JPWO2016143647A1 - ゲル前駆体クラスターを用いた低濃度ゲルの製造方法、及び当該製造方法により得られるゲル - Google Patents
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Abstract
Description
(1)ゲル前駆体クラスターが互いに架橋して3次元網目構造を形成している高分子ゲルの製造方法であって、a)臨界ゲル化濃度未満のモノマーユニット又はポリマーユニットを架橋させて前記ゲル前駆体クラスターを形成する工程、ここで、前記ゲル前駆体クラスターは貯蔵弾性率G’と損失弾性率G”においてG’<G”の関係性を有し;及びb)前記ゲル前駆体クラスターを架橋剤により互いに架橋させることによって、3次元網目構造を有するゲルを得る工程、を含むことを特徴とする、該製造方法を提供するものである。
(2)前記損失弾性率G”が、1Hzの周波数において0.005〜5Paの範囲である、上記(1)に記載の製造方法;
(3)前記ゲル前駆体クラスターが、1.5〜2.5のフラクタル次元を有する、上記(1)又は(2)に記載の製造方法;
(4)前記ゲル前駆体クラスターが、10〜1000nmの範囲の直径を有する、上記(1)〜(3)のいずれか1に記載の製造方法;
(5)前記ゲルが、50g/L以下の高分子含有量である、上記(1)〜(4)のいずれか1に記載の製造方法;
(6)前記モノマーユニットがビニル骨格を有するものであり、又は前記ポリマーユニットが、ポリエチレングリコール骨格又はポリビニル骨格を有する、上記(1)〜(5)のいずれか1に記載の製造方法;
(7)前ゲル前駆体クラスターが、側鎖又は末端に1以上の求核性官能基を有する第1のポリマーユニットと、側鎖又は末端に1以上の求電子性の官能基を有する第2のポリマーユニットからなる、上記(1)〜(6)のいずれか1に記載の製造方法;
(8)前記求核性官能基が、アミノ基、−SH、及び−CO2PhNO2よりなる群から選択され、前記求電子性官能基が、N−ヒドロキシ−スクシンイミジル(NHS)基、スルホスクシンイミジル基、マレイミジル基、フタルイミジル基、イミダゾイル基、アクリロイル基、及びニトロフェニル基よりなる群から選択される、上記(7)に記載の製造方法;
(9)前記ゲル前駆体クラスターが、第1のゲル前駆体クラスターと第2のゲル前駆体クラスターからなり、前記第1のゲル前駆体クラスターは、第1のポリマーユニットの含有量が第2のポリマーユニットの含有量より多く、前記第2のゲル前駆体クラスターは、第2のポリマーユニットの含有量が第1のポリマーユニットの含有量より多い、上記(7)又は(8)に記載の製造方法;
(10)前記工程b)が、1時間以内の反応時間で行われる、上記(1)〜(9)のいずれか1に記載の製造方法;及び
(11)前記工程b)における架橋剤が、ビス(スルホスクシンイミジル)グルタレート(BS2G)やDL−ジチオトレイトール(DTT)、又は末端にチオール基を有する合成ペプチドである、上記(1)〜(10)のいずれか1に記載の製造方法
を提供するものである。
(12)臨界ゲル化濃度未満のモノマーユニット又はポリマーユニットを架橋させて得られるゲル前駆体クラスターであって、溶媒を含み、貯蔵弾性率G’と損失弾性率G”においてG’<G”の関係性を有する、該ゲル前駆体クラスター;
(13)前記損失弾性率G”が、1Hzの周波数において、0.005〜5Paの範囲である、上記(12)に記載のゲル前駆体クラスター;
(14)前記ゲル前駆体クラスターが、1.5〜2.5のフラクタル次元を有する、上記(12)又は(13)に記載のゲル前駆体クラスター;
(15)前記ゲル前駆体クラスターが、10〜1000nmの範囲の直径を有する、上記(12)〜(14)のいずれか1に記載のゲル前駆体クラスター;
(16)前記モノマーユニットがビニル骨格を有するものであり、又は前記ポリマーユニットが、ポリエチレングリコール骨格又はポリビニル骨格を有する、上記(12)〜(15)のいずれか1に記載のゲル前駆体クラスター;
(17)側鎖又は末端に1以上の求核性官能基を有する第1のポリマーユニットと、側鎖又は末端に1以上の求電子性の官能基を有する第2のポリマーユニットからなる、上記(12)〜(16)のいずれか1に記載のゲル前駆体クラスター;及び
(18)前記求核性官能基が、アミノ基、−SH、及び−CO2PhNO2よりなる群から選択され、前記求電子性官能基が、N−ヒドロキシ−スクシンイミジル(NHS)基、スルホスクシンイミジル基、マレイミジル基、フタルイミジル基、イミダゾイル基、アクリロイル基、及びニトロフェニル基よりなる群から選択される、上記(17)に記載のゲル前駆体クラスター
を提供するものである。
(19)上記(1)〜(11)のいずれか1に記載の製造方法により得られる、高分子ゲル;
(20)ポリマーユニットが互いに架橋することにより3次元網目構造を形成した高分子ゲルであって、溶媒を含み、50g/L以下の高分子含有量、1Hzの周波数において1〜10000Paの貯蔵弾性率G’、及び1.5〜3.0のフラクタル次元を有する、ことを特徴とする、該高分子ゲル;
(21)1〜100Paの損失弾性率G”を有する、上記(20)に記載の高分子ゲル;
(22)前記モノマーユニットがビニル骨格を有するものであり、又は前記ポリマーユニットが、ポリエチレングリコール骨格又はポリビニル骨格を有する、上記(20)又は(21)に記載の高分子ゲル;
(23)前記ポリマーユニットが、側鎖又は末端に1以上の求核性官能基を有する第1のポリマーユニットと、側鎖又は末端に1以上の求電子性の官能基を有する第2のポリマーユニットからなる、上記(20)〜(22)のいずれか1に記載の高分子ゲル;
(24)前記求核性官能基が、アミノ基、−SH、及び−CO2PhNO2よりなる群から選択され、前記求電子性官能基が、N−ヒドロキシ−スクシンイミジル(NHS)基、スルホスクシンイミジル基、マレイミジル基、フタルイミジル基、イミダゾイル基、アクリロイル基、及びニトロフェニル基よりなる群から選択される、上記(23)に記載の高分子ゲル;
(25)水溶液中、30〜40℃の範囲における前記高分子ゲルの体積が、ゲル作成時の体積に対して90〜500%の体積変化の範囲の膨潤度であり、0.001〜5kPaの膨潤圧を有する、上記(20)〜(24)のいずれか1に記載の高分子ゲル;及び
(26)前記膨潤度が100〜200%の範囲であり、前記膨潤圧が0.1〜2kPaである、上記(25)に記載の高分子ゲル
を提供するものである。
本発明において用いられるゲル前駆体クラスターは、上述のように、ゲル化の寸前の状態、すなわち臨界ゲル化濃度未満の条件で前駆体ユニットを反応させることによって得られるゾル状のポリマークラスターである。ここで、「臨界ゲル化濃度と」は、特定の前駆体ユニットの架橋によって3次元構造のゲルを構築する系において、当該ゲル化を達成するために必要な前駆体ユニットの最低濃度を意味し、最低ゲル化濃度とも呼ばれる。本発明において、臨界ゲル化濃度という語には、例えば、2種以上の前駆体ユニットが用いられる系では、それら全体の濃度がゲル化に至る濃度に達しない場合に加えて、1種の前駆体ユニットの濃度だけが低い場合、すなわち各前駆体ユニットの比率が非当量であることによってゲル化を生じさせない場合も含まれる。
本発明の製造方法におけるゲル化反応工程の典型的な態様としては、
a)臨界ゲル化濃度未満のモノマーユニット又はポリマーユニット(前駆体ユニット)を架橋させてゲル前駆体となるクラスターを形成する工程(図1a)
b)前記ゲル前駆体クラスターを架橋剤により互いに架橋させることによって、最終的な目的物である3次元網目構造を有するゲルを得る工程(図1b)、
を含む。
本発明によって得られる高分子ゲルは、ポリマー含有量が低濃度でありながら、上述のように短い反応時間で得られるとともに、弾性率等の物性を所望の範囲に制御することが可能なものである。図2に示すように、一般的に、ゲル化点付近における弾性率はドラスティックに上昇するため、10〜1000Pa等の低弾性率の範囲で特定の値に制御した低弾性率のゲルを得ることは困難であった。これに対し、本発明のゲルは、上記のゲル前駆体クラスターを経由してゲルを作製することで、低弾性領域において制御された弾性率を有するものである。
TAPEG(テトラアミン−ポリエチレングリコール)とTNPEG(N−ヒドロキシ−スクシンイミジル−ポリエチレングリコール(NHS−PEG))を、末端にヒドロキシル基を有するTHPEG(テトラヒドロキシル−ポリエチレングリコール)をそれぞれアミノ化、スクシンイミジル化することによって得た。
開始剤のペンタエリスリトール(0.4572mmol、62.3mg)をDMSO/THF(v/v=3:2)50mLの混合溶媒に溶解させ、メタル化剤にカリウムナフレン(0.4157mmol、1.24mg)を用い、エチレンオキシド(200mmol、10.0mL)を加え、約2日間、Ar存在下、60℃で加熱攪拌した。反応終了後、ジエチルエーテルに再沈殿させ、濾過により沈殿物を取り出した。さらに、ジエチルエーテルで3回洗浄し、得られた白色固体を減圧乾燥することにより、20kのTHPEGを得た。
THPEG(0.1935mmol、3.87g、1.0equiv)をベンゼンに溶解させ、凍結乾燥した後、THF62mLに溶解させ、トリエチルアミン(TEA)(0.1935mmol、3.87g、1.0equiv)を加えた。別のナスフラスコにTHF31mLとメタンスルホニルクロライド(MsCl)(0.1935mmol、3.87g、1.0equiv)を加え、氷浴につけた。THPEG、TEAのTHF溶液にMsClのTHF溶液を約1分間かけて滴下し、30分間氷浴中で攪拌した後、室温で1時間半攪拌した。反応終了後、ジエチルエーテルに再沈殿させ、濾過により沈殿物を取り出した。さらに、ジエチルエーテルで3回洗浄し、得られた白色固体をナスフラスコに移し、25%アンモニア水250mLを加え、4日間攪拌した。反応終了後、エバポレーターにより溶媒を減圧留去し、水を外液に2、3回透析を行い、凍結乾燥することにより、白色固体のTAPEGを得た。作製したTAPEGの化学式は式(Ia)に示した。式(Ia)中、n11〜n14は、TAPEGの分子量が約10、000(10kDa)のとき50〜60であり、分子量が約20、000(20kDa)のとき100〜115であった。
THPEG(0.2395mmol、4.79g、1.0equiv)をTHFに溶解させ、0.7mol/Lグルタル酸/THF溶液(4.790mmol、6.85mL、20equiv)を加え、Ar存在下、6時間攪拌した。反応終了後、2−プロパノールに滴下し、遠心分離機に3回かけた。得られた白色固体は300mLナスフラスコに移し、エバポレーターにより溶媒を減圧留去した。残渣をベンゼンに溶解させ、不溶物を濾過によって取り除いた。得られた濾液を凍結乾燥により溶媒を除去することで、末端がカルボキシル基で修飾された白色固体のTetra−PEG−COOHを得た。このTetra−PEG−COOH(0.2165mmol、4.33g、1.0equiv)をTHFに溶解させ、N−ハイドロスクシンアミド(2.589mmol、0.299g、12equiv)、N、N’−ジイソプロピルスクシンアミド(1.732mmol、0.269mL、8.0equiv)を加え、3時間、40℃で加熱攪拌した。反応終了後、エバポレーターにより溶媒を減圧留去した。クロロホルムに溶解させ、飽和食塩水で3回抽出し、クロロホルム層を取り出した。さらに、硫酸マグネシウムで脱水、濾過を行った後、エバポレーターにより溶媒を減圧留去した。得られた残渣のベンゼン凍結乾燥を行い、白色固体のTNPEGを得た。作製したTNPEGの化学式は式(IIa)に示した。式(IIa)中、n21〜n24は、TNPEGの分子量が約10、000(10k)のとき45〜55であり、分子量が約20、000(20k)のとき90〜115であった。
ゲル化反応における前駆体となるゲル前駆体クラスターを以下のとおり合成した。
まず、実施例1で合成したTAPEG(1.0 x 104 g/mol)及びTNPEG(1.0 x 104 g/mol)をそれぞれ同量の81 mMのリン酸バッファーとクエン酸−リン酸バッファーに溶解させた。このとき、物質量比をTAPEG/TNPEG = 1/0.23、全体のポリマー濃度を60 g/Lとした。得られた2つの溶液を別の容器で混合させ、自転・公転ミキサーにより脱泡・撹拌した。その後、混合液を素早くファルコンチューブに移し、乾燥を防ぐためにキャップをした上で、室温で12時間静置した。
SHPEG及びMAPEGを用いて、同様にゲル前駆体クラスター2を合成した。全体のポリマー濃度を60 g/Lとした。この際、SHPEG:MAPEGが(1−r):rのモル比となるよう、いずれかが過剰に含まれる2種のゲル前駆体クラスターを含む複数のサンプルを調製した。
実施例2で合成したゲル前駆体クラスターを用いて、高分子ゲルを以下のとおり合成した。
実施例2で得られたゲル前駆体クラスター1の溶液を25 g/Lになるように水で希釈した。溶液中の未反応のアミノ基量を算出し、それと等量になるように架橋剤(Bis-(sulfosuccinimidyl) glutarate(BS2G))を添加し、自転・公転ミキサーにより脱泡・撹拌した。その後、混合液を素早くファルコンチューブに移し、乾燥を防ぐためにキャップをした上で、室温で12時間静置した。
実施例2で得られたゲル前駆体クラスター2を用いて同様に高分子ゲルを作成した。SHPEGが過剰なゲル前駆体クラスター(10 g/L;r=0.37)と、MAPEGが過剰なゲル前駆体クラスター(10 g/L;r=0.63)をNaClを含むクエン酸バッファーでそれぞれ6g/Lに希釈し、等量を混合した。図5と同様に、ゲル前駆体クラスターの濃度を変えてゲル化を行った場合の反応時間を図6に示す。図中の○がゲル前駆体クラスターによりゲル化させた本発明の高分子ゲルの実施例であり、□がゲル前駆体クラスターを用いずに従来の手法によりポリマーユニットから直接ゲル化させた比較例である。特に、高分子含有量が7g/L程度の低濃度の場合では、本発明のゲル前駆体クラスターを用いた場合には、3分でゲル化した。これは、硝子体手術時においてゲル前駆体クラスターを眼内に注入し、in vivoでゲル化させることができることを示している。
1.ゲル前駆体クラスターのサイズ
実施例2で合成したゲル前駆体クラスター1のサイズ分布を測定した結果を図7に示す。横軸のRhはゲル前駆体クラスターの粒子直径(nm)、縦軸のG(Γ-1)は、特性緩和時間分布関数である。その結果、ゲル前駆体クラスターの粒子直径は、数百nmであり、100nm程度のものが最も多いことが分かった。実施例2で合成したゲル前駆体クラスター2についてもほぼ同様の結果が得られた。
溶液中のゲル前駆体クラスター1について、レオメーター(Physica MCR501、Anton Paar社製)を用いて動的粘弾性測定を行い、貯蔵弾性率G’及び損失弾性率G”を算出した。その結果、1HzにおけるG”は、0.1<G”<100Paの範囲であり、G’<G”<100G’であった。このことから、上記図3でも示したように、実施例2で得られたゲル前駆体クラスター1は、ゲル化臨界には至っていない構造であることを確認した。実施例2で合成したゲル前駆体クラスター2についてもほぼ同様の結果が得られた。
種々のポリマーユニットの初期濃度を用いた場合の、ゲル化臨界点における動的粘度特性を測定した結果を図8に示す。図8の縦軸は、貯蔵弾性率G’(図中の○)及び損失弾性率G”(図中の△)であり、横軸は周波数である。(a)〜(d)はそれぞれ、初期濃度の条件である。図8に示すように、初期濃度が低くなるほど、G’とG”の冪乗則が増加した。この結果を用いて、動的スケーリング理論によりゲル前駆体クラスターのフラクタル次元を計算した。その結果を図9に示す。図9の縦軸はフラクタル次元、横軸は初期濃度である。図より、濃度が低くなるほど、フラクタル次元Dは理論の予測値(図中の点線)から下方に乖離し、より疎な構造が形成されていることが示唆された。
また、実施例3で得られた高分子ゲル1の弾性率の高分子濃度依存性を測定した。その結果、図10に示すように、20g/Lの低濃度領域であり、かつ貯蔵弾性率G’が400Paより小さい低弾性率領域において、弾性率が高分子含有量に比例することが示された。これは、ゲル前駆体クラスターからゲル化させる手法を用いることによって、低弾性率領域においても、ゲルの弾性率の制御が可能であることを実証するものである。
様々な系で四分岐系と同様な手順で低濃度ゲルを作製することで、ゲル前駆体クラスターの汎用性を検討した。
分子量が共に2.0 x 105のTri-APEG(トリアミン−ポリエチレングリコール)とTri-NPEG(トリ−N−ヒドロキシ−スクシンイミジル−ポリエチレングリコール(NHS−PEG))を、それぞれ同量の45 mMのリン酸バッファーとクエン酸−リン酸バッファーに溶解させた。このとき、物質量比をTri-APEG/Tri-NPEG = 1/0.49、全体のポリマー濃度を40 g/Lとした。得られた2つの溶液を別の容器で混合させ、自転・公転ミキサーにより脱泡・撹拌した。その後、混合液を素早くファルコンチューブに移し、乾燥を防ぐためにキャップをした上で、室温で12時間静置した。得られた溶液を25 g/Lになるように水で希釈した。溶液中の未反応のアミノ基量を算出し、それと等量になるように架橋剤(Bis-(sulfosuccinimidyl) glutarate(BS2G))を添加し、自転・公転ミキサーにより脱泡・撹拌した。その後、混合液を素早くファルコンチューブに移し、乾燥を防ぐためにキャップをした上で、室温で12時間静置した。最終的には、四分岐系と同様にゲルが得られた。
分子量がそれぞれ2.0 x 105と1.0 x 105のTetra-APEG(トリアミン−ポリエチレングリコール)とLinear-NPEG(リニア−N−ヒドロキシ−スクシンイミジル−ポリエチレングリコール(NHS−PEG))を、それぞれ同量の42 mMのリン酸バッファーとクエン酸−リン酸バッファーに溶解させた。このとき、物質量比をTri-APEG/Tri-NPEG = 1/1.17、全体のポリマー濃度を40 g/Lとした。得られた2つの溶液を別の容器で混合させ、自転・公転ミキサーにより脱泡・撹拌した。その後、混合液を素早くファルコンチューブに移し、乾燥を防ぐためにキャップをした上で、室温で12時間静置した。得られた溶液を25 g/Lになるように水で希釈した。溶液中の未反応のアミノ基量を算出し、それと等量になるように架橋剤(Bis-(sulfosuccinimidyl) glutarate(BS2G))を添加し、自転・公転ミキサーにより脱泡・撹拌した。その後、混合液を素早くファルコンチューブに移し、乾燥を防ぐためにキャップをした上で、室温で12時間静置した。最終的には、四分岐系と同様にゲルが得られた。
以下の手順により、本発明の高分子ゲルをマウス中に注入した。
1.ゲル前駆体クラスターの調製
Tetra-PEG-maleimide(TMPEG) (1.0 x 104 g/mol) 及びTetra-PEG-thiol(TTPEG) (1.0 x 104 g/mol) の物質量比が下表のようになるように量り取り、それぞれ同量のクエン酸−リン酸バッファー (pH 5.8, 5 mM (NaCl, 149 mM)) に溶解させた。このとき、全体のポリマー濃度を60 g/Lとした。得られた2つの溶液をファルコンチューブで混合し、乾燥を防ぐためにキャップをした上で、室温で12時間静置した。
高分子ゲルの全量が2 mL、ポリマー濃度がそれぞれ13 g/L(グループ1)、11 g/L(グループ2)になるようにゲル前駆体クラスター溶液を量りとり、シリンジに入れた。また、グループ1及び2について、それぞれの溶液中の未反応のマレイミド基、チオール基量を算出し、それと等量になるように架橋剤 (DL-Dithiothreitol及び1, 8 - Bismaleimidodiethyleneglycol) をそれぞれ量り取った。この架橋剤を、それぞれ高分子ゲルの全量とゲル前駆体クラスターの差分量のクエン酸−リン酸バッファー (pH 5.8, 5 mM (NaCl, 149 mM)) に溶解させ、上記のシリンジとは別のシリンジに入れた。三方便を使用して二つの溶液を混合し、麻酔を打ったマウスの背中に1 mL注入した。また、比較例として、TMPEGのみ (Monomer A) 、TTPEGのみ (Monomer B)を15g/Lになるようにそれぞれクエン酸−リン酸バッファー (pH 5.8, 5 mM (NaCl, 149 mM))に溶解させたものとクエン酸−リン酸バッファー (pH 5.8, 5 mM (NaCl, 149 mM))のみ(対照サンプル)の試料を用意し、麻酔を打ったマウスにそれぞれ1 mL注入した。注入から1週間後にマウスの組織を観察した。
Claims (26)
- ゲル前駆体クラスターが互いに架橋して3次元網目構造を形成している高分子ゲルの製造方法であって、
a)臨界ゲル化濃度未満のモノマーユニット又はポリマーユニットを架橋させて前記ゲル前駆体クラスターを形成する工程、ここで、前記ゲル前駆体クラスターは貯蔵弾性率G’と損失弾性率G”においてG’<G”の関係性を有し;及び
b)前記ゲル前駆体クラスターを架橋剤により互いに架橋させることによって、3次元網目構造を有するゲルを得る工程、
を含むことを特徴とする、該製造方法。 - 前記損失弾性率G”が、1Hzの周波数において0.005〜5Paの範囲である、請求項1に記載の製造方法。
- 前記ゲル前駆体クラスターが、1.5〜2.5のフラクタル次元を有する、請求項1又は2に記載の製造方法。
- 前記ゲル前駆体クラスターが、10〜1000nmの範囲の直径を有する、請求項1〜3のいずれか1項に記載の製造方法。
- 前記ゲルが、50g/L以下の高分子含有量である、請求項1〜4のいずれか1項に記載の製造方法。
- 前記モノマーユニットがビニル骨格を有するものであり、又は前記ポリマーユニットが、ポリエチレングリコール骨格又はポリビニル骨格を有する、請求項1〜5のいずれか1項に記載の製造方法。
- 前記ゲル前駆体クラスターが、側鎖又は末端に1以上の求核性官能基を有する第1のポリマーユニットと、側鎖又は末端に1以上の求電子性の官能基を有する第2のポリマーユニットからなる、請求項1〜6のいずれか1項に記載の製造方法。
- 前記求核性官能基が、アミノ基、−SH、及び−CO2PhNO2よりなる群から選択され、前記求電子性官能基が、N−ヒドロキシ−スクシンイミジル(NHS)基、スルホスクシンイミジル基、マレイミジル基、フタルイミジル基、イミダゾイル基、アクリロイル基、及びニトロフェニル基よりなる群から選択される、請求項7に記載の製造方法。
- 前記ゲル前駆体クラスターが、第1のゲル前駆体クラスターと第2のゲル前駆体クラスターからなり、
前記第1のゲル前駆体クラスターは、第1のポリマーユニットの含有量が第2のポリマーユニットの含有量より多く、
前記第2のゲル前駆体クラスターは、第2のポリマーユニットの含有量が第1のポリマーユニットの含有量より多い、
請求項7又は8に記載の製造方法。 - 前記工程b)が、1時間以内の反応時間で行われる、請求項1〜9のいずれか1項に記載の製造方法。
- 前記工程b)における架橋剤が、ビス(スルホスクシンイミジル)グルタレート(BS2G)やDL−ジチオトレイトール(DTT)、又は末端にチオール基を有する合成ペプチドである、請求項1〜10のいずれか1項に記載の製造方法。
- 臨界ゲル化濃度未満のモノマーユニット又はポリマーユニットを架橋させて得られるゲル前駆体クラスターであって、
溶媒を含み、
貯蔵弾性率G’と損失弾性率G”においてG’<G”の関係性を有する、
該ゲル前駆体クラスター。 - 前記損失弾性率G”が、1Hzの周波数において、0.005〜5Paの範囲である、請求項12に記載のゲル前駆体クラスター。
- 前記ゲル前駆体クラスターが、1.5〜2.5のフラクタル次元を有する、請求項12又は13に記載のゲル前駆体クラスター。
- 前記ゲル前駆体クラスターが、10〜1000nmの範囲の直径を有する、請求項12〜14のいずれか1項に記載のゲル前駆体クラスター。
- 前記モノマーユニットがビニル骨格を有するものであり、又は前記ポリマーユニットが、ポリエチレングリコール骨格又はポリビニル骨格を有する、請求項12〜15のいずれか1項に記載のゲル前駆体クラスター。
- 側鎖又は末端に1以上の求核性官能基を有する第1のポリマーユニットと、側鎖又は末端に1以上の求電子性の官能基を有する第2のポリマーユニットからなる、請求項12〜16のいずれか1項に記載のゲル前駆体クラスター。
- 前記求核性官能基が、アミノ基、−SH、及び−CO2PhNO2よりなる群から選択され、前記求電子性官能基が、N−ヒドロキシ−スクシンイミジル(NHS)基、スルホスクシンイミジル基、マレイミジル基、フタルイミジル基、イミダゾイル基、アクリロイル基、及びニトロフェニル基よりなる群から選択される、請求項17に記載のゲル前駆体クラスター。
- 請求項1〜11のいずれか1項に記載の製造方法により得られる、高分子ゲル。
- ポリマーユニットが互いに架橋することにより3次元網目構造を形成した高分子ゲルであって、
溶媒を含み、
50g/L以下の高分子含有量、
1Hzの周波数において1〜10000Paの貯蔵弾性率G’、及び
1.5〜3.0のフラクタル次元を有する、
ことを特徴とする、該高分子ゲル。 - 1〜100Paの損失弾性率G”を有する、請求項20に記載の高分子ゲル。
- 前記モノマーユニットがビニル骨格を有するものであり、又は前記ポリマーユニットが、ポリエチレングリコール骨格又はポリビニル骨格を有する、請求項20又は21に記載の高分子ゲル。
- 前記ポリマーユニットが、側鎖又は末端に1以上の求核性官能基を有する第1のポリマーユニットと、側鎖又は末端に1以上の求電子性の官能基を有する第2のポリマーユニットからなる、請求項20〜22のいずれか1項に記載の高分子ゲル。
- 前記求核性官能基が、アミノ基、−SH、及び−CO2PhNO2よりなる群から選択され、前記求電子性官能基が、N−ヒドロキシ−スクシンイミジル(NHS)基、スルホスクシンイミジル基、マレイミジル基、フタルイミジル基、イミダゾイル基、アクリロイル基、及びニトロフェニル基よりなる群から選択される、請求項23に記載の高分子ゲル。
- 水溶液中、30〜40℃の範囲における前記高分子ゲルの体積が、ゲル作成時の体積に対して90〜500%の体積変化の範囲の膨潤度であり、0.001〜5kPaの膨潤圧を有する、請求項24〜25のいずれか1項に記載の高分子ゲル。
- 前記膨潤度が100〜200%の範囲であり、前記膨潤圧が0.1〜2kPaである、請求項25に記載の高分子ゲル。
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