JPWO2015080218A1 - 重合性化合物、組成物、重合体、光学異方体、液晶表示素子及び有機el素子 - Google Patents
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Abstract
Description
一般式(1−0)
A1、A2、A3、A4はそれぞれ独立に二価の脂環式炭化水素基又は芳香族炭化水素基を表し、
X1、X2、X3、X4はそれぞれ独立に二価の連結基又は単結合を表し、
R1は炭素原子数1〜12のアルキル基、アルコキシ基又は「*−Sp−P」を表し(*はA4又はA3に結合することを表す。)、
m、nはそれぞれ独立に0〜4の整数を表し(ただし、m+nは2以上の整数である。)、
Zは式中のC−C=C−Cとともにナフタレン環を表し、このナフタレン環に結合する水素原子のうち2つが式中のX2を含む基及びX3を含む基にそれぞれ置換されており、
T1、T2はそれぞれ独立に、−S−、−O−、−NR2−、−CH2−、−NH−、−C(=O)−、−S(=O)−又は−C(=S)−を表し、
R2は水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1〜6のアルキル基、炭素原子数1〜6のアルコキシ基、シアノ基、ニトロ基又は水酸基を表し、
R3、R4は、それぞれ独立して一価の置換基を表すか、又は、R3とR4を連結するYを介して環を形成する。この環を形成する場合には、R3及びR4 はそれぞれ独立して、−O−、−S−、−SO−、−SO2−、−NR−(Rは水素原子又は一価の置換基を表す。)、=N−、=N(+)R−(Rは水素原子又は一価の置換基を表す。)、−C(=O)−、−C (=S)−及び=CR−(Rは水素原子又は一価の置換基を表す。)からなる群から選ばれる基を表す。
Yは炭素原子及び第14〜16族の非金属原子からなる群から選択される2〜4個の原子を表し、式中のR3−C−R4と共に5〜7員環を形成する。この5〜7員環に結合する水素原子には一価の置換基が結合してもよい。ただし、T1とR3、及びT2とR4が同じである場合、並びに、T1とR4、及びT2とR3が同じである場合は除く。]
で表される、重合性化合物。
本発明の第三態様は、第二態様の組成物を重合することにより得られる重合体である。
本発明の第四態様は、第三態様の重合体を用いた光学異方体である。
本発明の第五態様は、第四態様の光学異方体を用いた液晶表示素子である。
本発明の第六態様は、第四態様の光学異方体を用いた有機EL素子である。
本発明の第一実施形態の重合性化合物は、下記一般式(1−0)で表される化合物である。
A1、A2、A3、A4はそれぞれ独立に二価の脂環式炭化水素基又は芳香族炭化水素基を表し、
X1、X2、X3、X4はそれぞれ独立に二価の連結基又は単結合を表し、
R1は炭素原子数1〜12のアルキル基、アルコキシ基又は「*−Sp−P」を表し(*はA4又はA3に結合することを表す。)、
m、nはそれぞれ独立に0〜4の整数を表し(ただし、m+nは2以上の整数である。)、
Zは式中のC−C=C−Cとともにナフタレン環を表し、このナフタレン環に結合する水素原子のうち2つが式中のX2を含む基及びX3を含む基にそれぞれ置換されており、
T1、T2はそれぞれ独立に、−S−、−O−、−NR2−、−CH2−、−NH−、−C(=O)−、−S(=O)−又は−C(=S)−を表し、
R2は水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1〜6のアルキル基、炭素原子数1〜6のアルコキシ基、シアノ基、ニトロ基又は水酸基を表し、
R3、R4は、それぞれ独立して一価の置換基を表すか、又は、R3とR4を連結するYを介して環を形成する。この環を形成する場合には、R3及びR4 はそれぞれ独立して、−O−、−S−、−SO−、−SO2−、−NR−(Rは水素原子又は一価の置換基を表す。)、=N−、=N(+)R−(Rは水素原子又は一価の置換基を表す。)、−C(=O)−、−C (=S)−及び=CR−(Rは水素原子又は一価の置換基を表す。)からなる群から選ばれる基を表す。
Yは炭素原子及び第14〜16族の非金属原子からなる群から選択される2〜4個の原子を表し、式中のR3−C−R4と共に5〜7員環を形成する。この5〜7員環に結合する水素原子には一価の置換基が結合してもよい。ただし、T1とR3、及びT2とR4が同じである場合、並びに、T1とR4、及びT2とR3が同じである場合は除く。
一般式(1−0)中のPで表される重合性官能基は、従来の重合性液晶化合物に使用される基が制限なく適用可能であり、例えば、ビニル基、p−スチルベン基、アクリル基(アクリロイル基)、メタクリル基(メタクロイル基)、アクリロイルオキシ基、メタクロイルオキシ基、カルボキシル基、メチルカルボニル基、水酸基、アミド基、炭素数1〜4のアルキルアミノ基、アミノ基、エポキシ基、オキセタニル基、アルデヒド基、イソシアネート基又はチオイソシアネート基などが挙げられる。
上記一般式で表される重合性官能基は、その左端が一般式(1−0)のSpに結合する。
前記アルキル基は直鎖又は分岐鎖アルキル基であることが好ましく、直鎖アルキル基であることがより好ましい。前記アルキル基に結合する水素原子の一部又は全部がハロゲン原子によって置換されていてもよい。
一般式(1−0)中のSpはスペーサー基又は単結合を表す。該スペーサー基は、重合性官能基PとA1又はA2とを連結可能な二価の連結基であり、一般式(1−0)で表される化合物(本明細書において化合物(1−0)と呼ぶことがある。)の液晶性を損なわない連結基が好ましい。
一般式(1−0)中の環式基A1、A2、A3、A4は、それぞれ独立に二価の脂環式炭化水素基、又は芳香族炭化水素基を表す。また、上記環式基は芳香族複素環式基であっても構わない。
前記環式基としては、例えば、1,4-フェニレン基、1,4-シクロヘキシレン基、1,4-シクロヘキセニル基、テトラヒドロピラン-2,5-ジイル基、1,3-ジオキサン-2,5-ジイル基、テトラヒドロチオピラン-2,5-ジイル基、1,4-ビシクロ(2,2,2)オクチレン基、デカヒドロナフタレン-2,6-ジイル基、ピリジン-2,5-ジイル基、ピリミジン-2,5-ジイル基、ピラジン-2,5-ジイル基、1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-2,6-ジイル基、2,6-ナフチレン基、フェナントレン-2,7-ジイル基、9,10-ジヒドロフェナントレン-2,7-ジイル基、1,2,3,4,4a,9,10a-オクタヒドロフェナントレン2,7-ジイル基又はフルオレン2,7-ジイル基などが挙げられる。
一般式(1−0)中のX1、X2、X3、X4は、それぞれ独立に二価の連結基又は単結合を表す。前記二価の連結基としては、例えば、−CH2CH2−、−CH=CH−、−C≡C−、−CH=CHCOO−、−OCO-CH=CH−、−(CH2)u-O-COO−、−(CH2)u-OCO−、−(CH2)u-COO−、−(CH2)u-O −、−O-COO-(CH2)u−、−OCO-(CH2)u−、−COO-(CH2)u−、−O-(CH2)u−が挙げられ、−COO−及び−OCO−が好ましい。
ここで、uは0〜2の何れかの整数を表し、uが0である場合、−(CH2)u -COO−及び−COO-(CH2)u−は−COO−を表し、−(CH2) u -OCO−及び−OCO-(CH2)u−は−OCO−を表す。
一般式(1−0)中のm、nは、それぞれ独立に0〜4の整数を表し、且つ、m+nは2以上の整数である。
本実施形態の重合性化合物の液晶性を向上させる観点から、m、nはそれぞれ独立に、0〜3が好ましく、0〜2がより好ましく、1又は2が更に好ましい。また、mとnは同じ整数であることが好ましい。
一般式(1−0)中の末端基R1は、炭素原子数1〜12のアルキル基、炭素原子数1〜12アルコキシ基又は「*−Sp−P」を表す。ここで、「*」は、nが1以上の整数の場合にはA4に結合することを表し、nが0の場合にはA3に結合することを表す。
「*−Sp−P」のSp及び重合性官能基Pは、前述と同じである。分子内にSpが2個存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよく、同一であることが好ましい。また、分子内にPが2個存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよく、同一であることが好ましい。
一般式(1−0)中、Zは式中のC−C=C−Cとともにナフタレン環を表す。このナフタレン環に結合する水素原子のうち2つの水素原子が式中のX2を含む基及びX3を含む基にそれぞれ置換されている。一般式(1−0)で表される重合性化合物の好適な例として、下記の一般式(1−1)、(1−2)及び(1−3)で表さる重合性化合物が挙げられる。
一般式(1−0)中、T1、T2はそれぞれ独立に、−S−、−O−、−NR2−、−CH2−、−NH−、−C(=O)−、−S(=O)−又は−C(=S)−を表す。ここで、R2は水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1〜6のアルキル基、炭素原子数1〜6のアルコキシ基、シアノ基、ニトロ基又は水酸基を表す。T1とT2とは同じであってもよいし、異なっていてもよい。T1及びT2がともに−NR2−である場合には、2つのR2は互いに同じであってもよいし、異なっていてもよい。
T1は−O−、−NR2−又は−S−であることが好ましく、−NR2−又は−S−であることがより好ましく、−S−であることが更に好ましい。
T2は−O−、−NR2−又は−S−であることが好ましく、−NR2−又は−S−であることがより好ましく、−S−であることが更に好ましい。
R2がハロゲン原子である場合、フッ素原子又は塩素原子であることが好ましい。
一般式(1−0)中、R3、R4はそれぞれ独立して一価の置換基を表すか、又は、R3とR4を連結するYを介して環を形成する。
前記アルキル基としては、例えば、炭素数1〜30の直鎖、分岐の置換又は無置換のアルキル基が挙げられる。具体的には、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基が挙げられる。
前記シクロアルキル基としては、例えば、炭素数3〜30の置換または無置換のシクロアルキル基が挙げられる。具体的には、例えば、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、4−n−ドデシルシクロヘキシル基が挙げられる。
前記ビシクロアルキル基としては、例えば、炭素数5〜30の置換または無置換のビシクロアルキル基が挙げられる。ここで無置換のビシクロアルキル基としては、例えば、炭素数5〜30のビシクロアルカンから水素原子を一個除いた一価の基が挙げられる。具体的には、例えば、ビシクロ[1,2,2]ヘプタン−2−イル基、ビシクロ[2,2,2]オクタン−3−イル基が挙げられる。
前記シクロアルケニル基としては、例えば、炭素数3〜30の置換または無置換のシクロアルケニル基が挙げられる。ここで無置換のシクロアルケニル基としては、例えば、炭素数3〜30のシクロアルケンの水素原子を一個除いた一価の基が挙げられる。具体的には、例えば、2−シクロペンテン−1−イル、2−シクロヘキセン−1−イル基が挙げられる。
前記ビシクロアルケニル基としては、例えば、炭素数5〜30の置換または無置換のビシクロアルケニル基が挙げられる。ここで無置換のビシクロアルケニル基としては、二重結合を一個持つビシクロアルケンの水素原子を一個除いた一価の基が挙げられる。具体的には、例えば、ビシクロ[2,2,1]ヘプト−2−エン−1−イル基、ビシクロ[2,2,2]オクト−2−エン−4−イル基が挙げられる。
前記アリール基としては、例えば、炭素数6〜30の置換または無置換のアリール基が挙げられる。具体的には、例えばフェニル基、p−トリル基、ナフチル基が挙げられる。
前記ヘテロ環基としては、例えば、5又は6員の置換または無置換の、芳香族または非芳香族のヘテロ環化合物から一個の水素原子を除いた一価の基が挙げられる。より好ましくは、炭素数3〜30の5又は6員の芳香族のヘテロ環基である。具体的には、例えば、2−フリル基、2−チエニル基、2−ピリミジニル基、2−ベンゾチアゾリル基が挙げられる。
前記アリールオキシ基としては、例えば、炭素数6〜30の置換または無置換のアリールオキシ基が挙げられる。具体的には、例えば、フェノキシ基、2−メチルフェノキシ基、4−tert−ブチルフェノキシ基、3−ニトロフェノキシ基、2−テトラデカノイルアミノフェノキシ基が挙げられる。
前記シリルオキシ基としては、例えば、炭素数3〜20のシリルオキシ基が挙げられる。具体的には、例えば、トリメチルシリルオキシ基、tert−ブチルジメチルシリルオキシ基が挙げられる。
前記カルバモイルオキシ基としては、例えば、炭素数1〜30の置換または無置換のカルバモイルオキシ基が挙げられる。具体的には、例えば、N,N−ジメチルカルバモイルオキシ基、N,N−ジエチルカルバモイルオキシ基、モルホリノカルボニルオキシ基、N,N−ジ−n−オクチルアミノカルボニルオキシ基、N−n−オクチルカルバモイルオキシ基が挙げられる。
前記アリールオキシカルボニルオキシ基としては、例えば、炭素数7〜30の置換または無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基が挙げられる。具体的には、例えば、フェノキシカルボニルオキシ基、p−メトキシフェノキシカルボニルオキシ基、p−n−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ基が挙げられる。
前記アシルアミノ基としては、例えば、ホルミルアミノ基、炭素数1〜30の置換または無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数6〜30の置換または無置換のアリールカルボニルアミノ基が挙げられる。具体的には、例えば、ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、ピバロイルアミノ基、ラウロイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基が挙げられる。
前記アルコキシカルボニルアミノ基としては、例えば、炭素数2〜30の置換または無置換アルコキシカルボニルアミノ基が挙げられる。具体的には、例えば、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、tert−ブトキシカルボニルアミノ基、n−オクタデシルオキシカルボニルアミノ基、N−メチル−メトキシカルボニルアミノ基が挙げられる。
前記スルファモイルアミノ基としては、例えば、炭素数0〜30の置換または無置換のスルファモイルアミノ基が挙げられる。具体的には、例えば、スルファモイルアミノ基、N,N−ジメチルアミノスルホニルアミノ基、N−n−オクチルアミノスルホニルアミノ基が挙げられる。
前記アリールチオ基としては、例えば、炭素数6〜30の置換または無置換のアリールチオ基が挙げられる。具体的には、例えば、フェニルチオ基、p−クロロフェニルチオ基、m−メトキシフェニルチオ基が挙げられる。
前記ヘテロ環チオ基としては、例えば、炭素数2〜30の置換または無置換のヘテロ環チオ基が挙げられる。具体的には、例えば、2−ベンゾチアゾリルチオ基、1−フェニルテトラゾール−5−イルチオ基が挙げられる。
前記アルキル又はアリールスルフィニル基としては、例えば、炭素数1〜30の置換または無置換のアルキルスルフィニル基、炭素数6〜30の置換または無置換のアリールスルフィニル基が挙げられる。具体的には、例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、p−メチルフェニルスルフィニル基が挙げられる。
前記アシル基としては、例えば、ホルミル基、炭素数2〜30の置換または無置換のアルキルカルボニル基、炭素数7〜30の置換または無置換のアリールカルボニル基が挙げられる。具体的には、例えば、アセチル基、ピバロイルベンゾイル基が挙げられる。
前記アルコキシカルボニル基としては、例えば、炭素数2〜30の置換または無置換アルコキシカルボニル基が挙げられる。具体的には、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、tert−ブトキシカルボニル基、n−オクタデシルオキシカルボニル基が挙げられる。
前記アリール又はヘテロ環アゾ基としては、例えば、炭素数6〜30の置換または無置換のアリールアゾ基、炭素数3〜30の置換または無置換のヘテロ環アゾ基が挙げられる。具体的には、例えば、フェニルアゾ基、p−クロロフェニルアゾ基、5−エチルチオ−1,3,4−チアジアゾール−2−イルアゾ基が挙げられる。
前記ホスフィノ基としては、例えば、炭素数2〜30の置換または無置換のホスフィノ基が挙げられる。具体的には、例えば、ジメチルホスフィノ基、ジフェニルホスフィノ基、メチルフェノキシホスフィノ基が挙げられる。
前記ホスフィニル基としては、例えば、炭素数2〜30の置換または無置換のホスフィニル基が挙げられる。具体的には、例えば、ホスフィニル基、ジオクチルオキシホスフィニル基、ジエトキシホスフィニル基が挙げられる。
前記ホスフィニルアミノ基としては、例えば、炭素数2〜30の置換または無置換のホスフィニルアミノ基が挙げられる。具体的には、例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ基、ジメチルアミノホスフィニルアミノ基が挙げられる。
一般式(1−0)中、R3及びR4がYを介して環を形成する下記一般式(1−0−0)の場合、
以下に好ましい環Yの構造の例を示す。構造式において波線を引いた=Cは、T1及びT2を含む5員環と連結する部位を表す。
本発明の第二実施形態の組成物は、第一実施形態の重合性化合物を含有する組成物である。本実施形態の組成物においては、一般式(1−0)で表される重合性化合物を1種のみ含有してもよいし、2種以上含有してもよい。通常、1〜4種含有することが好ましく、1〜3種含有することがより好ましく、1又は2種含有することが更に好ましい。
P0は、複数出現する場合は互いに独立に、上でPに与えられる意味の1つを有する重合性基であり、好ましくは、アクリル、メタクリル、オキセタン、3−エチルオキセタン、エポキシ、ビニルオキシまたはスチレン基であり、
Sp0は、上でSpに与えられる意味の1つを有するスペーサー基又は単結合であり、
X0は、−O−、−S−、−CO−、−COO−、−OCO−、−O−COO−、−CO−NR0−、−NR0−CO−、−NR0−CO−NR0−、−OCH2−、−CH2O−、−SCH2−、−CH2S−、−CF2O−、−OCF2−、−CF2S−、−SCF2−、−CF2CH2−、−CH2CF2−、−CF2CF2−、−CH=N−、−N=CH−、−N=N−、−CH=CR0−、−CY1=CY2−、−C≡C−、−CH=CH−COO−、−OCO−CH=CH−または単結合であり、
Sp0−X0は、好ましくは、−(CH2)p1−、−(CH2)p1−O−、−(CH2)p1−CO−O−および−(CH2)p1−O−CO−O−より選択され、ただし、p1は1〜12の整数であり、ただし、これらの基は、存在しているのであれば、O原子を介して隣接する環に連結されており、
A0およびB0は、複数出現する場合は互いに独立に、1,4−フェニレン(該基は、1個、2個、3個または4個の基Lで置換されていてもよい。)またはトランス−1,4−シクロヘキシレンであり、
Hは、トランス−1,4−シクロヘキシレンであり、
Z0は、複数出現する場合は互いに独立に、−COO−、−OCO−、−CH2CH2−、−C≡C−、−CH=CH−、−CH=CH−COO−、−OCO−CH=CH−または単結合であり、
R0は、1〜20個、好ましくは、1〜15個のC原子を有するアルキル、アルコキシ、チオアルキル、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシまたはアルコキシカルボニルオキシ(該基はフッ素化されていてもよい。)であるか、または、Y0またはP−Sp0−X0−を表し、
Y0は、F、Cl、CN、NO2、OCH3、OCN、SCN、SF5、1〜4個のC原子を有し、フッ素化されていてもよいアルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシまたはアルコキシカルボニルオキシ、または、1〜4個のC原子を有し、一フッ素化、オリゴフッ素化またはポリフッ素化されたアルキルまたはアルコキシであり、
X00は、−O−、−S−、−CO−、−COO−、−OCO−、−O−COO−、−CO−NR01−、−NR01−CO−、−NR01−CO−NR01−、−OCH2−、−CH2O−、−SCH2−、−CH2S−、−CF2O−、−OCF2−、−CF2S−、−SCF2−、−CF2CH2−、−CH2CF2−、−CF2CF2−、−CH=N−、−N=CH−、−N=N−、−CH=CR01−、−CF=CF−、−C≡C−、−CH=CH−COO−、−OCO−CH=CH−または単結合であり、
R01は、Hまたは1〜12個のC原子を有するアルキルであり、
Lは、複数出現する場合は同一または異なって、F、Cl、CN、SCN、SF5、または、1〜12個のC原子を有し、直鎖状または分岐状で、一フッ素化または多フッ素化されていてもよいアルキル、アルコキシ、アルケニル、アルキニル、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、または、アルキルカルボニルオキシまたはアルコキシカルボニルオキシ(ただし、アルキルおよびアルコキシと異なる基は少なくとも2個のC原子を含有し、分岐状の基は少なくとも3個のC原子を含有する。)、または、1〜5個のC原子を有し、ハロゲン化されていてもよいアルキル、アルコキシ、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシまたはアルコキシカルボニルオキシであり、
rは、0、1、2、3または4であり、
gは、0または1であり、
vおよびwは、それぞれ互いに独立に、0、1または2であり、
ただし、ベンゼンおよびナフタレン環は、1個以上の同一または異なる基Lで追加的に置換されていてもよい。
また、一般式(A1)〜(A24)中、「−OOC−」は「−O−C(=O)−」を表し、「−OCO−」と同義である。
前記用途の具体例として、例えば、液晶ディスプレイの分野における位相差膜、位相差パターニング膜及びホモジニアス配向(水平配向)液晶フィルム等の光学異方体の用途が挙げられる。
本実施形態の組成物を構成する有機溶媒は、一般式(1−0)で表される重合性化合物を溶解可能であれば特に制限されないが、100℃以下の温度で揮発させて、当該組成物を乾燥できる溶媒であることが好ましく、用いる基材を侵食しないことが好ましい。そのような溶剤としては、例えば、トルエン、キシレン、クメン、メシチレン等の芳香族系炭化水素、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン等のケトン系溶剤、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタン、アニソール等のエーテル系溶剤、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチル−2−ピロリドン等のアミド系溶剤、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン、クロロベンゼン、クロロホルム等が挙げられる。これらの有機溶媒は、1種を単独で使用することもできるし、2種類以上を混合して使用することもできる。
本実施形態の組成物は、重合開始剤を少なくとも1種類以上含有することが好ましい。
重合開始剤は、第一実施形態の重合性化合物を効率よく重合させるために有用な化合物である。重合開始剤としては、光重合開始剤が好ましく、具体的には以下の化合物が好ましい。BASF社製のイルガキュア651、イルガキュア184、イルガキュア907、イルガキュア127、イルガキュア369、イルガキュア379、イルガキュア819、イルガキュアOXE01、イルガキュアOXE02、ルシリンTPO、ダロキュア1173。LAMBSON社製のエサキュア1001M、エサキュアKIP150、スピードキュアBEM、スピードキュアBMS、スピードキュアPBZ、ベンゾフェノン。
これらの重合開始剤は、1種類を単独で使用してもよく、2種類以上を併用してもよく、更に増感剤等を添加してもよい。
本実施形態の組成物は、界面活性剤、又は下記一般式(VI)で表される繰り返し単位を有する重量平均分子量が100以上である化合物を含有することが好ましい。
「フタージェント100」、「フタージェント100C」、「フタージェント110」、「フタージェント150」、「フタージェント150CH」、「フタージェントA」、「フタージェント100A-K」、「フタージェント501」、「フタージェント300」、「フタージェント310」、「フタージェント320」、「フタージェント400SW」、「FTX-400P」、「フタージェント251」、「フタージェント215M」、「フタージェント212MH」、「フタージェント250」、「フタージェント222F」、「フタージェント212D」、「FTX-218」、「FTX-209F」、「FTX-213F」、「FTX-233F」、「フタージェント245F」、「FTX-208G」、「FTX-240G」、「FTX-206D」、「FTX-220D」、「FTX-230D」、「FTX-240D」、「FTX-207S」、「FTX-211S」、「FTX-220S」、「FTX-230S」、「FTX-750FM」、「FTX-730FM」、「FTX-730FL」、「FTX-710FS」、「FTX-710FM」、「FTX-710FL」、「FTX-750LL」、「FTX-730LS」、「FTX-730LM」、「FTX-730LL」、「FTX-710LL」(以上、ネオス社製)、
「BYK−300」、「BYK−302」、「BYK−306」、「BYK−307」、「BYK−310」、「BYK−315」、「BYK−320」、「BYK−322」、「BYK−323」、「BYK−325」、「BYK−330」、「BYK−331」、「BYK−333」、「BYK−337」、「BYK−340」、「BYK−344」、「BYK−370」、「BYK−375」、「BYK−377」、「BYK−350」、「BYK−352」、「BYK−354」、「BYK−355」、「BYK−356」、「BYK−358N」、「BYK−361N」、「BYK−357」、「BYK−390」、「BYK−392」、「BYK−UV3500」、「BYK−UV3510」、「BYK−UV3570」、「BYK−Silclean3700」(以上、ビックケミー・ジャパン社製)、
「TEGO Rad2100」、「TEGO Rad2200N」、「TEGO Rad2250」、「TEGO Rad2300」、「TEGO Rad2500」、「TEGO Rad2600」、「TEGO Rad2700」(以上、テゴ社製)等の例を挙げることができる。
本実施形態の組成物には、その他の成分として、基材との密着性をより向上させるため、連鎖移動剤を添加することが好ましい。連鎖移動剤としては、チオール化合物が好ましく、モノチオール、ジチオール、トリチオール、テトラチオール化合物がより好ましく、トリチオール化合物が更により好ましい。具体的には下記一般式(5−1)〜(5−12)で表される化合物が好ましい。
これらのチオール化合物の含有量としては、当該組成物の固形分の全重量に対して、0.5〜7.0重量%であることが好ましく、1.0〜5.0重量%であることがより好ましい。
これらの化合物の含有量としては、当該組成物の固形分の全重量に対して、20重量%以下が好ましく、10重量%以下がより好ましく、5重量%以下が更に好ましい。
第二実施形態の組成物に含まれる第一実施形態の重合性化合物を公知の手法により重合させることによって第三実施形態の重合体を得ることができる。この重合体は、液晶ディスプレイの分野における位相差膜、位相差パターニング膜、ホモジニアス配向液晶フィルム等の光学異方体の製造に好適であり、有機ELディスプレイの反射防止膜としても好適である。
第四実施形態の光学異方体を備えた第五実施形態の液晶表示素子は、公知の手法により第四実施形態の光学異方体を液晶表示素子に組み込むことによって製造できる。
以下に示す方法により、下記式(1−1−15)で表される重合性化合物を合成した。
上記の重合性化合物(1−1−15)は以下に示すスキームで合成した。
窒素雰囲気下、300mlの4ツ口フラスコにジエチルジチオカルバミン酸ナトリウム三水和物22.5g(100mmol)、水10mlおよびメタノール100mlを加え均一に溶解した。内温10℃以下に保ちながら、1,4−ナフトキノン(化合物(1))15.8g(100mmol)、酢酸17ml(300mmol)およびメタノール50mlの溶液を滴下した。氷冷下で30分間反応させ化合物(2)を調製した後、そのままペルオキソ二硫酸アンモニウム22.8g(100mmol)と水50mlとの溶液を内温10℃以下に保ちながら滴下した。さらに50℃で2時間反応させた。生じた固体をろ過し、水100mlおよびメタノール100mlで洗浄し、乾燥させることで化合物(3)が19.2g得られた(収率63%)。
窒素雰囲気下、300mlの4ツ口フラスコに化合物(3)15.3g(50mmol)、マロノニトリル4.0g(60mmol)、Irganox1010(商品名、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)50mgおよびN−メチル−2−ピロリドン(NMP)100mlを加え、撹拌下80℃まで加熱した。懸濁溶液が均一溶液となった後、さらに3時間攪拌した。室温に冷却後、酢酸エチルおよび水を加えて分液し、有機層を水飽和食塩水で順次洗浄した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムをろ過し、溶媒を減圧下濃縮した。濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製し、化合物(4)が8.4g得られた(収率56%)。
窒素雰囲気下、1000mlの4ツ口フラスコに化合物(5−1)58.1g(500mmol)、パラトルエンスルホン酸ピリジニウム(PPTS)6.3g(25mmol)及びジクロロメタン600mlを加え均一に撹拌した。内温を10℃以下に保ちながら、3,4−ジヒドロ−2H−ピラン(DHP)21.0g(250mmol)を1時間かけて滴下した。さらに室温で6時間攪拌した。反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムをろ過し、減圧下濃縮した。濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、化合物(5−2)が42.1g得られた(DHP基準で収率84%)。
窒素雰囲気下、1000mlの4ツ口フラスコにジメチルホルムアミド(DMF)300mlと水素化ナトリウム (60%, 流動パラフィンに分散)12.0gを加え攪拌した。化合物(5−3)70.9g(600mmol)を溶解したDMF溶液200mlを、内温を10℃以下に保ちながら滴下した。水素の発生が終了した後、臭化ベンジル51.4g(300mmol)を室温で滴下した。さらに60℃で6時間反応させた。室温に冷却後、反応液を酢酸エチル1000mlと水1000mlに投入し分液した。有機層を水と飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムをろ過し、減圧下濃縮した。濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、化合物(5−4)が48.7g得られた(臭化ベンジル基準で収率78%)。
窒素雰囲気下、1000mlの4ツ口フラスコに化合物(5−4)45.0g(216mmol)、ピリジン18.8g(238mmol)及びジクロロメタン500mlを加え均一に攪拌した。塩化チオニル27.0g(227mmol)を内温を10℃以下に保ちながら滴下した。滴下後室温で6時間反応させた。反応液に水500mlを投入し分液した。有機層を水と飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムをろ過し、減圧下濃縮した。濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、化合物(5−5)が47.5g得られた(収率97%)。
窒素雰囲気下、500mlの4ツ口フラスコにジメチルホルムアミド(DMF)300mlと水素化ナトリウム (60%, 流動パラフィンに分散)8.9gを加え攪拌した。化合物(5−2)40.7g(203mmol)を溶解したDMF溶液100mlを、内温を10℃以下に保ちながら滴下した。水素の発生が終了した後、化合物(5−5)46.0g(203mmol)を室温で滴下した。さらに60℃で6時間反応させた。室温に冷却後、反応液を酢酸エチル500mlと水500mlに投入し分液した。有機層を水と飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムをろ過し、減圧下濃縮した。濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、化合物(5−6)が65.2g得られた(収率82%)。
500ml四つ口フラスコに化合物(5−6)63.0g(161mmol)、テトラヒドロフラン(THF)250ml及びメタノール50mlを加え攪拌した。混合液に濃硫酸1.0gを加え室温で5時間反応した。反応液を酢酸エチル500mlに投入し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と飽和食塩水で順次洗浄した。有機層を濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製し、化合物(5−7)が45.3g得られた(収率92%)。
化合物(5-8)は以下に示す方法で合成した。
四つ口フラスコ(1l)に、トランス−1,4−シクロヘキサンジカルボン酸ジメチルエステル(5−8−1)100.0g(500mmol)とメタノール1000mlを加え攪拌した。水酸化カリウム16.8g(300mmol)を加えた後、還流下に6時間反応した。冷却後、反応液を濃縮し残渣に水500mlを加えた。希塩酸をpH2になるまで加え、析出した結晶をろ過した。結晶を水で洗浄後、減圧乾燥した。化合物(5−8−2)が54.0g(収率58.0%)得られた。
窒素雰囲気下、300ml四つ口フラスコに化合物(5−8−2)49.5g(266mmol)、N,N-ジメチル−4−アミノピリジン(DMAP)3.3g(26.7mmol)、tert−ブチルアルコール150mlおよびテトラヒドロフラン150mlを加え均一に撹拌した。氷冷下、N,N‘−ジイソプロピルカルボジイミド(DIC)50.4g(399mmol)を滴下した。室温で6時間反応した。水15mlを加えさらに1時間撹拌した。不溶物をろ過後、減圧下で反応液を濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ(ジクロロメタン)で精製した。化合物(5−8−3)が51.9g得られた(収率80.6%)。
四つ口フラスコ(300ml)に化合物(5−8−3)48.0g(198mmol)、メタノール150mlおよびテトラヒドロフラン150mlを加え撹拌した。氷冷下、水酸化ナトリウム24.0g(600mmol)を加え、5℃以下で3時間撹拌した。水1000mlに投入し、ジクロロメタンで洗浄した。水層に希塩酸をpH2になるまで加えた。析出した結晶をろ過し、水で洗浄後減圧乾燥した。化合物(5−8)が41.4g得られた(収率91.6%)。
窒素雰囲気下、300ml四つ口フラスコに化合物(5−7)44.0g(144mmol)、化合物(5−8)32.8g(144mmol)、N,N-ジメチル−4−アミノピリジン(DMAP)1.8g(14.4mmol)およびテトラヒドロフラン500mlを加え均一に撹拌した。氷冷下、N,N‘−ジイソプロピルカルボジイミド(DIC)20.0g(158mmol)を滴下した。室温で6時間反応した。水15mlを加えさらに1時間撹拌した。不溶物をろ過後、減圧下で反応液を濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ(ジクロロメタン)で精製し、化合物(5−9)が69.2g得られた(収率93%)。
化合物(5−9)68.0g(132mmol)、触媒(5%Pd/C)2.8g及び酢酸エチル400mlを1lオートクレーブに加えた。水素圧0.3MPaを維持しながら室温で3時間反応させた。触媒をろ過し減圧下濃縮した。化合物(5−10)が56.3g得られた(定量的)。
乾燥空気雰囲気下、500ml四つ口フラスコに化合物(5−10)55.0g(129mmol)、トリエチルアミン(TEA)14.4g(142mmol)及びジクロロメタン300mlを加え攪拌した。アクリロイルクロリド12.3g(135mmol)を5℃以下で滴下し、室温で3時間反応した。反応液を水、希塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム及び飽和食塩水で順次洗浄した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムをろ過し、減圧下濃縮した。化合物(5−11)が62.0g得られた(定量的)。
乾燥空気雰囲気下、2000ml四つ口フラスコに化合物(5−11)60.0g(125mmol)、ジクロロメタン1000mlを加え撹拌した。氷冷下、トリフルオロ酢酸(TFA)142g(1250mmol)を滴下し、室温で8時間反応した。ヘキサン1000mlを加え、減圧下でジクロロメタンを留去した。析出した結晶をろ過し、水とヘキサンで順次洗浄した。結晶を減圧下乾燥し、化合物(5)が51.0g得られた(収率96.1%)。
窒素雰囲気下、300ml四つ口フラスコに、化合物(4)3.3g(11mmol)、化合物(5)10.2g(24mmol)、N,N−ジメチル−4−アミノピリジン(DMAP)0.28g(2mmol)及びジクロロメタン80mlを加え攪拌した。得られた混合液にジイソプロピルカルボジイミド(DIC)3.2g(25mmol)を溶解したジクロロメタン溶液20mlを5℃以下で滴下した。滴下後、室温で4時間反応させた。水を1ml添加しさらに1時間攪拌した。不溶物をろ過後、ろ液を水洗し、硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムをろ別後、減圧濃縮した。残渣にメタノール200mlを加えて氷冷下で沈殿させた。沈殿をろ過し、メタノールとn−ヘキサンで順次洗浄した。減圧下で乾燥して化合物(1-15-1)が8.8g得られた(収率72%)。
上記のように合成した重合性化合物(1−1−15)を19.32重量%、重合開始剤であるイルガキュア907(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)を0.60重量%、重合禁止剤であるp−メトキシフェノール(MEHQ)を0.04重量%、界面活性剤であるBYK−361N(ビックケミージャパン製)を0.04重量%、溶剤であるクロロホルムを80.00重量%の配合で含む塗布液を調製した。
450nmから700nmの波長範囲において、作製した光学フィルムの位相差値を、測定機(RET−100、大塚電子社製)を用いて測定し、装置付属プログラムで波長450nmの位相差値Re(450)、波長550nmの位相差値Re(550)、波長650nmの位相差値Re(650)を算出した。その結果を表1に示す。
以下に示す方法により、下記式(1−1−16)で表される重合性化合物を合成した。
[化合物(1−1−16)の合成]
化合物(5−3)(1、6−ヘキサンジオール)を1、3−プロパンジオールに変えて合成を行った以外は、化合物(1−1−15)の合成例と同様に合成を行った。
実施例1で使用した重合性化合物(1−1−15)に代えて重合性化合物(1−1−16)を同量で使用した以外は、実施例1と同様に塗布液を作製した。
次に、ラビング処理が施されたポリイミド付のガラス基板上に、前記塗布液をスピンコート法により塗布した。ホットプレート上において80℃で1分間乾燥した後、さらに170℃で1分乾燥し、160℃で1000mJ/cm2の紫外線を照射して、光学フィルム(光学異方体)を作製した。
作製した光学フィルムについて、実施例1と同様に光学特性を測定した。その結果を表1に併記した。
以下に示す方法により、下記式(Ref1)で表される重合性化合物を合成した。
[比較例1(Ref1)の合成]
化合物(1)(1、4−ナフトキノン)を1、4−ベンゾキノンに変えて合成を行った以外は、化合物(1−1−15)の合成例と同様に合成を行った。
実施例1で使用した重合性化合物(1−1−15)に代えて重合性化合物(Ref1)を同量で使用した以外は、実施例1と同様に塗布液を作製した。
次に、ラビング処理が施されたポリイミド付のガラス基板上に、前記塗布液をスピンコート法により塗布した。ホットプレート上において80℃で1分間乾燥した後、さらに200℃で1分乾燥し、190℃で1000mJ/cm2の紫外線を照射して、光学フィルム(光学異方体)を作製した。
作製した光学フィルムについて、実施例1と同様に光学特性を測定した。その結果を表1に併記した。
以下に示す方法により、下記式(1−1−17)で表される重合性化合物を合成した。
[化合物(1−1−17)の合成]
化合物(4)の合成例で使用したマロノニトリルをシアノ酢酸エチルに変えて合成を行った以外は、化合物(1−1−15)の合成例と同様に合成を行った。
実施例1で使用した重合性化合物(1−1−15)に代えて重合性化合物(1−1−17)を同量で使用した以外は、実施例1と同様に塗布液を作製した。
次に、ラビング処理が施されたポリイミド付のガラス基板上に、前記塗布液をスピンコート法により塗布した。ホットプレート上において80℃で1分間乾燥した後、さらに90℃で1分乾燥し、90℃で1000mJ/cm2の紫外線を照射して、光学フィルム(光学異方体)を作製した。
作製した光学フィルムについて、実施例1と同様に光学特性を測定した。その結果を表1に併記した。
以下に示す方法により、下記式(Ref2)で表される重合性化合物を合成した。
[比較例2(Ref2)の合成]
化合物(1)(1、4−ナフトキノン)を1、4−ベンゾキノンに変え、化合物(4)の合成例で使用したマロノニトリルをシアノ酢酸エチルに変えて合成を行った以外は、化合物(1−1−15)の合成例と同様に合成を行った。
実施例1で使用した重合性化合物(1−1−15)に代えて重合性化合物(Ref2)を同量で使用した以外は、実施例1と同様に塗布液を作製した。
次に、ラビング処理が施されたポリイミド付のガラス基板上に、前記塗布液をスピンコート法により塗布した。ホットプレート上において80℃で1分間乾燥した後、さらに110℃で1分乾燥し、110℃で1000mJ/cm2の紫外線を照射して、光学フィルム(光学異方体)を作製した。
作製した光学フィルムについて、実施例1と同様に光学特性を測定した。その結果を表1に併記した。
以下に示す方法により、下記式(1−1−18)で表される重合性化合物を合成した。
[化合物(1−1−18)の合成]
化合物(4)の合成例で使用したマロノニトリルを5−オキソ−1−フェニル−2−ピラゾリン−3−カルボン酸エチルに変えて合成を行った以外は、化合物(1−1−15)の合成例と同様に合成を行った。
実施例1で使用した重合性化合物(1−1−15)に代えて重合性化合物(1−1−18)を同量で使用した以外は、実施例1と同様に塗布液を作製した。
次に、ラビング処理が施されたポリイミド付のガラス基板上に、前記塗布液をスピンコート法により塗布した。ホットプレート上において80℃で1分間乾燥した後、さらに130℃で1分乾燥し、130℃で1000mJ/cm2の紫外線を照射して、光学フィルム(光学異方体)を作製した。
作製した光学フィルムについて、実施例1と同様に光学特性を測定した。その結果を表1に併記した。
以下に示す方法により、下記式(Ref3)で表される重合性化合物を合成した。
[比較例3(Ref3)の合成]
化合物(1)(1、4−ナフトキノン)を1、4−ベンゾキノンに変え、化合物(4)の合成例で使用したマロノニトリルを5−オキソ−1−フェニル−2−ピラゾリン−3−カルボン酸エチルに変え、且つ化合物(5−3)(1、6−ヘキサンジオール)を1、3−プロパンジオールに変えて、化合物(1−1−15)の合成例と同様に合成を行った。
実施例1で使用した重合性化合物(1−1−15)に代えて重合性化合物(Ref3)を同量で使用した以外は、実施例1と同様に塗布液を作製した。
次に、ラビング処理が施されたポリイミド付のガラス基板上に、前記塗布液をスピンコート法により塗布した。ホットプレート上において80℃で1分間乾燥した後、さらに150℃で1分乾燥し、150℃で1000mJ/cm2の紫外線を照射して、光学フィルム(光学異方体)を作製した。
作製した光学フィルムについて、実施例1と同様に光学特性を測定した。その結果を表1に併記した。
Claims (13)
- 一般式(1−0)
A1、A2、A3、A4はそれぞれ独立に二価の脂環式炭化水素基又は芳香族炭化水素基を表し、
X1、X2、X3、X4はそれぞれ独立に二価の連結基又は単結合を表し、
R1は炭素原子数1〜12のアルキル基、アルコキシ基又は「*−Sp−P」を表し(*はA4又はA3に結合することを表す。)、
m、nはそれぞれ独立に0〜4の整数を表し(ただし、m+nは2以上の整数である。)、
Zは式中のC−C=C−Cとともにナフタレン環を表し、このナフタレン環に結合する水素原子のうち2つが式中のX2を含む基及びX3を含む基にそれぞれ置換されており、
T1、T2はそれぞれ独立に、−S−、−O−、−NR2−、−CH2−、−NH−、−C(=O)−、−S(=O)−又は−C(=S)−を表し、
R2は水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1〜6のアルキル基、炭素原子数1〜6のアルコキシ基、シアノ基、ニトロ基又は水酸基を表し、
R3、R4は、それぞれ独立して一価の置換基を表すか、又は、R3とR4を連結するYを介して環を形成する。この環を形成する場合には、R3及びR4 はそれぞれ独立して、−O−、−S−、−SO−、−SO2−、−NR−(Rは水素原子又は一価の置換基を表す。)、=N−、=N(+)R−(Rは水素原子又は一価の置換基を表す。)、−C(=O)−、−C (=S)−及び=CR−(Rは水素原子又は一価の置換基を表す。)からなる群から選ばれる基を表す。
Yは炭素原子及び第14〜16族の非金属原子からなる群から選択される2〜4個の原子を表し、式中のR3−C−R4と共に5〜7員環を形成する。この5〜7員環に結合する水素原子には一価の置換基が結合してもよい。ただし、T1とR3、及びT2とR4が同じである場合、並びに、T1とR4、及びT2とR3が同じである場合は除く。]
で表される、重合性化合物。 - R3及びR4がそれぞれ独立に一価の置換基であり、R3及びR4のうち少なくとも一方がシアノ基である、請求項1〜4の何れか一項に記載の重合性化合物。
- R3及びR4がそれぞれ独立に一価の置換基であり、R3又はR4が炭素原子数1〜3のアルキル基を有するカルボン酸アルキルである、請求項1〜5の何れか一項に記載の重合性化合物。
- X1、X2、X3、及びX4は、それぞれ独立に、単結合、−CH2CH2−、−CH=CH−、−C≡C−、−CH=CHCOO−、−OCO-CH=CH−、−(CH2)u-O-COO−、−(CH2)u-OCO−、−(CH2)u-COO−、−(CH2)u-O −、−O-COO-(CH2)u−、−OCO-(CH2)u−、−COO-(CH2)u−、又は−O-(CH2)u−である(ただし、uは0〜2の何れかの整数を表す。)請求項1〜7の何れか一項に記載の重合性化合物。
- 請求項1〜8の何れか一項に記載の重合性化合物を含有する組成物。
- 請求項9に記載の組成物を重合することにより得られる重合体。
- 請求項10に記載の重合体を用いた光学異方体。
- 請求項11に記載の光学異方体を用いた液晶表示素子。
- 請求項11に記載の光学異方体を用いた有機EL素子。
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