JPWO2016117380A1 - 光電変換素子およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
正孔注入層が、下記に示す水リンス処理後の残膜率測定において残膜率が80%以上である層であり、
正孔注入層の材料が、ポリチオフェンおよびその誘導体、芳香族アミン化合物、並びに、少なくとも3つの置換基を有するフェニル基を含む芳香族アミン残基を繰り返し単位にもつ高分子化合物からなる群より選ばれる1種以上の材料である、光電変換素子。
<水リンス処理後の残膜率測定方法>
一辺1インチの正方形の基板上に、光電変換素子における正孔注入層として成膜する場合と同等の膜厚となるように、スピンコート法により膜を塗布成膜した後、膜上にメニスカス状に水を載せ、30秒間静置した後、4000rpmでスピンさせて水を振り切ることにより、水リンス処理を行う。
水リンス処理前後の膜厚を触針式膜厚計で測定し、(水リンス処理後の膜厚/水リンス処理前の膜厚)×100(%)の値を、水リンス処理後の残膜率とする。
[2]陽極と、陰極と、陽極および陰極の間に設けられたペロブスカイト化合物を含む活性層と、陽極および活性層の間に設けられた正孔注入層とを有し、
正孔注入層が、上記に示す水リンス処理後の残膜率測定において残膜率が80%以上である層であり、
正孔注入層の材料が、芳香族アミン化合物および芳香族アミン残基を繰り返し単位にもつ高分子化合物からなる群より選ばれる1種以上の材料であり、かつ、
正孔注入層の厚さが15nm以下である、光電変換素子。
[3]支持基板、前記陽極、前記正孔注入層、前記活性層および前記陰極がこの順で積層された構造を有する、[1]または[2]に記載された光電変換素子。
[4]前記活性層と前記陰極の間に設けられた電子輸送層をさらに有する、[1]〜[3]のいずれかに記載された光電変換素子。
[5]前記電子輸送層が、
フラーレン類およびフラーレン類の誘導体からなる群より選ばれる1種以上の材料を含む塗布液を塗布することによって形成される層である、[4]に記載された光電変換素子。
[6]前記正孔注入層と前記活性層の間に設けられた正孔輸送層をさらに有する、[1]〜[5]のいずれかに記載された光電変換素子。
[7]前記活性層が、塗布法によって形成される層である、[1]〜[6]のいずれかに記載された光電変換素子。
[8][1]〜[7]のいずれかに記載された光電変換素子を有する有機光センサー。
[9]支持基板と、陽極と、陰極と、陽極および陰極の間に設けられたペロブスカイト化合物を含む活性層と、陽極および活性層の間に設けられた正孔注入層とを有する光電変換素子の製造方法であって、
支持基板上に形成された陽極上に、正孔注入層を形成する工程と、
正孔注入層上に、活性層を形成する工程とを含み、
正孔注入層が、上記に示す水リンス処理後の残膜率測定において残膜率が80%以上である層であり、
正孔注入層の材料が、ポリチオフェンおよびその誘導体、芳香族アミン化合物、並びに、少なくとも3つの置換基を有するフェニル基を含む芳香族アミン残基を繰り返し単位にもつ高分子化合物からなる群より選ばれる1種以上の材料である、光電変換素子の製造方法。
[10]支持基板と、陽極と、陰極と、陽極および陰極の間に設けられたペロブスカイト化合物を含む活性層と、陽極および活性層の間に設けられた正孔注入層とを有する光電変換素子の製造方法であって、
支持基板上に形成された陽極上に、正孔注入層を形成する工程と、
正孔注入層上に、活性層を形成する工程とを含み、
正孔注入層が、上記に示す水リンス処理後の残膜率測定において残膜率が80%以上である層であり、
正孔注入層の材料が、芳香族アミン化合物および芳香族アミン残基を繰り返し単位にもつ高分子化合物からなる群より選ばれる1種以上の材料であり、かつ、
正孔注入層の厚さが15nm以下である、光電変換素子の製造方法。
本発明の光電変換素子の第1の形態は、
陽極と、陰極と、陽極および陰極の間に設けられたペロブスカイト化合物を含む活性層と、陽極および活性層の間に設けられた正孔注入層とを有し、
正孔注入層が、後述する水リンス処理後の残膜率測定において残膜率が80%以上である層であり、
正孔注入層の材料が、ポリチオフェンおよびその誘導体、芳香族アミン化合物、並びに、少なくとも3つの置換基を有するフェニル基を含む芳香族アミン残基を繰り返し単位にもつ高分子化合物からなる群より選ばれる1種以上の材料である、光電変換素子である。
陽極と、陰極と、陽極および陰極の間に設けられたペロブスカイト化合物を含む活性層と、陽極および活性層の間に設けられた正孔注入層とを有し、
正孔注入層が、後述する水リンス処理後の残膜率測定において残膜率が80%以上である層であり、
正孔注入層の材料が、芳香族アミン化合物および芳香族アミン残基を繰り返し単位にもつ高分子化合物からなる群より選ばれる1種以上の材料であり、かつ、
正孔注入層の厚さが15nm以下である、光電変換素子である。
本発明の光電変換素子は、通常、支持基板上に形成される。支持基板には、光電変換素子を作製する際に化学的に変化しないものが好適に用いられる。支持基板としては、例えば、ガラス基板、プラスチック基板、高分子フィルム、シリコン板等が挙げられる。透明または不透明な陽極側から光を取り込む形態の光電変換素子の場合には、支持基板には光透過性の高い基板が好適に用いられる。また、不透明な支持基板上に光電変換素子を作製する場合には、陽極側から光を取り込むことができないため、陰極が透明または半透明な電極から構成されることが好ましい。このような電極を用いることにより、たとえ不透明な支持基板を用いたとしても、支持基板側に設けられる陽極側とは反対側の陰極側から光を取り込むことができる。
陽極には、導電性の金属酸化物膜、金属薄膜、および、有機物を含む導電膜等が用いられる。陽極の材料には、例えば、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズ、インジウムスズ酸化物(Indium Tin Oxide:略称ITO)、フッ素化スズ酸化物(FLUORINE Tin Oxide:略称FTO)、インジウム亜鉛酸化物(Indium Zinc Oxide:略称IZO)、金、白金、銀、銅、アルミニウム、ポリアニリンおよびその誘導体、並びに、ポリチオフェンおよびその誘導体等が用いられる。これらの中でも、陽極の材料には、ITO、FTO、IZO、酸化スズが好適に用いられる。なお、陽極側から光を取り込む構成の光電変換素子では、通常、上述の陽極を構成する薄膜の膜厚を、光が透過する程度の厚さとした透明または半透明な電極が、陽極として用いられる。
正孔注入層は、陽極と活性層との間に設けられ、陽極への正孔注入を促進する機能を有する。正孔注入層は、陽極に接して設けられることが好ましい。本発明の光電変換素子において、正孔注入層の材料は、成膜後に水に不溶である材料が用いられる。本発明の光電変換素子において、水に不溶であるとは、後述する水リンス処理後の残膜率測定において残膜率が80%以上であることを意味する。残膜率は90%以上であることが好ましく、残膜率が98%以上100%以下であることが更に好ましい。
本発明の光電変換素子において、水リンス処理後の残膜率は、以下に示す測定法によって求められる。
一辺1インチの正方形の基板上に、光電変換素子における正孔注入層として成膜する場合と同等の膜厚となるように、スピンコート法により膜を塗布成膜した後、膜上にメニスカス状に水を載せ、30秒間静置した後、4000rpmでスピンさせて水を振り切ることにより、水リンス処理を行う。
水リンス処理前後の膜厚を触針式膜厚計で測定し、(水リンス処理後の膜厚/水リンス処理前の膜厚)×100(%)の値を、水リンス処理後の残膜率とする。
なお、本明細書の実施例では、触針式膜厚計として、DEKTAK Bruker Nano社製の触針式膜厚計を用いて、水リンス処理前後の膜厚の測定を行った。
これらの中でも、ポリチオフェンおよびその誘導体、芳香族アミン化合物、並びに、芳香族アミン残基を繰り返し単位にもつ高分子化合物からなる群より選ばれる1種以上の材料であることが好ましい。
また、高分子化合物の中では、長寿命の観点から、芳香族アミン残基を繰り返し単位にもつ高分子化合物であることが好ましい。
Ar1、Ar2、Ar3およびAr4は、それぞれ独立に、アリーレン基(A1)または2価の複素環基(B1)を表す。
E1、E2およびE3は、それぞれ独立に、アリール基(A2)または複素環基(B2)を表す。
aおよびbは、それぞれ独立に、0または1を表し、0≦a+b≦1である。
アリーレン基(A1):
芳香族炭化水素から、水素原子2個を除いた残りの原子団であり、ベンゼン環または縮合環をもつもの、および、独立したベンゼン環および縮合環から選ばれる2個以上の環が直接またはビニレン等の基を介して結合したものも含まれる。アリーレン基は置換基を有していてもよい。置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルコキシ基、アリールアルキルチオ基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、アミノ基、置換アミノ基、シリル基、置換シリル基、シリルオキシ基、置換シリルオキシ基、ハロゲン原子、アシル基、アシルオキシ基、イミン残基、アミド基、酸イミド基、1価の複素環基、カルボキシル基、置換カルボキシル基、シアノ基等が挙げられ、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、置換アミノ基、置換シリル基、置換シリルオキシ基または1価の複素環基が好ましい。無置換のアリーレン基の炭素数(すなわち、置換基の炭素数を含めないアリーレン基の炭素数)は、通常6〜60程度であり、好ましくは6〜20である。
2価の複素環基(B1):
複素環式化合物から水素原子2個を除いた残りの原子団であり、2価の複素環基は置換基を有していてもよい。ここで複素環式化合物とは、環式構造をもつ有機化合物のうち、環を構成する元素が炭素原子だけでなく、酸素、硫黄、窒素、リン、ホウ素、ヒ素等のヘテロ原子を環内に含むものをいう。置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルコキシ基、アリールアルキルチオ基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、アミノ基、置換アミノ基、シリル基、置換シリル基、シリルオキシ基、置換シリルオキシ基、ハロゲン原子、アシル基、アシルオキシ基、イミノ基、アミド基、イミド基、1価の複素環基、カルボキシル基、置換カルボキシル基、シアノ基等が挙げられ、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、置換アミノ基、置換シリル基、置換シリルオキシ基または1価の複素環基が好ましい。無置換の2価の複素環基の炭素数(すなわち、置換基の炭素数を含めない2価の複素環基の炭素数)は、通常3〜60程度である。
アリール基(A2):
アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルコキシ基、アリールアルキルチオ基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、アミノ基、置換アミノ基、シリル基、置換シリル基、シリルオキシ基、置換シリルオキシ基、1価の複素環基およびハロゲン原子からなる群より選ばれる置換基を有していてもよいアリール基。無置換のアリール基の炭素数(すなわち、置換基の炭素数を含めないアリール基の炭素数)は、通常6〜60程度であり、好ましくは6〜30である。
1価の複素環基(B2):
アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルコキシ基、アリールアルキルチオ基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、アミノ基、置換アミノ基、シリル基、置換シリル基、シリルオキシ基、置換シリルオキシ基、1価の複素環基およびハロゲン原子からなる群より選ばれる置換基を有していてもよい1価の複素環基。無置換の1価の複素環基の炭素数(すなわち、置換基の炭素数を含めない1価の複素環基の炭素数)は、通常4〜60程度である。〕
−Ar12− (3)
―Ar12−X1―(Ar13−X2)c―Ar14− (4)
−Ar12−X2− (5)
−X2− (6)
〔式中、
Ar12、Ar13およびAr14は、それぞれ独立に、アリーレン基、2価の複素環基または金属錯体構造を有する2価の基を表す。
X1は、−CR2=CR3−、−C≡C−または−(SiR5R6)d−を表す。
X2は、−CR2=CR3−、−C≡C−、−N(R4)−、または−(SiR5R6)d−を表す。
R2およびR3は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、1価の複素環基、カルボキシル基、置換カルボキシル基またはシアノ基を表す。
R4、R5およびR6は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、1価の複素環基またはアリールアルキル基を表す。
cは0〜2の整数を表す。dは1〜12の整数を表す。
Ar13、R2、R3、R5およびR6がそれぞれ複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。〕
正孔輸送層は、正孔注入層と活性層の間に設けられ、電子ブロックの機能を有する。正孔輸送層を設けることで、より高い光電変換効率を示す光電変換素子を得ることができる。正孔輸送層の材料としては、例えば、芳香族アミン化合物、芳香族アミン残基を繰り返し単位に持つ高分子化合物等が挙げられる。なお、正孔注入層の材料に、芳香族アミン化合物、芳香族アミン残基を繰り返し単位に持つ高分子化合物を用いる場合には、正孔輸送層を設けても設けなくてもよい。
活性層は、ペロブスカイト化合物を含む。ペロブスカイト化合物は、有機無機ハイブリッド構造のペロブスカイト化合物であることが好ましい。本発明の光電変換素子におけるペロブスカイト化合物は、下記式(7)または(8)のいずれかで表される化合物であることが好ましく、式(7)の化合物であることがより好ましい。式(7)で表される化合物のうち、CH3NH3PbI3、CH3NH3PbCl3、CH3NH3PbBr3、CH3NH3SnI3、CH3NH3SnCl3、CH3NH3SnBr3等がより好ましい。
〔式中、
M1は、2価の金属(例えば、Cu、Ni、Mn、Fe、Co、Pd、Ge、Sn、PbまたはEu)を表す。
Xは、F、Cl、BrまたはIを表す。〕
〔式中、
R1は、炭素数2以上のアルキル基、アルケニル基、アラルキル基、アリール基または1価の複素環基(1価の芳香族複素環基であることが好ましい)を表す。
M1は、2価の金属(例えば、Cu、Ni、Mn、Fe、Co、Pd、Ge、Sn、PbまたはEu)を表す。
Xは、F、Cl、BrまたはIを表す。〕
本発明の光電変換素子は、活性層と陰極との間に設けられた電子輸送層を有することが好ましい。
陰極は、単層の形態であっても、複数の層が積層された形態であってもよい。陰極の材料には、金属、導電性高分子等を用いることができる。陰極の材料には、例えば、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、アルミニウム、スカンジウム、バナジウム、亜鉛、イットリウム、インジウム、セリウム、サマリウム、ユーロピウム、テルビウム、イッテルビウム、金、銀、白金、銅、マンガン、チタン、コバルト、ニッケル、タングステン、錫等の金属;これらの金属からなる群より選ばれる2つ以上の金属を含む合金;グラファイト、グラファイト層間化合物等が用いられる。合金の例としては、例えば、マグネシウム−銀合金、マグネシウム−インジウム合金、マグネシウム−アルミニウム合金、インジウム−銀合金、リチウム−アルミニウム合金、リチウム−マグネシウム合金、リチウム−インジウム合金、カルシウム−アルミニウム合金等が挙げられる。
陰極を塗布法により形成する際に用いる塗布液としては、導電性物質のナノ粒子、導電性物質のナノワイヤー、または、導電性物質のナノチューブと、溶媒とを含む、エマルション(乳濁液)、サスペンション(懸濁液)等が挙げられる。導電性物質としては、金、銀等の金属;ITO(インジウムスズ酸化物)等の酸化物;カーボンナノチューブ等が挙げられる。
陰極は、導電性物質のナノ粒子または導電性物質のナノワイヤーのみから構成されていてもよいし、特表2010−525526号公報に記載されているように、導電性物質のナノ粒子または導電性物質のナノワイヤーが、導電性ポリマー等の所定の媒体中に分散して構成されていてもよい。
本発明の光電変換素子の製造方法の第1の形態は、
支持基板と、陽極と、陰極と、陽極および陰極の間に設けられたペロブスカイト化合物を含む活性層と、陽極および活性層の間に設けられた正孔注入層とを有する光電変換素子の製造方法であって、
支持基板上に形成された陽極上に、正孔注入層を形成する工程と、
正孔注入層上に、活性層を形成する工程とを含み、
正孔注入層が、前述した水リンス処理後の残膜率測定において残膜率が80%以上である層であり、
正孔注入層の材料が、ポリチオフェンおよびその誘導体、芳香族アミン化合物、並びに、少なくとも3つの置換基を有するフェニル基を含む芳香族アミン残基を繰り返し単位にもつ高分子化合物からなる群より選ばれる1種以上の材料である、光電変換素子の製造方法である。
支持基板と、陽極と、陰極と、陽極および陰極の間に設けられたペロブスカイト化合物を含む活性層と、陽極および活性層の間に設けられた正孔注入層とを有する光電変換素子の製造方法であって、
支持基板上に形成された陽極上に、正孔注入層を形成する工程と、
正孔注入層上に、活性層を形成する工程とを含み、
正孔注入層が、前述した水リンス処理後の残膜率測定において残膜率が80%以上である層であり、
正孔注入層の材料が、芳香族アミン化合物および芳香族アミン残基を繰り返し単位にもつ高分子化合物からなる群より選ばれる1種以上の材料であり、かつ、
正孔注入層の厚さが15nm以下である、光電変換素子の製造方法である。
陽極は、前述した陽極の材料を、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、メッキ法等によって、支持基板上に成膜することで形成することができる。陽極の材料として、ポリアニリンおよびその誘導体、ポリチオフェンおよびその誘導体等の有機材料を用いる場合、有機材料を含む塗布液を用いて、塗布法によって陽極を形成してもよい。また、金属インク、金属ペーストまたは溶融状態の低融点金属等を用いて、塗布法によって陽極を形成してもよい。陽極は、オゾンUV処理、コロナ処理、超音波処理等の表面処理が施されていてもよい。
正孔注入層の形成方法は特に限定されないが、製造工程の簡易化の観点からは、塗布法によって正孔注入層を形成することが好ましい。正孔注入層は、例えば、前述した正孔注入層の材料と溶媒とを含む塗布液を塗布することにより形成することができる。
本発明の光電変換素子の製造方法は、正孔注入層と活性層の間に設けられた正孔輸送層を形成する工程をさらに含んでいてもよい。
活性層の形成方法は特に限定されないが、製造工程の簡易化の観点からは、塗布法によって活性層を形成することが好ましい。活性層は、例えば、前述したペロブスカイト化合物と、溶媒とを含む塗布液を塗布することにより形成することができる。ペロブスカイト化合物は、前躯体溶液を用いた自己組織化反応により合成することができる。
金属ハロゲン化物と溶媒とを含む塗布液を塗布した後、金属ハロゲン化物の膜上に、ハロゲン化アンモニウムと溶媒を含む塗布液またはハロゲン化アミンと溶媒とを含む塗布液を塗布する方法、あるいは、
金属ハロゲン化物と溶媒とを含む塗布液を塗布した後、金属ハロゲン化合物の膜を、ハロゲン化アンモニウムと溶媒とを含む塗布液またはハロゲン化アミンと溶媒とを含む塗布液に浸漬させる方法によっても形成することができる。
本発明の光電変換素子の製造方法は、活性層と陰極の間に設けられた電子輸送層を形成する工程をさらに含んでいてもよい。
陰極は、前述した陰極の材料を、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、メッキ法、塗布法等によって、活性層上または電子輸送層上に成膜することで形成することができる。陰極の材料が、ポリアニリンおよびその誘導体、ポリチオフェンおよびその誘導体、導電性物質のナノ粒子、導電性物質のナノワイヤーまたは導電性物質のナノチューブである場合には、これらの材料と、溶媒とを含むマルション(乳濁液)、サスペンション(懸濁液)等を用いて、塗布法によって陰極を形成することができる。また、陰極の材料が、導電性物質を含む場合、導電性物質を含む塗布液、金属インク、金属ペースト、溶融状態の低融点金属等を用いて、塗布法によって陰極を形成してもよい。陰極の材料と溶媒とを含む塗布液の塗布法としては、活性層の形成工程で例示した塗布法と同様の方法が挙げられる。
カラム:TOSOH TSKgel SuperHM−H(2本)+TSKgel SuperH2000(4.6mm I.d. × 15cm)
検出器:RI(SHIMADZU RID−10A)
移動相:クロロホルムまたはテトラヒドロフラン(THF)
ビス(4−ブロモフェニル)−4−sec−ブチルフェニルアミン(6.2g)および2、2’−ビピリジル(5.6g)を反応容器に加えた後、反応系内の気体を窒素ガスで置換し、テトラヒドロフラン(脱水溶媒)(400g)を加えた。次に、この混合溶液に、ビス(1,5−シクロオクタジエン)ニッケル(0)(10g)を加えた後、室温で24時間反応させた。なお、この反応は、窒素ガス雰囲気中で行った。反応後に得られた混合溶液を、メタノール(200ml)およびイオン交換水(200ml)の混合溶液中にそそぎ込み、攪拌した。析出した沈殿を、ろ過することにより回収し、乾燥させた。次に、この沈殿をトルエンに溶解させ、ろ紙で不要物を除去した後、得られたろ液をアルミナカラムにより処理した。得られたトルエン溶液にアンモニア水を加えて攪拌し、水層を除去した後、イオン交換水を加えて撹拌し、水層を除去した。得られた有機層をメタノールに滴下して攪拌した後、析出した沈殿をろ過し、減圧乾燥させることにより、高分子化合物1(0.6g)を得た。
高分子化合物1のポリスチレン換算の重量平均分子量は14,000であり、Mw/Mn=2.7であった。
N,N’−ビス(4−ブロモフェニル)−N,N’−ビス(4−tert−ブチル−2,6−ジメチルフェニル)−1,4−フェニレンジアミン(11.1g)および2、2’−ビピリジル(5.6g)を反応容器に加えた後、反応系内の気体を窒素ガスで置換し、テトラヒドロフラン(脱水溶媒)(400g)を加えた。次に、この混合溶液に、ビス(1,5−シクロオクタジエン)ニッケル(0)(10g)加えた後、60℃で3時間反応させた。なお、この反応は、窒素ガス雰囲気中で行った。反応後に得られた溶液を冷却した後、25%アンモニア水(50ml)、メタノール(200ml)およびイオン交換水(200ml)の混合溶液中にそそぎ込み、攪拌した。析出した沈殿を、ろ過することにより回収し、減圧乾燥させた。次に、この沈殿をトルエンに溶解させ、ろ紙で不要物を除去した後、得られたろ液をアルミナカラムにより処理した。得られたトルエン溶液に1Nの塩酸水を加えて攪拌し、水層を除去した後、3%アンモニア水を加えて攪拌し、水層を除去した後、イオン交換水を加えて撹拌し、水層を除去した。得られた有機層をメタノールに滴下して攪拌した後、析出した沈殿をろ過し、減圧乾燥させることにより、高分子化合物2(4.7g)を得た。
高分子化合物2のポリスチレン換算の重量平均分子量は45,000であり、Mw/Mn=6.7であった。
ヨウ化鉛460mgを1mlのN,N−ジメチルホルムアミドに溶解させた後、70℃で攪拌し完溶させることにより、組成物1を調製した。
ヨウ化鉛368mgを1mlのN,N−ジメチルホルムアミドに溶解させた後、70℃で攪拌し完溶させることにより、組成物10を調製した。
ヨウ化メチルアンモニウム45mgを1mlの2−プロパノールに完溶させることにより、組成物2を調製した。
フラーレン類の誘導体として2重量部の[6,6]−フェニルC61−酪酸メチルエステル(C60PCBM)(フロンティアカーボン社製、E100)と、溶媒として100重量部のクロロベンゼンとを混合し、完溶させた。次に、得られた溶液を、孔径0.5μmのテフロン(登録商標)フィルターで濾過することにより、組成物3を調製した。
合成例1で得られた下記の繰り返し単位を持つ高分子化合物1(Mw=14,000、Mw/Mn=2.7)を0.5重量部と、溶媒として100重量部のクロロベンゼンとを混合し、完溶させることにより、組成物4を調整した。
下記の繰り返し単位を持つ高分子化合物4(シグマアルドリッチ社製、Poly[bis(4−phenyl)(2,4,6−trimethylphenyl)amine]、average Mn 7,000−10,000)を0.5重量部と、溶媒として100重量部のクロロベンゼンとを混合し、完溶させることにより、組成物5を調整した。
合成例2で得られた下記の繰り返し単位を持つ高分子化合物2(Mw=45,000、Mw/Mn=6.7)を0.5重量部と、溶媒として100重量部のクロロベンゼンとを混合し、完溶させることにより、組成物6を調整した。
下記の繰り返し単位を持つ高分子化合物5(Mw=297,000、Mw/Mn=4.1)を0.5重量部と、溶媒として100重量部のクロロベンゼンとを混合し、完溶させることにより、組成物7を調整した。なお、下記の繰り返し単位を持つ高分子化合物は、国際公開公報第2010/026972号の明細書に記載の合成方法に従って合成した。
下記の構造式で表されるSpiro−MeOTAD[2,2’,7,7’−テトラキス(N,N−ジ−p−メトキシフェニルアミノ)−9,9’−スピロビフルオレン](Luminescence Technology社製)を1重量部と、溶媒として100重量部のクロロベンゼンとを混合し、完溶させることにより、組成物8を調整した。
下記の構造式で表される化合物(A)を1重量部と、溶媒として100重量部のクロロベンゼンとを混合し、完溶させることにより、組成物9を調整した。
100mL三ツ口フラスコ内の気体を窒素ガスで置換した後、下記の構造式で表される化合物(A)を222mg(0.300mmol)と、下記の構造式で表される化合物(B)を226mg(0.303mmol)と、tris(2−methoxyphenyl)phosphine[P(o−OMePh)3]を9.5mg(0.027mmol)と、トルエン8.0mLとを加え、窒素ガスバブリングを30分間行った。その後、そこへ、tris(dibenzylideneacetone)dipalladium(0)[Pd2(dba)3]を4.1mg(0.005mmol)と、炭酸水素ナトリウム水溶液を3.0mLとを加え、100℃で30分間攪拌した。得られた反応混合物を室温まで冷却した後、水層を除去した。得られた有機層に10%酢酸を10mL加え、有機層を洗浄した後、水層を除去した。得られた有機層に純水を10mL加え、有機層を洗浄した後、水層を除去する操作を4回繰り返した。得られた有機層をヘキサンに注ぎ込み、沈殿した固体を回収した。得られた固体を乾燥させた後、トルエンを15mLを加え、50℃で15分間攪拌することで溶解させた。得られたトルエン溶液を、シリカゲル/アルミナカラムを通液させることでろ過した。得られたろ液をヘキサンに注ぎ込み、沈殿した固体を回収することで、高分子化合物3(Mw=90,600、Mw/Mn=3.1)を200mg(収率62%)得た。
合成例3で得られた下記の繰り返し単位を持つ高分子化合物3(Mw=90,600、Mw/Mn=3.1)を0.5重量部と、溶媒として100重量部のクロロベンゼンとを混合し、完溶させることにより、組成物11を調整した。
太陽電池の陽極として機能するITO薄膜が形成されたガラス基板を用意した。ITO薄膜はスパッタリング法によって形成されたものであり、その厚みは150nmであった。ITO薄膜を有するガラス基板をオゾンUV処理し、ITO薄膜の表面処理を行った。次に、Plexcore PV2000 Hole Transport Ink(シグマ・アルドリッチ社製の有機太陽電池作製キット(PV2000 kit)に含まれている。具体的には、Sulfonated polythiophene(thiophene−3−[2−(2−methoxyethoxy)ethoxy]−2,5−diyl)(S−P3MEET) 1.8% in 2−butoxyethanol:water(2:3))をスピンコート法によりITO膜上に塗布し、大気中170℃で10分間加熱することにより、膜厚50nmの正孔注入層を形成した。次に、正孔注入層上に、組成物1を6000rpmの回転数でスピンコート法により塗布し、窒素ガス雰囲気下で風乾させることにより、ヨウ化鉛の塗布膜を得た。次に、ヨウ化鉛の塗布膜上に、組成物2を滴下し、6000rpmでスピンコートし、大気中100℃で10分間加熱することにより、活性層を形成した。活性層の膜厚は約200nmであった。
太陽電池の陽極として機能するITO薄膜が形成されたガラス基板を用意した。ITO薄膜はスパッタリング法によって形成されたものであり、その厚みは150nmであった。ITO薄膜を有するガラス基板をオゾンUV処理し、ITO薄膜の表面処理を行った。次に、Plexcore PV2000 Hole Transport Ink(シグマ・アルドリッチ社製の有機太陽電池作製キット(PV2000 kit)に含まれている。具体的には、Sulfonated polythiophene(thiophene−3−[2−(2−methoxyethoxy)ethoxy]−2,5−diyl)(S−P3MEET) 1.8% in 2−butoxyethanol:water(2:3))をスピンコート法によりITO膜上に塗布し、大気中170℃で10分間加熱することにより、膜厚50nmの正孔注入層を形成した。次に、正孔注入層上に、組成物4をスピンコート法により塗布し、大気中120℃で10分間加熱することにより、膜厚約10nmの正孔輸送層を形成した。次に、正孔輸送層上に、組成物1を6000rpmの回転数でスピンコート法により塗布し、窒素ガス雰囲気下で風乾させることにより、ヨウ化鉛の塗布膜を得た。次に、ヨウ化鉛の塗布膜上に、組成物2を滴下し、6000rpmでスピンコートし、大気中100℃で10分間加熱することにより、活性層を形成した。活性層の膜厚は約200nmであった。
太陽電池の陽極として機能するITO薄膜が形成されたガラス基板を用意した。ITO薄膜はスパッタリング法によって形成されたものであり、その厚みは150nmであった。ITO薄膜を有するガラス基板をオゾンUV処理し、ITO薄膜の表面処理を行った。次に、組成物5をスピンコート法によりITO膜上に塗布し、大気中120℃で10分間加熱することにより、膜厚約20nmの正孔注入層を形成した。次に、正孔注入層を形成したガラス基板を、ホットプレート上で70℃に充分に加熱した後、加熱した基板をスピンコーターに載せ、正孔注入層上に、組成物1を6000rpmの回転数でスピンコート法により塗布し、窒素ガス雰囲気下で風乾させることにより、ヨウ化鉛の塗布膜を得た。次に、ヨウ化鉛の塗布膜上に、組成物2を滴下し、6000rpmでスピンコートし、大気中100℃で10分間加熱することにより、活性層を形成した。活性層の膜厚は約300nmであった。
太陽電池の陽極として機能するITO薄膜が形成されたガラス基板を用意した。ITO薄膜はスパッタリング法によって形成されたものであり、その厚みは150nmであった。ITO薄膜を有するガラス基板をオゾンUV処理し、ITO薄膜の表面処理を行った。次に、組成物6をスピンコート法によりITO膜上に塗布し、大気中120℃で10分間加熱することにより、膜厚約25nmの正孔注入層を形成した。次に、正孔注入層を形成したガラス基板を、ホットプレート上で70℃に充分に加熱した後、加熱した基板をスピンコーターに載せ、正孔注入層上に、組成物1を6000rpmの回転数でスピンコート法により塗布し、窒素ガス雰囲気下で風乾させることにより、ヨウ化鉛の塗布膜を得た。次に、ヨウ化鉛の塗布膜上に、組成物2を滴下し、6000rpmでスピンコートし、大気中100℃で10分間加熱することにより、活性層を形成した。活性層の膜厚は約300nmであった。
太陽電池の陽極として機能するITO薄膜が形成されたガラス基板を用意した。ITO薄膜はスパッタリング法によって形成されたものであり、その厚みは150nmであった。ITO薄膜を有するガラス基板をオゾンUV処理し、ITO薄膜の表面処理を行った。次に、組成物8をスピンコート法によりITO膜上に塗布し、大気中170℃で10分間加熱することにより、膜厚約40nmの正孔注入層を形成した。次に、正孔注入層を形成したガラス基板を、ホットプレート上で70℃に充分に加熱した後、加熱した基板をスピンコーターに載せ、正孔注入層上に、組成物1を6000rpmの回転数でスピンコート法により塗布し、窒素ガス雰囲気下で風乾させることにより、ヨウ化鉛の塗布膜を得た。次に、ヨウ化鉛の塗布膜上に、組成物2を滴下し、6000rpmでスピンコートし、大気中100℃で10分間加熱することにより、活性層を形成した。活性層の膜厚は約300nmであった。
太陽電池の陽極として機能するITO薄膜が形成されたガラス基板を用意した。ITO薄膜はスパッタリング法によって形成されたものであり、その厚みは150nmであった。ITO薄膜を有するガラス基板をオゾンUV処理し、ITO薄膜の表面処理を行った。次に、組成物4をスピンコート法によりITO膜上に塗布し、大気中120℃で10分間加熱することにより、膜厚約10nmの正孔注入層を形成した。次に、正孔注入層を形成したガラス基板を、ホットプレート上で70℃に充分に加熱した後、加熱した基板をスピンコーターに載せ、正孔注入層上に、組成物10を2000rpmの回転数でスピンコート法により塗布し、窒素ガス雰囲気下で風乾させることにより、ヨウ化鉛の塗布膜を得た。次に、ヨウ化鉛の塗布膜上に、組成物2を滴下し、6000rpmでスピンコートし、大気中100℃で10分間加熱することにより、活性層を形成した。活性層の膜厚は約350nmであった。
太陽電池の陽極として機能するITO薄膜が形成されたガラス基板を用意した。ITO薄膜はスパッタリング法によって形成されたものであり、その厚みは150nmであった。ITO薄膜を有するガラス基板をオゾンUV処理し、ITO薄膜の表面処理を行った。次に、組成物5をスピンコート法によりITO膜上に塗布し、大気中120℃で10分間加熱することにより、膜厚約10nmの正孔注入層を形成した。次に、正孔注入層を形成したガラス基板を、ホットプレート上で70℃に充分に加熱した後、加熱した基板をスピンコーターに載せ、正孔注入層上に、組成物10を2000rpmの回転数でスピンコート法により塗布し、窒素ガス雰囲気下で風乾させることにより、ヨウ化鉛の塗布膜を得た。次に、ヨウ化鉛の塗布膜上に、組成物2を滴下し、6000rpmでスピンコートし、大気中100℃で10分間加熱することにより、活性層を形成した。活性層の膜厚は約350nmであった。
太陽電池の陽極として機能するITO薄膜が形成されたガラス基板を用意した。ITO薄膜はスパッタリング法によって形成されたものであり、その厚みは150nmであった。ITO薄膜を有するガラス基板をオゾンUV処理し、ITO薄膜の表面処理を行った。次に、組成物6をスピンコート法によりITO膜上に塗布し、大気中120℃で10分間加熱することにより、膜厚約10nmの正孔注入層を形成した。次に、正孔注入層を形成したガラス基板を、ホットプレート上で70℃に充分に加熱した後、加熱した基板をスピンコーターに載せ、正孔注入層上に、組成物10を2000rpmの回転数でスピンコート法により塗布し、窒素ガス雰囲気下で風乾させることにより、ヨウ化鉛の塗布膜を得た。次に、ヨウ化鉛の塗布膜上に、組成物2を滴下し、6000rpmでスピンコートし、大気中100℃で10分間加熱することにより、活性層を形成した。活性層の膜厚は約350nmであった。
太陽電池の陽極として機能するITO薄膜が形成されたガラス基板を用意した。ITO薄膜はスパッタリング法によって形成されたものであり、その厚みは150nmであった。ITO薄膜を有するガラス基板をオゾンUV処理し、ITO薄膜の表面処理を行った。次に、組成物8をスピンコート法によりITO膜上に塗布し、大気中120℃で10分間加熱することにより、膜厚約20nmの正孔注入層を形成した。次に、正孔注入層を形成したガラス基板を、ホットプレート上で70℃に充分に加熱した後、加熱した基板をスピンコーターに載せ、正孔注入層上に、組成物10を2000rpmの回転数でスピンコート法により塗布し、窒素ガス雰囲気下で風乾させることにより、ヨウ化鉛の塗布膜を得た。次に、ヨウ化鉛の塗布膜上に、組成物2を滴下し、6000rpmでスピンコートし、大気中100℃で10分間加熱することにより、活性層を形成した。活性層の膜厚は約350nmであった。
太陽電池の陽極として機能するITO薄膜が形成されたガラス基板を用意した。ITO薄膜はスパッタリング法によって形成されたものであり、その厚みは150nmであった。ITO薄膜を有するガラス基板をオゾンUV処理し、ITO薄膜の表面処理を行った。次に、組成物9をスピンコート法によりITO膜上に塗布し、大気中室温で乾燥することにより、膜厚約10nmの正孔注入層を形成した。次に、正孔注入層を形成したガラス基板を、ホットプレート上で70℃に充分に加熱した後、加熱した基板をスピンコーターに載せ、正孔注入層上に、組成物10を2000rpmの回転数でスピンコート法により塗布し、窒素ガス雰囲気下で風乾させることにより、ヨウ化鉛の塗布膜を得た。次に、ヨウ化鉛の塗布膜上に、組成物2を滴下し、6000rpmでスピンコートし、大気中100℃で10分間加熱することにより、活性層を形成した。活性層の膜厚は約350nmであった。
太陽電池の陽極として機能するITO薄膜が形成されたガラス基板を用意した。ITO薄膜はスパッタリング法によって形成されたものであり、その厚みは150nmであった。ITO薄膜を有するガラス基板をオゾンUV処理し、ITO薄膜の表面処理を行った。次に、組成物11をスピンコート法によりITO膜上に塗布し、大気中120℃で10分間加熱することにより、膜厚約10nmの正孔注入層を形成した。次に、正孔注入層を形成したガラス基板をホットプレート上で70℃に充分に加熱した後、加熱した基板をスピンコーターに載せ、正孔注入層上に、組成物10を2000rpmの回転数でスピンコート法により塗布し、窒素ガス雰囲気下で風乾させることにより、ヨウ化鉛の塗布膜を得た。次に、ヨウ化鉛の塗布膜上に、組成物2を滴下し、6000rpmでスピンコートし、大気中100℃で10分間加熱することにより、活性層を形成した。活性層の膜厚は約350nmであった。
太陽電池の陽極として機能するITO薄膜が形成されたガラス基板を用意した。ITO薄膜はスパッタリング法によって形成されたものであり、その厚みは150nmであった。ITO薄膜を有するガラス基板をオゾンUV処理し、ITO薄膜の表面処理を行った。次に、PEDOT:PSS溶液(ヘレウス社製、CleviosP VP AI4083)をスピンコート法によりITO膜上に塗布し、大気中120℃で10分間加熱することにより、膜厚50nmの正孔注入層を形成した。次に、正孔注入層上に、組成物1を6000rpmの回転数でスピンコート法により塗布し、窒素ガス雰囲気下で風乾させることにより、ヨウ化鉛の塗布膜を得た。次に、ヨウ化鉛の塗布膜上に、組成物2を滴下し、6000rpmでスピンコートし、大気中100℃で10分間加熱することにより、活性層を形成した。活性層の膜厚は約200nmであった。
太陽電池の陽極として機能するITO薄膜が形成されたガラス基板を用意した。ITO薄膜はスパッタリング法によって形成されたものであり、その厚みは150nmであった。ITO薄膜を有するガラス基板をオゾンUV処理し、ITO薄膜の表面処理を行った。次に、組成物7をスピンコート法によりITO膜上に塗布し、真空乾燥することにより、膜厚約30nmの正孔注入層を形成した。次に、正孔注入層を形成したガラス基板を、ホットプレート上で70℃に充分に加熱した後、加熱した基板をスピンコーターに載せ、正孔注入層上に、組成物1を6000rpmの回転数でスピンコート法により塗布し、窒素ガス雰囲気下で風乾させることにより、ヨウ化鉛の塗布膜を得た。次に、ヨウ化鉛の塗布膜上に、組成物2を滴下し、6000rpmでスピンコートし、大気中100℃で10分間加熱することにより、活性層を形成した。活性層の膜厚は約300nmであった。
一辺1インチの正方形の基板上に、Plexcore PV2000 Hole Transport Ink(上述のとおり、シグマ・アルドリッチ社製の有機太陽電池作製キット(PV2000 kit)に含まれている)を、スピンコート法により塗布し、大気中170℃で10分間加熱することにより、膜厚50nmの塗布膜を形成した。次に、この塗布膜上にメニスカス状に水を載せ、30秒後に4000rpmでスピンさせて振り切った。塗布膜の残膜率は、100%であった。
Claims (10)
- 陽極と、陰極と、陽極および陰極の間に設けられたペロブスカイト化合物を含む活性層と、陽極および活性層の間に設けられた正孔注入層とを有し、
正孔注入層が、下記に示す水リンス処理後の残膜率測定において残膜率が80%以上である層であり、
正孔注入層の材料が、ポリチオフェンおよびその誘導体、芳香族アミン化合物、並びに、少なくとも3つの置換基を有するフェニル基を含む芳香族アミン残基を繰り返し単位にもつ高分子化合物からなる群より選ばれる1種以上の材料である、光電変換素子。
<水リンス処理後の残膜率測定方法>
一辺1インチの正方形の基板上に、光電変換素子における正孔注入層として成膜する場合と同等の膜厚となるように、スピンコート法により膜を塗布成膜した後、膜上にメニスカス状に水を載せ、30秒間静置した後、4000rpmでスピンさせて水を振り切ることにより、水リンス処理を行う。
水リンス処理前後の膜厚を触針式膜厚計で測定し、(水リンス処理後の膜厚/水リンス処理前の膜厚)×100(%)の値を、水リンス処理後の残膜率とする。 - 陽極と、陰極と、陽極および陰極の間に設けられたペロブスカイト化合物を含む活性層と、陽極および活性層の間に設けられた正孔注入層とを有し、
正孔注入層が、下記に示す水リンス処理後の残膜率測定において残膜率が80%以上である層であり、
正孔注入層の材料が、芳香族アミン化合物および芳香族アミン残基を繰り返し単位にもつ高分子化合物からなる群より選ばれる1種以上の材料であり、かつ、
正孔注入層の厚さが15nm以下である、光電変換素子。
<水リンス処理後の残膜率測定方法>
一辺1インチの正方形の基板上に、光電変換素子における正孔注入層として成膜する場合と同等の膜厚となるように、スピンコート法により膜を塗布成膜した後、膜上にメニスカス状に水を載せ、30秒間静置した後、4000rpmでスピンさせて水を振り切ることにより、水リンス処理を行う。
水リンス処理前後の膜厚を触針式膜厚計で測定し、(水リンス処理後の膜厚/水リンス処理前の膜厚)×100(%)の値を、水リンス処理後の残膜率とする。 - 支持基板、前記陽極、前記正孔注入層、前記活性層および前記陰極が、この順で積層された構成を有する、請求項1または2に記載された光電変換素子。
- 前記活性層と前記陰極の間に設けられた電子輸送層をさらに有する、請求項1〜3のいずれかに記載された光電変換素子。
- 前記電子輸送層が、
フラーレン類およびフラーレン類の誘導体からなる群より選ばれる1種以上の材料を含む塗布液を塗布することによって形成される層である、請求項4に記載された光電変換素子。 - 前記正孔注入層と前記活性層の間に設けられた正孔輸送層をさらに有する、請求項1〜5のいずれかに記載された光電変換素子。
- 前記活性層が、塗布法によって形成される層である、請求項1〜6のいずれかに記載された光電変換素子。
- 請求項1〜7のいずれかに記載された光電変換素子を有する有機光センサー。
- 支持基板と、陽極と、陰極と、陽極および陰極の間に設けられたペロブスカイト化合物を含む活性層と、陽極および活性層の間に設けられた正孔注入層とを有する光電変換素子の製造方法であって、
支持基板上に形成された陽極上に、正孔注入層を形成する工程と、
正孔注入層上に、活性層を形成する工程とを含み、
正孔注入層が、下記に示す水リンス処理後の残膜率測定において残膜率が80%以上である層であり、
正孔注入層の材料が、ポリチオフェンおよびその誘導体、芳香族アミン化合物、並びに、少なくとも3つの置換基を有するフェニル基を含む芳香族アミン残基を繰り返し単位にもつ高分子化合物からなる群より選ばれる1種以上の材料である、光電変換素子の製造方法。
<水リンス処理後の残膜率測定方法>
一辺1インチの正方形の基板上に、光電変換素子における正孔注入層として成膜する場合と同等の膜厚となるように、スピンコート法により膜を塗布成膜した後、膜上にメニスカス状に水を載せ、30秒間静置した後、4000rpmでスピンさせて水を振り切ることにより、水リンス処理を行う。
水リンス処理前後の膜厚を触針式膜厚計で測定し、(水リンス処理後の膜厚/水リンス処理前の膜厚)×100(%)を水リンス処理後の残膜率とする。 - 支持基板と、陽極と、陰極と、陽極および陰極の間に設けられたペロブスカイト化合物を含む活性層と、陽極および活性層の間に設けられた正孔注入層とを有する光電変換素子の製造方法であって、
支持基板上に形成された陽極上に、正孔注入層を形成する工程と、
正孔注入層上に、活性層を形成する工程とを含み、
正孔注入層が、下記に示す水リンス処理後の残膜率測定において残膜率が80%以上である層であり、
正孔注入層の材料が、芳香族アミン化合物および芳香族アミン残基を繰り返し単位にもつ高分子化合物からなる群より選ばれる1種以上の材料であり、かつ、
正孔注入層の厚さが15nm以下である、光電変換素子の製造方法。
<水リンス処理後の残膜率測定方法>
一辺1インチの正方形の基板上に、光電変換素子における正孔注入層として成膜する場合と同等の膜厚となるように、スピンコート法により膜を塗布成膜した後、膜上にメニスカス状に水を載せ、30秒間静置した後、4000rpmでスピンさせて水を振り切ることにより、水リンス処理を行う。
水リンス処理前後の膜厚を触針式膜厚計で測定し、(水リンス処理後の膜厚/水リンス処理前の膜厚)×100(%)の値を、水リンス処理後の残膜率とする。
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