JPWO2016136729A1 - 光電変換素子および太陽電池 - Google Patents
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Abstract
Description
具体的には、非特許文献3には、正孔輸送層がNiOで形成され、電子輸送層がフェニルC61酪酸メチルエステル([6,6]−Phenyl−C61−Butyric Acid Methyl Ester(PC61BM))で形成された太陽電池が記載されている。
特許文献4には、正孔輸送層としてのp型領域が、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン):ポリスチレンスルホネート(PEDOT:PSS)からなる有機半導体層を含み、電子輸送層としてのn型領域がPC61BMの有機半導体の層および酸化チタンの無機半導体の層を含む太陽電池が記載されている。その一方で、特許文献4には、正孔輸送層を、PEDOT:PSSに代えてNiOまたはV2O5の無機半導体で形成すると、光電池特性に劣ることが記載されている(同文献の図14)。
しかし、特許文献1〜4および非特許文献1〜3の太陽電池は、いずれも、大気中での経時による光電変換効率の低下を十分に抑制できない。さらに、高湿環境下において光電変換効率の低下が顕著であり、耐湿性の点でも十分ではなかった。
太陽電池としての長期間の使用を想定すると、大気中での安定性(大気安定性)が求められ、さらに望ましくは耐久性項目の一つとして耐湿性も求められている。
<1>透明基板上に、透明電極層、正孔輸送層、少なくとも1種のペロブスカイト型結晶構造を有する化合物を光吸収剤として含む感光層、電子輸送層および対極をこの順に有し、
正孔輸送層および電子輸送層が、いずれも、無機半導体で形成された無機半導体層であり、かつ感光層に隣接している光電変換素子。
<2>正孔輸送層の無機半導体層が、積層構造である<1>に記載の光電変換素子。
<3>正孔輸送層の無機半導体層が、2種以上の無機半導体で形成された半導体混合層を含む<1>または<2>に記載の光電変換素子。
<4>電子輸送層の無機半導体層が、積層構造である<1>〜<3>のいずれか1つに記載の光電変換素子。
<5>電子輸送層の無機半導体層が、2種以上の無機半導体で形成された半導体混合層を含む<1>〜<4>のいずれか1つに記載の光電変換素子。
<6>正孔輸送層の無機半導体層を形成する無機半導体および電子輸送層の無機半導体層を形成する無機半導体の少なくとも1種が、金属酸化物である<1>〜<5>のいずれか1つに記載の光電変換素子。
<7>正孔輸送層の無機半導体層を形成する無機半導体および電子輸送層の無機半導体層を形成する無機半導体が、いずれも、金属酸化物である<1>〜<6>のいずれか1つに記載の光電変換素子。
<8>ペロブスカイト型結晶構造を有する化合物が、周期表第一族元素もしくはカチオン性有機基A、周期表第一族元素以外の金属原子Mおよびアニオン性原子もしくは原子団Xを有する<1>〜<7>のいずれか1つに記載の光電変換素子。
<9><1>〜<8>のいずれか1つに記載の光電変換素子を用いた太陽電池。
本発明の上記および他の特徴および利点は、適宜添付の図面を参照して、下記の記載からより明らかになるであろう。
本発明の光電変換素子は、透明基板上に、透明電極層、正孔輸送層、少なくとも1種のペロブスカイト化合物を光吸収剤として含む感光層、電子輸送層および対極をこの順に有している。正孔輸送層および電子輸送層は感光層に隣接している。
本発明の光電変換素子において、正孔輸送層および電子輸送層は、いずれも、無機半導体で形成された無機半導体層として、形成されている。
その理由は詳細には定かではないが次のように推定される。すなわち、感光層に隣接した正孔輸送層および電子輸送層をともに無機半導体で形成すると、有機半導体で形成した層よりも水の影響を受けにくく、正孔輸送層または電子輸送層との界面から感光層中への水の浸入を防止できる。また、電子輸送層を対極側に配置すると、電子輸送層を形成する無機半導体が酸素の捕捉剤(スカベンジャー)として機能するため、対極を透過してきた大気による、感光層中の光吸収剤の劣化を防止できる。本発明において、透明電極層側からの大気の影響は透明電極層自身が防止していると推定される。さらに、感光層上に電子輸送層を形成すると、感光層と電子輸送層との界面状態の乱れを抑制でき、界面状態が安定する。これらが協同することにより、本発明の光電変換素子は、高い大気安定性と高い耐湿性を示すと考えられる。
図1〜図4において、同じ符号は同じ構成要素(部材)を意味する。
この光電変換素子10Aは、透明基板11上に、透明電極層12、正孔輸送層13A、感光層14、電子輸送層15Aおよび対極16をこの順に有している。正孔輸送層13A、感光層14および電子輸送層15Aは互いに接して設けられている。正孔輸送層13Aおよび電子輸送層15Aは、それぞれ、1層構造の無機半導体層として、形成されている。
すなわち、光電変換素子10において、透明基板11を透過して感光層14に入射した光は光吸収剤を励起する。励起された光吸収剤はエネルギーの高い電子を有しており、この電子を放出できる。エネルギーの高い電子を放出した光吸収剤は酸化体となる。
光電変換素子10においては、光吸収剤から放出された電子は、光吸収剤間および電子輸送層15(無機半導体間)を移動して対極16に到達する。対極16に到達した電子は外部回路6で仕事をした後、透明電極層12および正孔輸送層13を経て、感光層14に戻る。感光層14に戻った電子により光吸収剤が還元される。
光電変換素子10において、このような、上記光吸収剤の励起および電子移動のサイクルを繰り返すことにより、システム100が太陽電池として機能する。
また、色素増感太陽電池に用いられる材料および各部材についても参考にすることができる。色素増感太陽電池ついて、例えば、特開2001−291534号公報、米国特許第4,927,721号明細書、米国特許第4,684,537号明細書、米国特許第5,084,365号明細書、米国特許第5,350,644号明細書、米国特許第5,463,057号明細書、米国特許第5,525,440号明細書、特開平7−249790号公報、特開2004−220974号公報、特開2008−135197号公報を参照することができる。
透明基板11は、感光層14等を支持できるものであれば特に限定されない。透明基板11は、ガラスまたはプラスチックの基板が挙げられる。プラスチックで形成された透明基板11としては、例えば、特開2001−291534号公報の段落番号0153に記載の透明ポリマーフィルムが挙げられる。透明基板11を形成する材料としては、ガラスおよびプラスチックの他にも、セラミック(特開2005−135902号公報)、導電性樹脂(特開2001−160425号公報)を用いることができる。
光電変換素子10において、光は透明基板11側から入射させる。したがって、透明基板11は、実質的に透明であることが好ましい。本発明において、「実質的に透明である」とは、光(波長300〜1200nm)の透過率が10%以上であることを意味し、50%以上が好ましく、80%以上が特に好ましい。
透明基板11の厚みは、特に限定されず、適宜の厚みに設定される。例えば、0.01μm〜10mmであることが好ましく、0.1μm〜5mmであることがさらに好ましく、0.3μm〜4mmであることが特に好ましい。
本発明において、各層の膜厚は、走査型電子顕微鏡(SEM)等を用いて光電変換素子10の断面を観察することにより、測定できる。
透明電極層12は、透明基板11の表面に導電膜として形成される。透明電極層12は、導電性の金属酸化物を塗設して成膜したものが好ましい。金属酸化物としては、スズ酸化物(TO)が好ましく、インジウム−スズ酸化物(スズドープ酸化インジウム;ITO)、フッ素をドープした酸化スズ(FTO)等のフッ素ドープスズ酸化物が特に好ましい。この透明電極層12は、実質的に透明であることが好ましい。
透明電極層12の膜厚は、特に限定されず、例えば、0.01〜30μmであることが好ましく、0.03〜25μmであることがさらに好ましく、0.05〜20μmであることが特に好ましい。このときの金属酸化物の塗布量は、上記膜厚に設定できれば、特に限定されないが、例えば、透明基板11の表面積1m2当たり0.1〜100gが好ましい。
正孔輸送層13は、透明電極層12と感光層14との間であって感光層14に隣接して、形成される。
正孔輸送層13は、励起した光吸収剤が電荷分離して発生する正孔を透明電極層12に輸送する正孔輸送機能(光吸収剤の酸化体に電子を補充する機能)を少なくとも有する層であれば、特に限定されない。正孔輸送層13は、この正孔輸送機能に加えて、電子ブロッキング機能、正孔抽出機能等を有していてもよい。これらの機能を有する場合、正孔輸送層13は、例えば、電子ブロッキング層または正孔抽出層ともいう。
本発明において、無機半導体で形成された無機半導体層とは、全体の90質量%以上を無機半導体が占める層をいう。無機半導体層は、10質量%未満であれば、有機半導体を含有していてもよい。また、半導体の他に、電荷を輸送しない有機絶縁体、無機絶縁体を含有していてもよい。無機半導体層における無機半導体の占める量(含有量)は90質量%以上であれば機能するが、好ましくは95%以上、より好ましくは98%以上である。
正孔輸送層13となる無機半導体層は単層構造(例えば正孔輸送層13A参照)でも、積層構造(例えば無機半導体層13B参照)でもよい。大気安定性および耐湿性の点で、正孔輸送層13は積層構造が好ましい。
正孔輸送層13が積層構造である場合、感光層14に隣接する層(隣接層ともいう)が上記無機半導体で形成された層であれば、積層構造を構成する、隣接層以外の層(他層ともいう)は特に限定されない。他層としては、電荷(正孔)の移送を担う半導体で形成された半導体層、透明電極層12からの電子注入を防ぐ電子ブロッキング層、正孔を抽出する正孔抽出層等を有していてもよい。半導体層としては、無機半導体で形成された層でも、有機半導体で形成された層でも、また無機半導体と有機半導体とで形成された層でもよい。
半導体混合層を形成する無機半導体は、2種以上であれば特に限定されないが、製造ばらつき低減の点で、2または3種が好ましく、2種がより好ましい。この場合、無機半導体の好ましい組み合わせとしては、特に限定されないが、例えば、酸化ニッケル(NiO)と酸化モリブデン(MoO3)、酸化ニッケル(NiO)と酸化バナジウム(V3O5)、酸化ニッケル(NiO)と酸化タングステン(WO)等が挙げられる。
半導体混合層の、無機半導体の含有比(混合比)は、特に限定されず、適宜に設定できる。例えば、2種の無機半導体を含む半導体混合層の場合、含有比は、質量比で、1:0.05 〜1:20が好ましく、1:0.1〜1:5がより好ましい。
式(MP): MP pxOpy
式中、MPは金属元素を表し、Oは酸素元素を表す。pxおよびpyは各々独立に1以上の整数を表す。
なかでも、Ni、Mo、V、W、Cr、Cu、Fe、Snの各金属元素が好ましく、Ni、Mo、V、W、Cr、Cuの各金属元素がより好ましい。
上記電子ブロッキング層を形成する材料としては、特に限定されないが、例えば、トリフェニルジアミン(TPD)等が挙げられる。
正孔輸送層13が積層構造である場合、積層構造を構成する各層の膜厚は、合計の膜厚が上記範囲内になれば特に限定されない。各層の膜厚は、例えば、1〜400nmが好ましく、10〜200nmがより好ましい。
また、積層構造を構成する各層の膜厚の比は、特に限定されないが、2層構造である場合、隣接層の膜厚と他層の膜厚との比(隣接層:他層)は、1:0.01〜1:100が好ましく、1:0.05〜1:20がより好ましい。
感光層14は、好ましくは、後述するペロブスカイト化合物を光吸収剤として、正孔輸送層13の表面に、設けられる。
本発明において、光吸収剤は、後述する特定のペロブスカイト化合物を少なくとも1種含有していればよく、2種以上のペロブスカイト化合物を含有してもよい。
感光層14は、単層であっても2層以上の積層であってもよい。感光層14が2層以上の積層構造である場合、互いに異なった光吸収剤からなる層を積層してもよく、また感光層と感光層の間に正孔輸送材料を含む中間層を積層してもよい。
感光層14は、光吸収剤として、「周期表第一族元素またはカチオン性有機基A」と、「周期表第一族元素以外の金属原子M」と、「アニオン性原子または原子団X」と、を有するペロブスカイト化合物を含有する。
ペロブスカイト化合物の周期表第一族元素またはカチオン性有機基A、金属原子Mおよびアニオン性原子または原子団Xは、それぞれ、ペロブスカイト型結晶構造において、カチオン(便宜上、カチオンAということがある)、金属カチオン(便宜上、カチオンMということがある)およびアニオン(便宜上、アニオンXということがある)の各構成イオンとして存在する。
本発明において、カチオン性有機基とは、ペロブスカイト型結晶構造においてカチオンになる性質を有する有機基をいい、アニオン性原子または原子団とはペロブスカイト型結晶構造においてアニオンになる性質を有する原子または原子団をいう。
周期表第一族元素のカチオンは、特に限定されず、例えば、リチウム(Li)、ナトリウム(Na)、カリウム(K)またはセシウム(Cs)の各元素のカチオン(Li+、Na+、K+、Cs+)が挙げられ、特にセシウムのカチオン(Cs+)が好ましい。
有機カチオンは、上記性質を有する有機基のカチオンであれば特に限定されないが、下記式(1)で表されるカチオン性有機基の有機カチオンであることがさらに好ましい。
式(1):R1a−NH3
シクロアルキル基は、炭素数が3〜8のシクロアルキル基が好ましく、例えば、シクロプロピル、シクロペンチルまたはシクロヘキシル等が挙げられる。
アルキニル基は、炭素数が2〜18のアルキニル基が好ましく、2〜4のアルキニル基がより好ましい。例えば、エチニル、ブチニルまたはヘキシニル等が挙げられる。
ヘテロアリール基は、芳香族ヘテロ環のみからなる基と、芳香族ヘテロ環に他の環、例えば、芳香環、脂肪族環やヘテロ環が縮合した縮合ヘテロ環からなる基とを包含する。
芳香族ヘテロ環を構成する環構成ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子が好ましい。また、芳香族ヘテロ環の環員数としては、3〜8員環が好ましく、5員環または6員環がより好ましい。
5員環の芳香族ヘテロ環および5員環の芳香族ヘテロ環を含む縮合ヘテロ環としては、例えば、ピロール環、イミダゾール環、ピラゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、トリアゾール環、フラン環、チオフェン環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、インドリン環、インダゾール環の各環基が挙げられる。また、6員環の芳香族ヘテロ環および6員環の芳香族ヘテロ環を含む縮合ヘテロ環としては、例えば、ピリジン環、ピリミジン環、ピラジン環、トリアジン環、キノリン環、キナゾリン環の各環基が挙げられる。
R1bは、水素原子または置換基を表し、水素原子が好ましい。R1bとして取りうる置換基は、アミノ基、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基またはヘテロアリール基が挙げられる。
R1bおよびR1cがそれぞれとり得る、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基およびヘテロアリール基は、上記R1aの各基と同義であり、好ましいものも同じである。
式(2)で表すことができる基としては、(チオ)アシル基、(チオ)カルバモイル基、イミドイル基またはアミジノ基が挙げられる。
(チオ)アシル基は、アシル基およびチオアシル基を包含する。アシル基は、総炭素数が1〜7のアシル基が好ましく、例えば、ホルミル、アセチル(CH3C(=O)−)、プロピオニル、ヘキサノイル等が挙げられる。チオアシル基は、総炭素数が1〜7のチオアシル基が好ましく、例えば、チオホルミル、チオアセチル(CH3C(=S)−)、チオプロピオニル等が挙げられる。
(チオ)カルバモイル基は、カルバモイル基(H2NC(=O)−)およびチオカルバモイル基(H2NC(=S)−)を包含する。
イミドイル基は、R1b−C(=NR1c)−で表される基であり、R1bおよびR1 cはそれぞれ水素原子またはアルキル基が好ましく、アルキル基は上記R1aのアルキル基と同義であるのがより好ましい。例えば、ホルムイミドイル(HC(=NH)−)、アセトイミドイル(CH3C(=NH)−)、プロピオンイミドイル(CH3CH2C(=NH)−)等が挙げられる。なかでも、ホルムイミドイルが好ましい。
式(2)で表すことができる基としてのアミジノ基は、上記イミドイル基のR1bがアミノ基でR1cが水素原子である構造(−C(=NH)NH2)を有する。
アニオンXは、1種のアニオン性原子または原子団のアニオンであってもよく、2種以上のアニオン性原子または原子団のアニオンであってもよい。1種のアニオン性原子または原子団のアニオンである場合には、ヨウ素原子のアニオンが好ましい。一方、2種以上のアニオン性原子または原子団のアニオンである場合には、2種のハロゲン原子のアニオン、特に臭素原子または塩素原子のアニオンおよびヨウ素原子のアニオンが好ましい。なお、2種以上のアニオンの割合は特に限定されない。
式中、Aは周期表第一族元素またはカチオン性有機基を表す。Mは周期表第一族元素以外の金属原子を表す。Xはアニオン性原子または原子団を表す。
aは1または2を表し、mは1を表し、a、mおよびxはa+2m=xを満たす。
式(I−1):AMX3
式(I−2):A2MX4
式(I−1)および式(I−2)において、Aは周期表第一族元素またはカチオン性有機基を表し、上記式(I)のAと同義であり、好ましいものも同じである。
Mは、周期表第一族元素以外の金属原子を表し、上記式(I)のMと同義であり、好ましいものも同じである。
Xは、アニオン性原子または原子団を表し、上記式(I)のXと同義であり、好ましいものも同じである。
式(II):AX
式(III):MX2
式(II)中、Aは周期表第一族元素またはカチオン性有機基を表し、式(I)のAと同義であり、好ましいものも同じである。式(II)中、Xはアニオン性原子または原子団を表し、式(I)のXと同義であり、好ましいものも同じである。
式(III)中、Mは周期表第一族元素以外の金属原子を表し、式(I)のMと同義であり、好ましいものも同じである。式(III)中、Xはアニオン性原子または原子団を表し、式(I)のXと同義であり、好ましいものも同じである。
感光層13中、ペロブスカイト化合物の含有量は、通常、1〜100質量%である。
電子輸送層15は、感光層14と対極16との間であって感光層14に隣接して、形成される。
電子輸送層15は、励起した光吸収剤が電荷分離して発生する電子を対極16に輸送する電子輸送機能を少なくとも有する層であれば、特に限定されない。電子輸送層15は、この電子輸送機能に加えて、正孔ブロッキング機能、電子抽出機能を有していてもよい。これらの機能を有する場合、電子輸送層15は、例えば、正孔ブロッキング層、電子抽出層ともいう。
電子輸送層15となる無機半導体層は単層構造(例えば電子輸送層15A参照)でも、積層構造(例えば無機半導体層15B参照)でもよい。大気安定性および耐湿性の点で、電子輸送層15は積層構造が好ましい。
電子輸送層15が積層構造である場合、感光層14に隣接する隣接層が上記無機半導体で形成された層であれば、積層構造を構成する、隣接層以外の他層は特に限定されない。他層としては、電荷(電子)の移送を担う半導体で形成された半導体層、対極16からの正孔注入を防ぐ正孔ブロッキング層、電子を抽出する電子抽出層等を有していてもよい。半導体層としては、無機半導体で形成された層でも、有機半導体で形成された層でも、また無機半導体と有機半導体とで形成された層でもよい。
半導体混合層を形成する無機半導体は、2種以上であれば特に限定されないが、製造ばらつき低減の点で、2または3種が好ましく、2種がより好ましい。この場合、無機半導体の好ましい組み合わせとしては、特に限定されないが、例えば、酸化亜鉛(ZnO)と酸化チタン(TiO2)、酸化亜鉛(ZnO)と炭酸セシウム(Cs2CO3)、酸化亜鉛(ZnO)とフッ化リチウム(LiF)、酸化チタン(TiO2)とフッ化リチウム(LiF)、酸化亜鉛(ZnO)と酸化クロム(CrOx)酸化亜鉛(ZnO)とアルミニウム(Al)等が挙げられる。
半導体混合層の、無機半導体の含有比(混合比)は、特に限定されず、適宜に設定できる。例えば、2種の無機半導体を含む半導体混合層の場合、含有比は、質量比で、1:0.01〜1:100が好ましく、1:0.05〜1:20がより好ましい。
式(MN): MN nxOny
式中、MNは金属元素を表し、Oは酸素元素を表す。nxおよびnyは各々独立に1以上の整数を表す。
なかでも、Ti、Zn、Cu、Crの各金属元素が好ましく、Ti、Znの各金属元素がより好ましい。
上記正孔ブロッキング層を形成する材料としては、特に限定されないが、例えば、ペリレン化合物等が挙げられる。
電子輸送層15が積層構造である場合、積層構造を構成する各層の膜厚は、合計の膜厚が上記範囲内になれば特に限定されない。各層の膜厚は、例えば、1〜400nmが好ましく、10〜200nmがより好ましい。
また、積層構造を構成する各層の膜厚の比は、特に限定されないが、2層構造である場合、隣接層の膜厚と他層の膜厚との比(隣接層:他層)は、1:0.01〜1:100が好ましく、1:0.05〜1:20がより好ましい。
対極16は、太陽電池において負極として機能する。対極16は、導電性を有していれば特に限定されず、通常、透明基板11と同じ構成とすることができる。強度が十分に保たれる場合は、透明基板11は必ずしも必要ではない。
本発明の太陽電池においては、太陽光を透明基板11側から入射させるのが好ましい。この場合、対極16は光を反射する性質を有することがさらに好ましい。
対極16としては、金属の薄膜(蒸着してなる薄膜を含む。金属電極ともいう)もしくは導電性の金属酸化物の薄膜(蒸着してなる薄膜を含む)、または、これらの薄膜を有するガラス基板もしくはプラスチック基板が好ましい。ガラス基板もしくはプラスチック基板としては、金もしくは白金の薄膜を有するガラス、または、白金を蒸着したガラスが好ましい。
本発明においては、透明電極層12上に、絶縁体または導電性材料からなる多孔質層を設けることもできる。また、透明電極層12と対極16との接触を防ぐために、ブロッキング層、スペーサーやセパレータを用いることもできる。
本発明の太陽電池は、本発明の光電変換素子を用いて構成される。例えば図1〜図4に示されるように、外部回路6を設けて構成した光電変換素子10を太陽電池として用いることができる。透明電極層12および対極16に接続される外部回路6は、公知のものを特に制限されることなく、用いることができる。
本発明の太陽電池は、構成物の劣化および蒸散等を防止するために、側面をポリマーや接着剤等で密封することが好ましい。
本発明の光電変換素子および太陽電池は、各層を形成する順序および条件等以外は、公知の製造方法、例えば特許文献1〜4および非特許文献1〜3等に記載の方法に準拠して、製造できる。
以下に、本発明の光電変換素子および太陽電池の製造方法を簡単に説明する。
次いで、感光層14を形成する前に正孔輸送層13を形成する。正孔輸送層13は、正孔輸送層13を形成する正孔輸送材料を含有する正孔輸送材料溶液(ペースト)を塗布し、乾燥して、形成することができる。
正孔輸送材料は、通常、p型無機半導体を用いるが、形成する層によっては他の材料、例えば有機半導体を用いることもできる。正孔輸送層13を積層構造とする場合、例えば、異なる正孔輸送材料を含有する2種以上の正孔輸送材料溶液を用いることが好ましい。また、半導体混合層を形成する場合、例えば、2種以上の正孔輸送材料を含有する正孔輸送材料混合溶液を用いることが好ましい。用いる正孔輸送材料は、半導体そのものでもよく、半導体の前駆体(例えば、上記金属のアルコキシド、酢酸塩、アセチルアセトナト錯体等)でもよい。
正孔輸送材料溶液および正孔輸送材料混合溶液は、塗布性に優れる点で、正孔輸送材料の濃度が0.1〜1.0M(モル/L)であるのが好ましい。
正孔輸送材料溶液の乾燥条件は、光電変換効率の観点と製造ばらつきの観点から60〜500℃であることが好ましく、80〜450℃であることがより好ましい。
感光層14を設ける方法は、湿式法および乾式法が挙げられ、特に限定されない。本発明においては、湿式法が好ましく、例えば、吸収剤を含有する光吸収剤溶液に接触させる方法が好ましい。この方法においては、まず、感光層14を形成するための光吸収剤溶液を調製する。光吸収剤溶液は、ペロブスカイト化合物の原料である、上記式(II)で表されるAXおよび上記式(III)で表されるMX2を含有する。この光吸収剤溶液において、MX2とAXとのモル比は目的に応じて適宜に調整される。光吸収剤としてペロブスカイト化合物を形成する場合、AXとMX2とのモル比は、1:1〜10:1であることが好ましい。この光吸収剤溶液は、AXとMX2とを所定のモル比で混合した後に好ましくは加熱することにより、調製できる。この形成液は通常溶液であるが、懸濁液でもよい。加熱する条件は、特に限定されないが、加熱温度は30〜200℃が好ましく、60〜150℃がさらに好ましい。加熱時間は0.5〜100時間が好ましく、1〜3時間がさらに好ましい。溶媒または分散媒は後述するものを用いることができる。
次いで、調製した光吸収剤溶液を、正孔輸送層13の表面に接触させる。具体的には、光吸収剤溶液を塗布または浸漬することが好ましい。これにより、ペロブスカイト化合物が正孔輸送層13の表面に堆積または吸着等される。接触させる温度は5〜100℃であることが好ましく、浸漬時間は5秒〜24時間であるのが好ましく、20秒〜1時間がより好ましい。塗布した光吸収剤溶液を乾燥させる場合、光吸収剤溶液の乾燥は熱による乾燥が好ましく、通常は、20〜300℃、好ましくは50〜170℃に加熱することで乾燥させる。
また、上記ペロブスカイト化合物の合成方法に準じて感光層を形成することもできる。
さらに、上記AXを含有するAX溶液と、上記MX2を含有するMX2溶液とを、別々に塗布(浸漬法を含む)し、必要により乾燥する方法も挙げられる。この方法では、いずれの溶液を先に塗布してもよいが、好ましくはMX2溶液を先に塗布する。この方法におけAXとMX2とのモル比、塗布条件および乾燥条件は、上記方法と同じである。この方法では、上記AX溶液および上記MX2溶液の塗布に代えて、AXまたはMX2を、蒸着させることもできる。
さらに他の方法として、上記光吸収剤溶液の溶剤を除去した化合物または混合物を用いた、真空蒸着等の乾式法が挙げられる。例えば、上記AXおよび上記MX2を、同時または順次、蒸着させる方法も挙げられる。
これにより、光吸収剤が形成され、感光層14となる。
電子輸送材料は、通常、n型無機半導体を用いるが、形成する層によっては他の材料、例えば有機半導体を用いることもできる。電子輸送層15を積層構造とする場合、例えば、異なる電子輸送材料を含有する2種以上の電子輸送材料溶液を用いることが好ましい。また、半導体混合層を形成する場合、例えば、2種以上の電子輸送材料を含有する電子輸送材料混合溶液を用いることが好ましい。用いる電子輸送材料は、半導体そのものでもよく、その前駆体(例えば、上記金属のアルコキシド、酢酸塩、アセチルアセトナト錯体等)でもよい。
電子輸送材料溶液および電子輸送材料混合溶液は、塗布性に優れる点で、電子輸送材料の濃度が0.1〜1.0M(モル/L)であるのが好ましい。
電子輸送材料溶液の乾燥条件は、光電変換効率の観点と製造ばらつきの観点から60〜150℃であることが好ましく、80〜130℃であることがより好ましい。
このように、予め形成した感光層14上に電子輸送材料溶液等を塗布して電子輸送層15を形成すると、電子輸送層15上に感光層14を形成する場合に比して、電子輸送層15と感光層14との界面状態の乱れを抑制できる。したがって、上記のように、高い大気安定性と高い耐湿性を示す光電変換素子等を、安定的に製造することができる。
各分散液および形成溶液は、それぞれ、必要に応じて、分散助剤、界面活性剤等の添加剤を含有していてもよい。
[光電変換素子(試料No.101)の製造]
以下に示す手順により、図1に示される光電変換素子10Aを製造した。
ガラス基板(透明基板11、厚さ2.2mm)上にフッ素ドープされたSnO2導電膜(透明電極層12、膜厚300nm)を形成し、導電性支持体を作製した。
NiO粉末(1g)をエタノール(30mL)に分散させ、そこに10質量%エチルセルロースエタノール溶液(6g)およびテルピネオール(3g)を添加し、撹拌した後に減圧してエタノールを留去することで、正孔輸送材料溶液としてNiOペースト(濃度約3質量%)を調製した。得られたNiOペーストをスピンコート法(3000rpmで90秒)により導電性支持体上に塗布し、常圧下、窒素雰囲気中、400℃で1時間乾燥して、正孔輸送層13AとしてNiO層(膜厚50nm、NiO含有量>98質量%)を形成した。
1.アンモニウム化合物の調製
メチルアミンの40%メタノール溶液(27.86mL)と57質量%のヨウ化水素酸(30mL)とを、フラスコ中、0℃で2時間攪拌した後、濃縮して、CH3NH3Iの粗体を得た。得られたCH3NH3Iの粗体をエタノールに溶解し、ジエチルエーテルで再結晶した。析出した結晶をろ取し、60℃で24時間減圧乾燥して、精製CH3NH3Iを得た。
2.感光層の成膜
精製CH3NH3IとPbI2を、モル比で2:1とし、N、N−ジメチルホルムアミド中、60℃で12時間攪拌して混合した後、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)シリンジフィルターでろ過して、光吸収剤溶液を調製した。
調製した光吸収剤溶液をスピンコート法(2000rpmで60秒、続けて3000rpmで60秒)により正孔輸送層13Aの表面に塗布し、塗布した光吸収剤溶液をホットプレートにより、常圧下、窒素雰囲気中、100℃で40分間乾燥して、ペロブスカイト化合物を有する感光層14としてのペロブスカイト膜(膜厚600nm)を形成した。得られたペロブスカイト化合物はCH3NH3PbI3であった。
テトラブトキシチタン(IV)をイソプロピルアルコールで希釈して電子輸送材料溶液を調製した。この電子輸送材料溶液をスピンコート法(2000rpmで60秒)により感光層14上に塗布し、常圧下、窒素雰囲気中、100℃で10分間加熱して、電子輸送層15AとしてTiO2層(膜厚100nm、TiO2含有量>98質量%)を形成した。
蒸着法により金を電子輸送層15A上に蒸着して、対極16(膜厚0.3μm)を作製した。
このようにして、図1に示される光電変換素子10Aを製造した。
各膜厚は、上記方法に従って、SEMにより観察して、測定した。
光電変換素子(試料No.101)の製造において、テトラブトキシチタン(IV)に代えて酢酸亜鉛(II)を用いて調製した電子輸送材料溶液により電子輸送層15Aを形成したこと以外は光電変換素子(試料No.101)の製造と同様にして、試料No.102の光電変換素子10Aを製造した。
また、光電変換素子(試料No.101)の製造において、NiOペーストに代えて、CuIをn−プロピルスルフィドとクロロベンゼンとの混合溶媒(質量比1:1)に溶解させた正孔輸送材料溶液を用いて正孔輸送層13Aを形成したこと以外は光電変換素子(試料No.101)の製造と同様にして、試料No.103の光電変換素子10Aを製造した。
さらに、光電変換素子(試料No.101)の製造において、正孔輸送材料溶液としてのNiOペーストに代えて、このNiOペーストに、NiOに対して5質量%のMoO3を添加して調製した正孔輸送材料混合溶液を用いて正孔輸送層13A(NiOとMoO3との含有質量比1:0.05)を形成したこと以外は光電変換素子(試料No.101)の製造と同様にして、試料No.104の光電変換素子10Aを製造した。
また、光電変換素子(試料No.101)の製造において、上記電子輸送材料溶液に代えてテトラブトキシチタン(IV)と酢酸亜鉛(II)とを質量比1:1で含有する電子輸送材料混合溶液を用いて電子輸送層15A(TiO2とZnOとの含有質量比1:1)を形成したこと以外は光電変換素子(試料No.101)の製造と同様にして、試料No.105の光電変換素子10Aを製造した。
以下のようにして、図2に示される光電変換素子10Bを製造した。
すなわち、光電変換素子(試料No.101)の製造と同様にして作製した導電性支持体上に、上記NiOペースト(第1正孔輸送材料溶液)を塗布し、常圧下、窒素雰囲気中、400℃で1時間乾燥して、第1正孔輸送層13B1としてNiO層(膜厚50nm)を形成した。次いで、NiO層上にMoO3のエタノール分散液(第2正孔輸送材料溶液)をスピンコート法(3000rpmで90秒)で塗布し、常圧下、窒素雰囲気中、150℃で1時間乾燥して、第2正孔輸送層13B2としてMoO3層(膜厚50nm)を形成した。
このようにして、NiO層とMoO3層との2層構造の正孔輸送層13B(膜厚100nm)を形成した(第1正孔輸送層13B1の層厚:第2正孔輸送層13B2の層厚=1:1)。
次いで、光電変換素子(試料No.101)の製造と同様にして、正孔輸送層13B上に、感光層14、電子輸送層15Aおよび対極16をそれぞれ形成して、試料No.201の光電変換素子10Bを製造した。
光電変換素子(試料No.201)の製造において、MoO3のエタノール分散液に代えてV2O5のエタノール分散液(第2正孔輸送材料溶液)を用いて第2正孔輸送層13B2としてV2O5層(膜厚20nm、第1正孔輸送層13B1の層厚:第2正孔輸送層13B2の層厚=1:0.4)を形成したこと以外は光電変換素子(試料No.201)の製造と同様にして、試料No.202の光電変換素子10Bを製造した。
光電変換素子(試料No.201)の製造において、メチルアミンの代わりにホルムアミジン酢酸塩(ホルムアミジン酢酸塩に対してヨウ化水素を2当量とした)を用いたこと以外は光電変換素子(試料No.201)の製造と同様にして、試料No.203の光電変換素子10Bを製造した。得られたペロブスカイト化合物はCH(=NH)NH3PbI3であった。
以下のようにして、図3に示される光電変換素子10Cを製造した。
すなわち、光電変換素子(試料No.101)の製造と同様にして、透明基板11上に、透明電極層12、正孔輸送層13Aおよび感光層14を形成した。
テトラブトキシチタン(IV)をイソプロピルアルコールで希釈して調製した第1電子輸送材料溶液をスピンコート法(2000rpmで30秒)により感光層14上に塗布し、常圧下、窒素雰囲気中、100℃で10分間加熱して、第1電子輸送層15B1としてTiO2層(膜厚100nm)を形成した。
次いで、TiO2層上に酢酸亜鉛(II)のエタノール溶液(第2電子輸送材料溶液)をスピンコート法(3000rpmで30秒)により塗布し、常圧下、窒素雰囲気中、100℃で1時間乾燥して、第2電子輸送層15B2としてZnO層(膜厚40nm、第1電子輸送層15B1の層厚:第2電子輸送層15B2の層厚=1:0.4)を形成した。
このようにして、TiO2層とZnO層との2層構造の電子輸送層15B(膜厚140nm)を形成した。
次いで、光電変換素子(試料No.101)の製造と同様にして、電子輸送層15B上に対極16を形成して、試料No.301の光電変換素子10Cを製造した。
光電変換素子(試料No.301)の製造において、第1電子輸送層15B1(TiO 2層)上に、酢酸亜鉛の代わりにフッ化リチウムのエタノール溶液(第2電子輸送材料溶液)をスピンコート法(4000rpmで30秒)により塗布し、常圧下、窒素雰囲気中、100℃で1時間乾燥して、第2電子輸送層15B2を形成したこと以外は光電変換素子(試料No.301)の製造と同様にして、試料No.302の光電変換素子10Bを製造した。
電子輸送層15B(膜厚115nm)において、第1電子輸送層15B1は電子輸送層15Aと同じ(膜厚100nm)であり、第2電子輸送層15B2は、LiF層からなる、膜厚15nmの層とした。電子輸送層15Bにおいて、第1電子輸送層15B1の層厚:第2電子輸送層15B2の層厚は1:0.15であった。
以下のようにして、図4に示される光電変換素子10Dを製造した。
光電変換素子(試料No.201)の製造において、第1電子輸送層15B1に対応する電子輸送層(TiO2層)15A上に酢酸亜鉛(II)のエタノール溶液(第2電子輸送材料溶液)をスピンコート法(3000rpmで30秒)により塗布し、常圧下、窒素雰囲気中、100℃で1時間乾燥して、第2電子輸送層15B2を形成したこと以外は光電変換素子(試料No.201)の製造と同様にして、試料No.401の光電変換素子10Dを製造した。
電子輸送層15B(膜厚140nm)において、第1電子輸送層15B1は電子輸送層15Aと同じ(膜厚100nm)であり、第2電子輸送層15B2はZnO層からなる、膜厚40nmの層とした。電子輸送層15Bにおいて、第1電子輸送層15B1の層厚:第2電子輸送層15B2の層厚は1:0.4であった。
光電変換素子(試料No.101)の製造において、テトラブトキシチタン(IV)を含有する電子輸送材料溶液に代えてPC61BMを含有する電子輸送材料溶液(濃度1質量%)により電子輸送層(層厚150nm)を形成したこと以外は光電変換素子(試料No.101)の製造と同様にして、試料No.c11の光電変換素子を製造した。この試料No.c11の光電変換素子は、特許文献4の太陽電池を形成する光電変換素子を想定したものである。
また、光電変換素子(試料No.101)の製造において、NiOペーストに代えてPEDOT:PSSを含有する正孔輸送材料溶液(濃度2質量%)を用いて正孔輸送層(層厚120nm)を形成したこと以外は、光電変換素子(試料No.101)の製造と同様にして、試料No.c12の光電変換素子を製造した。
光電変換素子(試料No.101)の製造において、透明電極層上に正孔輸送層(NiO層)に代えて電子輸送材層(TiO2層)を形成し、かつ、感光層上に電子輸送材層(TiO2層)に代えて正孔輸送層(CuSCN層)を形成したこと以外は、光電変換素子(試料No.101)の製造と同様にして、試料No.c15の光電変換素子を製造した。
これらの試料No.c14およびc15の光電変換素子は、特許文献1、非特許文献1および非特許文献2の太陽電池を形成する光電変換素子を想定したものである。
各試料No.の光電変換素子について、電池特性試験を行って、初期の光電変換効率(η/%)を測定した。電池特性試験は、ソーラーシミュレーター「WXS−85H」(WACOM社製)を用いて、AM1.5フィルタを通したキセノンランプから1000W/m2の擬似太陽光を照射することにより行った。I−Vテスターを用いて電流−電圧特性を測定し、初期の光電変換効率(η/%)を求めた。
その後、各光電変換素子を、相対湿度5〜10%の大気下に室温(20℃)で30日間放置した(大気安定性試験)後に、初期の光電変換効率と同様にして、放置(大気安定性試験)後の光電変換効率(η/%)を測定した。
測定した初期の光電変換効率を1.0(基準)とした場合に、この基準に対する、放置後の光電変換効率の相対値を下記式で算出し、各光電変換素子の大気安定性(保存安定性)を下記評価基準に沿って評価した。結果を下記表1に示す。評価「B」が本発明の大気安定性試験の合格レベルである。
相対値=(大気安定性試験後の光電変換効率)/(初期の光電変換効率)
− 大気安定性試験の評価基準 −
A: 相対値が1.0以下0.9以上
B: 相対値が0.9未満0.8以上
C: 相対値が0.8未満0.6以上
D: 相対値が0.6未満
上記のようにして、初期の光電変換効率(η/%)を測定した後に、各光電変換素子を相対湿度80%の大気下に室温(25℃)で12時間放置した(耐湿性試験)。その後、初期の光電変換効率と同様にして、耐湿性試験後の光電変換効率(η/%)を測定した。
測定した初期の光電変換効率を1.0(基準)として、保持率を下記式により算出し、下記評価基準に沿って評価した。結果を下記表1に示す。評価「B」が本発明の耐湿性試験の合格レベルである。
保持率=(耐湿性試験後の光電変換効率)/(初期の光電変換効率)
− 耐湿性試験の評価基準 −
A: 保持率が1.0以下0.9以上
B: 保持率が0.9未満0.8以上
C: 保持率が0.8未満0.6以上
D: 保持率が0.6未満
すなわち、透明基板側から順に、正孔輸送層、感光層および電子輸送層を互いに隣接させて設け、しかも正孔輸送層および電子輸送層のいずれも無機半導体で形成した光電変換素子は、大気中での経時(大気安定性試験)においても、また高湿環境下(耐湿性試験)においても、光電変換効率の低下が抑えられていた。
光電変換効率の低下は、各無機半導体層を形成する無機半導体が1種である場合、正孔輸送層または電子輸送層を単層構造とするよりも、積層構造とすると、効果的に抑えられていた(試料No.201〜203、試料Nо.301〜302、試料No.401)。また、光電変換効率の低下は、正孔輸送層または電子輸送層を、2種以上の無機半導体を含有する半導体混合層とすると、効果的に抑えられていた(試料No.104および105)。これらの優れた効果は、積層構造または半導体混合層とすることにより、層の均質性が高くなることにより、奏されたものと考えられる。
これに対して、感光層に隣接する正孔輸送層および電子輸送層の少なくとも一方が有機半導体で形成されていると、大気中での経時および高温環境下のいずれにおいても、光電変換効率が大幅に低下した(試料No.c11〜c13)。
また、正孔輸送層および電子輸送層のいずれも無機半導体で形成されていても、感光層に対して電子輸送層が透明基板側に、正孔輸送層が対極側に形成されていると、大気中での経時における光電変換効率が大きく低下し、少なくとも大気安定性に劣っていた(試料No.c14、c15)。
以上の結果から、本発明の光電変換素子ないし太陽電池が、大気安定性および耐湿性のいずれにも優れていることが分かった。
12 透明電極層
13A、13B 正孔輸送層
13B1 第1正孔輸送層
13B2 第2正孔輸送層
14 感光層
15A、15B 電子輸送層
15B1 第1電子輸送層
15B2 第2電子輸送層
16 対極
6 外部回路(リード)
10A〜10D 光電変換素子
100A〜100D 光電変換素子を電池用途に応用したシステム
M 電動モーター
導体混合層を含む<1>〜<4>のいずれか1つに記載の光電変換素子。
<6>正孔輸送層の無機半導体層を形成する無機半導体および電子輸送層の無機半導体層を形成する無機半導体の少なくとも1種が、金属酸化物である<1>〜<5>のいずれか1つに記載の光電変換素子。
<7>正孔輸送層の無機半導体層を形成する無機半導体および電子輸送層の無機半導体層を形成する無機半導体が、いずれも、金属酸化物である<1>〜<6>のいずれか1つに記載の光電変換素子。
<8>ペロブスカイト型結晶構造を有する化合物が、周期表第一族元素もしくはカチオン性有機基A、周期表第一族元素以外の金属原子Mおよびアニオン性原子もしくは原子団Xを有する<1>〜<7>のいずれか1つに記載の光電変換素子。
<9><1>〜<8>のいずれか1つに記載の光電変換素子を用いた太陽電池。
<10>電子輸送層が、感光層に隣接して配置された隣接層と他層からなる2層の積層構造であり、隣接層と他層がともに無機半導体層であり、かつ隣接層の膜厚と他層の膜厚との比(隣接層:他層)が、1:0.05〜1:20である<1>〜<8>のいずれか1項に記載の光電変換素子。
[0011]
本明細書において、各式の表記は、化合物の化学構造の理解のために、一部を示性式として表記することもある。これに伴い、各式において、部分構造を、(置換)基、イオンまたは原子等と称するが、本明細書において、これらは、(置換)基、イオンまたは原子等のほかに、上記式で表される(置換)基もしくはイオンを構成する元素団、または、元素を意味することがある。
[0012]
本明細書において、化合物(錯体、色素を含む)の表示については、化合物そのもののほか、その塩、そのイオンを含む意味に用いる。さらに、置換または無置換を明記していない化合物については、目的とする効果を損なわない範囲で、任意の置換基を有する化合物を含む意味である。このことは、置換基および連結基等(以下、置換基等という)についても同様である。
[0013]
本明細書において、特定の符号で表示された置換基等が複数あるとき、または複数の置換基等を同時に規定するときには、特段の断りがない限り、それぞれの置換基等は互いに同一でも異なっていてもよい。このことは、置換基等の数の規定についても同様である。また、複数の置換基等が近接すると
<1>透明基板上に、透明電極層、正孔輸送層、少なくとも1種のペロブスカイト型結晶構造を有する化合物を光吸収剤として含む感光層、電子輸送層および対極をこの順に有し、
正孔輸送層および電子輸送層が、いずれも、無機半導体で形成された無機半導体層であり、かつ感光層に隣接している光電変換素子。
<2>正孔輸送層の無機半導体層が、積層構造である<1>に記載の光電変換素子。
<3>正孔輸送層の無機半導体層が、2種以上の無機半導体で形成された半導体混合層を含む<1>または<2>に記載の光電変換素子。
<4>電子輸送層の無機半導体層が、積層構造である<1>〜<3>のいずれか1つに記載の光電変換素子。
<5>電子輸送層の無機半導体層が、2種以上の無機半導体で形成された半導体混合層を含む<1>〜<4>のいずれか1つに記載の光電変換素子。
<6>正孔輸送層の無機半導体層を形成する無機半導体および電子輸送層の無機半導体層を形成する無機半導体の少なくとも1種が、金属酸化物である<1>〜<5>のいずれか1つに記載の光電変換素子。
<7>正孔輸送層の無機半導体層を形成する無機半導体および電子輸送層の無機半導体層を形成する無機半導体が、いずれも、金属酸化物である<1>〜<6>のいずれか1つに記載の光電変換素子。
<8>ペロブスカイト型結晶構造を有する化合物が、周期表第一族元素もしくはカチオン性有機基A、周期表第一族元素以外の金属原子Mおよびアニオン性原子もしくは原子団Xを有する<1>〜<7>のいずれか1つに記載の光電変換素子。
<9>電子輸送層が、感光層に隣接して配置された隣接層と他層からなる2層の積層構造であり、隣接層と他層がともに無機半導体層であり、かつ隣接層の膜厚と他層の膜厚との比(隣接層:他層)が、1:0.05〜1:20である<1>〜<8>のいずれか1項に記載の光電変換素子。
<10><1>〜<9>のいずれか1つに記載の光電変換素子を用いた太陽電池。
Claims (9)
- 透明基板上に、透明電極層、正孔輸送層、少なくとも1種のペロブスカイト型結晶構造を有する化合物を光吸収剤として含む感光層、電子輸送層および対極をこの順に有し、
前記正孔輸送層および前記電子輸送層が、いずれも、無機半導体で形成された無機半導体層であり、かつ前記感光層に隣接している光電変換素子。 - 前記正孔輸送層の前記無機半導体層が、積層構造である請求項1に記載の光電変換素子。
- 前記正孔輸送層の前記無機半導体層が、2種以上の前記無機半導体で形成された半導体混合層を含む請求項1または2に記載の光電変換素子。
- 前記電子輸送層の前記無機半導体層が、積層構造である請求項1〜3のいずれか1項に記載の光電変換素子。
- 前記電子輸送層の前記無機半導体層が、2種以上の前記無機半導体で形成された半導体混合層を含む請求項1〜4のいずれか1項に記載の光電変換素子。
- 前記正孔輸送層の前記無機半導体層を形成する無機半導体および前記電子輸送層の前記無機半導体層を形成する無機半導体の少なくとも1種が、金属酸化物である請求項1〜5のいずれか1項に記載の光電変換素子。
- 前記正孔輸送層の前記無機半導体層を形成する無機半導体および前記電子輸送層の前記無機半導体層を形成する無機半導体が、いずれも、金属酸化物である請求項1〜6のいずれか1項に記載の光電変換素子。
- 前記ペロブスカイト型結晶構造を有する化合物が、周期表第一族元素もしくはカチオン性有機基A、周期表第一族元素以外の金属原子Mおよびアニオン性原子または原子団Xを有する請求項1〜7のいずれか1項に記載の光電変換素子。
- 請求項1〜8のいずれか1項に記載の光電変換素子を用いた太陽電池。
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