JPWO2015093193A1 - アルケニルエーテル化合物及びこれを用いた液晶組成物 - Google Patents
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Abstract
Description
一方、ベンゼン環の水素原子がフッ素原子で置換された構造を持つ化合物として、例えば、下記化合物が開示されている(特許文献2、特許文献3)。
更に、アリルエーテル構造を持ち、且つ、ハロゲン原子で置換された構造を持つ化合物として、下記化合物が開示されている(特許文献4)。しかしながら、そのΔnは十分に大きい物では無かった。
R2は炭素原子数2から15のアルケニル基を表し、アルケニル基中に存在する−CH2−において、酸素原子と直接結合している−CH2−を除く1個の−CH2−又は隣接していない2個以上の−CH2−は、−O−、−S−、−COO−、−OCO−又は−CO−により置き換えられても良く、アルケニル基中に存在する水素原子はフッ素原子に置換されても良く、
A1は
(a)1,4−シクロへキシレン基(この基中に存在する1個の−CH2−又は隣接していない2個以上の−CH2−は−O−又は−S−に置き換えられても良い。)
(b)1,4−フェニレン基(この基中に存在する1個の−CH=又は隣接していない2個以上の−CH=は−N=に置き換えられても良く、この基中に存在する水素原子はフッ素原子に置換されても良い。)
(c)ナフタレン−2,6−ジイル基(この基中に存在する1個の−CH=又は隣接していない2個以上の−CH=は−N=に置き換えられても良く、この基中に存在する水素原子はフッ素原子に置換されても良い。)
からなる群より選ばれる基であり、
Z1は−CH2O−、−OCH2−、−CF2O−、−OCF2−、−COO−、−OCO−、−CH2CH2−、−CF2CF2−、−CH=CH−、−CF=CF−、−C≡C−又は単結合を表し、
Xは水素原子、フッ素原子、又は塩素原子を表し、
mは1〜4を表すが、mが2〜4であってA1が複数存在する場合は、複数のA1は同一であっても異なっていても良く、mが2〜4であってZ1が複数存在する場合は、複数のZ1は同一であっても異なっていても良い。
ただし、mが2〜4を表す場合、A1の少なくとも1つ以上は1,4−フェニレン基又はナフタレン−2,6−ジイル基を表す。)で表される化合物を提供し、併せて当該化合物を含有する液晶組成物及び当該液晶組成物を用いた液晶表示素子を提供する。
R3は水素原子又は炭素原子数1〜3のアルキル基を表し、これらの基中に存在する1個の−CH2−又は隣接していない2個以上の−CH2−は−O−、−S−、−COO−、−OCO−又は−CO−により置き換えられても良く、これらの基中に存在する水素原子はフッ素原子に置換されても良い。)
更に、R2は粘度を低下させる為には、炭素原子数2〜5のアルケニル基である事が好ましく、
一般式(1a)で表される化合物としては、以下の一般式(1a−1)〜一般式(1a−12)がより好ましい。
一般式(1b)で表される化合物としては、以下の一般式(1b−1)〜一般式(1b−34)で表される化合物が好ましい。
一般式(1c)で表される化合物としては、以下の一般式(1c−1)〜一般式(1c−30)が好ましい。
一般式(1d)で表される化合物としては、以下の一般式(1d−1)〜一般式(1d−24)が好ましい。
本発明の液晶組成物において一般式(1)で表される化合物の含有量が少ないとその効果が現れないため、組成物中に下限値として、1質量%(以下組成物中の%は質量%を表す。)以上含有することが好ましく、2%以上含有することが好ましく、5%以上含有することが好ましく、10%以上含有することが更に好ましい。又、含有量が多いと析出等の問題を引き起こすため、上限値としては、70%以下含有することが好ましく、60%以下含有することがより好ましく、50%以下含有することが更に好ましく、40%以下含有することが特に好ましい。一般式(1)で表される化合物は1種のみで使用することもできるが、2種以上の化合物を同時に使用してもよい。
RLC11及びRLC21はそれぞれ独立して炭素原子数1〜7のアルキル基、炭素原子数1〜7のアルコキシ基、炭素原子数2〜7のアルケニル基が好ましく、炭素原子数1〜5のアルキル基、炭素原子数1〜5のアルコキシ基、炭素原子数2〜5のアルケニル基がより好ましく、直鎖状であることが更に好ましく、アルケニル基としては下記構造を表すことが最も好ましい。
ALC11及びALC21はそれぞれ独立して下記の構造が好ましい。
一般式(LC2)は、下記一般式(LC2−a)から一般式(LC2−g)
YLC21はそれぞれ独立してフッ素原子、−CF3又は−OCF3が好ましい。
RLC31〜RLC52は、それぞれ独立して、炭素原子数1〜7のアルキル基、炭素原子数1〜7のアルコキシ基、炭素原子数2〜7のアルケニル基が好ましく、アルケニル基としては下記構造を表すことが最も好ましく、
ALC31〜ALC52はそれぞれ独立して下記の構造が好ましく、
RLC31及びRLC32はそれぞれ独立して炭素原子数1〜7のアルキル基、炭素原子数1〜7のアルコキシ基、炭素原子数2〜7のアルケニル基又は炭素原子数2〜7のアルケニルオキシ基を表すことが好ましい。
ALC31は、1,4−フェニレン基、トランス−1,4−シクロヘキシレン基、テトラヒドロピラン−2,5−ジイル基、1,3−ジオキサン−2,5−ジイル基を表すことが好ましく、1,4−フェニレン基、トランス−1,4−シクロヘキシレン基を表すことがより好ましい。
ZLC31は単結合、−CH2O−、−COO−、−OCO−、−CH2CH2−を表すことが好ましく、単結合を表すことがより好ましい。
一般式(LC3−a)としては、下記一般式(LC3−a1)〜一般式(LC3−a4)を表すことが好ましい。
RLC31及びRLC32はそれぞれ独立して、炭素原子数1〜7のアルキル基、炭素原子数1〜7のアルコキシ基、炭素原子数2〜7のアルケニル基が好ましく、RLC31が炭素原子数1〜7のアルキル基を表し、RLC32が炭素原子数1〜7のアルコキシ基を表すことがより好ましい。
RLC31及びRLC32はそれぞれ独立して、炭素原子数1〜7のアルキル基、炭素原子数1〜7のアルコキシ基、炭素原子数2〜7のアルケニル基が好ましく、RLC31が炭素原子数2又は3のアルキル基を表し、RLC32が炭素原子数2のアルキル基を表すことがより好ましい。
RLC61及びRLC62は、それぞれ独立して、炭素原子数1〜7のアルキル基、炭素原子数1〜7のアルコキシ基、炭素原子数2〜7のアルケニル基が好ましく、アルケニル基としては下記構造を表すことが最も好ましく、
ALC61〜ALC63はそれぞれ独立して下記の構造が好ましく、
(製法1)
一般式(2)
で表される化合物を塩基を用いてフェノラートとし、その後一般式(3)
で表される化合物と反応させることによって一般式(1)で表される化合物を得ることができる。
(製法2)
一般式(2)で表される化合物をアゾジカルボン酸ジエステル類及びホスフィン類存在下、一般式(4)
で表される化合物と反応させることによって一般式(1)で表される化合物を得ることができる。
(製法3)
一般式(7−1)
A2は
(b)1,4−フェニレン基(この基中に存在する1個の−CH=又は隣接していない2個以上の−CH=は−N=に置き換えられても良く、この基中に存在する水素原子はフッ素原子に置換されても良い。)
(c)ナフタレン−2,6−ジイル基(この基中に存在する1個の−CH=又は隣接していない2個以上の−CH=は−N=に置き換えられても良く、この基中に存在する水素原子はフッ素原子に置換されても良い。)
からなる群より選ばれる基を表し、
X2は一般式(B−1)あるいは(B−2)
を表し、
nは0〜3を表すが、nが2又は3であってA1が複数存在する場合は、複数のA1は同一であっても異なっていても良く、nが2又は3であってZ1が複数存在する場合は、複数のZ1は同一であっても異なっていても良い。)
で表される化合物を、遷移金属触媒存在下、一般式(8−1)
X3は塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子又はトリフルオロメタンスルホニルオキシ基からなる群より選ばれる基を表す。)
で表される化合物と反応させることで、一般式(9)
で表される化合物を得ることができる。
(製法4)
一般式(7−2)
A3は
(b)1,4−フェニレン基(この基中に存在する1個の−CH=又は隣接していない2個以上の−CH=は−N=に置き換えられても良く、この基中に存在する水素原子はフッ素原子に置換されても良い。)
(c)ナフタレン−2,6−ジイル基(この基中に存在する1個の−CH=又は隣接していない2個以上の−CH=は−N=に置き換えられても良く、この基中に存在する水素原子はフッ素原子に置換されても良い。)
からなる群より選ばれる基を表し、
X4は塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子又はトリフルオロメタンスルホニルオキシ基からなる群より選ばれる基を表し、
nは0〜3を表すが、nが2又は3であってA1が複数存在する場合は、複数のA1は同一であっても異なっていても良く、nが2又は3であってZ1が複数存在する場合は、複数のZ1は同一であっても異なっていても良い。)
で表される化合物を、遷移金属触媒存在下、一般式(8−2)
X5は一般式(B−1)あるいは(B−2)
で表される化合物と反応させることで、一般式(9)
で表される化合物を得ることができる。
前記基板a又は前記基板bは、実質的に透明であれば材質に特に限定はなく、ガラス、セラミックス、プラスチック等を使用することができる。プラスチック基板としてはセルロ−ス、トリアセチルセルロ−ス、ジアセチルセルロ−ス等のセルロ−ス誘導体、ポリシクロオレフィン誘導体、ポリエチレンテレフタレ−ト、ポリエチレンナフタレ−ト等のポリエステル、ポリプロピレン、ポリエチレン等のポリオレフィン、ポリカーボネート、ポリビニルアルコ−ル、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアミド、ポリイミド、ポリイミドアミド、ポリスチレン、ポリアクリレート、ポリメチルメタクリレ−ト、ポリエーテルサルホン、ポリアリレート、更にガラス繊維−エポキシ樹脂、ガラス繊維−アクリル樹脂などの無機−有機複合材料などを用いることができる。
Me:メチル基、Pr:n−プロピル基
(実施例1)2,3,6−トリフルオロ−4−[4−(4−プロピルフェニル)フェニル]−1−アリルオキシベンゼン(1b−11)の製造
(1−2) 乾燥窒素雰囲気下、(1−1)で得られた粗製4−(4−プロピルフェニル)フェニルホウ酸(26.6g)、2,3,5−トリフルオロブロモベンゼン(19.2g)炭酸カリウム(18.8g)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)(2.10g)及びエタノール(200mL)を混合し、溶媒が還流する温度にて15時間撹拌した。室温まで放冷した後、析出した結晶を濾過し、減圧乾燥し、混合溶媒(トルエン/ヘキサン=2:1、150mL)に溶解させ、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。溶媒を減圧留去した後、トルエン及びヘキサンの混合溶媒から再結晶する事で、2,3,5−トリフルオロ−1−[4−(4−プロピルフェニル)フェニル]ベンゼン(18.0g)を得た。
(1−3) 乾燥窒素雰囲気下、ジイソプロピルアミン(7.3g)及びTHF(180mL)を混合し、−40℃に冷却し、1.6mol/Lノルマルブチルリチウムヘキサン溶液(40mL)をゆっくりと加え、−40℃にて更に1時間撹拌した。続いて、(1−2)で得られた2,3,5−トリフルオロ−1−[4−(4−プロピルフェニル)フェニル]ベンゼン(18.0g)及びホウ酸トリイソプロピル(13.5g)をTHF(40mL)に溶解させた溶液をゆっくりと加え、−40℃にて更に1時間撹拌した。室温までゆっくりと昇温させた後、氷冷し、水(10mL)をゆっくりと加え、10%塩酸(60mL)をゆっくりと加え、分液した。有機層を水(50mL)で洗浄した後、30%過酸化水素水(8.1g)をゆっくりと加え、50℃にて40時間撹拌した。氷冷下10%亜硫酸ナトリウム水溶液(100mL)及びトルエン(100mL)を加えて分液し、有機層を10%亜硫酸ナトリウム水溶液(100mL)及び飽和食塩水(100mL)で洗浄し、無水硫酸ナトリウムを加えて乾燥した。有機溶媒を減圧留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製する事で、粗製2,3,6−トリフルオロ−4−[4−(4−プロピルフェニル)フェニル]フェノール(19.0g)を得た。
(1−4) 乾燥窒素雰囲気下、(1−3)で得られた2,3,6−トリフルオロ−4−[4−(4−プロピルフェニル)フェニル]フェノール(19.0g)、アリルブロマイド(7.4g)及び無水炭酸カリウム(11.5g)をDMF(100mL)に懸濁させ、40℃にて4時間撹拌した。室温まで冷却し、トルエン(50mL)を加えて不溶物を濾過により除去した後、水(100mL)を加えて分液した。有機層を水(100mL)及び飽和食塩水(150mL)で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムを加えて乾燥した。有機溶媒を減圧留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した後、アセトン及びエタノールの混合溶媒から再結晶する事で、2,3,6−トリフルオロ−4−[4−(4−プロピルフェニル)フェニル]−1−アリルオキシベンゼン(1b−11)を得た。
相転移温度(℃):Cr 115 SmA 126 N 132 Iso
MS m/z:382[M+]
1HNMR(CDCl3、TMS内部標準)δ(ppm)=7.67(2H,d,J=8.3Hz),7.57−7.54(4H,m),7.28(2H,d,J=8.0Hz),7.04−6.99(1H,m),6.13−6.03(1H,m),5.42(1H,dd,J1=1.2Hz,J2=17.2Hz),5.31(1H,dd,J1=0.9Hz,J2=10.3Hz),4.73(2H,d,J=6.0Hz),2.64(2H,t,J=7.5Hz),1.67(2H,sex,J=7.4Hz),0.98(3H,t,J=7.3Hz)
(実施例2)2,6−ジフルオロ−4−[4−(trans−4−プロピルシクロヘキシル)フェニル]−1−アリルオキシベンゼン(1b−1)の製造
(2−2) 4−ブロモ−2,6−ジフルオロフェノール(33.8g)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)(5.61g)、エタノール(170mL)及び2mol/L炭酸カリウム水溶液(160mL)を混合し、60℃に加熱した。加熱下、(2−1)で得られた4−(trans−4−プロピルシクロヘキシル)フェニルホウ酸(46.8g)をエタノール(150mL)に溶解させた溶液をゆっくりと滴下した。60℃にて更に4時間撹拌した後、室温まで冷却し、酢酸エチル(200mL)を加えて分液した。水層に酢酸エチル(150mL)を加えて抽出し、併せた有機層を飽和食塩水(200mL)で2回洗浄し、うすい硫酸ナトリウムを加えて乾燥した。有機溶媒を減圧下留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製した後、ヘキサンから再結晶する事で4−[4−(trans−4−プロピルシクロヘキシル)フェニル]−2,6−ジフルオロフェノール(34.9g)を得た。
(2−3) 乾燥窒素雰囲気下、(2−2)で得られた4−[4−(trans−4−プロピルシクロヘキシル)フェニル]−2,6−ジフルオロフェノール(18.0g)、アリルブロマイド(7.3g)、無水炭酸カリウム(11.3g)及びDMF(90mL)を懸濁させ、40℃にて4時間撹拌した。不溶物を濾過により除去した後、トルエン(100mL)を加えて分液した。有機層を飽和食塩水(100mL)で2回洗浄した後、無水硫酸ナトリウムを加えて乾燥した。有機溶媒を減圧下留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した後、アセトン及びメタノール混合溶液から再結晶する事で、2,6−ジフルオロ−4−[4−(trans−4−プロピルシクロヘキシル)フェニル]−1−アリルオキシベンゼン(12.6g)を得た。
相転移温度(℃):Cr 60 SmA 69 N 129 Iso
MS m/z:370[M+]
1HNMR(CDCl3、TMS内部標準)δ(ppm)=7.43(2H,d,J=7.2Hz),7.27(2H,d,J=7.6Hz),7.11(2H,d,J=8.5Hz),6.13−6.03(1H,m),5.40(1H,dt,J1=1.4Hz,J2=17.2Hz),5.28(1H,d,J=10.2Hz),4.67(2H,d,J=5.8Hz),2.53−2.46(1H,m),1.92−1.86(4H,m),1.52−1.19(7H,m),1.11−1.01(2H,m),0.91(3H,t,J=7.2Hz)
(実施例3)2,6−ジフルオロ−4−[4−(trans−4−プロピルシクロヘキシル)フェニル]−1−(2−ブテン−1−イルオキシ)ベンゼン(1b−6)の製造
相転移温度(℃):Cr 53 SmA 86 N 131 Iso
MS m/z:384[M+]
1HNMR(CDCl3、TMS内部標準)δ(ppm)=7.43(2H,d,J=7.2Hz),7.27(2H,d,J=8.6Hz),7.10(2H,d,J=8.4Hz),5.86−5.71(2H,m),4.59(2H,d,J=6.1Hz),2.53−2.47(1H,m),1.92−1.86(4H,m),1.72(2H,d,J=5.9Hz),1.71−1.66(1H,m),1.52−1.19(7H,m),1.11−1.01(2H,m),0.91(3H,t,J=7.2Hz)
(実施例4)2,6−ジフルオロ−4−[4−(trans−4−(trans−4−プロピルシクロヘキシル)シクロヘキシル)フェニル]−1−アリルオキシベンゼン(1e−1)
MS m/z:452[M+]
1HNMR(CDCl3、TMS内部標準)δ(ppm)=7.43(2H,d,J=7.2Hz),7.27(2H,d,J=7.6Hz),7.11(2H,d,J=8.5Hz),6.15−5.95(1H,m),5.36(1H,dd,J1=1.4Hz,J2=17.1Hz),5.24(1H,dd,J1=1.0Hz,J2=10.3Hz),4.59(2H,d,J=6.0Hz),2.36(1H,tt,J1=3.1Hz,J2=12.1Hz),1.92−1.66(8H,m),1.40−0.78(15H,m),0.87(3H,t,J=7.3Hz)
(実施例5)2,6−ジフルオロ−4−[2−フルオロ−4−(4−プロピルフェニル)フェニル]−1−アリルオキシベンゼンの製造
相転移温度(℃):Cr 45 SmA 101 N 110 Iso
MS m/z:382[M+]
1HNMR(CDCl3、TMS内部標準)δ(ppm)=7.50(2H,d,J=8.2Hz),7.41−7.33(3H,m),7.25(2H,d,J=8.3Hz),7.14(2H,d,J=8.3Hz),6.13−6.03(1H,m),5.40(1H,dd,J1=1.4Hz,J2=17.2Hz),5.28(1H,dd,J1=1.2Hz,J2=10.3Hz),4.69(2H,d,J=6.0Hz),2.63(2H,t、J=7.5Hz),1.67(1H,sex,J=7.6Hz),0.97(3H,t,J=7.3Hz)
(実施例6)2,6−ジフルオロ−4−[2−フルオロ−4−(4−プロピルフェニル)フェニル]−1−(2−ブテン−1−イルオキシ)ベンゼンの製造
相転移温度(℃):Cr 59 SmA 95 N 111 Iso
MS m/z:396[M+]
1HNMR(CDCl3、TMS内部標準)δ(ppm)=7.50(2H,d,J=8.1Hz),7.42−7.33(3H,m),7.25(2H,d,J=8.2Hz),7.14(2H,d,J=8.4Hz),5.88−5.72(2H,m),4.62(2H,d,J=6.1Hz),2.62(2H,t、J=7.6Hz),1.73−1.56(4H,m),0.97(3H,t,J=7.3Hz)
(比較例1)2,6−ジフルオロ−4−[trans−4−(trans−4−プロピルシクロヘキシル)シクロヘキシル]−1−アリルオキシベンゼン
相転移温度(℃):Cr 30 N 159 Iso
MS m/z:376[M+]
1HNMR(CDCl3、TMS内部標準)δ(ppm)=6.72(2H,d,J=9.5Hz),6.15−5.95(1H,m),5.36(1H,dd,J1=1.4Hz,J2=17.1Hz),5.24(1H,dd,J1=1.0Hz,J2=10.3Hz),4.59(2H,d,J=6.0Hz),2.36(1H,tt,J1=3.1Hz,J2=12.1Hz),1.92−1.66(8H,m),1.40−0.78(15H,m),0.87(3H,t,J=7.3Hz)
(実施例7)液晶組成物の調製−1
以下の組成からなるホスト液晶組成物(H)
誘電率異方性(Δε):4.76
屈折率異方性(Δn):0.0873
粘度(η20):20.5mPa・s
この母体液晶(H)90%と、実施例1で得られた2,3,6−トリフルオロ−4−[4−(4−プロピルフェニル)フェニル]−1−アリルオキシベンゼン10%からなる液晶組成物(M−A)を調製した。この組成物の外挿Tn−i、外挿Δε、外挿Δn、外挿η20の値は以下のとおりである。
Δε:0.38
Δn:0.2524
η20:23.7mPa・s
また、調製した液晶組成物(M−A)は、室温にて一ヶ月間以上均一なネマチック液晶状態を維持した。
(実施例8)液晶組成物の調製−2
母体液晶(H)80%と、実施例2で得られた2,6−ジフルオロ−4−[4−(trans−4−プロピルシクロヘキシル)フェニル]−1−アリルオキシベンゼン20%からなる液晶組成物(M−B)を調製した。この組成物の外挿Tn−i、外挿Δε、外挿Δn、外挿η20の値は以下のとおりである。
Δε:2.86
Δn:0.1883
η20:17.7mPa・s
また、調製した液晶組成物(M−B)は、室温にて一ヶ月間以上均一なネマチック液晶状態を維持した。
(実施例9)液晶組成物の調製−3
母体液晶(H)80%と、実施例3で得られた2,6−ジフルオロ−4−[4−(trans−4−プロピルシクロヘキシル)フェニル]−1−(2−ブテン−1−イルオキシ)ベンゼン20%からなる液晶組成物(M−C)を調製した。この組成物の外挿Tn−i、外挿Δε、外挿Δn、外挿η20の値は以下のとおりである。
Δε:2.19
Δn:0.1926
η20:24.9mPa・s
また、調製した液晶組成物(M−C)は、室温にて一ヶ月間以上均一なネマチック液晶状態を維持した。
(実施例10)液晶組成物の調製―4
母体液晶(H)80%と、実施例5で得られた2,6−ジフルオロ−4−[2−フルオロ−4−(4−プロピルフェニル)フェニル]−1−アリルオキシベンゼン20%からなる液晶組成物(M−D)を調製した。この組成物の外挿Tn−i、外挿Δε、外挿Δn、外挿η20の値は以下のとおりである。
Δε:5.36
Δn:0.2753
η20:25.7mPa・s
また、調製した液晶組成物(M−D)は、室温にて一ヶ月間以上均一なネマチック液晶状態を維持した。
(実施例11)液晶組成物の調製―5
母体液晶(H)80%と、実施例6で得られた2,6−ジフルオロ−4−[2−フルオロ−4−(4−プロピルフェニル)フェニル]−1−(2−ブテン−1−イルオキシ)ベンゼン20%からなる液晶組成物(M−E)を調製した。この組成物の外挿Tn−i、外挿Δε、外挿Δn、外挿η20の値は以下のとおりである。
Δε:3.76
Δn:0.2703
η20:27.2mPa・s
また、調製した液晶組成物(M−E)は、室温にて一ヶ月間以上均一なネマチック液晶状態を維持した。
(比較例2)液晶組成物の調製−4
母体液晶(H)80%と、比較例1で得られた化合物(6)20%からなる液晶組成物(M−F)を調製した。この組成物の外挿Tn−i、外挿Δε、外挿Δn、外挿η20の値は以下のとおりである。
Δε:1.49
Δn:0.126
η20:20.4mPa・s
実施例8と比較例2とをそれぞれ比較すると、比較例2の外挿粘度(η20)は20.4mPa・sを示すのに対して、実施例8の外挿粘度(η20)は17.7mPa・sであり、比較例2よりも低下している。また、比較例2の外挿Δnは0.126を示すのに対して、実施例8の外挿Δnは0.1883という大きな値を示した。
Claims (8)
- 一般式(1)
R2は炭素原子数2から15のアルケニル基を表し、アルケニル基中に存在する−CH2−において、酸素原子と直接結合している−CH2−を除く1個の−CH2−又は隣接していない2個以上の−CH2−は、−O−、−S−、−COO−、−OCO−又は−CO−により置き換えられても良く、アルケニル基中に存在する水素原子はフッ素原子に置換されても良く、
A1は
(a)1,4−シクロへキシレン基(この基中に存在する1個の−CH2−又は隣接していない2個以上の−CH2−は−O−又は−S−に置き換えられても良い。)
(b)1,4−フェニレン基(この基中に存在する1個の−CH=又は隣接していない2個以上の−CH=は−N=に置き換えられても良く、この基中に存在する水素原子はフッ素原子に置換されても良い。)
(c)ナフタレン−2,6−ジイル基(この基中に存在する1個の−CH=又は隣接していない2個以上の−CH=は−N=に置き換えられても良く、この基中に存在する水素原子はフッ素原子に置換されても良い。)
からなる群より選ばれる基であり、
Z1は−CH2O−、−OCH2−、−CF2O−、−OCF2−、−COO−、−OCO−、−CH2CH2−、−CF2CF2−、−CH=CH−、−CF=CF−、−C≡C−又は単結合を表し、
Xは水素原子、フッ素原子、又は塩素原子を表し、
mは1〜4を表すが、mが2〜4であってA1が複数存在する場合は、複数のA1は同一であっても異なっていても良く、mが2〜4であってZ1が複数存在する場合は、複数のZ1は同一であっても異なっていても良い。
ただし、mが2〜4を表す場合、A1の少なくとも1つ以上は1,4−フェニレン基又はナフタレン−2,6−ジイル基を表す。)
で表される化合物。 - 一般式(1)において、Xが水素原子又はフッ素原子を表す請求項1又は2のいずれか一項に記載の化合物。
- 一般式(1)において、Z1が−CH2O−、−OCH2−、−CH2CH2−、又は単結合を表す請求項1から4のいずれか一項に記載の化合物。
- 一般式(1)において、R1が炭素原子数1から6のアルキル基又は炭素原子数2から6のアルケニル基を表す請求項1から5のいずれか一項に記載の化合物。
- 請求項1から6のいずれか一項に記載の化合物を一種又は二種以上含有する組成物。
- 請求項7記載の組成物を使用した液晶表示素子。
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