食幅が0.2mm未満かつ平板部の腐食面積率が0%)、Good(塗膜下腐食幅が0.2〜0.3mm未満かつ平板部の腐食面積率が0%超1%以下)、Fair(塗膜下腐食幅が0.3〜0.45mm未満かつ平板部の腐食面積率が1%超5%以下)、Poor(塗膜下腐食幅が0.45mm超又は平板部の腐食面積率が5%超)の4段階で評価した。
Good以上の評価結果が得られた場合を合格とした。
Figure 2016207966
本発明の範囲に属する水準C1〜C13は、いずれも、平均粗度(Ra)が10〜100nmであり、△YI値の絶対値の平均が5.0以下であった。これらの水準C1〜C13は、優れた耐硫化黒変性、溶接性、一次塗料密着性、二次塗料密着性、及び塗膜下耐食性を有していた。
一方、本発明の平均粗度(Ra)または△YI値のいずれかの要件を満たさない水準C15〜C22は、フィルム密着性(加工性を含む)、耐硫化黒変性、溶接性、一次塗料密着性、二次塗料密着性、又は耐食性の少なくとも一部の特性が劣ることがわかった。
水準C14は、Ni量及びSn量を規定量より増加させた場合であるが、化成処理皮膜層の性能は飽和していることがわかった。
(第2実施例)
<鋼板上のめっき層>
(A3〜A5:めっき鋼板の製造方法)
以下の処理法(A3)〜(A5)の方法を用いて、板厚0.17〜0.23mmの鋼板上に、Niめっき層及びSnめっき層を形成した。
(A3)冷間圧延後、焼鈍及び調圧された原板を、脱脂及び酸洗した後、硫酸ニッケル・6水和物75g/L、塩化ニッケル・6水和物140g/L、硫酸第一鉄・7水和物110g/L、ホウ酸30g/L、クエン酸3g/Lの組成を有する硫酸−塩酸浴を用いて浴温50℃、電流密度5A/dmの条件でFe−Ni合金めっき層を形成した。次に、PSA(フェノールスルフォン酸)60g/L、硫酸錫:54g/L(Snとして30g/L)、添加剤(エトキシ化−α−ナフトール)3g/L、添加剤(エトキシナフトールスルフォン酸)3g/Lの組成を有するフェロスタン浴を用いて浴温50℃、電流密度7A/dmの条件でSnめっき層を形成した。付着量は電解時間で調整した。その後、Snめっき鋼板を260℃で加熱し、Snめっき層を溶融し、ただちに水冷(溶融溶錫処理)を行った。
(A4)冷間圧延後、焼鈍及び調圧された原板を、硫酸ニッケル・6水和物75g/L、塩化ニッケル・6水和物140g/L、ホウ酸40g/L、pH4の組成を有するワット浴を用いて浴温50℃、電流密度5A/dmの条件でNiめっき層を形成した。焼鈍時にNi拡散層を形成させ、脱脂及び酸洗後、PSA(フェノールスルフォン酸)60g/L、硫酸錫:54g/L(Snとして30g/L)、添加剤(エトキシ化−α−ナフトール)3g/L、添加剤(エトキシナフトールスルフォン酸)3g/Lの組成を有するフェロスタン浴を用いて浴温50℃、電流密度7A/dmの条件でSnめっき層を形成した。その後、Snめっき鋼板を260℃で加熱し、Snめっき層を溶融し、ただちに水冷(溶融溶錫処理)を行った。
(A5)冷間圧延後、焼鈍及び調圧された原板を、脱脂及び酸洗した後、硫酸ニッケル・6水和物75g/L、塩化ニッケル・6水和物140g/L、硫酸第一鉄・7水和物110g/L、ホウ酸30g/L、クエン酸3g/Lの組成を有する硫酸−塩酸浴を用いて浴温50℃、電流密度5A/dmの条件でFe−Ni合金めっき層を形成した。次に、PSA(フェノールスルフォン酸)60g/L、硫酸錫:54g/L(Snとして30g/L)、添加剤(エトキシ化−α−ナフトール)3g/L、添加剤(エトキシナフトールスルフォン酸)3g/L]の組成を有するフェロスタン浴を用いて浴温50℃、電流密度7A/dmの条件でSnめっき層を形成した。
形成したNiめっき層及びSnめっき層のNi含有量及びSn含有量は、蛍光X線法により測定した。各水準のNi含有量及びSn含有量を表5に示した。
Figure 2016207966
<化成処理皮膜層の形成>
上記(A3)〜(A5)の方法で作製しためっき鋼板を、表3に示す化成処理液に浸漬し、表5に示す通電回数及び温度条件で陰極電解処理を行った。
<洗浄処理>
化成処理皮膜層の形成後、第1実施例と同様の方法で洗浄処理を行った。
<性能評価>
上記の処理を行った試験材について、第1実施例と同様の方法で、表面粗度及び黄色度の測定、耐硫化黒変性、フィルム密着性、溶接性、一次塗料密着性、二次塗料密着性及び耐食性について性能評価を行った。評価結果を表6に示す。
Figure 2016207966
本発明の範囲に属する水準D1〜D17はいずれも、平均粗度(Ra)が10〜100nmかつΔYI値の絶対値の平均が5.0以下であった。これらの水準D1〜D17は、優れた耐硫化黒変性、フィルム密着性、溶接性、一次塗料密着性、二次塗料密着性及び耐食性を有していた。
また、化成処理皮膜中にP量として2mg/m以上のリン酸を含有することにより、より優れた耐硫化黒変性、フィルム密着性、耐食性を有していた。
一方、本発明の平均粗度(Ra)及びΔYI値の少なくとも一方の要件を満たさない水準D18〜D25は、耐硫化黒変性、フィルム密着性、溶接性、一次塗料密着性、二次塗料密着性、及び耐食性の少なくとも一部の特性が劣ることが分かった。
以上、本発明の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明はかかる例に限定されない。本発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者であれば、請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、これらについても、当然に本発明の技術的範囲に属すると了解される。
本発明によれば、優れたフィルム密着性、耐硫化黒変性、溶接性、耐食性及び塗料密着性を有する容器用鋼板及び容器用鋼板の製造方法を提供することができる。従って、本発明は、産業上の利用可能性を十分に有する。
1、11 容器用鋼板
2、12 鋼板
3、13 Snめっき層
4、14 化成処理皮膜層
15 Niめっき層

Claims (13)

  1. 鋼板と;
    前記鋼板の少なくとも片面に形成されたSnめっき層と;
    前記Snめっき層上に形成された化成処理皮膜層と;
    を備え、
    前記Snめっき層は、金属Sn量で300〜5600mg/mのSnを含有し、
    前記化成処理皮膜層は、金属Zr量で5〜30mg/mのZr化合物を含有し、
    走査型プローブ顕微鏡により求めた、前記化成処理皮膜層の最表面の平均粗度Raが10〜100nmであり、
    前記化成処理皮膜層の前記最表面における1測定点について測定された黄色度の変化量を下記(1)式で表されるΔYIと定義したとき、
    前記最表面の単位面積に含まれる複数の前記測定点について得られた前記ΔYIの絶対値の平均値が5.0以下である
    ことを特徴とする、容器用鋼板。
    Figure 2016207966
  2. 前記Snめっき層の下層に、Niを含有するNiめっき層が形成されている
    ことを特徴とする、請求項1に記載の容器用鋼板。
  3. 前記Snめっき層は、金属Sn量で300〜3000mg/mのSnを含有する
    ことを特徴とする、請求項2に記載の容器用鋼板。
  4. 前記Niめっき層は、金属Ni量で5〜150mg/mのNiを含有する
    ことを特徴とする、請求項3に記載の容器用鋼板。
  5. 前記Snめっき層は、Sn合金を含有する
    ことを特徴とする、請求項1に記載の容器用鋼板。
  6. 前記Snめっき層は、Sn合金を含有し、
    前記Niめっき層は、Ni合金を含有する
    ことを特徴とする、請求項2から請求項4の何れか1項に記載の容器用鋼板。
  7. 前記化成処理皮膜層は、P量で2〜20mg/mのリン酸化合物を更に含有する
    ことを特徴とする、請求項1から請求項6の何れか1項に記載の容器用鋼板。
  8. 前記化成処理皮膜層は、Zrイオン及びFイオンを含む化成処理液中で陰極電解処理を行うことにより形成される
    ことを特徴とする、請求項1から請求項6の何れか1項に記載の容器用鋼板。
  9. 前記化成処理皮膜層は、Zrイオン、Fイオン及びPイオンを含む化成処理液中で陰極電解処理を行うことにより形成される
    ことを特徴とする、請求項7に記載の容器用鋼板。
  10. 鋼板の表面に、Snを含有するSnめっき層を形成するめっき工程と;
    Zrイオン及びFイオンを少なくとも含有する化成処理液を用いて行われ、前記化成処理液の温度が10〜40℃である第一陰極電解処理と、前記化成処理液の温度が45〜60℃である第二陰極電解処理とを行うことで、前記Snめっき層の表面に化成処理皮膜層を形成する陰極電解処理工程と;
    少なくとも40℃以上の洗浄水を利用して0.5秒以上の洗浄処理を行う洗浄処理工程と;
    を有する
    ことを特徴とする容器用鋼板の製造方法。
  11. 前記めっき工程では、前記鋼板の表面に、Niを含有するNiめっき層を形成した後、前記Niめっき層の表面に、前記Snめっき層を形成する
    ことを特徴とする、請求項10に記載の容器用鋼板の製造方法。
  12. 前記めっき工程後に、前記Snめっき層に含まれる少なくとも一部のSnを合金化する溶融溶錫処理工程を有する
    ことを特徴とする、請求項10又は請求項11に記載の容器用鋼板の製造方法。
  13. 前記化成処理液は、更に、リン酸イオン、硝酸イオン及びアンモニウムイオンの少なくとも一種を含む
    ことを特徴とする、請求項10から請求項12の何れか1項に記載の容器用鋼板の製造方法。
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