JPWO2013065266A1 - 磁気センサ - Google Patents

磁気センサ Download PDF

Info

Publication number
JPWO2013065266A1
JPWO2013065266A1 JP2013541616A JP2013541616A JPWO2013065266A1 JP WO2013065266 A1 JPWO2013065266 A1 JP WO2013065266A1 JP 2013541616 A JP2013541616 A JP 2013541616A JP 2013541616 A JP2013541616 A JP 2013541616A JP WO2013065266 A1 JPWO2013065266 A1 JP WO2013065266A1
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
hall sensor
output voltage
sensor
hall
induced electromotive
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2013541616A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5795383B2 (ja
Inventor
聡佑 西田
聡佑 西田
高塚 俊徳
俊徳 高塚
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Asahi Kasei EMD Corp
Original Assignee
Asahi Kasei EMD Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Kasei EMD Corp filed Critical Asahi Kasei EMD Corp
Priority to JP2013541616A priority Critical patent/JP5795383B2/ja
Publication of JPWO2013065266A1 publication Critical patent/JPWO2013065266A1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5795383B2 publication Critical patent/JP5795383B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R33/00Arrangements or instruments for measuring magnetic variables
    • G01R33/02Measuring direction or magnitude of magnetic fields or magnetic flux
    • G01R33/06Measuring direction or magnitude of magnetic fields or magnetic flux using galvano-magnetic devices
    • G01R33/07Hall effect devices
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R33/00Arrangements or instruments for measuring magnetic variables
    • G01R33/02Measuring direction or magnitude of magnetic fields or magnetic flux
    • G01R33/06Measuring direction or magnitude of magnetic fields or magnetic flux using galvano-magnetic devices
    • G01R33/07Hall effect devices
    • G01R33/072Constructional adaptation of the sensor to specific applications
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10NELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N52/00Hall-effect devices
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10NELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N52/00Hall-effect devices
    • H10N52/80Constructional details
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R15/00Details of measuring arrangements of the types provided for in groups G01R17/00 - G01R29/00, G01R33/00 - G01R33/26 or G01R35/00
    • G01R15/14Adaptations providing voltage or current isolation, e.g. for high-voltage or high-current networks
    • G01R15/20Adaptations providing voltage or current isolation, e.g. for high-voltage or high-current networks using galvano-magnetic devices, e.g. Hall-effect devices, i.e. measuring a magnetic field via the interaction between a current and a magnetic field, e.g. magneto resistive or Hall effect devices
    • G01R15/202Adaptations providing voltage or current isolation, e.g. for high-voltage or high-current networks using galvano-magnetic devices, e.g. Hall-effect devices, i.e. measuring a magnetic field via the interaction between a current and a magnetic field, e.g. magneto resistive or Hall effect devices using Hall-effect devices

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Measuring Magnetic Variables (AREA)
  • Hall/Mr Elements (AREA)
  • Measuring Instrument Details And Bridges, And Automatic Balancing Devices (AREA)

Abstract

本発明の磁気センサは、磁気を検出するホールセンサと、ホールセンサの駆動や信号処理を行うためのICとを備え、ICが2層以上の複数のメタル配線層を有しており、ホールセンサとICがワイヤー配線により電気的に接続され、かつ1つのパッケージ内に封入されている。外部から印加される磁束密度の変化により、ホールセンサの出力端子及び、ホールセンサの出力電極パッドに接続されたワイヤー配線及び、ホールセンサの出力電圧をICが備える信号処理部に入力するためのIC上のメタル配線に、発生する誘導起電力を抑制するように、ホールセンサの出力電圧をICが備える信号処理部に入力するためのメタル配線に立体交差部を備える。これにより、急激な磁束密度の変化による誘導起電力の影響を抑え、電流センサに必要な高速応答性を提供する。

Description

本発明は、磁気センサに関し、より詳細には、電流センサなどに用いられる高速応答性を備えた磁気センサに関する。
一般に、磁気センサのホールセンサは、磁束密度に比例して出力電圧が変化する。この特性を利用し、導体に流れる電流に比例して発生する磁束密度をホールセンサで検出することにより、導体に流れる電流量を測定する、いわゆる電流センサなどで広く用いられていることはよく知られている。
一方、排出ガスの低減や燃費の向上を図るべく、内燃機関及び電動機(モータ)の双方を駆動源として用いるようにした、いわゆるハイブリッド自動車がよく知られている。このハイブリッド自動車には、一般に、車載バッテリから供給される直流電力を三相交流電力に変換するインバータ装置が設けられており、このインバータ装置で変換された三相交流電力が電力供給対象であるモータに供給される。また、このようなハイブリッド自動車では、インバータ装置内に設けられるIGBT(絶縁ゲート・バイポーラ・トランジスタ)などのパワーモジュールとモータとを接続する給電用の導体、例えば、バスバーやケーブルなどに電流センサが取り付けられている。そして、この電流センサを通じてバスバーやケーブルなどを流れる電流が検出されるとともに、検出された電流に基づいてモータに供給される電力が制御される。モータを効率よく回転させるためには、モータの電流を高速に高精度で検出し制御を行う必要性があり、電流センサには数μs程度の応答性が求められている。
また、従来の電流センサは、例えば、特許文献1の図1に記載されているように、被検出電流が流れる導体と、その導体を囲み、空隙部を有する集磁用のコアと、コアの空隙部に配置されるホールセンサと、基板からなる。ここで、ハイブリッド自動車などのモータでは数百アンペアの大電流が急激に変化するので、ホールセンサに印可される磁束密度も急激に変化する。その際、ホールセンサの出力電極パッドと外部端子を接続するワイヤー配線や、ホールセンサの出力外部端子とアンプなどの信号処理回路を接続する基板の配線に、配線ループが存在すれば、無視できない大きさの誘導起電力が出力電圧に重畳するため、特許文献1に記載されるような基板配線の引きまわし方法によって、誘導起電力を抑えることがよく知られている。
ここで、誘導起電力は式1に示されるように磁束が横切るループの面積Sと磁束密度Bの時間微分に比例して発生することはよく知られている。
Figure 2013065266
(Vinduction:誘導起電力、Φ:磁束、S:ループ面積、B:磁束密度)
ここで、単位はそれぞれ、Vinduction[V]、Φ[Wb]、S[m]、B[Wb/m]である。単位[V]は単位[Wb/s]と等価であり、単位[Wb/m]は単位[T]と等価であることは言うまでもない。
誘導起電力の向きは、ループに印加される磁場の変化を打ち消す方向に電流が流れるように発生することは言うまでもない。誘導起電力の向きがホールセンサの出力電圧と同極性であれば、出力電圧の立ち上がり時にオーバーシュートし、誘導起電力の向きがホールセンサの出力電圧と逆極性であれば、出力電圧の立ち上がり時にアンダーシュートする。これら誘導起電力が原因で、本来出力するべき出力電圧を安定して出力するまでに遅延が発生し出力応答に遅れが発生する。また、一般に電流センサにおけるオーバーシュート、アンダーシュートの許容値は出力電圧安定時の±10%である。
一方、近年は、電流センサを構成する部品点数を減少させ、電流センサを小型化するために、例えば、特許文献2に記載されているように、ホールセンサと、ホールセンサの信号処理部を備えたICを1つのパッケージに封入したリニアホールICが使用されている。この際に、ホールセンサの感度が高ければ高いほど高分解能で電流検出ができるので、感度の高い化合物半導体を導電層に用いたホールセンサが適していることはいうまでもない。
ここで、リニアホールICにおいて、化合物半導体のホールセンサチップと、センサチップの駆動や信号処理を行うためのICチップは、Au線などのワイヤー配線により接続され、1つのパッケージ内に封入されていることがよく知られている。
特開2006−214815号公報 特開2011−064648号公報
しかしながら、化合物半導体のホールセンサを用いたリニアホールIC等の磁気センサにおいては、ホールセンサとICを接続するためのワイヤー配線及びIC上のメタル配線に発生した誘導起電力を、ICの信号処理回路部の増幅回路で数十倍から数百倍程度に増幅するため、上述した特許文献1に記載されているように、基板上に形成した配線ループでキャンセルする方法では、十分な効果が得られず誘導起電力がノイズとしてリニアホールICの出力電圧に重畳してしまい応答性が落ちてしまうという問題があった。ここで、誘導起電力を打ち消す効果を極力得ようとすると、基板上に形成した配線ループ面積の増大は避けられず、それに伴う基板面積の増大により電流センサが大型化してしまうという問題もあった。
また、基板上の配線では、微細なループの形成は非常に難しく、ホールセンサとICを接続するためのワイヤー配線及びIC上のメタル配線が形成するループと同等の微小かつ複雑なループを正確に形成することが困難であるという問題があった。
本発明は、このような問題に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、磁気を検出するホールセンサと、このホールセンサの駆動や信号処理を行うためのICとを備え、ホールセンサとICがワイヤー配線により電気的に接続され、かつ1つのパッケージ内に封入され、急激な磁束密度の変化による誘導起電力の影響を抑え、電流センサに必要な高速応答性を備えた磁気センサを提供することにある。
本発明は、このような目的を達成するためになされたもので、請求項1に記載の発明は、磁気を検出するホールセンサと、該ホールセンサの駆動や信号処理を行うためのICと、前記ホールセンサと前記ICとを接続するワイヤー配線とが、1つのパッケージ内に封入されている磁気センサにおいて、前記IC上に配置された正極ホール出力用電極パッドと前記信号処理部とを接続する第1のメタル配線と、前記IC上に配置された負極ホール出力用電極パッドと前記信号処理部とを接続する第2のメタル配線の少なくとも一方もしくはお互いが、立体交差する立体交差部を備えていることを特徴とする。
また、請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の発明において、前記ホールセンサの出力両端子及び前記ホールセンサの出力電極パッドに接続された前記ワイヤー配線及び前記ホールセンサの出力電圧を前記ICが備える信号処理部に入力するための前記IC上のメタル配線を、前記ホールセンサの感磁面に平行な平面に投影した際にできる2個以上の複数のループにおいて、前記複数のループのうち少なくとも一つ以上が前記ホールセンサの出力電圧と同極性の誘導起電力を発生するループであり、少なくとも一つ以上が前記ホールセンサの出力電圧と逆極性の誘導起電力を発生するループであることを特徴とする。
ここで、IC上のメタル配線が形成するループは、フォトリソグラフィ技術を用いて高精度に管理されたループであることは言うまでもない。よって、高精度にループ面積を制御できる。
また、請求項3に記載の発明は、請求項1又は2に記載の発明において、前記ホールセンサの出力電圧と同極性の誘導起電力を発生するループ面積の総和が、前記ホールセンサの出力電圧と逆極性の誘導起電力を発生するループ面積の総和と等しいことを特徴とする。
また、請求項4に記載の発明は、請求項1、2又は3に記載の発明において、前記ホールセンサの出力電圧と同極性の誘導起電力を発生するループ面積の総和と、前記ホールセンサの出力電圧と逆極性の誘導起電力を発生するループ面積の総和の差[単位:m]の絶対値が、0.1と、ホール素子の感度[単位:V・m/Wb]と、印加する最大磁束密度[単位:Wb/m]の3つの値の積を、印加する磁束密度の時間微分値[Wb/m・s]で割り返した値[単位:m]以下であることを特徴とする。
また、請求項5に記載の発明は、請求項1乃至4のいずれかに記載の発明において、前記IC上の誘導起電力を発生するループを形成している前記第1のメタル配線と前記第2のメタル配線のいずれか、もしくは両方が2層以上の複数のメタル配線層を用いて形成されることを特徴とする。
また、請求項6に記載の発明は、請求項1乃至5のいずれかに記載の発明において、外部から印加される磁束密度の変化により発生する前記誘導起電力の総和の極性が、前記ホールセンサの出力電圧の極性と同じであることを特徴とする。
また、請求項7に記載の発明は、請求項1乃至6のいずれかに記載の発明において、前記磁気センサに印加された磁束密度が安定してから、出力電圧が安定するまでにかかる時間が2μs以下であることを特徴とする。
本発明によれば、磁気を検出するホールセンサと、このホールセンサの駆動や信号処理を行うためのICとを備え、ホールセンサとICがワイヤー配線により電気的に接続され、かつ1つのパッケージ内に封入され、急激な磁束密度の変化による誘導起電力の影響を抑え、電流センサに必要な高速応答性を備えた磁気センサを提供することが可能となる。
本発明の磁気センサに係るホールセンサと、このホールセンサの駆動や信号処理を行うためのICとのワイヤー配線及びIC上のメタル配線の第1の概略図である。 図1に示した配線形状において、紙面手前方向から紙面垂直方向に磁束密度が増加的に変化した際に発生する誘導起電力の向きの概略図である。 本発明の実施例1のリニアホールICにおける磁場に対する出力応答波形を示す図である。 比較例1におけるホールセンサと、このホールセンサの駆動や信号処理を行うためのICとのワイヤー配線及びICチップ上のメタル配線の概略図である。 図4に示した比較例1のリニアホールICにおける磁場に対する出力応答波形を示す図である。 本発明の実施例2のリニアホールICにおける磁場に対する出力応答波形を示す図である。 本発明の実施例3のリニアホールICにおける磁場に対する出力応答波形を示す図である。 本発明の磁気センサに係るホールセンサと、このホールセンサの駆動や信号処理を行うためのICとのワイヤー配線及びIC上のメタル配線の第2の概略図である。 本発明の磁気センサに係るホールセンサと、このホールセンサの駆動や信号処理を行うためのICとのワイヤー配線及びIC上のメタル配線の第3の概略図である。 本発明の磁気センサに係るホールセンサと、このホールセンサの駆動や信号処理を行うためのICとのワイヤー配線及びIC上のメタル配線の第4の概略図である。
以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。
図1は、本発明の磁気センサに係るホールセンサと、このホールセンサの駆動や信号処理を行うためのICとのワイヤー配線及びIC上のメタル配線の概略図である。本発明の磁気センサは、磁気を検出するホールセンサ1と、このホールセンサ1の駆動や信号処理を行うためのIC2と、ホールセンサ1とIC2とを接続するワイヤー配線3a乃至3dとから構成されていて、IC2は2層以上の複数のメタル配線層を有しており、これらの構成要素が1つのパッケージ内に封入されている。
ホールセンサ1には、正極入力電極パッド1aと正極出力電極パッド1bと負極入力電極パッド1cと負極出力電極パッド1dが設けられている。
IC2上には、ホールセンサ1の正極入力電極パッド1aと接続される正極駆動用電極パッド2aと、ホールセンサ1の正極出力電極パッド1bと接続される正極ホール出力用電極パッド2bと、ホールセンサ1の負極入力電極パッド1cと接続される負極駆動用電極パッド2cと、ホールセンサ1の負極出力電極パッド1dと接続される負極ホール出力用電極パッド2dとが設けられている。
ホールセンサ1とIC2とを接続するワイヤー配線は、ホールセンサ1の正極入力電極パッド1aとIC2上に設けられた正極駆動用電極パッド2aとを接続するためのワイヤー配線3aと、ホールセンサ1の正極出力電極パッド1bとIC2上に設けられた正極ホール出力用電極パッド2bとを接続するためのワイヤー配線3bと、ホールセンサ1の負極入力電極パッド1cとIC2上に設けられた負極駆動用電極パッド2cとを接続するためのワイヤー配線3cと、ホールセンサ1の負極出力電極パッド1dとIC2上に設けられた負極ホール出力用電極パッド2dとを接続するためのワイヤー配線3dとから構成されている。
また、IC2上には、ホールセンサ1からの出力の信号処理を行なう信号処理部4が設けられており、IC2上に配置された正極ホール出力用電極パッド2bと信号処理部4とを接続する第1のメタル配線5と、IC2上に配置された負極ホール出力用電極パッド2dと信号処理部4とを接続する第2のメタル配線6とが設けられており、さらに、IC2上に配置された正極ホール出力用電極パッドと信号処理部とを接続する第1のメタル配線5と、IC2上に配置された負極ホール出力用電極パッドと信号処理部とを接続する第2のメタル配線6とが立体交差する立体交差部7が設けられている。
この立体交差部7は、外部から印加される磁束密度の変化により、ホールセンサ1の出力端子及びホールセンサ1の出力電極パッド1b、1dに接続されたワイヤー配線3b、3d及びホールセンサ1の出力電圧をIC2上に設けられた信号処理部4に入力するためのIC2上の第1のメタル配線5、第2のメタル配線6で形成するループに発生する誘導起電力を抑制するように、ホールセンサ1の出力電圧をIC2上に設けられた信号処理部4に入力するための第1のメタル配線5と第2のメタル配線6が立体交差する部分である。
また、ホールセンサ1の出力端子間を結ぶ線分及びホールセンサ1の出力電極パッド1b、1dに接続されたワイヤー配線3b、3d及びホールセンサ1の出力電圧をIC2上に設けられた信号処理部4に入力するためのIC2上に設けられた第1のメタル配線5、第2のメタル配線6を、ホールセンサ1の感磁面に垂直な平面に投影した際にできる2個以上の複数のループにおいて、この複数のループのうち少なくとも一つ以上がホールセンサ1の出力電圧と同極性の誘導起電力を発生するループであり、少なくとも一つ以上がホールセンサ1の出力電圧と逆極性の誘導起電力を発生するループである。
また、ホールセンサ1の正極入力電極パッド1aから負極入力電極パッド1cに駆動電流が流れるように、IC上の正極駆動用電極パッド2aと負極駆動用電極パッド2dにそれぞれワイヤー配線3a、3cを介して接続する。ここで、図1に示すようにホールセンサ1の上面から紙面垂直方向に磁束密度が印加された場合、ホールセンサ1の正極出力電極パッド1bに正、負極出力パッド1dに負のホール出力電圧が発生する。
また、上記のように駆動電流をホールセンサ1に流した場合において、符号8はホールセンサの出力電圧と同極性の誘導起電力に寄与する配線ループ面積で、符号9はホールセンサの出力電圧と逆極性の誘導起電力に寄与する配線ループ面積を示している。
一方、ホールセンサ1の正極ホール出力用電極パッド1bと負極ホール出力用電極パッド1dを、IC上の正極ホール出力用電極パッド2bと負極ホール出力用電極パッド2dにそれぞれワイヤー配線3b、3dを介して接続する。また、正極ホール出力用電極パッド2bと負極ホール出力用電極パッド2dは、IC上で第1のメタル配線5、第2のメタル配線6を介して信号処理部4と接続する。その際、第1のメタル配線5と第2のメタル配線6とを、IC上において、複数のメタル層を介して立体交差部7の位置で立体的に交差させ、かつ湾曲させることにより、ワイヤー配線3b、3dと、ホールセンサ1の出力端子1bと1dを結ぶ線と、IC上の正極ホール出力用電極パッド2bから立体交差部7までの第1のメタル配線5の線と、IC上の負極ホール出力用電極パッド2dから立体交差部7までの第2のメタル配線6の線とを用いて、印加磁束密度に垂直な同一平面上に投影した際にできるループ面積8(点状塗潰し部)と、立体交差部7から信号処理回路4の入力までの第1のメタル配線5の線と、立体交差点7から信号処理回路4の入力までの第2のメタル配線6の線を用いて、印加磁束密度に垂直な同一平面上に投影した際にできるループ面積9(網状塗潰し部)とが同じ面積になるようにする。つまり、ホールセンサ1の出力電圧と同極性の誘導起電力を発生するループ面積の総和が、ホールセンサ1の出力電圧と逆極性の誘導起電力を発生するループ面積の総和と等しくなるようにする。
また、ホールセンサ1の出力電圧と同極性の誘導起電力を発生するループ面積の総和と、ホールセンサ1の出力電圧と逆極性の誘導起電力を発生するループ面積の総和の差の絶対値が、0.1と、ホール素子の感度と、印加する最大磁束密度の3つの値の積を、印加する磁束密度の時間微分値で割り返した値以下であるようにする。
また、IC2上の誘導起電力を発生するループを形成しているメタル配線が、2層以上の複数のメタル配線層を用いて形成されている。また、外部から印加される磁束密度の変化により発生する誘導起電力の総和の極性が、ホールセンサ1の出力電圧の極性と同じである。
図2は、図1に示した配線形状において、紙面手前方向から紙面奥行方向に磁束密度が増加的に変化した際に発生する誘導起電力の向きの概略図である。図2に示すように、ループ面積8を囲む配線に発生する誘導起電力は、ホールセンサ1の出力電圧と同極性で発生し、ループ面積9を囲む配線に発生する誘導起電力はホールセンサ1の出力電圧と逆極性で発生することが分かる。通常、ループ面積8とループ面積9における磁束密度変化は同じであるので、ループ面積8とループ面積9の面積が同じであれば、誘導起電力は打ち消される。ここで、磁束密度の向きが反転すれば、ホールセンサ1の出力電圧と各誘導起電力の極性は、それぞれ反転することは言うまでもない。
また、図8は、本発明の磁気センサに係るホールセンサと、このホールセンサの駆動や信号処理を行うためのICとのワイヤー配線及びIC上のメタル配線の第2の概略図である。図8に示すように、IC上の第2のメタル配線6のみが立体交差する立体交差部7を備え、ワイヤー配線3b、3d等に発生する誘導起電力を打ち消すためのループを形成してもよい。ここで、IC上の第1のメタル配線5のみが立体交差する立体交差部を備えていてもよいことは言うまでもない。
また、図9は、本発明の磁気センサに係るホールセンサと、このホールセンサの駆動や信号処理を行うためのICとのワイヤー配線及びIC上のメタル配線の第3の概略図である。図9に示すように、IC上の第2のメタル配線6が立体交差する複数の立体交差部7を備え、ワイヤー配線3b、3d等に発生する誘導起電力を打ち消すための複数のループを形成してもよい。この際、複数のループが複数層のメタル配線層を用いて作製されていてもよい。ここで、IC上の第1のメタル配線5のみが立体交差する複数の立体交差部を備えていてもよいことは言うまでもない。
また、図10は、本発明の磁気センサに係るホールセンサと、このホールセンサの駆動や信号処理を行うためのICとのワイヤー配線及びIC上のメタル配線の第4の概略図である。図10に示すように、IC上の第1のメタル配線5、第2のメタル配線6のそれぞれが別々に立体交差する立体交差部7を備え、ワイヤー配線3b、3d等に発生する誘導起電力を打ち消すための複数のループを形成してもよい。この際、第1のメタル配線5、第2のメタル配線6のそれぞれが複数のループを備えていてもよいことは言うまでもない。また、複数のループが複数層のメタル配線層を用いて作製されていてもよい。ここで、IC上の第1のメタル配線5と第2のメタル配線6が互いに立体交差する複数の立体交差部を複数備えていてもよいことは言うまでもない。
また、IC上の第1のメタル配線5と第2のメタル配線6が立体交差部7などで近づいた際に、発生する配線による寄生容量が、磁気センサの出力応答に影響が出ない範囲に抑えるよう、メタル配線の幅、メタル配線同士の距離、立体交差部の数、各層の誘電率、を適宜最適化することが望ましい。例えば、IC上の第1のメタル配線5が最上層のメタル配線層を用いて作製され、かつIC上の第2のメタル配線6が最下層のメタル配線層を用いて作製されるなど、配線の寄生容量を下げる構造を選択する方法等があげられる。
本発明によれば、急激な磁束密度の変化による誘導起電力の影響を抑え、電流センサに必要な応答性を実現可能な、磁気を検出するホールセンサと、ホールセンサの駆動や信号処理を行うためのICを1つのパッケージ内に封入した磁気センサを提供可能となることが分かる。
以下に、具体的な実施例について説明する。しかしながら、本発明は、これらの実施例に限定されるものではない。
[実施例1]
ホールセンサの出力電圧と同極性の誘導起電力に寄与する配線ループ面積の総和が0.567mm、ホールセンサの出力電圧と逆極性の誘導起電力に寄与する配線ループ面積の総和が0.566mmとなるように設計配置した場合について説明する。ここで、実施例1においてループ面積差は0.001mmであり、ループ面積はほぼ同じである。
また、実施例1において、ホールセンサは、旭化成エレクトロニクス製HG116C相当品を定電流駆動Ic=1.5mAで使用し、信号処理ICで出力電圧を150倍に増幅している。このときのホールセンサの感度は0.25mV/mTである。
図3は、本発明の実施例1のリニアホールICにおける磁場に対する出力応答波形を示す図である。上述した条件で作製したリニアホールICのサンプルに、最大立ち上がり磁束密度変化39.7mT/μsで磁場を印加した際の、リニアホールICの出力電圧の規格化した波形を示している。規格化の基準は出力電圧が安定した時の電圧である。また、この実験における最大印加磁束密度は、Bmax=71mTである。
急峻に磁束密度が変化しても、誘導起電力による出力電圧のオーバーシュートはほぼ0%であり、印加磁束密度が安定してからリニアホールICの出力電圧が安定するまで時間は1μs以下であることが分かる。
この結果より、本発明を用いれば、磁気を検出するホールセンサと、このホールセンサの駆動や信号処理を行うためのICとを備え、このICが2層以上の複数のメタル配線層を有しており、ホールセンサとICがワイヤー配線により電気的に接続され、かつ1つのパッケージ内に封入されている磁気センサにおいて、急激な磁束密度の変化による誘導起電力の影響を抑え、電流センサに必要な高速応答性を備えた磁気センサを提供可能となることが分かる。
[比較例1]
図4は、比較例1におけるホールセンサと、このホールセンサの駆動や信号処理を行うためのICとのワイヤー配線及びICチップ上のメタル配線の概略図である。IC上のメタル配線が立体交差部を備えていないため、ホールセンサの出力電圧と逆極性の誘導起電力に寄与する配線ループは無い。
また、比較例1において、ホールセンサは旭化成エレクトロニクス製HG116C相当品を定電流駆動Ic=1.5mAで使用し、信号処理ICで出力電圧を150倍に増幅している。このときのホールセンサの感度は0.25mV/mTである。
図5は、図4に示した比較例1のリニアホールICにおける磁場に対する出力応答波形を示す図である。比較例1を用いたリニアホールICのサンプルに、最大立ち上がり磁束密度変化39.7mT/μsで磁場を印加した際の、リニアホールICの出力電圧の規格化した波形を示している。規格化の基準は出力電圧が安定した時の電圧である。また、この実験における最大印加磁束密度は、Bmax=71mTである。
急峻に磁束密度が変化した際、誘導起電力による出力電圧のオーバーシュートは約36%であり、印加磁束密度が安定してからリニアホールICの出力電圧が安定するまで時間は4μs以上であることが分かる。よって、電流センサに必要とされるオーバーシュートの許容値10%を超えてしまっており、問題となる。
比較例1の結果より、本発明を用いることにより大幅に誘導起電力の影響を抑制し、リニアホールICの応答速度を著しく改善していることが分かる。
[実施例2]
ホールセンサの出力電圧と同極性の誘導起電力に寄与する配線ループ面積の総和が0.629mm、ホールセンサの出力電圧と逆極性の誘導起電力に寄与する配線ループ面積の総和が0.566mmとなるように設計配置した場合について説明する。ここで、実施例2においてループ面積差は0.063mmである。
また、実施例2において、ホールセンサは旭化成エレクトロニクス製HG116C相当品を定電流駆動Ic=1.5mAで使用し、信号処理ICで出力電圧を150倍に増幅している。このときのホールセンサの感度は0.25mV/mTである。
図6は、本発明の実施例2のリニアホールICにおける磁場に対する出力応答波形を示す図である。上述した条件で作製したリニアホールICのサンプルに、最大立ち上がり磁束密度変化39.7mT/μsで磁場を印加した際の、リニアホールICの出力電圧の規格化した波形を示している。規格化の基準は出力電圧が安定した時の電圧である。また、この実験における最大印加磁束密度は、Bmax=71mTである。
これらの結果より、この程度のホールセンサの出力電圧と同極性の誘導起電力が残っている状況においては、急峻に磁束密度が変化しても、誘導起電力による出力電圧のオーバーシュートは約2%であり、印加磁束密度が安定してからリニアホールICの出力電圧が安定するまで時間は1μs以下であることが分かる。また、この程度のオーバーシュートを容認できるのであれば、磁束密度の立ち上がりに対する応答性は、ホールセンサの出力電圧と同極性の誘導起電力が残っている方が早いので、用途によっては誘導起電力成分が残った方が良い場合もある。
[実施例3]
図1において、ホールセンサの出力電圧と同極性の誘導起電力に寄与する配線ループ面積8が0.735mm、ホールセンサの出力電圧と逆極性の誘導起電力に寄与する配線ループ面積9が0.566mmとなるように設計配置した場合について説明する。ここで、実施例2においてループ面積差は0.169mmである。
また、実施例3において、ホールセンサは旭化成エレクトロニクス製HG116C相当品を定電流駆動Ic=1.5mAで使用し、信号処理ICで出力電圧を150倍に増幅している。このときのホールセンサの感度は0.25mV/mTである。
図7は、本発明の実施例3のリニアホールICにおける磁場に対する出力応答波形を示す図である。上述した条件で作製したリニアホールICのサンプルに、最大立ち上がり磁束密度変化39.7mT/μsで磁場を印加した際の、リニアホールICの出力電圧の規格化した波形を示す。規格化の基準は出力電圧が安定した時の電圧である。また、この実験における最大印加磁束密度は、Bmax=71mTである。
急峻に磁束密度が変化しても、誘導起電力による出力電圧のオーバーシュートは約5%であり、印加磁束密度が安定してからリニアホールICの出力電圧が安定するまで時間は2μs以下であることが分かる。
これらの結果より、誘導起電力が完全に打ち消せて無い状態でも、電流センサ用のリニアホールICとして使用可能であることが分かる。
ここで、電流センサにおける出力電圧のオーバーシュートとアンダーシュートの許容値±10%以下を満たすためには、ホールセンサの出力電圧と同極性の誘導起電力に寄与する配線ループ面積の総和と、ホールセンサの出力電圧と逆極性の誘導起電力に寄与する配線ループ面積の総和の差がどの範囲に収まっていればよいかを考える。
ホールセンサの感度がKhall、リニアホールICに印加される安定時の最大印加磁束密度Bmaxのとき、ホール出力電圧Vhallは式2であらわされる。
Figure 2013065266
満たすべき式は式3であるので、
Figure 2013065266
となり、式1乃至式3より以下の式4を満たせばよい。
Figure 2013065266
ここで、単位はそれぞれ、Vhall[V]、Khall[V・m/Wb]、Bmax[Wb/m]、ΔS[m]である。
但し、式4で言うΔSは、ホールセンサの出力電圧と同極性の誘導起電力に寄与する配線ループ面積の総和と、ホールセンサの出力電圧と逆極性の誘導起電力に寄与する配線ループ面積の総和の差を示す。また、式4における磁束密度の微分値dB/dtは、磁束密度が安定する直前の値を使用することが好ましい。
本発明は、電流センサ等に用いられる高速応答性を備えた磁気センサに関し、磁気を検出するホールセンサと、このホールセンサの駆動や信号処理を行うためのICとを備え、ホールセンサとICがワイヤー配線により電気的に接続され、かつ1つのパッケージ内に封入され、急激な磁束密度の変化による誘導起電力の影響を抑え、電流センサに必要な高速応答性を備えた磁気センサを実現することができる。
1 ホールセンサ
1a〜1d ホールセンサの電極パッド
2 センサの駆動や信号処理を行うIC
2a〜2d IC上の電極パッド
3a〜3d ワイヤー配線
4 IC上に配置されたホールセンサ出力の信号処理部
5 第1のメタル配線
6 第2のメタル配線
7 立体交差部
8、9 配線ループ面積

Claims (7)

  1. 磁気を検出するホールセンサと、該ホールセンサの駆動や信号処理を行うためのICと、前記ホールセンサと前記ICとを接続するワイヤー配線とが、1つのパッケージ内に封入されている磁気センサにおいて、
    前記IC上に配置された正極ホール出力用電極パッドと前記信号処理部とを接続する第1のメタル配線と、前記IC上に配置された負極ホール出力用電極パッドと前記信号処理部とを接続する第2のメタル配線の少なくとも一方もしくはお互いが、立体交差する立体交差部を備えていることを特徴とする磁気センサ。
  2. 前記ホールセンサの出力両端子及び前記ホールセンサの出力電極パッドに接続された前記ワイヤー配線及び前記ホールセンサの出力電圧を前記ICが備える信号処理部に入力するための前記IC上のメタル配線を、前記ホールセンサの感磁面に平行な平面に投影した際にできる2個以上の複数のループにおいて、前記複数のループのうち少なくとも一つ以上が前記ホールセンサの出力電圧と同極性の誘導起電力を発生するループであり、少なくとも一つ以上が前記ホールセンサの出力電圧と逆極性の誘導起電力を発生するループであることを特徴とする請求項1に記載の磁気センサ。
  3. 前記ホールセンサの出力電圧と同極性の誘導起電力を発生するループ面積の総和が、前記ホールセンサの出力電圧と逆極性の誘導起電力を発生するループ面積の総和と等しいことを特徴とする請求項1又は2に記載の磁気センサ。
  4. 前記ホールセンサの出力電圧と同極性の誘導起電力を発生するループ面積の総和と、前記ホールセンサの出力電圧と逆極性の誘導起電力を発生するループ面積の総和の差[単位:m2]の絶対値が、
    0.1と、ホール素子の感度[単位:V・m/Wb]と、印加する最大磁束密度[単位:Wb/m]の3つの値の積を、印加する磁束密度の時間微分値[Wb/m・s]で割り返した値[単位:m]以下であることを特徴とする請求項1、2又は3に記載の磁気センサ。
  5. 前記IC上の誘導起電力を発生するループを形成している前記第1のメタル配線と前記第2のメタル配線のいずれかもしくは両方が2層以上の複数のメタル配線層を用いて形成されることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の磁気センサ。
  6. 外部から印加される磁束密度の変化により発生する前記誘導起電力の総和の極性が、前記ホールセンサの出力電圧の極性と同じであることを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載の磁気センサ。
  7. 前記磁気センサに印加された磁束密度が安定してから、出力電圧が安定するまでにかかる時間が2μs以下であることを特徴とする請求項1乃至6のいずれかに記載の磁気センサ。
JP2013541616A 2011-10-31 2012-10-25 磁気センサ Active JP5795383B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013541616A JP5795383B2 (ja) 2011-10-31 2012-10-25 磁気センサ

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011238701 2011-10-31
JP2011238701 2011-10-31
PCT/JP2012/006864 WO2013065266A1 (ja) 2011-10-31 2012-10-25 磁気センサ
JP2013541616A JP5795383B2 (ja) 2011-10-31 2012-10-25 磁気センサ

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2013065266A1 true JPWO2013065266A1 (ja) 2015-04-02
JP5795383B2 JP5795383B2 (ja) 2015-10-14

Family

ID=48191644

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013541616A Active JP5795383B2 (ja) 2011-10-31 2012-10-25 磁気センサ

Country Status (6)

Country Link
US (1) US9535139B2 (ja)
EP (1) EP2775315B1 (ja)
JP (1) JP5795383B2 (ja)
KR (1) KR101585353B1 (ja)
CN (1) CN104024877B (ja)
WO (1) WO2013065266A1 (ja)

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102013227129B4 (de) * 2013-12-23 2016-01-14 Continental Automotive Gmbh Verfahren zur Erfassung einer Relativposition, Verfahren zum kabellosen Laden eines Fahrzeugs, Orientierungssignalempfänger und induktive Ladevorrichtung
JP2015132567A (ja) * 2014-01-15 2015-07-23 株式会社デンソー 電流センサ
JP6455812B2 (ja) * 2014-02-24 2019-01-23 パナソニックIpマネジメント株式会社 電流測定装置
US10078147B2 (en) 2014-07-17 2018-09-18 The United States Of America, As Represented By The Secretary Of The Army Detector
JP2016031304A (ja) * 2014-07-29 2016-03-07 株式会社東海理化電機製作所 電流検出装置
DE112014007046T5 (de) * 2014-10-10 2017-08-10 Hitachi Metals, Ltd. Elektrische Stromerfassungsvorrichtung und elektrisches Stromerfassungsverfahren
DE112016000263T5 (de) 2015-12-11 2017-09-28 Asahi Kasei Microdevices Corporation Magnetsensor
JP6865598B2 (ja) * 2017-02-15 2021-04-28 エイブリック株式会社 磁気センサ回路
JP2018151304A (ja) * 2017-03-14 2018-09-27 エイブリック株式会社 磁気センサ回路、検査方法、及び製造方法
US20230094395A1 (en) * 2021-09-29 2023-03-30 Asahi Kasei Microdevices Corporation Magnetic sensor

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5740662A (en) * 1980-08-25 1982-03-06 Toshiba Corp Circuit substrate device
JPS62199678U (ja) * 1986-06-09 1987-12-19
JP2004207477A (ja) * 2002-12-25 2004-07-22 Sanken Electric Co Ltd ホール素子を有する半導体装置
US20040207031A1 (en) * 2003-04-15 2004-10-21 Berndt Dale F. Magnetic sensor integrated with CMOS
JP2006214815A (ja) * 2005-02-02 2006-08-17 Mitsubishi Electric Corp 電流センサー

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4566627B2 (ja) * 2004-06-23 2010-10-20 ルネサスエレクトロニクス株式会社 ホール素子のインタフェース回路およびそれを用いたシステム
JP2007103556A (ja) 2005-10-03 2007-04-19 Tamura Seisakusho Co Ltd ホール素子デバイスとそれを用いたホール素子回路
JP4674578B2 (ja) * 2006-01-13 2011-04-20 株式会社デンソー 磁気センサ及び磁気検出方法
JP5584876B2 (ja) * 2009-04-15 2014-09-10 旭化成エレクトロニクス株式会社 磁気センサ
JP2011064648A (ja) 2009-09-18 2011-03-31 Tokai Rika Co Ltd 電流センサ
CN102109585A (zh) * 2009-12-24 2011-06-29 上海华虹Nec电子有限公司 四端输出的霍尔盘及其产品

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5740662A (en) * 1980-08-25 1982-03-06 Toshiba Corp Circuit substrate device
JPS62199678U (ja) * 1986-06-09 1987-12-19
JP2004207477A (ja) * 2002-12-25 2004-07-22 Sanken Electric Co Ltd ホール素子を有する半導体装置
US20040207031A1 (en) * 2003-04-15 2004-10-21 Berndt Dale F. Magnetic sensor integrated with CMOS
JP2006214815A (ja) * 2005-02-02 2006-08-17 Mitsubishi Electric Corp 電流センサー

Also Published As

Publication number Publication date
US9535139B2 (en) 2017-01-03
CN104024877A (zh) 2014-09-03
EP2775315A4 (en) 2015-10-07
KR20140068219A (ko) 2014-06-05
EP2775315A1 (en) 2014-09-10
US20140266183A1 (en) 2014-09-18
EP2775315B1 (en) 2016-12-07
CN104024877B (zh) 2016-02-03
JP5795383B2 (ja) 2015-10-14
WO2013065266A1 (ja) 2013-05-10
KR101585353B1 (ko) 2016-01-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5795383B2 (ja) 磁気センサ
US6310470B1 (en) Method and device for measuring the difference in magnetic field strength with magnetoresistive sensors
US20130169267A1 (en) Current sensor
EP3508864A1 (en) Offset current sensor structure
CN102713645B (zh) 电流检测装置
JP6444274B2 (ja) モータ駆動装置
JP4434111B2 (ja) 電流センサおよび電流検出方法
WO2013005459A1 (ja) 電流センサ
US20190178917A1 (en) Current sensor and current sensor unit
JP5234459B2 (ja) 電流センサ
JP5793059B2 (ja) 磁気センサ
JP2006038518A (ja) 電流計測装置
JP2012026966A (ja) 電流センサ
EP3771882B1 (en) Sensor having a shaped coil
JP5704347B2 (ja) 電流センサ
JP6465348B2 (ja) 電力用半導体デバイスのボンディングワイヤ電流磁界分布検出方法及び装置
WO2023087740A1 (zh) 一种磁传感器和电子设备
Kim et al. Coreless hall current sensor for automotive inverters decoupling cross-coupled field
JP6390709B2 (ja) 電流検出装置、及び電流検出方法
JP2014055839A (ja) 電流検出装置
CN109154629B (zh) 电流检测装置以及具备该电流检测装置的电力转换装置
JP2012225818A (ja) 電流センサ
JP2012225872A (ja) 電流センサ
JP2008275470A (ja) 磁界プローブ及び磁界検出装置並びにこれらを用いた磁界検出方法
EP3032268B1 (en) An integrated circuit with an on chip hall sensor

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20141216

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20150213

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20150804

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20150812

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5795383

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350