JPWO2012147773A1

JPWO2012147773A1 - カテコールまたは擬似カテコール構造を有する新規セフェム化合物

Info

Publication number: JPWO2012147773A1
Application number: JP2013512397A
Authority: JP
Inventors: 康宏西谷; 俊明青木; 佐藤　淳; 佐藤　　淳; 健二山脇; 克己横尾; 将之佐野
Original assignee: Shionogi and Co Ltd
Current assignee: Shionogi and Co Ltd
Priority date: 2011-04-28
Filing date: 2012-04-25
Publication date: 2014-07-28
Anticipated expiration: 2032-04-25
Also published as: AR086157A1; US9334289B2; JP6006201B2; KR20140039202A; EP2703406A1; CN103635478A; US20140088302A1; WO2012147773A1; CA2833121A1; EP2703406A4; TW201309709A

Abstract

本発明は、広範な抗菌スペクトルを有し、特にβ−ラクタマーゼ産生グラム陰性菌に対し強い抗菌活性を示す新規化合物を提供する。具体的には、本発明は、式（Ｉ）（式中、各記号の意義は明細書中に定義したとおりである）で示される化合物、もしくはその７位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩、ならびにそれを含有する医薬組成物を提供する。

Description

本発明化合物は、広範な抗菌スペクトルを有し、特にβ−ラクタマーゼ産生グラム陰性菌に対し強い抗菌活性を示すセフェム化合物、およびそれを含有する医薬組成物に関する。

これまで、様々なβ−ラクタム薬の開発がなされており、β−ラクタム薬は臨床上非常に重要な抗菌薬となっている。しかし、β−ラクタム薬を分解するβ−ラクタマーゼを産生することによりβ−ラクタム薬に対して耐性を獲得した菌種が増加している。

アムブラー（Ａｍｂｌｅｒ）の分子分類法によると、β−ラクタマーゼは大きく４つのクラスに分類される。即ち、クラスＡ（ＴＥＭ型、ＳＨＶ型、ＣＴＸ−Ｍ型、ＫＰＣ型など）、クラスＢ（ＩＭＰ型、ＶＩＭ型，Ｌ−１型など）、クラスＣ（ＡｍｐＣ型など）、クラスＤ（ＯＸＡ型など）である。これらのうち、クラスＡ，Ｃ，Ｄ型はセリン−β−ラクタマーゼ、一方、クラスＢ型はメタロ−β−ラクタマーゼに大別され、それぞれ異なるメカニズムによってβ−ラクタム薬を加水分解することが知られている。

近年、基質域を拡張したクラスＡ型（ＥＳＢＬ）およびクラスＤ型のセリン−β−ラクタマーゼやクラスＢ型のメタロ−β−ラクタマーゼの産生により、セフェムやカルバペネムを含む多くのβ−ラクタム薬に高度耐性化したグラム陰性菌の存在が臨床上問題となりつつある。特にメタロ−β−ラクタマーゼは、グラム陰性菌の多剤耐性化の一因として知られている。メタロ−β−ラクタマーゼ産生グラム陰性菌に対して中程度の活性を示すセフェム化合物が公知である（例：特許文献１および非特許文献１）が、さらに強い抗菌活性、特に各種β−ラクタマーゼ産生グラム陰性菌に対して有効なセフェム化合物の開発が要望されている。
抗グラム陰性菌活性が高い抗菌剤の一つとしては、分子内にカテコール基を有するセフェム化合物が公知である（例：非特許文献２〜４）。その作用は、カテコール基がＦｅ³⁺とキレート体を形成するため、該化合物が細胞膜上のＦｅ³⁺輸送系（ｔｏｎＢ−ｄｅｐｅｎｄｅｎｔｉｒｏｎｔｒａｎｓｐｏｒｔｓｙｓｔｅｍ）を介して効率よく菌体内に取り込まれることによる。このことから、セフェム骨格の３位側鎖または７位側鎖部位に、カテコール基またはそれに類似する構造を有する化合物の研究が行なわれてきた。

特許文献２〜８および非特許文献５には、７位側鎖の部分構造を有し、セフェム骨格に４級塩構造を有する化合物が記載されている。しかし、これらの文献では、ピリジニウム構造のみが記載されており、ほとんどが７位にホルムアミド基を有するものが開示されているのみである。また、例えば、特許文献２が開示するものは、ほとんどがペニシリン骨格のものである。

非特許文献１および特許文献８〜１２、１５はセフェム骨格の３位側鎖部位にカテコールを有するカテコール型誘導体、特許文献１０、１１、１３、１４には、セフェム骨格の３位側鎖部位にヒドロキシピリドン基を有する擬似カテコール型誘導体が記載されている。特許文献１６および１７は、４級アンモニウム基を有するセフェム化合物を開示しているが、カテコール型誘導体は記載していない。

さらに、分子内にカテコール基を有するセフェム化合物を記載している上記文献には、クラスＢ型のメタロ−β−ラクタマーゼに関する記載やクラスＢ型を含む広範なグラム陰性菌に対しての具体的な抗菌活性の記載は無い。

非特許文献７は、ペニシリン骨格の３位にテトラゾリル基を有するペニシリン系化合物がβ−ラクタマーゼに対して優れた安定性を有することを記載しているが、セフェム骨格の４位にテトラゾリル基を有するセフェム化合物については記載してない。
特許文献１８、１９、２０および非特許文献６は、セフェム骨格の４位にテトラゾリル基を有するセフェム化合物を記載しているが、３位側鎖部位に４級アンモニウム基を有する化合物は記載していない。

なお、本出願人によってカテコールタイプの置換基を有するセフェム化合物の出願が行われている（特許文献２１〜２４）。このうち、特許文献２２〜２４は、本願の優先日後に公開されている。但し、これらの出願には、セフェム骨格の４位にテトラゾリル基を有する化合物は開示されていない。

国際公開第２００７／１１９５１１号パンフレット独国特許公報２５１９４００号日本国公開特許公報昭和５７−１１８５８８号欧州特許出願公開１１４７５２号欧州特許出願公開１６８１７７号欧州特許出願公開２１１６５６号欧州特許出願公開３０５１１１号日本国公開特許公報平４−３６４１８９号日本国公開特許公報平３−１７３８９３号日本国公開特許公報平２−１５０９０号日本国公開特許公報平２−２８１８７号日本国公開特許公報平２−１１７６７８号日本国公開特許公報平６−５１０５２３号日本国公開特許公報平５−２１３９７１号日本国公開特許公報平２−２８１８５号国際公開第２００７／０９６７４０号パンフレット国際公開第２００３／０７８４４０号パンフレット米国特許第４０３９５３２号米国特許第３９６６７１９号欧州特許出願公開２０７４４７号国際公開第２０１０／０５０４６８号パンフレット国際公開第２０１１／１２５９６６号パンフレット国際公開第２０１１／１２５９６７号パンフレット国際公開第２０１１／１３６２６８号パンフレット

Applied Microbiology and Biotechnology (1994), 40(6), 892-7 ザ・ジャーナル・オブ・アンチバイオティクス（ＴｈｅＪｏｕｒｎａｌｏｆＡｎｔｉｂｉｏｔｉｃｓ）、６１巻、３６〜３９頁（２００８年）ザ・ジャーナル・オブ・アンチバイオティクス（ＴｈｅＪｏｕｒｎａｌｏｆＡｎｔｉｂｉｏｔｉｃｓ）、４３巻、１６１７〜１６２０頁（１９９０年）ザ・ジャーナル・オブ・アンチバイオティクス（ＴｈｅＪｏｕｒｎａｌｏｆＡｎｔｉｂｉｏｔｉｃｓ）、４２巻、７９５〜８０６頁（１９８９年）ザ・ジャーナル・オブ・アンチバイオティクス（ＴｈｅＪｏｕｒｎａｌｏｆＡｎｔｉｂｉｏｔｉｃｓ）、４０巻、６４６〜６５１頁（１９８７年） American Review of Respiratory Disease (1990), 141(3), 672-7 ザ・ジャーナル・オブ・アンチバイオティクス（ＴｈｅＪｏｕｒｎａｌｏｆＡｎｔｉｂｉｏｔｉｃｓ）、３９巻、７６〜８９頁（１９８６年）

本発明は、グラム陰性菌および／またはグラム陽性菌を含む種々の細菌に対して、強力な抗菌スペクトルを示すセフェム化合物を提供する。
好ましくは、β−ラクタマーゼ産生グラム陰性菌に対し強い抗菌活性を示すセフェム化合物を提供する。より好ましくは、多剤耐性菌、特にクラスＢ型のメタロ−β−ラクタマーゼ産生グラム陰性菌に対し強い抗菌活性を示すセフェム化合物を提供する。さらに好ましくは、基質特異性拡張型βラクタマーゼ（ＥＳＢＬ）産生菌に対しても効果的な抗菌活性を示すセフェム化合物を提供する。また、４位にカルボキシル基を有するセフェム化合物に対して耐性を有する菌株に対して、抗菌作用を有するセフェム化合物を提供する。

本発明は、少なくとも以下の構造的特徴を有することにより上記課題を解決したセフェム化合物を提供する。

（項目１）
式（Ｉ）：

（式中、
Ｗは−ＣＨ₂−、−Ｓ−または−Ｏ−であり、
ａ）Ｗが−ＣＨ₂−のときは、Ｕは−ＣＨ₂−、−Ｓ−、−Ｓ（＝Ｏ）−もしくは−Ｏ−であり、または
ｂ）Ｗが−Ｓ−もしくは−Ｏ−のときは、Ｕは−ＣＨ₂−であり、
Ｌは−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ₂−ＣＨ＝ＣＨ−または−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ₂−であり、
Ｒ¹は置換もしくは非置換の炭素環式基または置換もしくは非置換の複素環式基であり、
Ｒ^2AおよびＲ^2Bについては、
ａ）Ｒ^2Aが水素原子、置換もしくは非置換のアミノ基、−ＳＯ₃Ｈ、置換もしくは非置換のアミノスルホニル基、カルボキシル基、置換もしくは非置換の低級アルキルオキシカルボニル基、置換もしくは非置換のカルバモイル基、ヒドロキシル基、もしくは置換基を有しているカルボニルオキシ基であり、および、
Ｒ^2Bが水素原子であるか、または、
ｂ）Ｒ^2AおよびＲ^2Bが一緒になって、置換もしくは非置換のメチリデン基、または置換もしくは非置換のヒドロキシイミノ基を形成し、
Ｒ³は水素原子、−ＯＣＨ₃または−ＮＨ−ＣＨ（＝Ｏ）であり、
Ｒ¹¹はカルボキシルイオン（−ＣＯＯ^-）のバイオアイソスターであり、
Ｅは置換若しくは非置換の１以上の４級アンモニウムイオンを含む２価の基であり、
Ｒ¹⁰は、Ｒ¹²または以下の式：

で示される基であって、
ここで、
環Ａはベンゼン環、または窒素原子を１〜３個有する６員の芳香族複素環であり、
ｋは２〜５の整数であり、
Ｒ⁴はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン、ヒドロキシル基、−ＣＮ、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ⁵、−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＨ、−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ⁵または−ＯＲ⁵であり、
Ｒ⁵は低級アルキル基またはハロ低級アルキル基であり、
Ｇは単結合、置換もしくは非置換の低級アルキレン基、置換もしくは非置換の低級アルケニレン基または置換もしくは非置換の低級アルキニレン基であり、
Ｂは単結合または少なくとも窒素原子を１〜３個含有する５員もしくは６員の複素環式基であり、
Ｄは単結合、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ⁶−、−ＮＲ⁶−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ⁶−、−ＮＲ⁶−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ⁶−、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｓ（＝Ｏ）−、−Ｓ（＝Ｏ）₂−ＮＲ⁶−、−ＮＲ⁶−Ｓ（＝Ｏ）₂−、−ＮＲ⁶−ＣＨ₂−、−ＣＨ₂−ＮＲ⁶−または−Ｓ（＝Ｏ）₂−であり、
Ｒ⁶はそれぞれ独立して、水素または置換もしくは非置換の低級アルキル基であり、
Ｒ¹²は水素原子、ハロゲン、ヒドロキシル基、−ＳＯ₃Ｈ、置換もしくは非置換のアミノ基、置換もしくは非置換のカルボキシル基、置換もしくは非置換のカルバモイル基、置換もしくは非置換のアシル基、置換もしくは非置換のアミノスルホニル基、置換もしくは非置換の低級アルキル基、置換もしくは非置換の低級アルケニル基、置換もしくは非置換の低級アルキニル基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基または置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基である。）
で示される化合物、もしくはその７位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩。

（項目２）
Ｒ¹⁰が式：

で示される基である、（項目１）記載の化合物、もしくはその７位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩。

（項目３）
Ｒ¹⁰がＲ¹²（Ｒ¹²は項目１と同意義である）で示される基である、項目１記載の化合物、もしくはその７位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩。

（項目４）
Ｇが単結合、−ＣＨ₂−、−ＣＨ₂−ＣＨ₂−、−ＣＨ₂−ＣＨ₂−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ₂−、−ＣＨ₂−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ₂−ＣＨ（ＣＨ₃）−、−ＣＨ₂−ＣＨ（ⁱＰｒ）−または−ＣＨ₂−ＣＨ（Ｐｈ）−（式中、ⁱＰｒはイソプロピル基、Ｐｈはフェニル基を表わす）
である、項目１または２記載の化合物、もしくはその７位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩。

（項目５）
Ｂが単結合または式：

（ここで、左側の結合手はＧとの結合を示し、右側の結合手はＤとの結合を示す）
である項目１、２または４記載の化合物、もしくはその７位側鎖の環上のアミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩。

（項目６）
Ｄが単結合、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ⁶−、−ＮＲ⁶−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ⁶−、−ＮＲ⁶−Ｃ（＝Ｏ）−または−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ⁶−（式中、Ｒ⁶は項目１と同義である。）である項目１、２、４または５記載の化合物、もしくはその７位側鎖の環上のアミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩。

（項目７）
式：

が、式：

（式中、Ｒ⁴はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン、ヒドロキシル基、−ＣＮ、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ⁵、−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＨ、−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ⁵または−ＯＲ⁵であり、Ｒ⁵は項目１と同意義である）
である、項目１、２、４または５記載の化合物、もしくはその７位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩。

（項目８）
式：

が、式：

である、項目７記載の化合物、もしくはその７位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩。

（項目９）
式：

が、式：

（項目１０）
Ｅが式：

（式中、破線は、環内の結合を示し、カチオン性窒素原子からの結合手はＬとの結合を示し、もう一方の結合手はＲ¹⁰との結合を示す。ただし、Ｒ¹⁰がカチオン性窒素原子と結合している場合、破線は存在せず、Ｒ¹⁰がカチオン性窒素原子と結合していない場合、破線はカチオン性窒素原子と隣接原子との間の単結合を示すか、またはカチオン性窒素原子と隣接原子以外の環構成原子との間の低級アルキレン基を示す。）
で示される、少なくとも窒素原子を１個有する置換もしくは非置換の飽和もしくは不飽和の単環式または縮合環式の４級アンモニウム基である、項目１〜９のいずれかに記載の化合物、もしくはその７位側鎖の環上のアミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩。

（項目１１）
Ｅが式：

（式中、４級窒素原子からの結合手はＬとの結合を示し、もう一方の結合手はＲ¹⁰との結合を示す。また、ｐは１〜３の整数であり、ｎは１または２の整数であり、Ｒ^Xはそれぞれ独立して置換もしくは非置換の低級アルキル基である）
から選択される、さらに環上に置換基を有していてもよい基である、項目１〜９のいずれかに記載の化合物、もしくはその７位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩。

（項目１２）
Ｅが式（１）〜（７）、（１０）〜（１２）、（１４）、（２５）〜（２９）、（３１）、（４１）〜（４４）、（４７）、（５０）、（５２）、（５３）、（６４）および（７３）からなる群から選択される、項目１１記載の化合物、もしくはその７位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩。

（項目１３）
Ｅが式（３）、（１０）〜（１２）、（２６）〜（２８）、（３１）、（４１）、（４２）、（５３）、（６４）および（７３）からなる群から選択される、項目１１記載の化合物、もしくはその７位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩。

（項目１４）
Ｅが式：

（式中、４級窒素原子からの結合手はＬとの結合を示し、もう一方の結合手はＲ¹⁰との結合を示す）
から選択される、さらに環上に置換基を有していてもよい基である、項目１〜９のいずれかに記載の化合物、もしくはその７位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩。

（項目１５）
Ｅ−Ｒ¹⁰が

（式中、４級窒素原子からの結合手はＬとの結合を示し、Ｒ¹²は項目１と同意義である）からなる群から選択される、さらに環上に置換基を有していてもよい基である、項目１記載の化合物、もしくはその７位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩。

（項目１６）
Ｅ−Ｒ¹⁰が

（式中、４級窒素原子からの結合手はＬとの結合を示す）
である、項目１記載の化合物、もしくはその７位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩。

（項目１７）
カルボキシルイオン（−ＣＯＯ^-）のバイオアイソスターが、
−ＳＯ₃ ^-、−Ｓ（＝Ｏ）₂−Ｎ^-−Ｒ¹³、−ＰＯ^-−（ＯＲ¹³）、−ＰＯ₂ ^-−（ＯＲ¹³）、−Ｎ^-−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ¹³、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ^-−ＯＲ¹³、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−Ｎ^-−Ｓ（＝Ｏ）₂−Ｒ¹³、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ^-−Ｓ（＝Ｏ）₂−Ｒ¹³、−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ＝Ｃ（Ｏ^-）−Ｒ¹³、−Ｎ^-−Ｓ（＝Ｏ）₂−Ｒ¹³、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ^-−Ｓ（＝Ｏ）₂−Ｒ¹³、−Ｎ^-−Ｓ（＝Ｏ）₂−Ｒ¹³、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ^-−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ¹³、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ^-−Ｓ（＝Ｏ）₂−Ｒ¹³、−Ｎ^-−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ¹³、

（ここで、Ｒ¹³は水素、ヒドロキシル基、ハロゲン、置換もしく非置換の低級アルキル基、置換もしく非置換の低級アルケニル基、置換もしく非置換の低級アルキニル基、置換もしく非置換の低級アルコキシ基、置換もしく非置換のアミノ基、低級アルケニルオキシ基、置換もしく非置換のアリールオキシ基、シアノ、ニトロ、イミノ、メルカプト、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルホニル基、置換もしく非置換の炭素環式基、置換もしく非置換の複素環式基および−ＣＯ₂Ｒ¹⁷からなる群から選択され、ここでＲ¹⁷は水素、低級アルキル基または低級アルケニル基であり、Ｒ¹⁴は電子吸引性を有する基である）から選択される、項目１〜１６のいずれかに記載の化合物、もしくはその７位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩。

（項目１８）
カルボキシルイオン（−ＣＯＯ^-）のバイオアイソスターが、式：

で示される基である、項目１７に記載の化合物、もしくはその７位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩。

（項目１９）
Ｕが−Ｓ−である、項目１〜１８のいずれかに記載の化合物、もしくはその７位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩。

（項目２０）
Ｗが−ＣＨ₂−である、項目１〜１９のいずれかに記載の化合物、もしくはその７位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩。

（項目２１）
Ｒ³が水素原子または−ＯＣＨ₃である、項目１〜２０のいずれかに記載の化合物、もしくはその７位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩。

（項目２２）
Ｒ¹が置換もしくは非置換のフェニル基である、項目１〜２１のいずれかに記載の化合物、もしくはその７位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩。

（項目２３）
Ｒ¹が、式：

（式中、ＸはＮ、Ｃ（−Ｈ）またはＣ（−Ｃｌ）である）
で示される、項目１〜２１のいずれかに記載の化合物、もしくは上記式中のアミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩。

（項目２４）
ＸがＮである、項目２３記載の化合物、もしくは上記式中のアミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩。

（項目２５）
ＸがＣ（−Ｈ）またはＣ（−Ｃｌ）である、項目２３記載の化合物、もしくは上記式中のアミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩。

（項目２６）
Ｒ^2Aが水素原子、置換もしくは非置換のアミノ基、−ＳＯ₃Ｈ、置換もしくは非置換のアミノスルホニル基、カルボキシル基、置換もしくは非置換のカルバモイル基、ヒドロキシル基、または置換基を有しているカルボニルオキシ基であり、および、Ｒ^2Bが水素原子である、項目１〜２５のいずれかに記載の化合物、もしくはその７位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩。

（項目２７）
Ｒ^2Aが以下に示す、置換アミノ基

以下に示す、置換アミノスルホニル基

（式中、環Ｂは置換もしくは非置換の複素環式基を表す）；
以下に示す、置換カルバモイル基

（式中、環Ｂは置換もしくは非置換の複素環式基を表す）；または
以下に示す、置換カルボニルオキシ基

（式中、環Ｂは置換もしくは非置換の複素環式基を表す）；
である、項目１〜２６記載の化合物、もしくはその７位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩。

（項目２８）
Ｒ^2AおよびＲ^2Bが一緒になって以下に示す、置換メチリデン基

；または、以下に示す、置換ヒドロキシイミノ基

（式中、Ｒ⁹は置換もしくは非置換の低級アルキル基である）
である、項目１〜２５のいずれかに記載の化合物、もしくはその７位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩。

（項目２９）
Ｒ^2AおよびＲ^2Bが一緒になって以下に示す、置換ヒドロキシイミノ基

（式中、Ｒ⁷およびＲ⁸はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン、ヒドロキシル基、カルボキシル基、置換もしくは非置換の低級アルキル基、置換もしくは非置換の炭素環式基、もしくは置換もしくは非置換の複素環式基であり、または
Ｒ⁷およびＲ⁸は隣接原子と一緒になって置換もしくは非置換の炭素環もしくは置換もしくは非置換の複素環を形成していてもよく、
Ｑは単結合、置換基を有していてもよい炭素環、または置換基を有していてもよい複素環であり、
ｍは０〜３の整数を表す）
である、項目１〜２５のいずれかに記載の化合物、もしくはその７位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩。

（項目３０）
項目１〜２９のいずれかに記載の化合物、もしくはその７位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩を含有する医薬組成物。

（項目３１）
抗菌作用を有する、項目３０記載の医薬組成物。

（項目３２）
式：

（式中、Ｙは脱離基であり、Ｕ、Ｒ³およびＬは項目１と同意義であり、
式：

で示される基が、
以下の式：

で示される基、または、式：

で示される基のいずれかであり、
Ｐ¹はイミノ保護基である）
で示される化合物またはその塩。

（項目３３）
Ｐ¹がベンズヒドリル基、パラメトキシベンジル基、トリチル基、２，６−ジメトキシベンジル基、メトキシメチル基、ベンジルオキシメチル基または２−（トリメチルシリル）エトキシメチル基である、項目３２記載の化合物またはその塩。

（項目３４）
式：

で示される基が、
以下の式：

で示される基、または、式：

で示される基のいずれかであり、
Ｐ²はイミノ保護基である）
で示される化合物またはその塩。

（項目３５）
Ｐ²がベンズヒドリル基、パラメトキシベンジル基、トリチル基、２，６−ジメトキシベンジル基、メトキシメチル基、ベンジルオキシメチル基または２−（トリメチルシリル）エトキシメチル基である、項目３４記載の化合物またはその塩。

（項目３６）
項目１〜２９のいずれかに記載の化合物、エステル体、もしくはその７位側鎖の環上のアミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩もしくはそれらの溶媒和物を投与することを特徴とする、感染症の治療方法。

（項目３７）
感染症の治療のための、項目１〜２９のいずれかに記載の化合物、エステル体、もしくはその７位側鎖の環上のアミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩もしくはそれらの溶媒和物。

本発明に係る化合物は、少なくとも以下のいずれかの特徴を有する点で医薬品として有用である。
１）グラム陰性菌および／またはグラム陽性菌を含む種々の細菌に対して、強力な抗菌スペクトルを示す。
２）β−ラクタマーゼ産生グラム陰性菌に対し強い抗菌活性を示す。
３）多剤耐性菌、特にクラスＢ型のメタロ−β−ラクタマーゼ産生グラム陰性菌に対し強い抗菌活性を示す。
４）基質特異性拡張型βラクタマーゼ（ＥＳＢＬ）産生菌に対し強い抗菌活性を示す。
５）既存のセフェム薬および／またはカルバペネム薬と交叉耐性を示さない。
６）生体内への投与後に、発熱などの副作用を示さない。

以下、本発明に関して、発明の実施の形態を説明する。本明細書の全体にわたり、単数形の表現（例えば、英語の場合は「ａ」、「ａｎ」、「ｔｈｅ」など、他の言語における対応する冠詞、形容詞など）は、特に言及しない限り、その複数形の概念をも含むことが理解されるべきである。また、本明細書において使用される用語は、特に言及しない限り、当該分野で通常用いられる意味で用いられることが理解されるべきである。したがって、他に定義されない限り、本明細書中で使用される全ての専門用語および科学技術用語は、本発明の属する分野の当業者によって一般的に理解されるのと同じ意味を有する。矛盾する場合、本明細書（定義を含めて）が優先する。以下に、本明細書において具体的に使用される用語について具体的な定義を記載する。

本明細書における各用語は、単独または他の用語と組合わされて、以下の通り定義される。

「ハロゲン」とは、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素を包含する。好ましくはフッ素、塩素、臭素であり、さらに好ましくは塩素である。

「低級アルキル基」とは、炭素数１〜８、好ましくは１〜６、さらに好ましくは１〜４の直鎖状または分枝状のアルキル基を包含し、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ヘキシル、イソヘキシル、ｎ−へプチル、イソヘプチル、ｎ−オクチル等が挙げられる。

「低級アルキレン基」とは、炭素数１〜８、好ましくは１〜６、さらに好ましくは１〜４、最も好ましくは１または２の直鎖状アルキレン基を包含し、例えば、メチレン、エチレン、ｎ−プロピレン、ｎ−ブチレン、ｎ−ペンチレン、ｎ−ヘキシレン等が挙げられる。

「低級アルケニレン基」とは、任意の位置に１以上の２重結合を有する炭素数２〜８、好ましくは２〜６、さらに好ましくは２〜４の直鎖状アルケニレン基を包含し、例えば、ビニレン、アリレン、プロペニレン、ブテニレン、プレニレン、ブタジエニレン、ペンテニレン、ペンタジエニレン、ヘキセニレン、ヘキサジエニレン等が挙げられる。

「低級アルキニレン基」とは、任意の位置に１以上の３重結合を有する炭素数２〜８、好ましくは２〜６、さらに好ましくは２〜４の直鎖状のアルキニレン基を包含し、例えば、エチニレン、プロピニレン、ブチニレン、ペンチニレン、ヘキシニレン等が挙げられる。

「ハロ低級アルキル基」とは、上記「低級アルキル基」の任意の位置で１以上の上記「ハロゲン」で置換されている基であり、例えば、モノフルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、モノクロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、モノブロモメチル、モノフルオロエチル、モノクロロエチル、クロロジフルオロメチル等が挙げられる。好ましくはトリフルオロメチル、トリクロロメチルである。

「置換もしくは非置換のアミノ基」または「置換もしくは非置換のカルバモイル基」の置換基としては、
置換もしくは非置換の低級アルキル（例：メチル、エチル、イソプロピル、ベンジル、カルバモイルアルキル（例：カルバモイルメチル）、モノまたはジ低級アルキルカルバモイル低級アルキル（例：ジメチルカルバモイルエチル）、ヒドロキシ低級アルキル、複素環低級アルキル（例：モルホリノエチル、テトラヒドロピラニルエチル）、アルコキシカルボニル低級アルキル（例：エトキシカルボニルメチル、エトキシカルボニルエチル）、モノまたはジ低級アルキルアミノ低級アルキル（例：ジメチルアミノエチル）；
低級アルコキシ低級アルキル（例：メトキシエチル、エトキシメチル、エトキシエチル、イソプロポキシエチル等））；
アシル（例：ホルミル、置換もしくは非置換の低級アルキルカルボニル（例：アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、イソバレリル、ピバロイル、ヘキサノイル、オクタノイル、メトキシエチルカルボニル、２，２，２−トリフルオロエチルカルボニル、アルコキシカルボニルアセチル（例：エトキシカルボニルメチルカルボニル））、低級アルコキシ低級アルキルカルボニル（例：メトキシエチルカルボニル）、低級アルキルカルバモイル低級アルキルカルボニル（例：メチルカルバモイルエチルカルボニル）、置換もしくは非置換のアリールカルボニル（例：ベンゾイル、トルオイル））；
置換もしくは非置換のアリールアルキル（例：ベンジル、４−フルオロベンジル）；
ヒドロキシ；
置換もしくは非置換の低級アルキルスルホニル（例：メタンスルホニル、エタンスルホニル、イソプロピルスルホニル、２，２，２−トリフルオロエタンスルホニル、ベンジルスルホニル、メトキシエチルスルホニル）；
置換基として低級アルキルまたはハロゲンを有していてもよいアリールスルホニル（例：ベンゼンスルホニル、トルエンスルホニル、４−フルオロベンゼンスルホニル）、
シクロアルキル（例：シクロプロピル）；
置換基として低級アルキルを有していてもよいアリール（例：フェニル、トリル）；
低級アルキルアミノスルホニル（例：メチルアミノスルホニル、ジメチルアミノスルホニル）；
低級アルキルアミノカルボニル（例：ジメチルアミノカルボニル）；
低級アルコキシカルボニル（例：エトキシカルボニル）；
シクロアルキルカルボニル（例：シクロプロピルカルボニル、シクロヘキシルカルボニル）；
置換もしくは非置換のスルファモイル（例：スルファモイル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル）；
低級アルキルカルボニルアミノ（例：メチルカルボニルアミノ）；
ヘテロサイクル（例：モルホリノ、テトラヒドロピラニル）；
置換もしくは非置換のアミノ（例：モノまたはジアルキルアミノ（例：ジメチルアミノ）、ホルミルアミノ）等が挙げられる。
前記の「置換アミノ基」または「置換カルバモイル基」は、これらの置換基でモノ置換またはジ置換していてもよい。

「低級アルケニル基」は、上記「低級アルキル基」に１個又はそれ以上の二重結合を有する炭素数２〜８個の直鎖状又は分枝状のアルケニルを意味し、例えば、ビニル、１−プロペニル、２−プロペニル、１−ブテニル、２−ブテニル、３−ブテニル、１，３−ブタジエニル、３−メチル−２−ブテニル等が挙げられる。好ましくは、炭素数２〜６個、より好ましくは炭素数２〜４個のアルケニルである。

「置換もしくは非置換のアミノ基」または「置換もしくは非置換のカルバモイル基」のアミノ基は、アミノ基の２つの置換基が隣接する窒素原子と共に硫黄原子および／または酸素原子を環内に含有していてもよい含窒素ヘテロサイクル（好ましくは５〜７員環であり、また好ましくは飽和である）を形成してもよく、該環はオキソまたはヒドロキシで置換されていてもよい。環を形成する硫黄原子がある場合、該硫黄原子はオキソで置換されていてもよい。例えば、ピペラジニル、ピペリジノ、モルホリノ、ピロリジノ、２−オキソピペリジノ、２−オキソピロリジノ、４−ヒドロキシモルホリノ等の５員または６員の環等が好ましい。

「置換もしくは非置換の低級アルキル基」の置換基としては、置換基群αから選択される１以上の基が挙げられる。複数の置換基群αで置換される場合、置換基群αは同一でも異なっていてもよい。

「置換もしくは非置換の低級アルキレン基」、「置換もしくは非置換の低級アルケニレン基」および「置換もしくは非置換の低級アルキニレン基」の置換基としては、置換基群αから選択される１以上の基が挙げられる。複数の置換基で置換される場合、置換基は同一でも異なっていてもよい。

「置換もしくは非置換のアミノスルホニル基」の置換基としては、置換された低級アルキル、ならびに置換基群αから選択される１以上の基が挙げられる。

「置換もしくは非置換の低級アルキルオキシカルボニル基」の置換基としては、置換基群αから選択される１以上の基が挙げられる。

「置換基を有しているカルボニルオキシ基（「−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−置換基」を意味する。）」の置換基としては、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級アルケニル、置換もしくは非置換の低級アルキニル、置換もしくは非置換の炭素環式基、置換もしくは非置換の複素環式基、置換基として複素環式基を有するアミノ、ならびに置換基群αから選択される１以上の基が挙げられる。
「置換もしくは非置換のカルボキシル基」の置換基としては、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級アルケニル、置換もしくは非置換の低級アルキニル、置換もしくは非置換の炭素環式基、ならびに置換もしくは非置換の複素環式基から選択される１以上の基が挙げられる。
「置換もしくは非置換のアシル基」は、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級アルケニル、置換もしくは非置換の低級アルキニル、置換もしくは非置換の炭素環式基または置換もしくは非置換の複素環式基が置換したカルボニル基を意味する。

「置換もしくは非置換の飽和もしくは不飽和の単環式または縮合環式の４級アンモニウム基」の置換基としては、置換もしくは非置換の低級アルキル、ならびに置換基群αから選択される１以上の基、あるいは２つ以上の置換基が一緒になって炭素環式基または複素環式基を形成するものが挙げられる。

ここで「置換基群α」とは、ハロゲン、ヒドロキシ、低級アルコキシ、ヒドロキシ低級アルコキシ、低級アルコキシ低級アルコキシ、カルボキシ、アミノ、アシルアミノ、低級アルキルアミノ、イミノ、ヒドロキシイミノ、低級アルコキシイミノ、低級アルキルチオ、カルバモイル、低級アルキルカルバモイル、ヒドロキシ低級アルキルカルバモイル、スルファモイル、低級アルキルスルファモイル、低級アルキルスルフィニル、シアノ、ニトロ、炭素環式基および複素環式基からなる群である。

「低級アルコキシ基」、「ヒドロキシ低級アルコキシ基」、「低級アルコキシ低級アルコキシ基」、「低級アルキルアミノ基」、「低級アルコキシイミノ基」、「低級アルキルチオ基」、「低級アルキルカルバモイル基」、「ヒドロキシ低級アルキルカルバモイル基」、「低級アルキルスルファモイル基」、「低級アルキルスルフィニル基」、「低級アルキルオキシカルボニル基」、「低級アルキルスルホニル基」における低級アルキル部分も、上記「低級アルキル基」と同意義である。
「低級アルケニルオキシ基」における低級アルケニル部分も、上記「低級アルケニル基」と同意義である。
「アリールオキシ基」におけるアリール部分も、後述する「アリール」と同意義である。

「置換もしくは非置換の低級アルキル基」における置換基の好ましい態様としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヒドロキシ、カルボキシ、メトキシ、エトキシ、ヒドロキシメトキシ、ヒドロキシエトキシ、メトキシメトキシ、メトキシエトキシ、アミノ、アセチルアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、イミノ、ヒドロキシイミノ、メトキシイミノ、メチルチオ、カルバモイル、メチルカルバモイル、ヒドロキシメチルカルバモイル、スルファモイル、メチルスルファモイル、低級アルキルスルファモイル、シアノ、ニトロ、フェニル、シクロプロピル、シクロブチル、シクロヘキシル、ピリジル、モルホリニル等が挙げられる。

「置換もしくは非置換の低級アルキル基」の好ましい態様としては、メチル、エチル、イソプロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、モノフルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、モノクロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、カルボキシメチル、カルボキシエチル、カルバモイルメチル、カルバモイルエチル、ヒドロキシメチル、ヒドロキシエチル、メトキシメチル、エトキシメチル、メトキシエチル、エトキシエチル、メチルチオメチル、エチルチオメチル、ベンジル、フェネチル、４−ヒドロキシベンジル、４−メトキシベンジル、４−カルボキシベンジル等が挙げられる。

「炭素環式基」としては、シクロアルキル、シクロアルケニル、アリールおよび非芳香族縮合炭素環式基等を包含する。

「シクロアルキル」とは炭素数３〜１０、好ましくは炭素数３〜８、より好ましくは炭素数４〜８の炭素環式基であり、例えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニルおよびシクロデシル等を包含する。

「シクロアルケニル」とは、上記シクロアルキルの環中の任意の位置に１以上の二重結合を有しているものを包含し、具体的にはシクロプロペニル、シクロブテニル、シクロペンテニル、シクロヘキセニル、シクロへプチニル、シクロオクチニルおよびシクロヘキサジエニル等が挙げられる。

「アリール」とは、フェニル、ナフチル、アントリルおよびフェナントリル等を包含し、特にフェニルが好ましい。

「芳香族炭素環」とは、上記アリールから導かれる環を意味する。

「芳香族複素環」とは、Ｏ、ＳおよびＮから任意に選択される同一または異なるヘテロ原子を環内に１以上有する、単環または２環以上の、芳香族環を意味する。
２環以上の芳香族複素環式基は、単環または２環以上の芳香族複素環に、上記「芳香族炭素環」が縮合したものも包含する。

「非芳香族炭素環式基」とは、上記「シクロアルキル」および「シクロアルケニル」から選択される基を包含し、具体的にはシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル、シクロデシル、シクロプロペニル、シクロブテニル、シクロペンテニル、シクロヘキセニル、シクロへプチニル、シクロオクチニルおよびシクロヘキサジエニル等が挙げられる。

「非芳香族縮合炭素環式基」とは、上記「シクロアルキル」、「シクロアルケニル」および「アリール」に対して、上記「シクロアルキル」および「シクロアルケニル」から選択される１個以上の環状基が縮合した基を包含し、具体的にはインダニル、インデニル、テトラヒドロナフチルおよびフルオレニル等が挙げられる。

「複素環式基」としては、Ｏ、ＳおよびＮから任意に選択されるヘテロ原子を環内に１以上有する複素環式基を包含し、具体的にはピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピリジル、ピリダジニル、ピリミジニル、ピラジニル、トリアゾリル、トリアジニル、テトラゾリル、イソオキサゾリル、オキサゾリル、オキサジアゾリル、イソチアゾリル、チアゾリル、チアジアゾリル、フリルおよびチエニル等の５〜６員のヘテロアリール；インドリル、イソインドリル、インダゾリル、インドリジニル、インドリニル、イソインドリニル、キノリル、イソキノリル、シンノリニル、フタラジニル、キナゾリニル、ナフチリジニル、キノキサリニル、プリニル、プテリジニル、ベンゾピラニル、ベンズイミダゾリル、ベンゾトリアゾリル、ベンズイソオキサゾリル、ベンズオキサゾリル、ベンズオキサジアゾリル、ベンゾイソチアゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾチアジアゾリル、ベンゾフリル、イソベンゾフリル、ベンゾチエニル、ベンゾトリアゾリル、イミダゾピリジル、ピラゾロピリジン、トリアゾロピリジル、イミダゾチアゾリル、ピラジノピリダジニル、キナゾリニル、キノリル、イソキノリル、ナフチリジニル、ジヒドロベンゾフリル、テトラヒドロキノリル、テトラヒドロイソキノリル、ジヒドロベンズオキサジン、テトラヒドロベンゾチエニル等の２環の縮合複素環式基；カルバゾリル、アクリジニル、キサンテニル、フェノチアジニル、フェノキサチイニル、フェノキサジニル、ジベンゾフリル、イミダゾキノリル等の３環の縮合複素環式基；ジオキサニル、チイラニル、オキシラニル、オキサチオラニル、アゼチジニル、チアニル、チアゾリジン、ピロリジニル、ピロリニル、イミダゾリジニル、イミダゾリニル、ピラゾリジニル、ピラゾリニル、ピペリジル、ピペラジニル、モルホリニル、チオモルホリニル、チオモルホリノ、ジヒドロピリジル、ジヒドロベンズイミダゾリル、テトラヒドロピリジル、テトラヒドロフリル、テトラヒドロピラニル、テトラヒドロチアゾリル、テトラヒドロイソチアゾリル、ジヒドロオキサジニル、ヘキサヒドロアゼピニル、テトラヒドロジアゼピニル等の非芳香族複素環式基を包含する。好ましくは５〜６員のヘテロアリールまたは非芳香族複素環式基である。より好ましくは５〜６員のヘテロアリールである。

「非芳香族複素環式基」とは、上記「複素環式基」のうち、芳香族性を示さない基を意味する。

「置換もしくは非置換の炭素環式基」、「置換もしくは非置換の複素環式基」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基」および「置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基」の置換基としては、置換もしくは非置換の低級アルキル、および置換基群αから選択される１以上の基が挙げられる。

「置換もしくは非置換の炭素環式基」、「置換もしくは非置換の複素環式基」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基」および「置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基」における置換基の好ましい態様としては、メチル、エチル、イソプロピル、ｔｅｒｔ-ブチル、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヒドロキシル、カルボキシ、メトキシ、エトキシ、ヒドロキシメトキシ、ヒドロキシエトキシ、メトキシメトキシ、メトキシエトキシ、アミノ、アセチルアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、イミノ、ヒドロキシイミノ、メトキシイミノ、メチルチオ、カルバモイル、メチルカルバモイル、ヒドロキシメチルカルバモイル、スルファモイル、メチルスルファモイル、テイキュウアルキルスルファモイル、シアノ、ニトロ、フェニル、シクロプロピル、シクロブチル、シクロヘキシル、ピリジル、モルホリニル等が挙げられる。

「窒素原子を１〜３個有する６員の芳香族複素環」としては、ピリジン、ピリミジン、ピリダジン、ピラジン、１，３，５−トリアジン、１，２，４−トリアジン、１，２，３−トリアジン等が挙げられる。

「窒素原子を１〜３個含有する５員もしくは６員の複素環式基」としては、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピリジル、ピリダジニル、ピリミジニル、ピラジニル、トリアゾリル、トリアジニル、イソオキサゾリル、オキサゾリル、オキサジアゾリル、イソチアゾリル、チアゾリル、チアジアゾリル、フリルおよびチエニル等が挙げられる。

以下に式（Ｉ）の各部位における例または態様を示すが、本発明の範囲は下記に記載されるものに限定されない。

Ｗは−ＣＨ₂−、−Ｓ−または−Ｏ−である。好ましくは−ＣＨ₂−である。

Ｗが−ＣＨ₂−のときは、Ｕは−ＣＨ₂−、−Ｓ−、−Ｓ（＝Ｏ）−もしくは−Ｏ−であり、好ましくは、Ｕは−Ｓ−もしくは−Ｓ（＝Ｏ）−である。さらに好ましくは、Ｕは−Ｓ−である。

Ｗが−Ｓ−もしくは−Ｏ−のときは、Ｕは−ＣＨ₂−である。

「Ｌ」は−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ₂−ＣＨ＝ＣＨ−または−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ₂−である。好ましくは、Ｌは−ＣＨ₂−である。ここで、Ｌにおける炭素原子間の二重結合の結合様式は、シス結合、トランス結合またはその混合のいずれであっても良い。

Ｒ¹の「置換もしくは非置換の炭素環式基または置換もしくは非置換の複素環式基」の例としては、例えば、フェニル、ヒドロキシフェニル、置換基としてハロゲンを有するフェニル、アミノチアゾール、置換基としてハロゲンを有するアミノチアゾール、アミノチアジアゾール、チオフェン、フラン、ベンゾチアゾール、ピリジン、ピリミジン、ピリダジン、アミノピリジンなどが挙げられる。
好ましい例としては、以下に示される基が挙げられる。

Ｒ^2Bが水素原子である場合、Ｒ^2Aの例としては、水素原子、置換もしくは非置換のアミノ基、−ＣＯＯＨ、−ＳＯ₃Ｈ、置換もしくは非置換のアミノスルホニル基、カルボキシル基、置換もしくは非置換のカルバモイル基、ヒドロキシル基、または置換基を有しているカルボニルオキシ基が挙げられる。例えば、

の好ましい例としては、以下に示す、置換アミノ基

以下に示す、置換アミノスルホニル基

（式中、環Ｂは置換もしくは非置換の複素環式基を表す）
などが挙げられる。

あるいは、Ｒ^2AおよびＲ^2Bは、一緒になって置換または非置換のメチリデン基

（Ｒ⁹は置換もしくは非置換の低級アルキルである）を形成してもよい。
好ましくは、

である。

また、Ｒ^2AおよびＲ^2Bは一緒になって、以下に示す、置換または非置換の置換ヒドロキシイミノ基

（式中、Ｒ⁹は前記と同意義）を形成してもよい。
好ましくは、

（式中、各記号は前記と同意義）である。

「Ｒ⁷およびＲ⁸」の例としては、水素原子、フッ素原子、塩素原子、ヒドロキシ、カルボキシ、メチル、エチル、イソプロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、モノフルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、カルボキシメチル、カルボキシエチル、カルバモイルメチル、カルバモイルエチル、ヒドロキシメチル、ヒドロキシエチル、メトキシメチル、エトキシメチル、メトキシエチル、エトキシエチル、メチルチオメチル、エチルチオメチル、ベンジル、４−ヒドロキシベンジル、４−メトキシベンジル、４−カルボキシベンジル、３，４−ジヒドロキシベンジル、フェニル、４−ヒドロキシフェニル、３，４−ジヒドロキシフェニル、ナフチル、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピリジル、ピリダジニル、ピリミジニル、ピラジニル、トリアゾリル、トリアジニル、テトラゾリル、イソオキサゾリル、オキサゾリル、オキサジアゾリル、イソチアゾリル、チアゾリル、チアジアゾリル、フリルおよびチエニル等が挙げられる。

Ｒ⁷およびＲ⁸の好ましい組合せは、（Ｒ⁷、Ｒ⁸）が、（水素原子、水素原子）、（メチル、水素原子）、（水素原子、メチル）、（メチル、メチル）、（エチル、水素原子）、（水素原子、エチル）、（エチル、エチル）、（フェニル、水素原子）、（水素原子、フェニル）、（ジヒドロキシフェニル、水素原子）、（水素原子、ジヒドロキシフェニル）、（カルボキシメチル、水素原子）、（水素原子、カルボキシメチル）、（カルボキシエチル、水素原子）、（水素原子、カルボキシエチル）、（ヒドロキシエチル、水素原子）、（水素原子、ヒドロキシルエチル）、（カルバモイルメチル、水素原子）、（水素原子、カルバモイルメチル）、（トリフルオロメチル、水素原子）、（カルボキシ
、水素原子）、（カルバモイルエチル、水素原子）、（ベンジル、水素原子）、（ジヒドロキシベンジル、水素原子）等が挙げられる。

上記置換ヒドロキシイミノ基の好ましい例としては、例えば、以下の基が挙げられる。

上記置換ヒドロキシイミノ基のより好ましい例として、以下の基が挙げられる。

また、「Ｒ⁷およびＲ⁸が隣接原子と一緒になって置換もしくは非置換の炭素環もしくは置換もしくは非置換の複素環を形成」する場合は、

（式中、各記号は前記と同意義である）
におけるＲ⁷およびＲ⁸が、環上に置換基群αから選択される基を有していてもよいシクロアルカン、シクロアルケン、もしくは非芳香族複素環を形成していてもよい。例えば、

は、環上に置換基群αから選択される基を有していてもよい以下の式：

であってよい。

「Ｑ」の例としては、単結合、フェニル、ピリジルなどが挙げられる。特に好ましくは単結合である。

「ｍ」は、０または１の整数が好ましく、０の整数が特に好ましい。

この態様における、好ましい例としては、例えば以下に示すものが挙げられる。

本明細書で用いる「バイオアイソスター」とは、類似する生物学的特性をもたらす化学的および物理的類似性を有する基を意味する。したがって、本発明の「カルボキシルイオン（−ＣＯＯ^-）のバイオアイソスター」は、カルボキシルイオンよってもたらされる生物学的特性と類似する生物学的特性をもたらす任意の基を意味する。具体的には、「カルボキシルイオン（−ＣＯＯ^-）」と化学構造が比較的近似し、かつ酸性度、水溶性、および／または体内動態等の物性面で「カルボキシルイオン（−ＣＯＯ^-）」とほぼ同等の傾向が期待され、かつ酸性プロトンを有する基を意味する。該酸性プロトン部分は、塩（例：アルカリ金属塩（例：Ｎａ塩））を形成していてもよい。それらは例えば、Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．１９９２，３５，１１７６−１１８３、Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．１９９３，３６，２４８５−２４９３、Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．１９９２，３５，３６９１−３６９８、Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．１９９５，３８，６１７−６２８、Ｍｅｄ．Ｒｅｓ．Ｒｅｖ．１９８３，３，９１−１１８、Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．２００１，４４，１５６０−１５６３、Ｂｉｏｏｒｇａｎｉｃ＆ＭｅｄｉｃｉｎａｌＣｈｅｍｉｓｔｒｙＬｅｔｔｅｒｓ，Ｖｏｌ．４，Ｎｏ．１，４１−４４，１９９４等に紹介されている。好ましくは、以下からなる群：−ＳＯ₃ ^-、−ＳＯ₂−Ｎ^-−Ｒ¹³、−ＰＯ^-−（ＯＲ¹³）、−ＰＯ₂ ^-−（ＯＲ¹³）、−Ｎ^-−ＣＯ−Ｒ¹³、−ＣＯ−Ｎ^-−ＯＲ¹³、−ＣＯ−ＮＨ−Ｎ^-−ＳＯ₂−Ｒ¹³、−ＣＯ−Ｎ^-−ＳＯ₂−Ｒ¹³、−ＣＯ−ＣＨ＝Ｃ（Ｏ^-）−Ｒ¹³、−Ｎ^-−ＳＯ₂−Ｒ¹³、−ＣＯ−Ｎ^-−ＳＯ₂−Ｒ¹³、−Ｎ^-−ＳＯ₂−Ｒ¹³、−ＣＯ−Ｎ^-−ＣＯ−Ｒ¹³、−ＣＯ−Ｎ^-−ＳＯ₂−Ｒ¹³、−Ｎ^-−ＣＯ−Ｒ¹³

（ここで、Ｒ¹³は水素、ヒドロキシル基、ハロゲン、置換もしく非置換の低級アルキル基、置換もしく非置換の低級アルケニル基、置換もしく非置換の低級アルキニル基、置換もしく非置換の低級アルコキシ基、置換もしく非置換のアミノ基、低級アルケニルオキシ基、置換もしく非置換のアリールオキシ基、シアノ、ニトロ、イミノ、メルカプト、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルホニル基、置換もしく非置換の炭素環式基、置換もしく非置換の複素環式基および−ＣＯ₂Ｒ¹⁷からなら群から選択され、ここでＲ¹⁷は水素、低級アルキル基または低級アルケニルであり、Ｒ¹⁴は電子吸引性を有する基である）から選択される。より好ましくは、

である。

Ｒ¹⁴は電子吸引性を有する基であれば、特に限定はないが、好ましい例として、フッ素、−ＣＨＦ₂、−ＣＦ₃、−ＣＯＮＨ₂、−ＣＮ、−Ｃ＝Ｎ−ＯＨ、−ＳＯ₂ＣＨ₃または−ＳＯ₂ＮＨ₂などが挙げられる。

「Ｒ³」は水素原子、または−ＯＣＨ₃が好ましく、より好ましくは水素原子である。

Ｅは、置換若しくは非置換の１以上の４級アンモニウムイオンを含む２価の基であり、好ましくは、上記式（１）〜（７３）から選択される、さらに環上に置換基を有していてもよい基である。「式（１）〜（７３）から選択される、さらに環上に置換基を有していてもよい基」とは、各環式基の炭素原子上の水素原子が、置換もしくは非置換の低級アルキルもしくは置換基群αから選択される同一又は異なる１以上の基で置き換わったものを包含する。置換基の好ましい態様としては、メチル、エチル、イソプロピル、ｔｅｒｔ-ブチル、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヒドロキシル、カルボキシル、メトキシ、エトキシ、ヒドロキシメトキシ、ヒドロキシエトキシ、メトキシメトキシ、メトキシエトキシ、アミノ、アセチルアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、イミノ、ヒドロキシイミノ、メトキシイミノ、メチルチオ、カルバモイル、メチルカルバモイル、ヒドロキシメチルカルバモイル、スルファモイル、メチルスルファモイル、低級アルキルスルファモイル、シアノ、ニトロ、フェニル、シクロプロピル、シクロブチル、シクロヘキシル、ピリジル、モルホリニル等が挙げられる。より好ましい態様は、無置換またはヒドロキシル基でモノ置換またはジ置換された環である。ヒドロキシル基でモノ置換またはジ置換された環は、さらにその他の置換基で置換されていてもよい。

Ｅは「置換若しくは非置換の１以上の４級アンモニウムイオンを含む２価の基」であるが、Ｅのさらに好ましい例としては、以下に示すものが挙げられる。
式：

（式中、４級窒素原子からの結合手はＬとの結合を示し、もう一方の結合手はＲ¹⁰との結合を示す。また、ｐは１〜３の整数であり、ｎは１または２の整数であり、Ｒ^Xはそれぞれ独立して置換もしくは非置換の低級アルキル基である）から選択される、さらに環上に置換基を有していてもよい基が好ましい。
上記式中、さらに、式（１）〜（７）、（１０）〜（１２）、（１４）、（２５）〜（２９）、（３１）、（４１）〜（４４）、（４７）、（５０）、（５２）、（５３）、（６４）および（７３）からなる群から選択される基が好ましい。
特に、式（３）、（１０）〜（１２）、（２６）〜（２８）、（３１）、（４１）、（４２）、（５３）、（６４）および（７３）からなる群から選択される基が好ましい。
また、以下の例も好ましい。

（式中、各記号が上記と同意義である）

本発明においては、Ｅは置換若しくは非置換の１以上の４級アンモニウムイオンを含む２価の基であるが、
１）Ｅが芳香族炭素環または芳香族複素環を含み、その芳香族環上の隣接する２個の炭素原子にそれぞれヒドロキシル基が結合している場合と
２）Ｅが芳香族炭素環または芳香族複素環を含まない場合か、または芳香族炭素環もしくは芳香族複素環を含み且つその芳香族環上の隣接する２個の炭素原子にそれぞれヒドロキシル基が結合していない場合に分けられる。
Ｅが芳香族炭素環または芳香族複素環を含み、その芳香族環上の隣接する２個の炭素原子にそれぞれヒドロキシル基が結合している場合の、Ｅの好ましい例としては、以下に示すものが挙げられる。

（式中、４級窒素原子からの結合手はＬとの結合を示し、もう一方の結合手はＲ¹⁰との結合を示す。）

Ｅが芳香族炭素環または芳香族複素環を含み、その芳香族環上の隣接する２個の炭素原子にそれぞれヒドロキシル基が結合している場合の、Ｅ−Ｒ¹⁰の好ましい例としては、以下に示すものが挙げられる。

（式中、４級窒素原子からの結合手はＬとの結合を示し、Ｒ¹²は項目１と同意義である）

Ｅが芳香族炭素環または芳香族複素環を含み、その芳香族環上の隣接する２個の炭素原子にそれぞれヒドロキシル基が結合している場合の、Ｅ−Ｒ¹⁰のさらに好ましい例としては、以下に示すものが挙げられる。

（式中、４級窒素原子からの結合手はＬとの結合を示す）

Ｒ¹⁰が−Ｒ¹²である場合の例としては、水素原子、ハロゲン、ヒドロキシル基、−ＳＯ₃Ｈ、置換もしくは非置換のアミノ基、置換もしくは非置換のカルボキシル基、置換もしくは非置換のカルバモイル基、置換もしくは非置換のアシル基、置換もしくは非置換のアミノスルホニル基、置換もしくは非置換のアルキル基、置換もしくは非置換のアルケニル基、置換もしくは非置換のアルキニル基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基または置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基が挙げられる。好ましくは、Ｒ¹²は水素原子または置換もしくは非置換のアルキル基である。

Ｒ¹⁰が

で示される場合の好ましい態様を以下に示す。
Ｇは、好ましくは、単結合、または置換もしくは非置換の低級アルキレン基である。より好ましくは、単結合、メチレンまたはエチレンである。
Ｂは、好ましくは、単結合または式：

である。ここで、左側の結合手はＧとの結合を示し、右側の結合手はＤとの結合を示す。
Ｂは、より好ましくは単結合である。
Ｄは、好ましくは、単結合、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＨ−、−ＮＨ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−、−ＮＨ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｓ（＝Ｏ）−、−Ｓ（＝Ｏ）₂−ＮＨ−、−ＮＨ−Ｓ（＝Ｏ）₂−、−ＮＨ−ＣＨ₂−、−ＣＨ₂−ＮＨ−または−Ｓ（＝Ｏ）₂−である。より好ましくは、−Ｃ（＝Ｏ）−または−ＮＨ−Ｃ（＝Ｏ）−である。

「−Ｅ−Ｇ−Ｂ−Ｄ−」の好ましい例としては、以下の式で示されるものが挙げられる。

（式中、Ｍｅはメチル基を示す。）

式：

で示される基の好ましい例は、例えば、以下に示されるものが挙げられる。

（式中、Ｒ⁴は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン、ヒドロキシル基、−ＣＮ、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ⁵、−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＨ、−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ⁵または−ＯＲ⁵である）

式：

で示される基の好ましい態様として、以下に示されるものが挙げられる。

式：

で示される基のより好ましい態様として、以下に示されるものが挙げられる。

「Ｒ⁴」の例としては、水素原子、塩素原子、フッ素原子、臭素原子、シアノ、ヒドロキシ、カルボキシ、アセチル、メトキシ、エトキシ、トリフルオロメチル等が挙げられる。好ましくは、Ｒ⁴は水素原子、ヒドロキシ、カルボキシ、メトキシ、フッ素原子、トリフルオロメチルまたは塩素原子である。Ｒ⁴のうち少なくとも２個のＲ⁴が環Ａ上の隣接する炭素原子にそれぞれ結合し、かつ、ヒドロキシル基である場合が特に好ましい。

「ｋ」は、２〜５の整数である。環Ａはベンゼン環、または窒素原子を１〜３個有する６員の芳香族複素環であるので、例えばＡがベンゼン環の場合はｋ＝５となり、Ａが窒素原子を３個有する６員の芳香族複素環の場合はｋ＝２となる。

式（Ｉ）のセフェム骨格上の置換位置の命名は、以下のとおりとする。本明細書中における３位側鎖、４位側鎖および７位側鎖とは、下記セフェム骨格の３位、４位および７位に結合している基を示す。

式（Ｉ）のエステル体とは、好ましくは７位側鎖上におけるエステル体を包含する。７位側鎖上のカルボキシル基におけるエステル体は、式：

（式中、各記号は前記と同意義である。）
で示されるＲ¹またはＲ^2AもしくはＲ^2Bの末端において、置換もしくは非置換のアミノ基、置換もしくは非置換のアミノスルホニル基、カルボキシル基、置換もしくは非置換の低級アルキルオキシカルボニル基、置換もしくは非置換のカルバモイル基、置換基を有しているカルボニルオキシ基等におけるカルボキシル基がエステル構造を有しているもの（例えば、カルボキシル（−ＣＯＯＨ）の場合、カルボキシル保護基等のエステル残基を示すＲ^aとともに示される−ＣＯＯＲ^aという構造で示される。）などを挙げることができ、体内で容易に代謝されてカルボキシの状態になるエステルを包含する。

上記のカルボキシル等の保護基としては、ＰｒｏｔｅｃｔｉｖｅＧｒｏｕｐｓｉｎ
ＯｒｇａｎｉｃＳｙｎｔｈｅｓｉｓ、Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ著、ＪｏｈｎＷｉｌｅｙ＆ＳｏｎｓＩｎｃ．（１９９１年）等に記載の方法で保護および／または脱保護できる基であればよく、例えば、低級アルキル（例：メチル、エチル、ｔ−ブチル）、低級アルキルカルボニルオキシメチル（例：ピバロイル）、置換されていてもよいアラルキル（例：ベンジル、ベンズヒドリル、フェネチル、ｐ−メトキシベンジル、ｐ−ニトロベンジル）、シリル基（例：ｔ−ブチルジメチルシリル、ジフェニルｔ−ブチルシリル）等が挙げられる。

式（Ｉ）の７位側鎖上のアミノ基における保護体とは、式：

（式中、各記号は前記と同意義であり、Ｒ¹および／またはＲ^2Aがアミノ基を有している場合、その保護体は、−ＮＨＲ^cという式で表され、ここでＲ^cはアミノ保護基を表わす。）
で示される、環上のアミノ基が保護されている構造を意味する。該アミノ保護基は、体内で容易に代謝されてアミノになる基も包含する。上記のアミノ保護基としては、ＰｒｏｔｅｃｔｉｖｅＧｒｏｕｐｓｉｎＯｒｇａｎｉｃＳｙｎｔｈｅｓｉｓ、Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ著、ＪｏｈｎＷｉｌｅｙ＆ＳｏｎｓＩｎｃ．（１９９１年）等に記載の方法で保護および／または脱保護できる基であればよく、例えば、低級アルコキシカルボニル（例：ｔ−ブトキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）、置換されていてもよいアラルカノイル（例：ベンゾイル、ｐ−ニトロベンゾイル）、アシル（例：ホルミル、クロロアセチル）等が挙げられる。

本発明化合物（Ｉ）は、特定の異性体に限定するものではなく、全ての可能な異性体（例えば、ケト−エノール異性体、イミン−エナミン異性体、ジアステレオ異性体、光学異性体、回転異性体等）、ラセミ体またはそれらの混合物を含む。

例えば、式（Ｉ）における

は

を包含する。

本発明化合物（Ｉ）は、式（Ｉ）におけるＥに含まれる４級アンモニウムイオンと、式（Ｉ）の４位の置換基（即ち、−ＣＯＯ^-のバイオアイソスター）との間で双性イオンを形成する。例えば、４位の置換基がテトラゾイル基である場合、テトラゾイル基は負の電荷を帯びているが、式（Ｉ）中の他の構造部分からプロトンの供与を受けることにより、
式（Ｉ）における、

が、

で示される構造を示すことがあり、このような場合も本発明化合物（Ｉ）に包含される。他のカルボキシルイオン（−ＣＯＯ^-）のバイオアイソスターの場合も同様である。

さらに、式（Ｉ）における式：

（式中、各記号は前記と同意義である）
は、例えば

（式中、Ｒ⁴は前記と同意義である）
などの共鳴構造を包含する。

また、式（Ｉ）におけるＥは、例えば、

（式中、各記号は前記と同意義である）
などの共鳴構造を包含する。

式（Ｉ）で示される化合物の一つ以上の水素、炭素および／または他の原子は、それぞれ水素、炭素および／または他の原子の同位体で置換され得る。そのような同位体の例としては、それぞれ²Ｈ、³Ｈ、¹¹Ｃ、¹³Ｃ、¹⁴Ｃ、¹⁵Ｎ、¹⁸Ｏ、¹⁷Ｏ、³¹Ｐ、³²Ｐ、³⁵Ｓ、¹⁸Ｆ、¹²³Ｉおよび³⁶Ｃｌのように、水素、炭素、窒素、酸素、リン、硫黄、フッ素、ヨウ素および塩素が包含される。式（Ｉ）で示される化合物は、そのような同位体で置換された化合物も包含する。該同位体で置換された化合物は、医薬品としても有用であり、式（Ｉ）で示される化合物のすべての放射性標識体を包含する。また該「放射性標識体」を製造するための「放射性標識化方法」も本発明に包含され、代謝薬物動態研究、結合アッセイにおける研究および／または診断のツールとして有用である。

式（Ｉ）で示される化合物の放射性標識体は、当該技術分野で周知の方法で調製できる。例えば、式（Ｉ）で示されるトリチウム標識化合物は、例えば、トリチウムを用いた触媒的脱ハロゲン化反応によって、式（Ｉ）で示される特定の化合物にトリチウムを導入することで調製できる。この方法は、適切な触媒、例えばＰｄ／Ｃの存在下、塩基の存在下または非存在下で、式（Ｉ）で示される化合物が適切にハロゲン置換された前駆体とトリチウムガスとを反応させることを包含する。他のトリチウム標識化合物を調製するための適切な方法としては、文書ＩｓｏｔｏｐｅｓｉｎｔｈｅＰｈｙｓｉｃａｌａｎｄＢｉｏｍｅｄｉｃａｌＳｃｉｅｎｃｅｓ，Ｖｏｌ．１，ＬａｂｅｌｅｄＣｏｍｐｏｕｎｄｓ（ＰａｒｔＡ），Ｃｈａｐｔｅｒ６（１９８７年）を参照にできる。¹⁴Ｃ−標識化合物は、¹⁴Ｃ炭素を有する原料を用いることによって調製できる。

式（Ｉ）で示される化合物の塩とは、７位のカルボキシル基および／または７位側鎖アミノ基が無機酸や有機酸と塩を形成しているもの、ならびに３位側鎖４級アミン部位が、カウンターアニオンと塩を形成しているものを包含する。

式（Ｉ）で示される化合物の製薬上許容される塩としては、例えば、式（Ｉ）で示される化合物と、アルカリ金属（例えば、リチウム、ナトリウム、カリウム等）、アルカリ土類金属（例えば、カルシウム、バリウム等）、マグネシウム、遷移金属（例えば、亜鉛、鉄等）、アンモニア、有機塩基（例えば、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ジシクロヘキシルアミン、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、メグルミン、ジエタノールアミン、エチレンジアミン、ピリジン、ピコリン、キノリン等）およびアミノ酸との塩、または無機酸（例えば、塩酸、硫酸、硝酸、炭酸、臭化水素酸、リン酸、ヨウ化水素酸等）、および有機酸（例えば、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、トリフルオロ酢酸、クエン酸、乳酸、酒石酸、シュウ酸、マレイン酸、フマル酸、マンデル酸、グルタル酸、リンゴ酸、安息香酸、フタル酸、アスコルビン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸等）との塩が挙げられる。特に塩酸、硫酸、リン酸、酒石酸、メタンスルホン酸との塩等が挙げられる。これらの塩は、通常行われる方法によって形成させることができる。

式（Ｉ）で示される化合物またはその製薬上許容される塩は、溶媒和物（例えば、水和物等）および／または結晶多形を形成する場合があり、本発明はそのような各種の溶媒和物および結晶多形も包含する。「溶媒和物」は、式（Ｉ）で示される化合物に対し、任意の数の溶媒分子（例えば、水分子等）と配位していてもよい。式（Ｉ）で示される化合物またはその製薬上許容される塩を、大気中に放置することにより、水分を吸収し、吸着水が付着する場合や、水和物を形成する場合がある。また、式（Ｉ）で示される化合物またはその製薬上許容される塩を、再結晶することでそれらの結晶多形を形成する場合がある。

式（Ｉ）で示される化合物またはその製薬上許容される塩は、プロドラッグを形成する場合があり、本発明はそのような各種のプロドラッグも包含する。プロドラッグは、化学的又は代謝的に分解できる基を有する本発明化合物の誘導体であり、加溶媒分解により又は生理学的条件下でインビボにおいて薬学的に活性な本発明化合物となる化合物である。プロドラッグは、生体内における生理条件下で酵素的に酸化、還元、加水分解などを受けて式（Ｉ）で示される化合物に変換される化合物、胃酸などにより加水分解されて式（Ｉ）で示される化合物に変換される化合物等を包含する。適当なプロドラッグ誘導体を選択する方法および製造する方法は、例えばＤｅｓｉｇｎｏｆＰｒｏｄｒｕｇｓ，Ｅｌｓｅｖｉｅｒ，Ａｍｓｔｅｒｄａｍ１９８５に記載されている。プロドラッグは、それ自身が活性を有する場合がある。

式（Ｉ）で示される化合物またはその製薬上許容される塩がヒドロキシル基を有する場合は、例えばヒドロキシル基を有する化合物と適当なアシルハライド、適当な酸無水物、適当なスルホニルクロライド、適当なスルホニルアンハイドライド及びミックスドアンハイドライドとを反応させることにより或いは縮合剤を用いて反応させることにより製造されるアシルオキシ誘導体やスルホニルオキシ誘導体のようなプロドラッグが例示される。例えばＣＨ₃ＣＯＯ−、Ｃ₂Ｈ₅ＣＯＯ−、ｔ−ＢｕＣＯＯ−、Ｃ₁₅Ｈ₃₁ＣＯＯ−、ＰｈＣＯＯ−、（ｍ−ＮａＯＯＣＰｈ）ＣＯＯ−、ＮａＯＯＣＣＨ₂ＣＨ₂ＣＯＯ−、ＣＨ₃ＣＨ（ＮＨ₂）ＣＯＯ−、ＣＨ₂Ｎ（ＣＨ₃）₂ＣＯＯ−、ＣＨ₃ＳＯ₃−、ＣＨ₃ＣＨ₂ＳＯ₃−、ＣＦ₃ＳＯ₃−、ＣＨ₂ＦＳＯ₃−、ＣＦ₃ＣＨ₂ＳＯ₃−、ｐ−ＣＨ₃−Ｏ−ＰｈＳＯ₃−、ＰｈＳＯ₃−、ｐ−ＣＨ₃ＰｈＳＯ₃−が挙げられる。

式（Ｉ）で示される化合物の合成において、次式：

（式中、Ｙは脱離基であり、Ｕ、Ｒ³およびＲ¹¹は前記と同意義であり、Ｐは前記で定義した保護基である）
で示される化合物（またはその塩）は、中間体として好ましい。
脱離基としては、ハロゲン（Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、Ｆ）、メタンスルホニルオキシ、ｐ−トルエンスルホニルオキシ、トリフルオロメタンスルホニルオキシ等が例示される。

下記の一般的合成法および実施例に記載するように、式（Ｉ）で示される本発明の化合物は、上記中間体のセフェム骨格の３位、４位および７位にそれぞれ側鎖部位を結合することにより得られる。上記保護基Ｐとしては、以下の一般的合成において記載する保護基が挙げられるが、好ましい例としては、ベンズヒドリル基、パラメトキシベンジル基、トリチル基、２，６−ジメトキシベンジル基、メトキシメチル基、ベンジルオキシメチル基または２-（トリメチルシリル）エトキシメチル基などが挙げられる。

（一般合成法）
本発明に係る式（Ｉ）で示される化合物は、例えば、下記に示す一般的合成法によって製造することができる。

式中、Ｗ、Ｕ、Ｒ¹、Ｒ^2A、Ｒ^2B、Ｒ³、Ｒ¹⁰、Ｒ¹¹、ＬおよびＥは前記と同意義であり、Ｐは保護基を示し、Ｙは脱離基（たとえば、ハロゲン（Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉ，Ｆ）、メタンスルホニルオキシ、ｐ−トルエンスルホニルオキシ、トリフルオロメタンスルホニルオキシ等）を示す。

１）７位側鎖形成：化合物（Ｘ）の合成
工程１
化合物（ＶＩＩＩ）を、化合物（ＩＸ）との縮合反応に付すことにより、化合物（Ｘ）を得る。反応溶媒としては、例えばエーテル類（例：アニソール、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル）、エステル類（例：ギ酸エチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル）、ハロゲン化炭化水素類（例：ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素）、炭化水素類（例：ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン）、アミド類（例：ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン）、ケトン類（例：アセトン、メチルエチルケトン）、ニトリル類（例：ＭｅＣＮ、プロピオニトリル）、ニトロ類（例：ニトロメタン、ニトロエタン、ニトロベンゼン）、ジメチルスルホキシド、水などが例示される。これらの溶媒は単独で使用しても、２種以上を混合して使用してもよい。反応温度は通常、約−１００〜１００℃、好ましくは約−８０〜２０℃、より好ましくは約−６０〜−２０℃である。反応時間は、用いる試薬や溶媒や反応温度により異なるが、通常０．５〜２４時間である。

２）３位側鎖形成：化合物（Ｉ）の合成
工程２
化合物（Ｘ）を、化合物（ＸＩ）と反応させた後、当業者周知の方法により脱保護反応に付すことにより、化合物（Ｉ）を得る。化合物（Ｘ）と化合物（ＸＩ）との反応の溶媒としては、例えばエーテル類（例：アニソール、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル）、エステル類（例：ギ酸エチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル）、ハロゲン化炭化水素類（例：ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素）、炭化水素類（例：ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン）、アミド類（例：ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン）、ケトン類（例：アセトン、メチルエチルケトン）、ニトリル類（例：ＭｅＣＮ、プロピオニトリル）、ニトロ類（例：ニトロメタン、ニトロエタン、ニトロベンゼン）、ジメチルスルホキシド、水などが例示される。これらの溶媒は単独で使用しても、２種以上を混合して使用してもよい。反応温度は通常、約−１００〜１００℃、好ましくは約−８０〜５０℃、より好ましくは約−４０〜０℃である。反応時間は、用いる試薬や溶媒や反応温度により異なるが、通常０．５〜２４時間である。

式（Ｉ）で示される化合物が４位にテトラゾール環を有する場合は、上記スキーム１で用いる化合物（ＶＩＩＩ）をスキーム２の手順に従って調製することができる。

式中、Ｗ、Ｕ、Ｒ³およびＬは前記と同意義であり、Ｐは保護基を示し、Ｙは脱離基（たとえば、ハロゲン（Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉ，Ｆ）、メタンスルホニルオキシ、ｐ−トルエンスルホニルオキシ、トリフルオロメタンスルホニルオキシ等）を示す。

工程１
化合物（ＩＩ）の７位側鎖のアミノ基を当業者周知の方法により保護基で保護し、化合物（ＩＩＩ）を得る。使用できる保護基としては、下記に例示するアミノ保護基が挙げられる。

工程２
化合物（ＩＩＩ）の４位のカルボキシル基を当業者周知の方法によりアミノ化し、化合物（ＩＶ）を得る。このアミノ化には、予め保護基で保護したアミン化合物を用いてもよいし、アミノ化した後に４位側鎖のアミノ基を保護してもよい。使用できる保護基としては、下記に例示するアミノ保護基が挙げられる。反応溶媒としては、例えばエーテル類（例：ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル）、エステル類（例：ギ酸エチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル）、ハロゲン化炭化水素類（例：ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素）、炭化水素類（例：ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン）、アミド類（例：ホルムアミド、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ,Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン）、ケトン類（例：アセトン、メチルエチルケトン）、ニトリル類（例：ＭｅＣＮ、プロピオニトリル）、ジメチルスルホキシド、水などまたはそれらの混合溶媒等が例示される。
反応温度は通常、約−１００〜１００℃、好ましくは約−８０〜５０℃、より好ましくは約−８０〜−４０℃である。反応時間は、用いる試薬や溶媒や反応温度により異なるが、通常０．５〜２４時間である。

工程３
化合物（ＩＶ）を、アジ化水素、トリメチルシリルアジド（ＴＭＳＮ₃）、アジ化水素酸塩類（例：アジ化ナトリウム、テトラｎ−ブチルアンモニウムアジド、テトラメチルグアニジニウムアジド）等と反応させてテトラゾール環を形成させ、化合物（Ｖ）を得る。

トリメチルシリルアジドの使用量は、化合物（ＩＶ）１モルに対して通常、約１〜１００モル、好ましくは１〜３０モルである。反応溶媒としては、例えば、水、アルコール類（例：メタノール、エタノール等）、カルボン酸（例：酢酸等）が挙げられる。反応温度は通常、約０〜１００℃、好ましくは約１０〜９０℃、より好ましくは約１０〜５０℃である。反応時間は、用いる試薬や溶媒や反応温度により異なるが、通常０．５〜２４時間である。

工程４
化合物（Ｖ）を当業者周知の方法により脱保護反応に付すことにより化合物（ＶＩ）を得る。

工程５
当業者周知の方法により化合物（ＶＩ）の３位側鎖の水酸基をハロゲン化し、化合物（ＶＩＩ）を得る。使用できるハロゲン化剤としては、例えば、ホスゲン、トリホスゲン等が挙げられる。反応溶媒としては、例えばエーテル類（例：アニソール、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル）、エステル類（例：ギ酸エチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル）、ハロゲン化炭化水素類（例：ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素）、炭化水素類（例：ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン）、アミド類（例：ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン）、ケトン類（例：アセトン、メチルエチルケトン）、ニトリル類（例：ＭｅＣＮ、プロピオニトリル）、ニトロ類（例：ニトロメタン、ニトロエタン、ニトロベンゼン）、ジメチルスルホキシド、水などが例示される。これらの溶媒は単独で使用しても、２種以上を混合して使用してもよい。反応温度は通常、約−１００〜１００℃、好ましくは約−８０〜５０℃、より好ましくは約−２０〜３０℃である。反応時間は、用いる試薬や溶媒や反応温度により異なるが、通常０．５〜２４時間である。

工程６
化合物（ＶＩＩ）を当業者周知の方法により脱保護反応に付すことにより、７位のアミノ保護基を脱保護し、化合物（ＶＩＩＩａ）を得る。

また、式（Ｉ）で示される化合物は、下記に示す合成法によっても製造することができる。

式中、Ｒ¹、Ｒ^2A、Ｒ^2B、Ｒ³、Ｒ¹⁰、Ｒ¹¹、ＬおよびＥは前記と同意義であり、ＵはＳを示し、Ｐは保護基を示し、Ｙは脱離基（たとえば、ハロゲン（Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉ，Ｆ）、メタンスルホニルオキシ、ｐ−トルエンスルホニルオキシ、トリフルオロメタンスルホニルオキシ等）を示す。

１）７位側鎖形成：化合物（ＸＩＸ）の合成
工程１
化合物（ＸＶＩＩＩ）を、化合物（ＩＸ）との縮合反応に付すことにより、化合物（ＸＩＸ）を得る。反応溶媒としては、例えばエーテル類（例：アニソール、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル）、エステル類（例：ギ酸エチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル）、ハロゲン化炭化水素類（例：ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素）、炭化水素類（例：ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン）、アミド類（例：ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン）、ケトン類（例：アセトン、メチルエチルケトン）、ニトリル類（例：ＭｅＣＮ、プロピオニトリル）、ニトロ類（例：ニトロメタン、ニトロエタン、ニトロベンゼン）、ジメチルスルホキシド、水などが例示される。これらの溶媒は単独で使用しても、２種以上を混合して使用してもよい。反応温度は通常、約−１００〜１００℃、好ましくは約−８０〜５０℃、より好ましくは約−６０〜０℃である。反応時間は、用いる試薬や溶媒や反応温度により異なるが、通常０．５〜２４時間である。

工程２
化合物（ＸＩＸ）を当業者周知の酸化剤（例えばｍ−クロロ過安息香酸など等）による酸化反応に付し、化合物（ＸＸ）を得る。反応溶媒としては、例えばエーテル類（例：アニソール、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル）、エステル類（例：ギ酸エチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル）、ハロゲン化炭化水素類（例：ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素）、炭化水素類（例：ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン）、アミド類（例：ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン）、ケトン類（例：アセトン、メチルエチルケトン）、ニトリル類（例：ＭｅＣＮ、プロピオニトリル）、ニトロ類（例：ニトロメタン、ニトロエタン、ニトロベンゼン）、ジメチルスルホキシド、水などが例示される。これらの溶媒は単独で使用しても、２種以上を混合して使用してもよい。反応温度は通常、約−１００〜１００℃、好ましくは約−８０〜５０℃、より好ましくは約−６０〜−３０℃である。反応時間は、用いる試薬や溶媒や反応温度により異なるが、通常０．５〜２４時間である。

２）３位側鎖形成：化合物（Ｉ）の合成
工程３
化合物（ＸＸ）を、化合物（ＸＩ）と当業者周知の方法により置換反応させた後、当業者周知の還元剤（例えば三臭化リンなど）により還元した後、脱保護反応に付すことにより、化合物（Ｉ）を得る。化合物（ＸＸ）と化合物（ＸＩ）との反応の溶媒としては、例えばエーテル類（例：アニソール、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル）、エステル類（例：ギ酸エチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル）、ハロゲン化炭化水素類（例：ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素）、炭化水素類（例：ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン）、アミド類（例：ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン）、ケトン類（例：アセトン、メチルエチルケトン）、ニトリル類（例：ＭｅＣＮ、プロピオニトリル）、ニトロ類（例：ニトロメタン、ニトロエタン、ニトロベンゼン）、ジメチルスルホキシド、水などが例示される。これらの溶媒は単独で使用しても、２種以上を混合して使用してもよい。反応温度は通常、約−１００〜１００℃、好ましくは約−８０〜５０℃、より好ましくは約−４０〜０℃である。反応時間は、用いる試薬や溶媒や反応温度により異なるが、通常０．５〜２４時間である。

式（Ｉ）で示される化合物が４位にテトラゾール環を有する場合は、上記スキーム３で用いる化合物（ＸＶＩＩＩ）をスキーム４に示す手順に従って調製することができる。

式中、Ｒ³およびＬは前記と同意義であり、ＵはＳを示し、Ｐは保護基を示し、Ｙは脱離基（たとえば、ハロゲン（Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉ，Ｆ）、メタンスルホニルオキシ、ｐ−トルエンスルホニルオキシ、トリフルオロメタンスルホニルオキシ等）を示す。なお、上記図中で化合物（ＸＩＩ）として、チオフェン環を有する化合物を用いているが、特にチオフェン環に限定されず、アルキル基でもベンゼン環でも、上記同様に式（Ｉ）で示される化合物の製造に使用できる。

工程１
化合物（ＸＩＩ）を、当業者周知の方法により異性化、および４位のカルボキシル基をアミノ化し、化合物（ＸＩＩＩ）を得る。反応溶媒としては、例えばエーテル類（例：ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル）、エステル類（例：ギ酸エチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル）、ハロゲン化炭化水素類（例：ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素）、炭化水素類（例：ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン）、アミド類（例：ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン）、ケトン類（例：アセトン、メチルエチルケトン）、ニトリル類（例：ＭｅＣＮ、プロピオニトリル）、ジメチルスルホキシド、水などまたはそれらの混合溶媒等が例示される。
反応温度は通常、約−１００〜１００℃、好ましくは約−５０〜５０℃、より好ましくは約１０〜４０℃である。反応時間は、用いる試薬や溶媒や反応温度により異なるが、通常０．５〜２４時間である。

工程２
化合物（ＸＩＩＩ）を、当業者周知の方法により脱水し化合物（ＸＩＶ）を得る（例えば無水トリフルオロ酢酸（ＴＦＡＡ）を使った脱水反応）。
反応溶媒としては、例えばエーテル類（例：ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル）、エステル類（例：ギ酸エチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル）、ハロゲン化炭化水素類（例：ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素）、炭化水素類（例：ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン）、アミド類（例：ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン）、ケトン類（例：アセトン、メチルエチルケトン）、ニトリル類（例：ＭｅＣＮ、プロピオニトリル）、ジメチルスルホキシド、水などまたはそれらの混合溶媒等が例示される。
反応温度は通常、約−１００〜１００℃、好ましくは約−８０〜５０℃、より好ましくは約−６０〜０℃である。反応時間は、用いる試薬や溶媒や反応温度により異なるが、通常０．５〜２４時間である。

工程３
化合物（ＸＩＶ）を、アジ化水素、トリメチルシリルアジド（ＴＭＳＮ₃）、あるいはアジ化水素酸塩類（例：アジ化ナトリウム、テトラｎ−ブチルアンモニウムアジド、テトラメチルグアニジニウムアジド）等と反応させて４位にテトラゾール環を形成させ、化合物（ＸＶ）を得る。トリメチルシリルアジドを用いる場合、その使用量は、化合物（ＸＩＶ）１モルに対して通常、約１〜５０モル、好ましくは１〜１０モルである。反応溶媒としては、例えば、水、アルコール類（例：メタノール、エタノール等）、カルボン酸（例：酢酸等）が挙げられる。反応温度は通常、約２０〜１５０℃、好ましくは約４０〜１００℃、より好ましくは約６０〜９０℃である。反応時間は、用いる試薬や溶媒や反応温度により異なるが、通常０．５〜２４時間である。

工程４
化合物（ＸＶ）を当業者周知の方法により保護反応に付すことによりテトラゾール環の窒素を保護し化合物（ＸＶＩ）を得る。

工程５
当業者周知の方法により化合物（ＸＶＩ）を加水分解反応に付し、７位側鎖のアミドをアミノ基とした後、塩酸等のハロゲン化水素酸により処理して化合物（ＸＶＩＩＩａ）を得る。反応溶媒としては、例えばエーテル類（例：アニソール、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル）、エステル類（例：ギ酸エチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル）、ハロゲン化炭化水素類（例：ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素）、炭化水素類（例：ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン）、アミド類（例：ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン）、ケトン類（例：アセトン、メチルエチルケトン）、ニトリル類（例：ＭｅＣＮ、プロピオニトリル）、ニトロ類（例：ニトロメタン、ニトロエタン、ニトロベンゼン）、ジメチルスルホキシド、水などが例示される。これらの溶媒は単独で使用しても、２種以上を混合して使用してもよい。反応温度は通常、約−１００〜１００℃、好ましくは約−５０〜５０℃、より好ましくは約−４０〜３０℃である。反応時間は、用いる試薬や溶媒や反応温度により異なるが、通常０．５〜２４時間である。

上記反応に使用できる保護基（アミノ保護基、ヒドロキシル保護基など）としては、例えば、ＰｒｏｔｅｃｔｉｖｅＧｒｏｕｐｓｉｎＯｒｇａｎｉｃＳｙｎｔｈｅｓｉｓ、Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ著、ＪｏｈｎＷｉｌｅｙ＆ＳｏｎｓＩｎｃ．（１９９１年）などに記載されている保護基をあげることができる。保護基の導入および脱離方法は、有機合成化学で常用される方法（例えば、ＰｒｏｔｅｃｔｉｖｅＧｒｏｕｐｓｉｎＯｒｇａｎｉｃＳｙｎｔｈｅｓｉｓ、Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ著、ＪｏｈｎＷｉｌｅｙ＆ＳｏｎｓＩｎｃ．（１９９１年）参照）などに記載の方法あるいはそれらに準じて得ることができる。また、各置換基に含まれる官能基の変換は、上記製造法以外にも公知の方法（例えば、ＣｏｍｐｒｅｈｅｎｓｉｖｅＯｒｇａｎｉｃＴｒａｎｓｆｏｒｍａｔｉｏｎｓ、Ｒ．Ｃ．Ｌａｒｏｃｋ著（１９８９年）など）によっても行うことができ、本発明の化合物の中には、これを合成中間体としてさらに新規な誘導体へ導くことができるものもある。上記各製造法における中間体および目的化合物は、有機合成化学で常用される精製法、例えば中和、濾過、抽出、洗浄、乾燥、濃縮、再結晶、各種クロマトグラフィーなどに付して単離精製することができる。また、中間体においては、特に精製することなく次の反応に供することも可能である。

例えば、アミノ保護基としては、フタルイミド、低級アルコキシカルボニル（ブトキシカルボニル（Ｂｏｃ）等）、低級アルケニルオキシカルボニル（アリルオキシカルボニル（Ａｌｌｏｃ）等）、ベンジルオキシカルボニル、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル、（置換）アラルカノイル（ｐ−ニトロベンゾイル等）、アシル（ホルミル、クロロアセチル等）、（置換）アラルキル（トリチル等）、ベンズヒドリル（ＢＨ）などが例示される。

例えば、ヒドロキシル保護基としては、例えば、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシカルボニル（例えば、ｔ−ブチルオキシカルボニル）などの低級アルコキシカルボニル、ハロゲン化（Ｃ₁−Ｃ₃）アルコキシカルボニル（例えば、２−ヨードエチルオキシカルボニル、２，２，２−トリクロロエチルオキシカルボニル）などのハロゲン化低級アルコキシカルボニル、ベンゼン環に置換分（群）を有することあるフェニル（Ｃ₁−Ｃ₄）アルコキシカルボニル（ベンジルオキシカルボニル、ｏ−ニトロベンジルオキシカルボニル、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル、ｐ−メトキシベンジルオキシカルボニル）などのアリール（低級）アルコキシカルボニル、ｐ−メトキシベンジル（ＰＭＢ）、トリ（Ｃ₁−Ｃ₄）アルキルシリル（例えば、トリメチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル）などのトリ（低級）アルキルシリル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシメチル（例えば、メトキシメチル）、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ（Ｃ₁−Ｃ₄）アルコキシメチル（例えば、２−メトキシエトキシメチル）、Ｃ₁−Ｃ₄アルキルチオメチル（例えば、メチルチオメチル）などの置換メチル、テトラヒドロピラニル、などが例示される。

上記に記載した脱保護反応は、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、ジエチルエーテル、ジクロロメタン、トルエン、ベンゼン、キシレン、シクロヘキサン、へキサン、クロロホルム、酢酸エチル、酢酸ブチル、ペンタン、ヘプタン、ジオキサン、アセトン、アセトニトリルまたはそれらの混合溶媒等の溶媒中、ルイス酸（例：ＡｌＣｌ₃、ＳｎＣｌ₄、ＴｉＣｌ₄）、プロトン酸（例：ＨＣｌ、ＨＢｒ、Ｈ₂ＳＯ₄、ＨＣＯＯＨ）等を用いて行えばよい。

なお得られた化合物（Ｉ）を更に化学修飾してエステル体、もしくはその７位のチアゾール環上のアミノにおける保護体、またはそれらの製薬上許容される塩もしくは溶媒和物を合成することもできる。

化合物（ＸＸ）を当業者周知の還元剤（例えば三臭化リンなど）により還元した後、化合物（ＸＩ）と反応させ、その後脱保護反応に付すことにより、化合物（Ｉ）を得ることもできる。

本発明化合物は、スペクトルの広い抗菌活性を有し、ヒトを含む各種哺乳動物における病原性細菌により生ずる種々の疾病、例えば気道感染症、尿路感染症、呼吸器感染症、敗血症、腎炎、胆嚢炎、口腔内感染症、心内膜炎、肺炎、骨髄膜炎、中耳炎、腸炎、蓄膿、創傷感染、日和見感染等の予防又は治療のために使用され得る。

本発明化合物は、特にグラム陰性菌、好ましくは、腸内細菌科のグラム陰性菌（大腸菌、クレブシエラ、セラチア、エンテロバクター、シトロバクター、モルガネラ、プロビデンシア、プロテウス等）、呼吸器に定着するグラム陰性菌（ヘモフィルス、モラキセラ等
）およびブドウ糖非発酵のグラム陰性菌（緑膿菌、緑膿菌以外のシュードモナス、ステノトロフォモナス、バークホルデリア、アシネトバクター等）に対して高い抗菌活性を示す。これらのグラム陰性菌が産生するクラスＡ、Ｂ、ＣおよびＤに属するβ−ラクタマーゼに安定であり、ＥＳＢＬ産生菌などの各種β−ラクタム薬耐性グラム陰性菌に高い抗菌活性を有する。特にＩＭＰ型、ＶＩＭ型，Ｌ−１型などを含むクラスＢに属するメタロ−β−ラクタマーゼに対しても極めて安定であるので、セフェムやカルバペネムを含む各種β−ラクタム薬耐性グラム陰性菌に対しても有効である。また本発明化合物は、メチシリン感受性黄色ブドウ球菌（ＭＲＳＡ）、ペニシリン耐性肺炎ブドウ球菌（ＰＲＳＰ）等を含むグラム陽性菌に対しても抗菌活性を有している。さらに好ましい化合物は、体内動態として、血中濃度が高い、効果の持続時間が長い、および／または組織移行性が顕著である等の特徴も有している。また好ましい化合物は発熱を示さない、腎毒性を示さないなど副作用の点で安全である。また好ましい化合物は、水溶性が高く、特に注射薬として好適である。

本発明化合物は、経口的又は非経口的に投与することができる。経口投与による場合、本発明化合物は通常の製剤、例えば、錠剤、散剤、顆粒剤、カプセル剤等の固形剤；水剤；油性懸濁剤；又はシロップ剤もしくはエリキシル剤等の液剤のいずれかの剤形としても用いることができる。非経口投与による場合、本発明化合物は、水性又は油性懸濁注射剤、点鼻液として用いることができる。その調製に際しては、慣用の賦形剤、結合剤、滑沢剤、水性溶剤、油性溶剤、乳化剤、懸濁化剤、保存剤、安定剤等を任意に用いることができる。本発明の製剤は、治療有効量の本発明化合物を製薬上許容される担体又は希釈剤とともに組み合わせる（例えば混合する）ことによって製造される。

本発明化合物は、注射剤、カプセル剤、錠剤、顆粒剤として非経口または経口的に投与できるが、好ましくは注射剤として投与される。投与量は、通常、患者または動物の体重１ｋｇ当たり、約０．１〜１００ｍｇ／日、好ましくは約０．５〜５０ｍｇ／日を、所望により１日２〜４回に分割して投与すればよい。注射剤として用いられる場合の担体は、たとえば蒸留水、生理食塩水などであり、またｐＨ調節のための塩基等を使用してもよい。カプセル剤、顆粒剤、錠剤として用いられる場合の担体は、公知の賦形剤(例：デンプ
ン、乳糖、白糖、炭酸カルシウム、リン酸カルシウムなど)、結合剤(例：デンプン、アラビアゴム、カルボキシメチルセルロ−ス、ヒドロキシプロピルセルロ−ス、結晶セルロ−スなど)、滑沢剤(例：ステアリン酸マグネシウム、タルクなど)等である。

以下に、実施例、参考例、試験例および製剤例を挙げて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。

各略語の意味は以下の通りである。
Ａｃ：アセチル
Ａｌｌｏｃ：アリルオキシカルボニル
ＢＨ：ベンズヒドリル
Ｂｏｃ：ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル
Ｂｚｈ：ベンズヒドリル
ＤＭＦ：Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド
ＥＤＣ：１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド
ｉ−Ｐｒ：イソプロピル
ｍＣＰＢＡ：ｍ−クロロ過安息香酸
Ｍｅ：メチル
ＯＤＳ：オクタデシルシリル
ＰＭＢ：パラメトキシベンジル
ｔ−Ｂｕ：ｔｅｒｔ−ブチル
ＴＦＡ：トリフルオロ酢酸
ＷＳＣＤ：Ｎ−エチル−Ｎ’−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド

（実施例１）
化合物Ｉ−１の合成

工程（１）：化合物１ａ→化合物１ｂ
化合物１ａ(54.5 g, 200 mmol)及び炭酸水素ナトリウム(42.0 g, 500 mmol)を水(1000 ml)/アセトン(400 ml)の混合液に溶解させた後、氷冷下、クロロギ酸アリル(25.6 ml, 240 mmol)を加えた。氷冷下で30分間攪拌した後、室温で１時間攪拌した。反応液を減圧下で濃縮した後、酢酸エチルで希釈し、水で抽出した。水層を酸性とし、酢酸エチルで抽出し、飽和食塩水で洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムをろ過した後、減圧下で濃縮し化合物１ｂ(66.39 g, 93%)を得た。
¹H-NMR (DMSO-d₆) δ: 8.42 (1H, d, J = 8.73 Hz), 5.97-5.85 (1H, m), 5.54 (1H, dd, J = 8.73, 4.84 Hz), 5.30 (1H, dd, J = 17.23, 1.53 Hz), 5.20 (1H, dd, J = 10.37, 1.53 Hz), 5.08 (1H, d, J = 4.84 Hz), 4.98 (1H, d, J = 12.73 Hz), 4.68 (1H, d, J = 12.73 Hz), 4.53 (2H, d, J = 5.19 Hz), 3.62 (1H, d, J = 18.07 Hz), 3.48 (1H, d, J = 18.07 Hz), 2.03 (3H, s).

工程（２）：化合物１ｂ→化合物１ｃ
化合物１ｂ(65.0 g, 182 mmol)を塩化メチレン(650 ml)に懸濁させた後、氷冷下１−クロロ-N,N,2-トリメチル-1-プロペニルアミン(29.0 ml, 219 mmol)を加え、氷冷下で30分間攪拌した。反応液を-60℃に冷却した後、4-メトキシベンジルアミン(59.6 ml, 456 mmol)の塩化メチレン(60 ml)溶液を滴下した。反応液に塩化メチレン(200 ml)を加えた後、-60℃〜-50℃で10分間攪拌した。反応液を塩化メチレン/アセトニトリルで希釈し、有機層を塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムをろ過した後、減圧下で濃縮し、塩化メチレン/ジイソプロピルエーテルを加え、析出した結晶をろ取し、化合物１ｃ(73.94 g, 85%)を得た。
¹H-NMR (DMSO-d₆) δ: 8.76 (1H, t, J = 5.68 Hz), 8.46 (1H, d, J = 8.85 Hz), 7.23 (2H, d, J = 8.39 Hz), 6.85 (2H, d, J = 8.24 Hz), 5.96-5.85 (1H, m), 5.40 (1H, dd, J = 8.85, 4.80 Hz), 5.30 (1H, d, J = 17.23 Hz), 5.20 (1H, d, J = 10.37 Hz), 5.02 (1H, d, J = 4.80 Hz), 4.94 (1H, d, J = 12.58 Hz), 4.71 (1H, d, J = 12.58 Hz), 4.54 (2H, d, J = 5.68 Hz), 4.36 (1H, dd, J = 14.83, 5.76 Hz), 4.24 (1H, dd, J = 14.83, 5.76 Hz), 3.72 (3H, s), 3.56 (1H, d, J = 17.62 Hz), 3.43 (1H, d, J = 17.62 Hz), 2.02 (3H, s).

工程（３）：化合物１ｃ→化合物１ｄ
化合物１ｃ(39.0 g, 82 mmol)とピリジン(23.17 ml, 287 mmol)を塩化メチレン(400 ml)に懸濁させた後、氷冷下でトリホスゲン(12.17 g, 41 mmol)を加え、氷冷下で30分間攪拌した。氷冷下でトリメチルシリルアジド(12.17 g, 41 mmol)、メタノール(8.32 ml, 205 mmol)を加え、室温で一晩放置した。反応液を塩化メチレンで希釈し、有機層を塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムをろ過した後、減圧下で濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサン/酢酸エチルで溶離させた。所望の化合物を含む画分を減圧下で濃縮し、化合物１ｄ(21.29 g, 52%)を得た。
¹H-NMR (DMSO-d₆) δ: 8.47 (1H, d, J = 8.85 Hz), 7.25 (2H, d, J = 8.54 Hz), 6.92 (2H, d, J = 8.54 Hz), 5.98-5.85 (1H, m), 5.61-5.56 (3H, m), 5.27-5.33 (2H, m), 5.20 (1H, d, J = 9.30 Hz), 4.54 (2H, d, J = 5.34 Hz), 4.31 (1H, d, J = 12.73 Hz), 4.18 (1H, d, J = 12.73 Hz), 3.74 (3H, s), 3.66 (1H, d, J = 18.00 Hz), 3.57 (1H, d, J = 18.00 Hz), 1.90 (3H, s).

工程（４）：化合物１ｄ→化合物１ｅ
化合物１ｄ(21.29 g, 42.5 mmol)をテトラヒドロフラン(300 ml)に溶解させた後、3mol/L 硫酸(284 ml, 851 mmol)を加え、45℃で3時間攪拌した。反応液を酢酸エチルで希釈し、有機層を水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムをろ過した後、減圧下で濃縮し、化合物１ｅ(19.63 g, 101%)を得た。得られた化合物１ｅは精製せずそのまま次の反応に用いた。
¹H-NMR (DMSO-d₆) δ: 8.45 (1H, d, J = 9.00 Hz), 7.24 (2H, d, J = 8.62 Hz), 6.91 (2H, d, J = 8.62 Hz), 5.98-5.85 (1H, m), 5.52-5.48 (3H, m), 5.33-5.18 (3H, m), 5.09 (1H, t, J = 5.34 Hz), 4.53 (2H, d, J = 5.19 Hz), 3.74 (3H, s), 3.55-3.60 (4H, m).

工程（５）：化合物１ｅ→化合物１ｆ
化合物１ｅ(19.63 g, 42.8 mmol)とピリジン(5.18 ml, 64.2 mmol)を塩化メチレン(200 ml)に懸濁させた後、氷冷下トリホスゲン(5.08 g, 17.13 mmol)を加え、氷冷下2時間攪拌した。反応液を塩化メチレンで希釈し、有機層を塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムをろ過した後、減圧下で濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサン/酢酸エチルで溶離させた。所望の化合物を含むフラクションを減圧下で濃縮し、ジイソプロピルエーテルで結晶化させ、化合物１ｆ(9.15 g, 45%)を得た。
¹H-NMR (DMSO-d₆) δ: 8.48 (1H, d, J = 9.00 Hz), 7.24 (2H, d, J = 8.39 Hz), 6.91 (2H, d, J = 8.39 Hz), 5.97-5.85 (1H, m), 5.65-5.52 (3H, m), 5.32-5.27 (2H, m), 5.20 (1H, d, J = 10.37 Hz), 4.53 (2H, d, J = 4.88 Hz), 4.02 (1H, d, J = 11.82 Hz), 3.97 (1H, d, J = 11.82 Hz), 3.73-3.59 (5H, m).

工程（６）：化合物１ｆ→化合物１ｇ
化合物１ｆ(9.15 g, 19.18 mmol)とジメドン(8.07 g, 57.6 mmol)を塩化メチレン(90 ml)に懸濁させた後、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム(1.108 g, 0.959 mmol)を加え、室温で1時間攪拌した。反応液を塩化メチレンで希釈し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムをろ過した後、減圧下で濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサン/酢酸エチルで溶離させた。所望の化合物を含むフラクションを減圧下で濃縮し、酢酸エチル/ジイソプロピルエーテルを加え、析出した結晶をろ取し化合物１ｇ(4.89 g, 65%)を得た。
¹H-NMR (DMSO-d₆) δ: 7.21 (2H, d, J = 8.46 Hz), 6.90 (2H, d, J = 8.46 Hz), 5.60 (1H, d, J = 14.79 Hz), 5.49 (1H, d, J = 14.79 Hz), 5.19 (1H, d, J = 5.19 Hz), 4.82-4.74 (1H, m), 4.08 (1H, d, J = 12.12 Hz), 4.03 (1H, d, J = 12.12 Hz), 3.72 (3H, s), 3.67 (1H, d, J = 17.92 Hz), 3.57 (1H, d, J = 17.92 Hz), 2.38 (2H, d, J = 9.46 Hz).

工程（７）：化合物１ｇ＋化合物１ｈ→化合物１ｉ
化合物１ｇ(2.00 g, 5.09 mmol)と化合物１ｈ(2.30 g, 5.35 mmol)を塩化メチレン(20 ml)に溶解させた後、-40℃に冷却した後ジクロロフェニルリン酸(1.14 ml, 7.64 mmol)を加えた。次いでN-メチルモルホリン(1.68 ml, 15.27 mmol)を-40℃で滴下し、-40℃〜-30℃で2時間攪拌した。反応液を塩化メチレンで希釈し、0.2mol/L 塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムをろ過した後、減圧下で濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサン/酢酸エチルで溶離させた。所望の化合物を含むフラクションを減圧下で濃縮し、化合物１ｉ(3.54 g, 87%)を得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 8.38 (1H, d, J = 8.66 Hz), 8.19 (1H, br s), 7.31 (1H, s), 7.15 (2H, d, J = 8.69 Hz), 6.87 (2H, d, J = 8.69 Hz), 5.91 (1H, dd, J = 8.66, 4.99 Hz), 5.62 (1H, d, J = 15.10 Hz), 5.44 (1H, d, J = 15.10 Hz), 5.00 (1H, d, J = 4.99 Hz), 3.96 (1H, d, J = 12.20 Hz), 3.78 (3H, s), 3.73 (1H, d, J = 12.20 Hz), 3.64 (1H, d, J = 18.00 Hz), 3.39 (1H, d, J = 18.00 Hz), 1.63 (3H, s), 1.55 (3H, s), 1.53 (9H, s), 1.39 (9H, s).

工程（８）：化合物１ｉ＋化合物１ｋ→化合物Ｉ−１
化合物１ｉ(1.61 g, 2.00 mmol)のジメチルホルムアミド(4 mL)溶液にヨウ化ナトリウム(600 mg, 4.00 mmol)を加え、室温で5分間攪拌した。0℃まで冷却した後、化合物１ｋ(1.05 g, 2.00 mmol)を加えた後、0〜10℃で5時間攪拌した。反応混合物を予め氷冷したチオ硫酸ナトリウム(2 g) を含む5%食塩水(40 ml)にゆっくりと加えた。析出した固体をろ取し、水洗した後、水に懸濁させ、凍結乾燥することにより化合物１ｊを淡黄色固体として得た。得られた化合物１ｊは精製せずそのまま次の反応に用いた。
得られた化合物１ｊ全量を塩化メチレン(20 ml)に溶解し、-40℃まで冷却した後、アニソール(3.28 ml, 30.0 mmol)と2mol/L 塩化アルミニウム/ニトロメタン溶液(15.00 ml, 30.0 mmol)を順に加え、0℃で1時間攪拌した。反応液を水、２mol/L 塩酸水溶液、アセトニトリルに溶解させた後、ジイソプロピルエーテルで洗浄した。水層にHP20-SS樹脂を加えアセトニトリルを減圧留去した。得られた混合液をODSカラムクロマトグラフィに付し、20 mmol/L 塩酸/アセトニトリルで溶離させた。所望の化合物を含むフラクションにHP20-SS樹脂を加えアセトニトリルを減圧留去した。得られた混合液をHP20-SSカラムクロマトグラフィに付し、水/アセトニトリルで溶離させた。得られた目的化合物の溶液に0.2 mol/L 水酸化ナトリウム水溶液をpH=6.0まで加えた後、ドライアイスを1欠片加えた。得られた溶液を減圧濃縮した後、凍結乾燥することにより化合物Ｉ−１を白色粉末として得た。
収量 627.7 mg,(35%)
¹H-NMR (D₂O) δ: 6.95 (1H, s), 6.92 (1H, s), 6.89 (1H, s), 5.91 (1H, d, J = 4.96 Hz), 5.58 (1H, d, J = 4.96 Hz), 4.13 (2H, t, J = 16.78 Hz), 3.77 (1H, d, J = 17.23 Hz), 3.58-3.34 (8H, m), 1.95-2.14 (3H, m), 1.51 (3H, s), 1.48 (3H, s).
元素分析：C30H33ClN11O8S2Na(H2O)4.8
計算値：C,40.73; H,4.85; Cl,4.01; N,17.42; S,7.25; Na,2.60 (%)
実験値：C,40.72; H,4.75; Cl,3.79; N,17.53; S,6.99; Na,2.70 (%)

（実施例２）
化合物Ｉ−２の合成

工程（１）化合物２ａ＋化合物２ｂ→化合物Ｉ−２
化合物２ａ(804 mg, 1.00 mmol)と化合物２ｂ(551 mg, 1.00 mmol)を用いて、化合物Ｉ−１の合成の工程（８）と同様にして、化合物Ｉ−２を合成した。
収量 371.5 mg, (38%)
¹H-NMR (D₂O) δ: 6.96 (1H, s), 6.85 (2H, s), 5.91 (1H, d, J = 5.04 Hz), 5.59 (1H, d, J = 5.04 Hz), 4.64 (1H, d, J = 14.44 Hz), 4.19-4.01 (4H, m), 3.74 (1H, d, J = 16.79 Hz), 3.65-3.63 (1H, m), 2.93 (3H, s), 2.79-2.55 (2H, m), 2.37-2.01 (5H, m), 1.52 (3H, s), 1.49 (3H, s).
元素分析：C32H35ClN11O8S2Na(H2O)5.1(NaHCO3)0.16
計算値：C,41.55; H,4.92; Cl,3.81; N,16.57; S,6.90; Na,2.87 (%)
実験値：C,41.49; H,5.00; Cl,3.80; N,16.74; S,6.86; Na,2.86 (%)

（実施例３）
化合物Ｉ−３の合成

工程（１）：化合物１ｇ＋化合物３ａ→化合物３ｂ
化合物１ｇ(2.00 g, 5.09 mmol)と化合物３ａ(3.10 g, 5.35 mmol)を用いて、化合物Ｉ−１の合成の工程（７）と同様にして、化合物３ｂを合成した。
収量 3.25 g,(67%)
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 8.37 (1H, d, J = 8.08 Hz), 8.07 (1H, s), 7.35 (1H, s), 7.19-7.15 (4H, m), 6.88-6.80 (4H, m), 5.79 (1H, dd, J = 8.08, 5.03 Hz), 5.63 (1H, d, J = 15.02 Hz), 5.46 (1H, d, J = 15.02 Hz), 5.37-5.32 (1H, m), 5.09-4.98 (3H, m), 3.92 (1H, d, J = 12.20 Hz), 3.79 (3H, s), 3.78 (3H, s), 3.70-3.60 (2H, m), 3.36 (1H, d, J = 17.84 Hz), 2.79-2.82 (2H, m), 1.54 (9H, s), 1.39 (9H, s).

工程（２）：化合物３ｂ＋化合物１ｋ→化合物Ｉ−３
化合物３ｂ(954 mg, 1.00 mmol)と化合物１ｋ(525 mg, 1.00 mmol)を用いて、化合物Ｉ−１の合成の工程（８）と同様にして、化合物Ｉ−３を合成した。
収量 262.5 g,(26%)
¹H-NMR (D₂O) δ: 6.98 (1H, s), 6.94 (1H, d, J = 8.62 Hz), 6.89 (1H, d, J = 8.62 Hz), 5.85 (1H, d, J = 5.03 Hz), 5.55 (1H, d, J = 5.03 Hz), 4.99-4.88 (2H, m), 4.17 (1H, d, J = 14.03 Hz), 4.06 (1H, d, J = 16.93 Hz), 3.75 (1H, d, J = 16.93 Hz), 3.59-3.36 (8H, m), 2.73-2.70 (2H, m), 2.17-1.95 (3H, m), 1.55-1.46 (1H, m).
元素分析：C30H30.2ClN11O10S2Na1.8(H2O)6.8
計算値：C,37.21; H,4.56; Cl,3.66; N,15.91; S,6.62; Na,4.27 (%)
実験値：C,37.26; H,4.42; Cl,3.66; N,15.86; S,6.49; Na,4.34 (%)

（実施例４）
化合物Ｉ−４の合成

工程（１）：化合物３ｂ＋化合物４ａ→化合物Ｉ−４
化合物３ｂ(954 mg, 1.00 mmol)と化合物４ａ(537 mg, 1.00 mmol)を用いて、化合物Ｉ−１の合成の工程（８）と同様にして、化合物Ｉ−４を合成した。
収量 381.7 g,(37%)
¹H-NMR (D₂O) δ: 7.05 (1H, br s), 6.98 (1H, s), 6.88 (1H, br s), 5.85 (1H, d, J = 4.80 Hz), 5.54 (1H, d, J = 4.80 Hz), 4.99-4.90 (2H, m), 4.31 (1H, d, J = 14.34 Hz), 4.06-3.11 (11H, m), 2.77-2.65 (2H, m), 2.23-1.82 (3H, m), 1.39-1.56 (1H, m).
元素分析：C31H30.2ClN11O10S2Na1.8(H2O)6.5
計算値：C,38.19; H,4.47; Cl,3.64; N,15.80; S,6.58; Na,4.24 (%)
実験値：C,38.18; H,4.34; Cl,3.71; N,15.84; S,6.43; Na,4.24 (%)

（実施例５）
化合物Ｉ−５の合成

工程（１）：化合物５ａ→化合物５ｂ
既知化合物５ａ（100mg, 0.252mmol）を1,4-ジオキサン（1mL）に溶解させ、二炭酸ジ-tert-ブチル（0.076mL, 0.328mmol）、炭酸アンモニウム（30.3mg, 0.315mmol）、次いでピリジン(0.010mL, 0.126mmol)を加え、室温で終夜撹拌した。反応液に精製水を加え、水層から酢酸エチル-テトラヒドロフラン混液で抽出した。有機層を精製水、次いで飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムを用いて乾燥した。乾燥剤をろ過により除去し、溶媒を減圧下留去した。析出した固体をろ取し、酢酸エチルで洗浄して化合物５ｂを白色固体として得た。（収量75mg, 収率75%）
¹H-NMR (DMSO-d₆) δ: 9.20 (1H, d, J = 7.5 Hz), 7.36 (1H, dt, J = 5.0, 1.1 Hz), 6.97-6.89 (2H, m), 6.72 (1H, s), 5.43 (1H, dd, J = 7.5, 3.7 Hz), 5.15 (1H, d, J = 3.7 Hz), 4.90 (1H, s), 4.64 (2H, dd, J = 18.1, 12.7 Hz), 3.76 (2H, s), 2.02 (3H, s).

工程（２）：化合物５ｂ→化合物５ｃ
化合物５ｂ（13.2g, 33.4mmol）をテトラヒドロフラン（135mL）にけん濁させ、-20℃に冷却した。溶液にピリジン（8.11mL, 100mmol）及び無水トリフルオロ酢酸（7.06mL, 50.1mmol）を加え、-20℃で30分間撹拌した。反応液に精製水を加え、水層から酢酸エチルを用い抽出した。有機層を精製水、次いで飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムを用いて乾燥した。乾燥剤をろ過により除去し、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し化合物５ｃを橙色泡状物質として得た。（収量13.88g, 定量的）
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 7.29-7.25 (1H, m), 7.02-6.97 (2H, m), 6.53 (1H, d, J = 1.1 Hz), 6.32 (1H, d, J = 8.2 Hz), 5.72 (1H, dd, J = 8.2, 4.1 Hz), 5.26 (1H, d, J = 1.1 Hz), 5.11 (1H, d, J = 4.1 Hz), 4.73 (1H, d, J = 13.2 Hz), 4.61 (1H, d, J = 13.2 Hz), 3.87 (2H, s), 2.09 (3H, s).

工程（３）：化合物５ｃ→化合物５ｄ
化合物５ｃ（273mg, 0.723mmol）を1,4-ジオキサンに溶解させ、トリメチルシリルアジド（0.192mL, 1.447mmol）、次いでジブチルスズオキサイド（18.01mg, 0.072mmol）を加え90℃で1時間30分間撹拌した。反応液を室温まで冷却し、減圧下溶媒を留去した。残渣に精製水、酢酸エチルを加え抽出した。有機層を精製水、次いで飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムを用いて乾燥した。乾燥剤をろ過により除去し、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し化合物５ｄを得た。（収量169.2mg, 収率56%）
¹H-NMR (DMSO-d₆) δ: 9.25 (1H, d, J = 7.8 Hz), 7.36 (1H, dd, J = 4.9, 1.4 Hz), 6.97-6.85 (3H, m), 5.90 (1H, d, J = 1.5 Hz), 5.44 (1H, dd, J = 7.8, 4.0 Hz), 5.14 (1H, d, J = 4.0 Hz), 4.60 (1H, d, J = 12.7 Hz), 4.53 (1H, d, J = 12.7 Hz), 3.77 (2H, s), 1.90 (3H, s).

工程（４）：化合物５ｄ→化合物５ｅ
化合物５ｄ（85mg, 0.243mmol）をテトラヒドロフラン（1mL）に溶解させ、ジフェニルジアゾメタン（47.1mg, 0.243mmol）を加え3時間30分間撹拌した。さらに、ジフェニルジアゾメタン（11.8mg, 0.606mmol）を加え35分間撹拌した。反応液を減圧下で溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、化合物５ｅ（収量72mg, 収率61%）と化合物５ｆを得た。ジフェニルメチル基の位置については1H NMRの核オーバーハウザー効果により決定した。
化合物５ｅ less polar one
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 7.41-7.12 (13H, m), 7.03-6.91 (2H, m), 6.41 (1H, s), 6.37 (1H, d, J = 9.1 Hz), 5.80 (1H, s), 5.64 (1H, dd, J = 9.1, 4.0 Hz), 5.26 (1H, d, J = 4.0 Hz), 4.51 (1H, d, J = 12.8 Hz), 4.39 (1H, d, J = 12.8 Hz), 3.86 (2H, s), 1.89 (3H, s).
化合物５ｆ more polar one
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 7.42-7.33 (5H, m), 7.28-7.18 (4H, m), 7.13 (2H, dd, J = 6.6, 3.0 Hz), 7.02-6.95 (2H, m), 6.90 (1H, s), 6.57 (1H, d, J = 1.4 Hz), 6.30 (1H, d, J = 9.1 Hz), 5.80 (1H, d, J = 1.4 Hz), 5.01 (1H, dd, J = 9.1, 4.0 Hz), 4.64 (1H, d, J = 12.8 Hz), 4.58 (1H, d, J = 4.0 Hz), 4.51 (1H, d, J = 12.8 Hz), 3.82 (2H, s), 1.80 (3H, s).

工程（５）：化合物５ｅ→化合物５ｈ
五塩化リン（1.249g, 6.00mmol）を塩化メチレン（15mL）にけん濁させ、０℃に冷却した。そのけん濁液にピリジン（0.53mL, 6.60mmol）、次いで化合物５ｅ（1.689g, 3.00mmol）を加え、0℃で40分間撹拌した後、室温に昇温し、数分間撹拌した。反応液を0℃に冷却し、メタノール（13.3mL, 328mmol）を一気に加え、室温に昇温した。反応液に精製水（130mL）を加え、水層から塩化メチレンで抽出した。
塩化メチレン層を重曹水、次いで飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤をろ過により除去し、有機層に4mol/L 塩酸-酢酸エチル溶液（2.25ｍL., 9mmol）を加え、室温で３時間15分間撹拌した。反応液を減圧下溶媒を留去し、化合物５ｈをゼリー状物質として得た。（収量2.02g, 収率142%）化合物５ｈをアセトニトリルにけん濁させ、スパーテルで壁面をこすることで化合物５ｈの種結晶を得た。
別途、五塩化リン（9.12g, 43.8mmol）を塩化メチレン（130mL）にけん濁させ、０℃に冷却した。そのけん濁液にピリジン（3.90mL, 48.2mmol）、次いで化合物５ｅ（12.8g, 21.9mmol）を加え、室温で45分間撹拌した。反応液を-40℃に冷却し、メタノール（13.3mL, 328mmol）を一気に加え、室温に昇温した。反応液に精製水（130mL）を加え、水層から塩化メチレンで抽出した。
塩化メチレン層を重曹水、次いで飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤をろ過により除去し、有機層に4mol/L 塩酸-ジオキサン溶液（27.4mL, 109mmol）を加え、室温で３時間15分間撹拌した。反応液に1,4-ジオキサン（150mL）を加え、減圧下溶媒を留去し、全量を約30mLとした。得られた溶液にアセトニトリルを100mL加え、上記の化合物５ｈの種結晶を加え室温で撹拌した。析出した結晶をろ取し、化合物５ｈを得た。（収量7.92g, 収率73%）
¹H-NMR (DMSO-d₆) δ: 8.82 (2H, br s), 7.72 (1H, s), 7.45-7.26 (11H, m), 7.00 (1H, d, J = 1.2 Hz), 5.94 (1H, d, J = 1.2 Hz), 5.19 (1H, d, J = 4.2 Hz), 4.94 (1H, d, J = 4.2 Hz), 4.48 (1H, d, J = 11.8 Hz), 4.16 (1H, d, J = 11.8 Hz).

工程（６）：化合物５ｈ→化合物５ｉ
化合物５ｈを塩化エチレン（40mL）にけん濁させ、-40℃に冷却した。けん濁液に化合物１ｈ（3.54g, 8.24mmol）を加え、フェニルリン酸ジクロライド（1.85mL, 12.36mmol）を加え、N-メチルモルホリン（3.62mL, 33.0mmol）を滴下し、-40℃で30分間撹拌した。反応液に精製水を加え、水層から酢酸エチルを用い抽出した。得られた有機層を精製水、次いで飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムを用いて乾燥した。乾燥剤をろ過により除去し、溶媒を減圧下留去し、化合物５ｉを得た。（収量7.8g, 定量的）
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 8.32 (1H, d, J = 8.5 Hz), 7.41-7.15 (16H, m), 6.46 (1H, s), 5.99 (1H, s), 5.79 (1H, dd, J = 8.5, 4.0 Hz), 5.37 (1H, d, J = 4.0 Hz), 5.29 (1H, s), 4.15-4.01 (2H, m), 1.63 (3H, s), 1.60 (3H, s), 1.52 (9H, s), 1.42 (9H, s).

工程（７）：化合物５ｉ→化合物５ｊ
化合物５ｉ（2.30g, 2.7mmol）を塩化メチレン（25mL）に溶解させ、-40℃に冷却した。その溶液にm-クロロ過安息香酸（788mg, 2.97mmol）を加え、-40℃で1時間15分間撹拌した。反応液に亜硫酸水素ナトリウム水溶液を加え、塩化メチレンを減圧下留去した。濃縮液から酢酸エチルで抽出し、有機層を重曹水、精製水、次いで飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤をろ過により除去し、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し化合物５ｊを得た。（収量1.41g, 収率60%）
化合物５ｊをエタノールにけん濁させ、スパーテルで壁面に刺激を与えることで結晶を得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 8.08 (1H, br s), 7.90 (1H, d, J = 9.9 Hz), 7.39-7.18 (20H, m), 6.29 (1H, dd, J = 9.7, 5.0 Hz), 5.13 (1H, d, J = 12.4 Hz), 4.73 (1H, d, J = 4.9 Hz), 4.29 (1H, d, J = 12.1 Hz), 3.90 (1H, d, J = 19.0 Hz), 3.50 (1H, d, J = 19.0 Hz), 1.59 (6H, d, J = 7.1 Hz), 1.56 (9H, s), 1.38 (10H, s).

工程（８）：化合物５ｊ→化合物５ｌ→化合物Ｉ−５
化合物５ｊ（0.866g, 1.00mmol）をN,N-ジメチルホルムアミド（3.0mL）に溶解し、10℃に冷却した後、ヨウ化ナトリウム（0.3g, 2.00mmol）および化合物５ｋ（521mg, 1.00mmol）を加え同じ温度で3時間35分間撹拌し、4℃で終夜静置した。反応液にN,N-ジメチルホルムアミド（3.0mL）を加え、-40℃に冷却し、三臭化リンを加え、-40℃で30分間撹拌した。反応液を5%食塩水に注加し、析出した残渣をろ取し、減圧下乾燥し化合物５ｌを粉末として得た。
化合物５ｌをジクロロメタン（15mL）に溶解し-40℃に冷却し、アニソール（1.09mL, 10mol）、2mol/L塩化アルミニウムニトロメタン溶液（5mL, 10mmol）を加え、0℃で50分間撹拌した。反応液に精製水(30mL)、ジイソプロピルエーテル(50mL)を加えた。反応液にアセトニトリル、2mol/L 塩酸を加え、析出物を溶解させた後、水層を分離した。有機層を水/アセトニトリル/希塩酸混液で抽出し、合わせた水層にHP20SSを加えて濃縮した。濃縮した懸濁液をHP20SS/ODSカラムクロマトグラフィーに付し、水−アセトニトリルで溶離した目的物を含む分画に0.2mol/L 水酸化ナトリウム水溶液を滴下し、pHを5.3に調整した。減圧濃縮し、濃縮液を凍結乾燥することによって化合物Ｉ−５を粉末として得た。（収量378mg, 収率48%）
¹H-NMR (D₂O) δ: 6.96 (1H, s), 6.90-6.74 (2H, m), 5.91 (1H, d, J = 5.0 Hz), 5.58 (1H, d, J = 5.0 Hz), 4.97-4.90 (1H, m), 4.26 (1H, t, J = 12.7 Hz), 4.13-3.84 (2H, m), 3.82-3.42 (6H, m), 3.36-3.21 (1H, m), 2.25-1.79 (3H, br m), 1.52 (3H, s), 1.46 (3H, s). 元素分析：C31H33FN11O8S2Na(H2O)4.2
計算値: C, 42.66; H, 4.65; N, 17.96; S, 7.46; ;Na, 2.88; F, 2.09 (%)
実測値: C, 42.82; H, 4.80; N, 17.72; S, 7.38; Na, 2.64; F, 2.19 (%)

（実施例６）
化合物Ｉ−６の合成

工程（１）：化合物５ｊ→化合物６ｂ→化合物Ｉ−６
化合物５ｊ（0.866mg, 1mmol）と化合物６ａ(535mg, 1mmol)より、化合物Ｉ−５の合成の工程（８）と同様の方法を用い、化合物Ｉ−６を得た。（収量237mg, 収率29%）
¹H-NMR (D₂O) δ: 7.12-7.01 (2H, m), 6.96 (1H, d, J = 0.8 Hz), 5.91 (1H, d, J = 4.8 Hz), 5.59 (1H, d, J = 4.8 Hz), 4.66-4.60 (1H, m), 4.22-3.98 (5H, m), 3.74 (1H, d, J = 17.1 Hz), 3.63 (1H, br s), 2.94 (3H, s), 2.83-2.54 (3H, m), 2.38-2.33 (3H, m), 2.22-1.93 (3H, m), 1.52 (6H, s), 1.50 (6H, s).
元素分析：C32H35FN11O8S2Na(H2O)5.1
計算値: C, 42.66; H, 4.65; N, 17.96; S, 7.46; ;Na, 2.88; F, 2.09 (%)
実測値: C, 42.82; H, 4.80; N, 17.72; S, 7.38; Na, 2.64; F, 2.19 (%)

（実施例７）
化合物Ｉ−７の合成

化合物５ｊ（0.866g, 1.00mmol）をN,N-ジメチルホルムアミド（3.0mL）に溶解し、ヨウ化ナトリウム（0.3g, 2.00mmol）、化合物１ｋ（525mg, 1.00mmol）を加え１０℃で終夜撹拌した。反応液に精製水を加え、水層から酢酸エチルで抽出した。有機層を精製水、次いで飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムを用いて乾燥した。乾燥剤をろ過により除去し、溶媒を減圧下留去し、化合物７ａを得た。
化合物７ａをジクロロメタン（15mL）に溶解し-40℃に冷却し、アニソール（1.09mL, 10mol）、2mol/L塩化アルミニウムニトロメタン溶液（5mL, 10mmol）を加え、0℃で50分間撹拌した。反応液に精製水(30mL)、ジイソプロピルエーテル(50mL)を加えた。反応液にアセトニトリル、2mol/L 塩酸を加え、析出物を溶解させた後、水層を分離した。有機層を水/アセトニトリル/希塩酸混液で抽出し、合わせた水層にHP20SSを加えて濃縮した。濃縮した懸濁液を逆相カラムクロマトグラフィーに付し、水−アセトニトリルで溶離した目的物を含む分画に0.2mol/L 水酸化ナトリウム水溶液を用いてNa塩とし、減圧濃縮し、濃縮液を凍結乾燥することによって化合物Ｉ−７を粉末として得た。（収量177mg, 収率22%）
¹H-NMR (D₂O) δ: 7.02-6.84 (3H, m), 6.19-6.16 (1H, m), 5.38-5.35 (1H, m), 5.17 (1H, d, J = 12.4 Hz), 4.36 (1H, d, J = 18.1 Hz), 4.08-4.03 (2H, m), 3.54-3.34 (6H, m), 2.11 (4H, br s), 1.53 (3H, s), 1.50 (3H, s).
元素分析：C30H33ClN11O9S2Na(H2O)5.9
計算値: C, 38.97; H, 4.75; N, 17.01; S, 7.05; ;Na, 2.70; Cl, 3.71 (%)
実測値: C, 39.14; H, 4.91; N, 16.74; S, 6.97; Na, 2.50; Cl, 3.85 (%)
MS(M+H)=792.33

（実施例８）
化合物Ｉ−８の合成

化合物５ｊ（0.693mg, 0.8mmol）、化合物８ａ(413mg, 1mmol)と臭化ナトリウム（165mg, 1.6mmol）より、化合物Ｉ−５の合成の工程（８）と同様の方法を用い、化合物Ｉ−８を得た。（収量284mg, 収率45）
¹H-NMR (D₂O) δ: 7.27-7.26 (1H, m), 7.25-7.21 (1H, m), 6.97 (1H, s), 6.94 (1H, s), 5.88 (1H, d, J = 5.0 Hz), 5.55 (1H, d, J = 5.0 Hz), 4.63 (1H, d, J = 13.9 Hz), 4.00 (1H, d, J = 17.2 Hz), 3.90 (1H, d, J = 13.9 Hz), 3.63 (1H, d, J = 17.2 Hz), 3.42-3.22 (5H, br m), 3.18-2.99 (3H, br m), 1.79 (6H, t, J = 7.2 Hz), 1.51 (3H, s), 1.49 (3H, s).
MS (m+1) = 768.36

（実施例９）
化合物Ｉ−９の合成

化合物５ｊ（0.693mg, 0.8mmol）、化合物９ａ(438mg, 1mmol)と臭化ナトリウム（165mg, 1.6mmol）より、化合物Ｉ−５の合成の工程（８）と同様の方法を用い、化合物Ｉ−９を得た。（収量249mg, 収率39%）
¹H-NMR (D₂O) δ: 7.76 (1H, s), 7.08 (1H, s), 6.96 (1H, s), 5.90 (1H, d, J = 5.0 Hz), 5.57 (1H, d, J = 5.0 Hz), 4.64 (1H, d, J = 14.1 Hz), 4.03 (1H, d, J = 17.0 Hz), 3.92 (1H, d, J = 14.1 Hz), 3.65 (1H, d, J = 17.0 Hz), 3.43-3.29 (5H, br m), 3.18-3.04 (3H, br m), 1.91-1.76 (6H, br m), 1.52 (3H, s), 1.49 (3H, s).
元素分析：C31H35N12O8S2Na(H2O)5.8
計算値: C, 41.59; H, 5.11; N, 18.75; S, 7.14; ;Na, 2.66(%)
実測値: C, 41.59; H, 5.25; N, 18.77; S, 7.16; Na, 2.57(%)
MS(M+H)=769.35

（実施例１０）
化合物Ｉ−１０の合成

化合物５ｊ（0.693mg, 0.8mmol）、化合物１０ａ(441mg, 1mmol)と臭化ナトリウム（165mg, 1.6mmol）より、化合物Ｉ−５の合成の工程（８）と同様の方法を用い、化合物Ｉ−１０を得た。（収量348mg, 収率53%）
¹H-NMR (D₂O) δ: 6.95 (1H, s), 6.91 (1H, d, J = 8.6 Hz), 6.87 (1H, d, J = 8.6 Hz), 5.90 (1H, d, J = 5.0 Hz), 5.56 (1H, d, J = 5.0 Hz), 4.64 (1H, d, J = 14.2 Hz), 4.03 (1H, d, J = 17.1 Hz), 3.92 (1H, d, J = 14.2 Hz), 3.65 (1H, d, J = 17.1 Hz), 3.43-3.30 (3H, br m), 3.28 (2H, s), 3.20-3.02 (3H, br m), 1.90-1.76 (6H, br m), 1.52 (3H, s), 1.49 (3H, s).
元素分析：C32H35ClN11O8S2Na(H2O)5.7
計算値: C, 41.42; H, 4.91; N, 16.56; S, 6.96; ;Na, 2.54; Cl, 4.19 (%)
実測値: C, 41.46; H, 5.05; N, 16.62; S, 6.92; Na, 2.48; Cl, 3.82 (%)

（実施例１１）
化合物Ｉ−１１の合成

工程（１）：化合物１１ａ→化合物１１ｂ
化合物１１ａ(2.73 g, 5.00 mmol)を塩化メチレン(300 ml)に溶解させた後、氷冷下でN,N-エチレンジアミン(655 μＬ, 6.00 mmol)を加え、室温で一晩攪拌した。反応液を塩化メチレンで希釈し、水酸化ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水で順次洗浄し、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムをろ過した後、減圧下で濃縮し、ジイソプロピルエーテルを加え析出した結晶をろ取して化合物１１ｂ(2.25 g, 90%)を得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 7.41 (1H, d, J = 8.56 Hz), 7.36-7.33 (4H, m), 6.94-6.90 (3H, m), 6.86-6.81 (3H, m), 5.07 (2H, s), 4.95 (2H, s), 3.83 (3H, s), 3.80 (3H, s), 3.49-3.54 (2H, m), 2.51 (2H, t, J = 5.96 Hz), 2.25 (6H, s).

工程（２）：化合物１１ｃ＋化合物１１ｄ→化合物Ｉ−１１
化合物１１ｃ (693 mg, 0.80 mmol)のジメチルホルムアミド(1.5 mL)溶液にヨウ化ナトリウム(240 mg, 1.60 mmol)を加え、室温で5分間攪拌した。0℃まで冷却した後、化合物１１ｄ(439 mg, 0.88 mmol)を加え0〜10℃で6時間攪拌した。ジメチルホルムアミド(4.5 mL)を加えた後、-40℃に冷却し、三臭化リン(151μＬ, 1.60 mmol)を加え、-40℃で30分間攪拌した。反応混合物を予め氷冷したチオ硫酸ナトリウム(1 g) を含む5%食塩水にゆっくりと加えた。析出した固体をろ取し、水洗した後、水に懸濁させ、凍結乾燥することにより化合物１１ｅを白色固体として得た。得られた化合物１１ｅは精製せずそのまま次の反応に用いた。
得られた化合物１１ｅ全量を塩化メチレン(10 ml)に溶かし、-40℃まで冷却した後、アニソール(1.97 ml, 18.0 mmol)と2mol/L 塩化アルミニウム/ニトロメタン溶液(6.00 ml, 12.0 mmol)を順に加え、0℃で1時間攪拌した。反応液を水、２mol/L 塩酸水溶液、アセトニトリルに溶解させた後、ジイソプロピルエーテルで洗浄した。水層にHP20-SS樹脂を加えアセトニトリルを減圧留去した。得られた混合液をODSカラムクロマトグラフィにより精製した。得られた目的化合物の溶液に0.2mol/L 水酸化ナトリウム水溶液をpH=6.0まで加えた後、ドライアイスを1欠片加えた。得られた溶液を減圧濃縮した後、凍結乾燥することにより化合物Ｉ−１１を白色粉末として得た。
収量 440.2 mg,(61%)
¹H-NMR (D₂O) δ: 6.95-6.90 (3H, m), 5.91 (1H, d, J = 5.03 Hz), 5.59 (1H, d, J = 5.03 Hz), 4.92 (1H, d, J = 14.49 Hz), 4.17 (1H, d, J = 13.42 Hz), 4.09 (1H, d, J = 17.08 Hz), 3.57-3.77 (3H, m), 3.50-3.42 (1H, m), 3.22-3.14 (1H, m), 3.07 (3H, s), 2.91 (3H, s), 1.52 (3H, s), 1.49 (3H, s).
元素分析：C28H31.1ClN11O8S2Na0.9(H2O)5.2
計算値：C,38.94; H,4.84; Cl,4.10; N,17.84; S,7.43; Na,2.40 (%)
実験値：C,39.03; H,4.80; Cl,4.36; N,17.65; S,7.33; Na,2.35 (%)

（実施例１２）
化合物Ｉ−１２の合成

工程（１）：化合物１２ａ→化合物１２ｂ＋化合物１ｇ→化合物１２ｃ
化合物１２ａ(2.24 g, 7.00 mmol)を塩化メチレン(20 ml)に懸濁させた後、氷冷下、二塩化オキサリル(735μＬ, 8.40 mmol)とジメチルホルムアミド1滴を加え室温で3時間攪拌した。さらに、二塩化オキサリル(184μＬ, 2.10 mmol) を加え室温で2時間攪拌した。反応液にトルエンを加え減圧下で濃縮した。残渣に再度トルエンを加え濃縮し化合物１２ｂ (2.55 g, 108%)を得た。得られた化合物１２ｂは精製せずそのまま次の反応に用いた。
得られた化合物１２ｂ全量を塩化メチレン(20 ml)に溶解させ、-40℃で化合物１ｇ(2.00 g, 5.09 mmol)とピリジン(616μＬ, 7.64 mmol)の塩化メチレン(20 ml)溶液に加えた。反応液を-40℃〜-30℃で1時間攪拌した。反応液を塩化メチレンで希釈し、塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムをろ過した後、減圧下で濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、クロロホルム/メタノールで溶離させた。所望の化合物を含むフラクションを減圧下で濃縮し、酢酸エチル/ジイソプロピルエーテルを加え析出した固体をろ取して化合物１２ｃ(2.86 g, 81%)を得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 9.81 (1H, d, J = 5.95 Hz), 7.44-7.27 (3H, m), 7.19-7.17 (2H, m), 7.08 (2H, d, J = 8.62 Hz), 6.84 (2H, d, J = 8.62 Hz), 5.85-5.80 (2H, m), 5.72 (1H, d, J = 15.86 Hz), 5.41 (1H, d, J = 6.25 Hz), 5.29 (1H, d, J = 15.25 Hz), 4.77 (1H, d, J = 4.88 Hz), 4.24-4.07 (3H, m), 3.94-3.80 (2H, m), 3.78 (3H, s), 3.71-3.43 (5H, m), 1.27 (3H, t, J = 7.17 Hz).

工程（２）：化合物１２ｃ＋化合物１ｋ→化合物Ｉ−１２
化合物１２ｃ (694 mg, 1.00 mmol)と化合物１ｋ (578 mg, 1.10 mmol)を用いて、化合物Ｉ−１の合成の工程（８）と同様にして、化合物Ｉ−１２を合成した。
収量 207.2 g, (18%)
¹H-NMR (DMSO-d₆) δ: 9.85 (1H, d, J = 7.24 Hz), 9.47 (1H, d, J = 8.27 Hz), 8.29 (1H, s), 7.45-7.30 (5H, m), 6.74 (2H, s), 5.73 (1H, dd, J = 8.27, 5.07 Hz), 5.63 (1H, d, J = 7.24 Hz), 5.26 (1H, d, J = 5.07 Hz), 5.13 (1H, d, J = 14.18 Hz), 4.04-3.84 (4H, m), 3.62-3.53 (4H, m), 1.95-1.67 (3H, m), 1.08 (3H, t, J = 7.09 Hz).
元素分析：C36H40ClN11O8S(H2O)3.1
計算値：C,49.24; H,5.30; Cl,4.04; N,17.55; S,3.65 (%)
実験値：C,49.24; H,5.26; Cl,4.05; N,17.42; S,3.61 (%)

（実施例１３）
化合物Ｉ−１３の合成

工程（１）：化合物５ｊ→化合物１３ｂ→化合物Ｉ−１３
化合物５ｊ（0.866mg, 1mmol）と化合物１３ａ (537mg, 1mmol)より、化合物Ｉ−５の合成の工程（８）と同様の方法を用い、化合物Ｉ−１３を得た。（収量398mg, 収率49%）
¹H-NMR (D₂O) δ: 7.04 (1H, s), 6.96 (1H, s), 6.88 (1H, s), 5.91 (1H, d, J = 5.1 Hz), 5.58 (1H, d, J = 5.1 Hz), 4.94 (1H, d, J = 14.1 Hz), 4.27 (1H, d, J = 14.1 Hz), 4.17-3.85 (2H, m), 3.84-3.40 (7H, m), 3.37-3.00 (3H, m), 2.25-1.75 (3H, m), 1.52 (3H, s), 1.37 (3H, dd, J = 41.8, 29.5 Hz).
元素分析：C31H33ClN11O8S2Na(H2O)5.4(NaHCO3)0.1
計算値: C, 40.61; H, 4.76; N, 16.99; S, 7.02; ;Na, 2.98; Cl, 4.27 (%)
実測値: C, 40.78; H, 4.83; N, 16.82; S, 7.00; Na, 2.76; Cl, 3.87 (%)
MS(M+H)=788.34

（実施例１４）
化合物Ｉ−１４の合成

工程（１）：化合物３ｃ＋化合物２ｄ→化合物Ｉ−１４
化合物３ｃ (954 mg, 1.00 mmol)と化合物２ｄ (551 mg, 1.00 mmol)を用いて、化合物Ｉ−１の合成の工程（８）と同様にして、化合物Ｉ−１４を合成した。
収量 324.6 g, (31%)
¹H-NMR (D₂O) δ: 6.98 (1H, s), 6.87 (2H, s), 5.85 (1H, d, J = 4.96 Hz), 5.55 (1H, d, J = 4.96 Hz), 4.99-4.95 (1H, m), 4.62 (1H, d, J = 14.18 Hz), 4.19-4.02 (4H, m), 3.74 (1H, d, J = 16.01 Hz), 3.66-3.62 (1H, m), 2.94 (3H, br s), 2.79-2.55 (5H, m), 2.37-2.30 (2H, m), 2.02-2.15 (2H, m).
元素分析：C32H32.1ClN11O10S2Na1.9(H2O)7.3
計算値：C,38.22; H,4.68; Cl,3.53; N,15.32; S,6.38; Na,4.34 (%)
実験値：C,38.21; H,4.60; Cl,3.55; N,15.26; S,6.25; Na,4.30 (%)

（実施例１５）
化合物Ｉ−１５の合成

工程（１）：化合物１５ａ→化合物１５ｂ
化合物１５ａ(5.00 g, 11.66 mmol)を塩化メチレン(50 ml)に懸濁させた後、氷冷下で1-クロロ-N,N,2-トリメチル-1-プロペニルアミン(1.70 ml, 12.82 mmol)を加え、室温で30分間攪拌した。氷冷下で4-アミノピリジン(1.32 g, 13.99 mmol)を加えた後、室温で一晩攪拌した。反応液を塩化メチレンで希釈し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムをろ過した後、減圧下で濃縮し、残渣に塩化メチレンを加え析出した固体をろ取することにより化合物１５ｂ (2.23 g, 38%)を得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 8.53 (2H, dd, J = 4.87, 1.51 Hz), 8.23 (1H, br s), 7.58-7.55 (3H, m), 7.31-7.38 (4H, m), 7.00 (1H, d, J = 8.73 Hz), 6.93 (2H, d, J = 8.73 Hz), 6.83 (2H, d, J = 8.73 Hz), 5.12 (2H, s), 4.98 (2H, s), 3.83 (3H, s), 3.80 (3H, s).

工程（２）：化合物１５ｃ＋化合物１５ｂ→化合物Ｉ−１５
化合物１５ｃ(693 mg, 0.80 mmol)のジメチルホルムアミド(1.5 mL)溶液にヨウ化ナトリウム(240 mg, 1.60 mmol)を加え、室温で5分間攪拌した。0℃まで冷却した後、化合物１５ｂ(444 mg, 0.88 mmol)を加えた後、室温で6時間攪拌した。ジメチルホルムアミド(4.5 mL)を加えた後、-40℃に予め冷却し、三臭化リン(151μＬ, 1.60 mmol)を加え、-40℃で30分間攪拌した。反応混合物を氷冷したチオ硫酸ナトリウム(1 g) を含む5%食塩水にゆっくりと加えた。析出した固体をろ取し、水洗した後、水に懸濁させ、凍結乾燥することにより化合物１５ｄを淡黄色固体として得た。得られた化合物１５ｄは精製せずそのまま次の反応に用いた。
得られた化合物１５ｄ全量を塩化メチレン(10 ml)に溶解させ、-40℃まで冷却した後、アニソール(1.97 ml, 18.0 mmol)と2mol/L 塩化アルミニウム/ニトロメタン溶液(6.00 ml, 12.0 mmol)を順に加え、0℃で1時間攪拌した。反応液を水、２mol/L 塩酸水溶液、アセトニトリルに溶解させた後、ジイソプロピルエーテルで洗浄した。水層にHP20-SS樹脂を加えアセトニトリルを減圧留去した。得られた混合液をODSカラムクロマトグラフィーにより精製した。得られた目的化合物の溶液に0.2mol/L 水酸化ナトリウム水溶液をpH=6.0まで加えた後、ドライアイスを1欠片加えた。得られた溶液を減圧濃縮した後、凍結乾燥することにより化合物Ｉ−１５を黄色粉末として得た。
収量 445.3 mg,(47%)
¹H-NMR (D₂O) δ: 8.62 (2H, d, J = 7.02 Hz), 8.12 (2H, d, J = 7.02 Hz), 7.14 (1H, d, J = 8.16 Hz), 6.95 (1H, s), 6.90 (1H, d, J = 8.16 Hz), 5.93 (1H, d, J = 4.80 Hz), 5.51 (1H, d, J = 4.80 Hz), 5.35 (1H, d, J = 14.72 Hz), 5.25 (1H, d, J = 14.72 Hz), 3.75 (1H, d, J = 17.16 Hz), 3.47 (1H, d, J = 17.16 Hz), 1.50 (3H, s), 1.47 (3H, s).
元素分析：C29H25ClN11O8S2Na(H2O)5.1
計算値：C,40.03; H,4.08; Cl,4.07; N,17.71; S,7.37; Na,2.64 (%)
実験値：C,40.06; H,4.04; Cl,4.11; N,17.70; S,7.32; Na,2.50 (%)

（実施例１６）
化合物Ｉ−１６の合成

工程（１）：化合物１１ｃ＋化合物１６ａ→化合物Ｉ−１６
化合物１１ｃ(693 mg, 0.80 mmol)と化合物１６ａ(482 mg, 0.88 mmol)を用いて、化合物Ｉ−１５の合成の工程（２）と同様にして、化合物Ｉ−１６を合成した。
収量 239.7 mg, (32%)
¹H-NMR (D₂O) δ: 7.54 (1H, s), 7.14 (1H, d, J = 8.77 Hz), 6.96 (1H, s), 6.93 (1H, d, J = 8.77 Hz), 5.89 (1H, d, J = 4.19 Hz), 5.48 (1H, d, J = 4.19 Hz), 5.10 (1H, d, J = 15.40 Hz), 3.99 (2H, br s), 3.74 (1H, d, J = 18.23 Hz), 3.52 (1H, d, J = 18.23 Hz), 2.79-2.62 (2H, m), 1.91-2.06 (4H, m), 1.51 (3H, s), 1.48 (3H, s).
元素分析：C31H30.1ClN12O8S2Na0.9(H2O)5.6
計算値：C,40.47; H,4.53; Cl,3.85; N,18.27; S,6.97; Na,2.25 (%)
実験値：C,40.56; H,4.57; Cl,3.93; N,18.17; S,6.82; Na,2.16 (%)

（実施例１７）
化合物Ｉ−１７の合成

工程（１）：化合物１１ｃ＋化合物１７ａ→化合物Ｉ−１７
化合物１１ｃ(693 mg, 0.80 mmol)と化合物１７ａ(503 mg, 0.88 mmol)を用いて、化合物Ｉ−１５の合成の工程（２）と同様にして、化合物Ｉ−１７を合成した。
収量 485.9 mg, (62%)
¹H-NMR (D₂O) δ: 9.00 (1H, s), 8.18 (1H, d, J = 7.22 Hz), 7.93 (1H, d, J = 7.22 Hz), 7.86 (1H, d, J = 3.36 Hz), 7.07 (1H, d, J = 3.36 Hz), 6.95 (1H, s), 6.77 (1H, d, J = 8.39 Hz), 6.60 (1H, d, J = 8.39 Hz), 5.91 (1H, d, J = 4.95 Hz), 5.46 (1H, d, J = 14.94 Hz), 5.37 (1H, d, J = 4.95 Hz), 5.28 (1H, d, J = 14.94 Hz), 4.61 (2H, t, J = 5.04 Hz), 3.84 (2H, t, J = 5.04 Hz), 3.39 (1H, d, J = 18.13 Hz), 3.30 (1H, d, J = 18.13 Hz), 1.45 (6H, s).
元素分析：C33H30.2ClN12O8S2Na0.8(H2O)4.6
計算値：C,42.91; H,4.30; Cl,3.84; N,18.20; S,6.94; Na,1.99 (%)
実験値：C,43.15; H,4.32; Cl,3.99; N,17.92; S,6.66; Na,2.08 (%)

（実施例１８および実施例１９）
化合物Ｉ−１８および化合物Ｉ−１９の合成

化合物５ｊ（0.866g, 1.00mmol）をN,N-ジメチルホルムアミド（3.0mL）に溶解し、１０℃に冷却させた後、臭化ナトリウム（0.3g, 2.00mmol）および化合物１８ａ（525mg, 1.00mmol）を加え同じ温度で終夜撹拌した。反応液にN,N-ジメチルホルムアミド（3.0mL）を加え、-30℃に冷却した。ヨウ化カリウム（930mg, 5.6mmol）、次いで塩化アセチル（0.228mL, 3.20mmol）を加え、0℃で7時間撹拌した。反応液を5%亜硫酸水素ナトリウム水溶液（30mL）に注加し、析出した固体をろ取し、精製水で洗浄し、減圧下乾燥した。得られた粉末をジクロロメタン（15mL）に溶解し-40℃に冷却し、アニソール（1.09mL, 10mol）、2mol/L塩化アルミニウムニトロメタン溶液（5mL, 10mmol）を加え、0℃で50分間撹拌した。反応液に精製水(30mL)、ジイソプロピルエーテル(50mL)を加えた。反応液にアセトニトリル、2mol/L 塩酸を加え、析出物を溶解させた後、水層を分離した。有機層を水/アセトニトリル/希塩酸混液で抽出し、合わせた水層にHP20SSを加えて濃縮した。濃縮した懸濁液を逆相カラムクロマトグラフィーに付し、水−アセトニトリルで溶離した化合物Ｉ−１８あるいは化合物Ｉ−１９を含む各分画を別々に集め、それぞれに0.2mol/L 水酸化ナトリウム水溶液を滴下しpHを5.3に調整した後に減圧濃縮した。各濃縮液を凍結乾燥することによって化合物Ｉ−１８および化合物Ｉ−１９を粉末として得た。（化合物Ｉ−１８;収量172mg, 収率27%, 化合物Ｉ−１９;収量122mg, 収率19%）
化合物Ｉ−１８
¹H-NMR (D₂O) δ: 7.68 (1H, s), 7.39 (1H, s), 6.97 (1H, s), 5.90 (1H, d, J = 4.8 Hz), 5.57 (1H, d, J = 4.8 Hz), 4.64 (1H, d, J = 14.4 Hz), 4.04 (1H, d, J = 17.2 Hz), 3.92 (1H, d, J = 14.4 Hz), 3.65 (1H, d, J = 17.2 Hz), 3.44-3.31 (5H, m), 3.19-3.04 (3H, m), 1.90-1.76 (6H, m), 1.51 (3H, s), 1.49 (3H, s).
MS (m+1) = 785.38
化合物Ｉ−１９
¹H-NMR (D₂O) δ: 7.68 (1H, s), 7.39 (1H, s), 6.98 (1H, s), 6.15 (1H, d, J = 4.9 Hz), 5.35 (1H, d, J = 4.9 Hz), 4.96 (1H, d, J = 14.4 Hz), 4.23 (1H, d, J = 17.6 Hz), 3.96-3.80 (2H, m), 3.48-3.27 (5H, m), 3.21-3.05 (4H, m), 1.89-1.75 (3H, m), 1.83 (6H, s), 1.53 (3H, s), 1.50 (3H, s).
MS (m+1) = 801.14

（実施例２２）
化合物Ｉ−２２の合成

化合物２２ｄ
化合物２２ａ（29.6 g）のトルエン(300 mL)溶液に2,2-ジメトキシエチルアミン(25.9 g)を加え、Dean-Starkトラップを取り付け2.5時間加熱還流した。溶媒を減圧留去し、残渣を酢酸エチルに溶解し水、食塩水で洗浄した。この溶液を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、濾過、濃縮して粗精製物２２ｂを得た。
上記で得た粗精製物２２ｂをエタノール(150 mL)に溶解し、水素化ホウ素ナトリウム(13.5 g, 92wt%)を加えた。室温で2時間攪拌した後、終夜で静置した。反応液に水を注意深く加えた後、ジクロロメタンで3回抽出した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過、濃縮して粗精製物２２ｃを得た。
上記で得た粗精製物２２ｃをジクロロメタン(300 mL)に溶解し氷冷下、ピリジン(16.9 g)、p-トルエンスルホニルクロリド(37.5 g)を加えた。反応液を室温で2時間攪拌した後、水を加えた。有機層を飽和重曹水、食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥して、濾過後濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し化合物２２ｄ(53.6 g, 3工程77%収率)を得た。
¹H-NMR (CDCl3) δ: 2.21 (3H, s), 2.44 (3H, s), 3.15 (1H, d, J = 5.40 Hz), 3.18 (6H, s), 3.75 (3H, s), 3.83 (3H, s), 4.21 (1H, t, J = 5.40 Hz), 4.33 (2H, s), 6.67 (1H, d, J = 8.40 Hz), 6.88 (1H, d, J = 8.40 Hz), 7.30 (2H, dd, J = 1.80, 6.60 Hz), 7.71 (1H, dd, 1.80, 6.60 Hz).

化合物２２ｅ
化合物２２ｄ(52.6 g)の1,4-ジオキサン(500 mL)溶液に6mol/L 塩酸(93 mL) を加えて3時間加熱還流した。室温まで冷却後、溶媒を減圧留去し、残渣をジエチルエーテル及びヘキサンで希釈した。この溶液を水で3回抽出した。水層を5mol/L 水酸化ナトリウム水溶液を用いて中和し、ジクロロメタンで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過して濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製し、化合物２２ｅ(20.8 g, 82% 収率)を得た。
¹H-NMR (CDCl3) δ: 2.67 (3H, s), 3.86 (3H, s), 4.00 (3H, s), 6.97 (1H, s), 7.49 (1H, d, J = 5.70 Hz), 8.42 (1H, d, J = 5.70 Hz), 9.25 (1H, s).

化合物２２ｆ
化合物２２ｅ(6.0 g)のジクロロメタン(60 mL)溶液に、氷冷下、三臭化ホウ素(18.5 g)を滴下した。反応液を室温で1時間攪拌した後、−50℃まで冷却した。メタノールを注意深く加えて過剰の三臭化ホウ素を分解後、溶媒を減圧留去した。残渣に酢酸エチルを加えて析出した固体を濾取し、減圧乾燥して化合物２２ｆ (6.6 g, 87% 収率)を得た。
¹H-NMR (DMSO-d6) δ: 2.57 (3H, s), 7.36 (1H, s), 8.14 (1H, d, J = 6.30 Hz), 8.32 (1H, d, J = 6.30 Hz), 9.37 (1H, s).

化合物２２ｇ
化合物２２ｆ(6.6 g)を水(150 mL)に加熱溶解させ、活性炭を加えた。セライト濾過して得られた濾液に氷冷下28%アンモニア水溶液を加えてpHを8に調整した。析出した固体を濾取し、減圧乾燥して化合物２２ｇ(4.9g, 109%収率)を得た。
¹H-NMR (DMSO-d6) δ: 2.49 (3H, s), 6.93 (1H, s), 7.44 (1H, d, J = 5.70 Hz), 8.14 (1H, d, J = 5.70 Hz), 9.01 (1H, s).

化合物２２ｈ
化合物２２ｇ(1.0 g)のジクロロメタン(10 mL)溶液にジ-t-ブチルジカーボネート(2.87 g)及びN,N-ジアミノピリジン(35 mg)を加えて室温で1時間攪拌した。さらにジ-t-ブチルジカーボネート(872 mg)を加えて1時間攪拌した。反応液を濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製して化合物２２ｈ(1.76 g, 82% 収率)を得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 1.58 (9H, s), 1.58 (9H, s), 2.67 (3H, s), 7.59 (2H, m), 8.54 (1H, d, J = 5.70 Hz), 9.40 (1H, s).

化合物５ｊ＋化合物２２ｈ→化合物Ｉ−２２
化合物５ｊ(693 mg, 0.80 mmol)のジメチルホルムアミド(1.5 mL)溶液にヨウ化ナトリウム(240 mg, 1.60 mmol)を加え、室温で5分間攪拌した。0℃まで冷却した後、化合物２２ｈ(240 mg, 0.64 mmol)を加えた後、室温で6時間攪拌した。ジメチルホルムアミド(4.5 mL)を加えた後、-40 ℃に冷却し、三臭化リン(151 μＬ, 1.60 mmol)を加え、-40 ℃で30分間攪拌した。反応混合物を氷冷したチオ硫酸ナトリウム(1 g) を含む5%食塩水にゆっくりと加えた。析出した固体をろ取し、水洗した後、水に懸濁させ、凍結乾燥することにより化合物２２ｉを黄色固体として得た。得られた化合物２２ｉは精製せずそのまま次の反応に用いた。
得られた化合物２２ｉ全量を塩化メチレン(10 ml)に溶かし、-40℃まで冷却した後、アニソール(1.97 ml, 18.0 mmol)と2mol/L 塩化アルミニウム/ニトロメタン溶液(6.00 ml, 12.0 mmol)を順に加え、0℃で1時間攪拌した。反応液を水、２mol/L 塩酸水溶液、アセトニトリルに溶解させた後、ジイソプロピルエーテルで洗浄した。水層にHP20-SS樹脂を加えアセトニトリルを減圧留去した。得られた混合液をODSカラムクロマトグラフィーにより精製した。得られた目的化合物の溶液に0.2mol/L 水酸化ナトリウム水溶液をpH=6.0まで加えた後、ドライアイスを1欠片加えた。得られた溶液を減圧濃縮した後、凍結乾燥することにより化合物Ｉ−２２を黄色粉末として得た。
収量 47 mg, (6%)
¹H-NMR (D₂O) δ: 8.68 (1H, s), 7.80 (1H, d, J = 6.29 Hz), 7.58 (1H, d, J = 6.29 Hz), 6.93 (1H, s), 6.83 (1H, s), 5.89 (1H, d, J = 4.70 Hz), 5.47 (1H, d, J = 4.70 Hz), 5.32 (1H, d, J = 14.60 Hz), 5.15 (1H, d, J = 14.60 Hz), 3.70 (1H, d, J = 17.88 Hz), 3.48 (1H, d, J = 17.88 Hz), 2.39 (3H, s), 1.48 (3H, s), 1.46 (3H, s).
元素分析：C27H25N10O7S2Na(H2O)5(NaHCO3)0.6
計算値：C,39.98; H,4.33; N,18.89; S,7.73; Na,4.44 (%)
実験値：C,39.98; H,4.53; N,18.99; S,7.83; Na,4.41 (%)

（実施例２３）
化合物Ｉ−２３の合成

工程（１）：化合物２３ｃの合成
化合物２３ａ（10.19 g、24.0 mmol）のジクロロメタン（100 mL）溶液に化合物２３ｂ（9.62 g、48.0 mmol）を加え、室温で終夜攪拌した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を、水、飽和食塩水で順に洗浄し、無水硫酸マグネシウムにより乾燥した。無機物をろ過により除き、減圧濃縮した。得られた粗生成物はシリカゲルカラムクロマトグラフィ（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物２３ｃ（4.45 g、収率39%）を橙色オイルとして得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 1.55 (9H, s), 2.54 (1H, t, J = 6.65 Hz), 3.80 (3H, s), 3.83 (3H, s), 4.52 (2H, d, J = 6.65 Hz), 5.00 (2H, s), 5.05 (2H, s), 6.81 (2H, d, J = 8.66 Hz), 6.90 (2H, d, J = 8.66 Hz), 7.00 (1H, d, J = 8.28 Hz), 7.08 (1H, d, J = 8.28 Hz), 7.29 (2H, d, J = 8.53 Hz), 7.35 (2H, d, J = 8.53 Hz).

工程（２）：化合物２３ｄの合成
化合物２３ｃ（4.45 g、9.26 mmol）のジクロロメタン（45 ml）溶液を0 ℃まで冷却した後、Dess-Martin Periodinane（4.32 g、10.19 mmol）を加え、室温で終夜攪拌した。反応混合物に水を加え、減圧下でジクロロメタンを留去し、酢酸エチルで抽出した。有機層を、水、飽和食塩水で順に洗浄し、無水硫酸マグネシウムにより乾燥した。無機物をろ過により除き、減圧濃縮した。得られた粗生成物はシリカゲルカラムクロマトグラフィにより精製し（ヘキサン−酢酸エチル）、化合物２３ｄ（2.91 g、収率66%）を白色固体として得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 1.56 (9H, s), 3.80 (3H, s), 3.84 (3H, s), 4.97 (2H, s), 5.14 (2H, s), 6.80 (2H, d, J = 8.08 Hz), 6.93 (2H, d, J = 8.34 Hz), 7.10 (1H, d, J = 8.34 Hz), 7.26-7.28 (2H, m), 7.37 (2H, d, J = 8.34 Hz), 7.60 (1H, d, J = 8.34 Hz), 9.88 (1H, s).

工程（３）：化合物２３ｅの合成
化合物２３ｄ（2.91 g、6.08 mmol）を1,4-ジオキサン（30 ml）、水（10 ml）の混合溶媒に溶解し、0 ℃まで冷却した後、アミド硫酸（1.18 g、12.16 mmol）、亜塩素酸ナトリウム（1.38 g、12.16 mmol）を順に加え、0 ℃で30分間攪拌した。反応混合物に亜硫酸水素ナトリウム（2.53 g、24.32 mmol）の水溶液をゆっくりと加えた後、酢酸エチルで抽出した。有機層を、水、飽和食塩水で順に洗浄し、無水硫酸マグネシウムにより乾燥した。無機物をろ過により除き、減圧濃縮した。得られた残渣にジイソプロピルエーテルを加え、生じた固体をろ取することにより、化合物２３ｅ（2.79 g、収率93%）を白色固体として得た。
¹H-NMR (DMSO-D₆) δ: 1.45 (9H, s), 3.74 (3H, s), 3.78 (3H, s), 4.84 (2H, s), 5.19 (2H, s), 6.83 (2H, d, J = 8.66 Hz), 6.98 (2H, d, J = 8.78 Hz), 7.20 (2H, d, J = 8.66 Hz), 7.31 (1H, d, J = 8.78 Hz), 7.46 (2H, d, J = 8.66 Hz), 7.69 (1H, d, J = 8.66 Hz).

工程（４）：化合物２３ｆの合成
化合物２３ｅ（989 mg, 2.0 mmol）のジメチルホルムアミド（3 mL）溶液を0 ℃まで冷却した後、1-ヒドロキシベンゾトリアゾール（324 mg, 2.4 mmol）、1-(2-アミノエチル)ピロリジン（301 μL, 2.4 mmol）、EDC・HCl（460 mg, 2.4 mmolを順に加え、室温で4時間半攪拌した。反応混合物に氷水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を1 mol/L水酸化ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水で順に洗浄し、無水硫酸マグネシウムにより乾燥した。無機物をろ過により除き、25 ℃で減圧濃縮した後、減圧下乾燥することにより、化合物２３ｆ（1.16 g、収率98%）を黄色オイルとして得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 1.53 (9H, s), 1.79 (4H, br s), 2.58 (4H, br s), 2.70 (2H, t, J = 5.81 Hz), 3.52 (2H, q, J = 5.56 Hz), 3.79 (3H, s), 3.83 (3H, s), 4.97 (2H, s), 5.07 (2H, s), 6.80 (2H, d, J = 8.34 Hz), 6.91 (2H, d, J = 8.34 Hz), 6.96 (1H, d, J = 8.59 Hz), 7.29 (2H, d, J = 8.34 Hz), 7.33-7.36 (3H, m).

工程（５）：化合物Ｉ−２３の合成
化合物２３ｆ（473 mg、0.80 mmol）のDMA（1.5 mL）溶液を10 ℃まで冷却した後、化合物２３ｇ（693 mg、0.80 mmol）を加え、減圧脱気した。ヨウ化ナトリウム（240 mg、1.6 mmol）を加え、15 ℃で6時間攪拌した。DMF（4.5 mL）を加えた後、-40 ℃に冷却し、三臭化リン (151 μL、1.6 mmol)を加え、-40 ℃で30分間攪拌した。反応混合物を氷冷した5%食塩水にゆっくりと加えた。析出した固体をろ取し、水洗した後、水に懸濁させ、凍結乾燥することにより化合物２３ｈを褐色固体として得た。得られた化合物２３ｈは精製せずそのまま次の反応に用いた。
得られた化合物２３ｈ全量をジクロロメタン (10 ml)に溶解させ、-40 ℃まで冷却した後、アニソール(1.05 mL、9.6 mmol)と2 mol/L-塩化アルミニウム/ニトロメタン溶液(4.80 mL、9.6 mmol)を順に加え、0 ℃で30分間攪拌した。反応液にジイソプロピルエーテル、及び少量の水を加えて攪拌し沈殿を生成させ、デカンテーションにより上澄みを除いた。容器に残した不溶物に希塩酸水、アセトニトリルを加えて攪拌し、完全に溶解させた後、ジイソプロピルエーテルを加え、水層を分取した。有機層を再度水で抽出した後、すべての水層を合せHP20-SS樹脂を加えアセトニトリルを減圧留去した。得られた混合液をODSカラムクロマトグラフィ（水−アセトニトリル）により精製した。所望の化合物を含む分画に0.2 mol/L水酸化ナトリウム水溶液を加えpH=6.0に調整した後、少量のドライアイスを加えた。得られた溶液を減圧濃縮した後、凍結乾燥することにより化合物Ｉ−２３（279 mg、収率42%）を黄色粉末として得た。
¹H-NMR (D₂O) δ: 1.29 (1H, br s), 1.49 (3H, s), 1.51 (3H, s), 1.94-2.05 (2H, br m), 2.09-2.19 (1H, br m), 3.31-3.61 (9H, m), 3.79 (1H, d, J = 17.19 Hz), 4.12-4.16 (2H, m), 5.61 (1H, d, J = 5.02 Hz), 5.93 (1H, d, J = 5.02 Hz), 6.71 (1H, d, J = 8.16 Hz), 6.97-6.99 (2H, m).
MS (m+1) = 786.07
元素分析：C31H33N11O10S2Na2・6.2H2O
計算値：C,39.55; H,4.86; N,16.37; Na,4.88; S,6.81 (%)
実験値：C,39.55; H,4.99; N,16.46; Na,4.92; S,6.61 (%)

（実施例２４）
化合物Ｉ−２４の合成

化合物２４ａ（694 mg、0.80 mmol）と化合物２３ｆ（473 mg、0.80 mmol）から実施例２３の工程（５）と同様にして、化合物Ｉ−２４（158 mg、収率24%）を黄色粉末として得た。
¹H-NMR (D₂O) δ: 1.29 (1H, br s), 1.53 (3H, s), 1.55 (3H, s), 1.94-2.05 (2H, br m), 2.10-2.18 (1H, br m), 3.33-3.61 (9H, m), 3.79 (1H, d, J = 17.19 Hz), 4.14 (2H, d, J = 16.06 Hz), 5.61 (1H, d, J = 5.02 Hz), 5.96 (1H, d, J = 5.02 Hz), 6.71 (1H, d, J = 8.16 Hz), 6.98 (1H, d, J = 8.16 Hz).
MS (m+1) = 787.08
元素分析：C30H32N12O10S2Na2・6.5H2O
計算値：C,38.01; H,4.79; N,17.73; Na,4.85; S,6.77 (%)
実験値：C,37.93; H,4.79; N,17.90; Na,4.96; S,6.69 (%)

以下の実施例に示される化合物は、上記と同様の方法で合成した。
（実施例２５）
化合物Ｉ−２５

¹H-NMR (D₂O) δ: 7.79 (1H, br s), 7.38 (1H, br s), 6.97 (1H, d, J = 3.64 Hz), 5.94 (1H, br s), 5.60 (1H, br s), 4.15-4.12 (2H, m), 3.78 (1H, d, J = 16.81 Hz), 3.58-3.37 (8H, m), 2.12-1.98 (3H, m), 1.51 (3H, s), 1.49 (3H, s), 1.35 (1H, br s).
元素分析：C31H33N11O10S2Na2(H2O)6.6
計算値：C,39.25; H,4.91; N,16.24; S,6.76; Na,4.85 (%)
実験値：C,39.18; H,4.81; N,16.48; S,6.48; Na,4.60 (%)

（実施例２６）
化合物Ｉ−２６

¹H-NMR (D₂O) δ: 7.45 (1H, s), 6.96 (1H, s), 5.93 (1H, d, J = 4.96 Hz), 5.60 (1H, d, J = 4.96 Hz), 4.18 (1H, d, J = 14.81 Hz), 4.12 (1H, d, J = 17.32 Hz), 3.79 (1H, d, J = 17.32 Hz), 3.64-3.36 (8H, m), 2.17-1.93 (3H, m), 1.51 (3H, s), 1.48 (3H, s), 1.32 (1H, s).
元素分析：C31H32ClN11O10S2Na2(H2O)4.1
計算値：C,39.69; H,4.32; Cl,3.78; N,16.42; S,6.84; Na,4.90 (%)
実験値：C,39.43; H,4.30; Cl,3.86; N,16.72; S,6.89; Na,4.79 (%)

（実施例２７）
化合物Ｉ−２７

¹H-NMR (D₂O) δ: 6.95-6.90 (1H, m), 6.83-6.65 (1H, m), 5.89-5.77 (1H, m), 5.59-5.56 (1H, m), 5.09-4.90 (1H, m), 4.71-4.47 (1H, m), 4.09-4.00 (2H, m), 3.73-3.44 (3H, m), 3.08-2.80 (5H, m), 2.69-2.58 (3H, m), 2.27-1.82 (1H, m), 1.75-1.66 (1H, m), 1.53-1.27 (6H, m), 1.53 (3H, s), 1.51 (3H, s).
MS (m+1) = 824.02

（実施例２８）
化合物Ｉ−２８

¹H-NMR (D₂O) δ: 8.65-8.60 (1H, m), 7.63 (1H, s), 7.01-6.95 (2H, m), 5.95 (1H, d, J = 4.6 Hz), 5.61 (1H, t, J = 16.0 Hz), 5.48 (1H, d, J = 4.6 Hz), 5.31 (1H, d, J = 16.0 Hz), 4.06 (1H, s), 3.62-3.46 (3H, m), 3.04-2.99 (1H, m), 2.89-2.77 (1H, m), 2.12-2.03 (2H, m), 1.52-1.26 (7H, m).
MS (m+1) = 830.06

（実施例２９）
化合物Ｉ−２９

¹H-NMR (D₂O) δ: 6.96-6.93 (1H, m), 6.90-6.87 (1H, m), 5.91-5.88 (1H, m), 5.59-5.56 (1H, m), 4.20 (1H, d, J = 12.9 Hz), 4.09 (1H, d, J = 14.7 Hz), 3.74 (1H, d, J = 14.7 Hz), 3.57-3.55 (2H, m), 3.38-3.29 (5H, m), 3.09-3.03 (2H, m), 1.78-1.35 (11H, m).
MS (m+1) = 822.18

（実施例３０）
化合物Ｉ−３０

¹H-NMR (D₂O) δ: 7.28 (1H, s), 7.15 (1H, s), 5.89 (1H, d, J = 4.7 Hz), 5.55 (1H, d, J = 4.7 Hz), 4.09 (2H, t, J = 17.3 Hz), 3.73 (1H, d, J = 17.3 Hz), 3.55-3.27 (9H, m), 2.07-1.93 (3H, m), 1.52 (3H, s), 1.50 (3H, s), 1.35-1.34 (1H, m).
MS (m+1) = 810.08

（実施例３１）
化合物Ｉ−３１

¹H-NMR (D₂O) δ: 8.82 (2H, d, J = 5.9 Hz), 7.99 (2H, d, J = 5.9 Hz), 7.03 (1H, d, J = 8.2 Hz), 6.88 (1H, d, J = 8.2 Hz), 5.92 (1H, d, J = 4.8 Hz), 5.48-5.37 (2H, m), 5.47 (1H, d, J = 4.8 Hz), 4.82-4.78 (2H, m), 3.71 (1H, d, J = 18.1 Hz), 3.41 (1H, d, J = 18.1 Hz), 1.48 (3H, s), 1.47 (3H, s).
MS (m+1) = 803.86

（実施例３２）
化合物Ｉ−３２

¹H-NMR (D₂O) δ: 6.94 (1H, d, J = 8.2 Hz), 6.88 (1H, d, J = 8.2 Hz), 5.90 (1H, d, J = 5.0 Hz), 5.57 (1H, d, J = 5.0 Hz), 4.95 (1H, d, J = 14.2 Hz), 4.20 (1H, d, J = 14.2 Hz), 4.08 (1H, d, J = 16.8 Hz), 3.74 (1H, d, J = 16.8 Hz), 3.58-3.53 (2H, m), 3.42-3.25 (4H, m), 3.11-3.02 (2H, m), 1.86-1.35 (6H, m), 1.52 (3H, s), 1.50 (3H, s).
MS (m+1) = 824.02

（実施例３３）
化合物Ｉ−３３

¹H-NMR (D₂O) δ: 7.10-7.03 (2H, m), 5.92 (1H, d, J = 5.0 Hz), 5.58 (1H, d, J = 5.0 Hz), 4.65 (1H, d, J = 13.8 Hz), 4.17-3.63 (5H, m), 3.74 (1H, d, J = 16.7 Hz), 2.93 (3H, s), 2.80-2.02 (8H, m), 1.53 (3H, s), 1.51 (3H, s).
MS (m+1) = 820.13

（実施例３４）
化合物Ｉ−３４

¹H-NMR (D₂O) δ: 6.87-6.75 (2H, m), 5.89 (1H, d, J = 4.4 Hz), 5.56 (1H, d, J = 4.4 Hz), 4.99 (1H, d, J = 13.9 Hz), 4.26 (1H, d, J = 13.9 Hz), 4.06-3.08 (11H, m), 2.21-1.78 (4H, m), 1.53 (3H, s), 1.50 (3H, s).
MS (m+1) = 806.38

（実施例３５）
化合物Ｉ−３５

¹H-NMR (D₂O) δ: 6.97-6.91 (1H, m), 6.81-6.71 (1H, m), 5.94-5.91 (1H, m), 5.57 (1H, d, J = 5.0 Hz), 5.04-4.91 (2H, m), 4.26-2.82 (13H, m), 1.53 (3H, s), 1.50 (3H, s).
MS (m+1) = 796.04

（実施例３６）
化合物Ｉ−３６

¹H-NMR (D₂O) δ: 8.59-8.56 (2H, m), 8.00-7.98 (2H, m), 7.05-7.02 (1H, m), 6.77-6.75 (1H, m), 5.89-5.86 (1H, m), 5.42-5.23 (3H, m), 3.67-3.64 (1H, m), 3.40-3.37 (1H, m), 1.44-1.42 (6H, m).
MS (m+1) = 789.96

（実施例３７）
化合物Ｉ−３７

¹H-NMR (D₂O) δ: 8.71 (1H, s), 7.85 (1H, d, J = 6.9 Hz), 7.60 (1H, d, J = 6.9 Hz), 7.22 (1H, s), 6.94 (1H, s), 5.90 (1H, d, J = 5.0 Hz), 5.44 (1H, d, J = 5.0 Hz), 5.28 (1H, d, J = 14.9 Hz), 5.16 (1H, d, J = 14.9 Hz), 3.62 (1H, d, J = 18.0 Hz), 3.40 (1H, d, J = 18.0 Hz), 1.48 (3H, s), 1.46 (3H, s).
MS (m+1) = 686.96

（実施例３８）
化合物Ｉ−３８

¹H-NMR (D₂O) δ: 8.73 (1H, s), 7.43 (1H, s), 7.21 (1H, s), 6.87 (1H, s), 5.90 (1H, d, J = 4.8 Hz), 5.45-5.41 (2H, m), 5.13 (1H, d, J = 15.7 Hz), 3.45 (2H, s), 2.33 (3H, s), 1.50 (3H, s), 1.47 (3H, s).
MS (m+1) = 701.00

（実施例４１）
化合物Ｉ−４１

¹H-NMR（DMSO-d₆）δ：1.27-1.52 (m, 6H), 3.38-3.68 (m, 4H), 4.98-6.39 (m, 4H), 6.72-6.83 (m, 3H), 7.18 (s, 2H), 8.56 (d, J = 6.6 Hz, 2H), 9.61 (d, J = 6.6Hz, 2H), 11.50 (br s, 1H).
MS (m+1) 756.42

（実施例４２）
化合物Ｉ−４２

¹H-NMR（DMSO-d₆）δ：1.37 (s, 3H), 1.52 (s, 3H), 2.97 (d, J = 17.1Hz, 1H), 3.61 (d, J = 17.1Hz, 1H), 4.94 (d, J = 13.5Hz, 1H), 5.37 (s, 1H), 5.41 (d, J = 13.5Hz, 1H), 6.02 (t, J = 6.0Hz, 1H), 6.70 (t, J = 7.8Hz, 2H), 6.90 (s, 1H), 7.19 (s, 1H), 7.92 (br s, 1H), 9.05 (br s, 4H), 10.31 (br s, 1H), 11.22 (br s, 1H), 12.37 (br s, 1H).
MS (m+1) 771.38

（実施例４３）
化合物Ｉ−４３

¹H-NMR（DMSO-d₆）δ：1.15-2.04 (m, 4H), 1,32 (s, 3H), 1.45 (s, 3H), 2.27-3.36 (m, 9H), 3.61 (d, J = 11.4Hz, 1H), 3.90 (d, J = 11.4Hz), 3.93-4.00 (m, 1H), 4.39 (d, J = 12.0Hz, 1H), 4.59 (d, J = 12.0Hz, 1H), 5.23-5.38 (m, 1H), 5.39 (d, J = 5.4Hz, 1H), 5.82-5.87 (m, 1H), 6.49-6.67 (m, 1H), 6.73 (s, 1H), 6.73-6.78 (m, 1H), 7.18 (s, 2H), 11.40 (br s, 2H).
MS (m+1) 790.52

（実施例４４）
化合物Ｉ−４４

¹H-NMR（DMSO-d₆）δ：1.33 (s, 1H), 1.48 (s, 1H), 2.70-3.90 (m, 11H), 4.0-4.30 (m, 2H), 5.00-5.10 (m, 1H), 5.35 (d, J = 5.1Hz, 1H), 5.84-5.94 (m, 1H), 6.52-6.80 (m, 4H), 7.19 (s, 2H), 11.30 (br s, 2H).
MS (m+1) 762.47

（実施例４５）
化合物Ｉ−４５

¹H-NMR（DMSO-d₆）δ：0.82 (br s, 1H), 1.36 (s, 3H), 1.46 (s, 3H), 1.71-1.76 (m, 2H), 1.91-1.99 (m, 1H), 2.58 (s, 1H), 3.38-4.20 (m, 6H), 4.92 (d, J = 15.0Hz, 1H), 5.13 (d, J = 15.0Hz, 1H), 5.30 (d, J = 13.5Hz, 1H), 5.40 (d, J = 5.1Hz, 1H), 5.79 (br s, 1H), 6.74 (s, 1H), 6.90 (d, J = 8.1Hz, 1H), 7.18-7.21 (m, 3H), 7.34 (d, J = 8.1Hz), 10.88 (br s, 1H).
MS (m+1) 787.49

（実施例４６）
化合物Ｉ−４６

¹H-NMR（DMSO-d₆）δ：0.90 (br s, 1H), 1.35 (s, 3H), 1.45 (s, 3H), 1.71-1.77 (m, 2H), 1.90-1.93 (m, 1H), 2.61 (s, 1H), 3.39-4.04 (m, 5H), 4.30 (d, J = 14.1Hz, 1H), 5.00 (d, J = 15.3Hz, 1H), 5.22 (d, J = 15.1Hz, 1H), 5.33-5.40 (m, 2H), 5.87 (t, J = 6.3Hz, 1H), 6.73 (s, 1H), 6.89 (d, J = 8.7Hz), 7.19-7.22 (m, 3H), 7.36 (d, J = 8.7Hz, 1H), 11.0 (br s, 1H).
MS (m+1) 787.44

（実施例４７）
化合物Ｉ−４７

¹H-NMR（DMSO-d₆）δ：1.38 (s, 3H), 1.50 (s, 3H), 1.81 (br s, 2H), 1.94 (br s, 2H), 2.69-4.22 (m, 11H), 5.11-5.34 (m, 1H), 5.41 (d, J = 5.1Hz, 1H), 5.88-5.92 (m, 1H), 6.61-6.97 (m, 3H), 7.23 (br s, 2H), 8.05-8.21 (m, 1H), 11.43 (br s, 1H).
MS (m+1) 776.46

（実施例４８）
化合物Ｉ−４８

¹H-NMR（DMSO-d₆）δ：1.43 (s, 3H), 1.47 (s, 3H), 3.45 (d, J = 17.7Hz, 1H), 3.71 (d, J = 17.7Hz, 1H), 5.41-5.49 (m, 2H), 5.55 (d, J = 13.8Hz, 1H), 5.92 (br s, 1H), 6.46 (d, J = 8.4Hz, 1H), 6.76 (s, 1H), 9.51 (d, 8.4Hz, 2H), 10.19 (br s, 1H).
MS (m+1) 741.35

（実施例４９）
化合物Ｉ−４９

¹H-NMR（DMSO-d₆）δ：1.33 (s, 3H), 1.43 (s, 3H), 3.06 (d, J = 17.7Hz, 3.56 (d, J = 17.7Hz), 4.44 (s, 2H), 4.74 (d, J = 13.8Hz, 1H), 5.08 (d, J = 13.8Hz, 1H), 5.30 (d, J = 4.8Hz, 1H), 5.85-5.90 (m, 1H), 6.65-6.74 (m, 2H), 6.71 (s, 1H), 6.99 (d, 7.2Hz, 2H), 7.18 (s, 2H), 8.45 (d, J = 7.2Hz, 1H), 8.3 (d, J = 7.2Hz, 1H), 9.02 (br s, 1H), 11.20 (br s, 1H).
MS (m+1) 742.44

（実施例５０）
化合物Ｉ−５０

¹H-NMR(D2O) δ:1.48 (3H, s), 1.51 (3H, s), 1.80-2.35 (4H, m), 3.20-3.80 (10H, m), 4.00-4.20 (2H, m), 5.56 (1H, d, J=4.8Hz), 5.89 (1H, d, J=4.8Hz), 6.80-7.10 (3H, m).
MS (m+1) 776.54

（実施例５１）
化合物Ｉ−５１

¹H-NMR(D2O) δ: 1.49 (3H, s), 1.51 (3H, s), 3.20-3.80 (8H, m), 4.00-4.20 ( 2H, m), 5.56 (1H, d, J=5.1Hz), 5.90 (1H, d, J=5.1Hz), 6.83 (1H, m), 7.19 (1H, d, J=1.5Hz), 7.21 (1H, d, J=1.5Hz).
MS (m+1) 742.57

（実施例５２）
化合物Ｉ−５２

¹H-NMR(D2O) δ:1.48 (3H, s), 1.50 (3H, s), 3.20-3.80 (10H, m), 4.00-4.20 (2H, m), 5.55 (1H, d, J=4.8Hz), 5.88 (1H, d, J=4.8Hz), 7.15 (1H, s), 7.28 (1H, s), 7.29 (1H, s).
MS (m+1) = 776.56

（実施例５３）
化合物Ｉ−５３

¹H-NMR(D2O) δ:1.48 (3H, s), 1.51 (3H, s), 1.90-2.20 (4H, m), 3.20-3.82 (10H, m), 4.10-4.25 (2H, m), 5.90 (1H, d, J=5.1Hz), 5.90 (1H, d, J=5.1Hz), 6.95 (1H, s), 7.03 (1H, s).
元素分析：C30H32Cl2N11O8S2Na(H2O)5.8(NaHCO3)0.3
計算値：C,37.82; H,4.60; N,16.01; S,6.66; Na, 3.11 (%)
実験値：C,37.69; H,4.59; N,16.25; S,6.62; Na, 3.34 (%)

（実施例５４）
化合物Ｉ−５４

¹H-NMR(D2O) δ: 1.48 (3H, s), 1.51 (3H, s), 1.90-2.20 (4H, m), 3.10-3.85 (10H, m), 4.00-4.20 (2H, m), 5.58 (1H, d, J=4.8Hz), 5.90 (1H, d, J=4.8Hz), 6.84 (1H, d, J=8.7Hz), 6.94 (1H, s), 7.00-7.20 (1H, m).
MS (m+1) = 760.60

（実施例５５）
化合物Ｉ−５５

¹H-NMR(D2O) δ:1.48 (3H, s), 1.51 (3H, s), 1.80-2.20 (4H, m), 3.15-3.80 (10H, m), 4.00-4.20 (2H, m), 5.57 (1H, d, J=5.1Hz), 5.90 (1H,d, J=5.1Hz), 6.83 (1H, d, J=12.3Hz), 6.93 (1H, s), 7.17 (1H, d, J=7.2Hz).
MS (m+1) = 760.63

（実施例５６）
化合物Ｉ−５６

¹H-NMR(D2O) δ: 1.48 (3H, s), 1.51 (3H, s), 1.80-2.20 (4H, m), 3.20-3.80 (10H, m), 4.00-4.20 (2H, m), 5.56 (1H, d, J=5.1Hz), 5.89 (1H, d, J=5.1Hz), 6.92 (1H, s), 7.00-7.20 (2H, m).
元素分析：C30H33FN11O8S2Na(H2O)5.3
計算値：C,41.10; H,4.93; F, 2.23; N,17.62; S,7.24; Na, 2.70 (%)
実験値：C, 41.07; H,5.01; F, 2.17; N,17.56; S,7.31; Na, 2.62 (%)

（実施例５７）
化合物Ｉ−５７

¹H-NMR (D₂O) δ: 7.00-6.90 (2H, m), 6.84-6.76 (1H, m), 5.88-5.83 (1H, m), 5.57-5.50 (1H, m), 5.01-4.88 (1H, m), 4.19-3.95 (4H, m), 3.83-3.08 (9H, m), 2.72-2.70 (2H, m), 2.23-1.96 (3H, m).
MS (m+1) = 818.33

（実施例５８）
化合物Ｉ−５８

¹H-NMR (D₂O) δ: 9.42 (1H, s), 8.23 (1H, s), 7.95 (1H, s), 7.67 (1H, d, J = 9.9 Hz), 7.21-7.18 (1H, m), 6.90 (2H, d, J = 8.6 Hz), 6.79 (1H, d, J = 8.2 Hz), 5.88 (1H, d, J = 5.0 Hz), 5.47 (1H, d, J = 5.0 Hz), 5.27 (1H, d, J = 15.3 Hz), 5.20 (1H, d, J = 15.3 Hz), 4.51 (2H, s), 3.75 (1H, d, J = 18.1 Hz), 3.44 (1H, d, J = 18.1 Hz), 1.51-1.47 (6H, m).
MS (m+1) = 809.36

（実施例５９）
化合物Ｉ−５９

¹H-NMR (D₂O) δ: 7.03-6.89 (2H, m), 6.85-6.71 (1H, m), 5.90-5.82 (1H, m), 5.60-5.51 (1H, m), 4.56-4.52 (1H, m), 4.06 (2H, d, J = 13.3 Hz), 3.71 (1H, d, J = 17.1 Hz), 3.49 (2H, s), 3.12-2.93 (5H, m), 2.77-2.72 (6H, m), 2.28-2.04 (1H, m), 1.86-1.19 (3H, m).
MS (m+1) = 820.02

（実施例６０）
化合物Ｉ−６０

¹H-NMR (D₂O) δ: 7.34 (1H, s), 7.20 (1H, s), 6.98 (1H, s), 5.85 (1H, d, J = 4.9 Hz), 5.55 (1H, d, J = 4.9 Hz), 4.98 (2H, dd, J = 8.6, 4.6 Hz), 4.89-4.84 (1H, m), 4.15 (1H, d, J = 14.2 Hz), 4.06 (1H, d, J = 17.1 Hz), 3.75 (1H, d, J = 17.1 Hz), 3.54-3.35 (9H, m), 2.79-2.69 (2H, m), 2.19-1.88 (3H, m), 1.57-1.39 (1H, m).
MS (m+1) = 806.02

（実施例６１）
化合物Ｉ−６１

¹H-NMR (D₂O) δ: 7.01-6.90 (2H, m), 6.83-6.73 (1H, m), 5.91-5.82 (1H, m), 5.58-5.52 (1H, m), 4.98 (1H, dd, J = 5.9, 9.4 Hz), 4.25-4.22 (2H, m), 4.05-4.01 (1H, m), 3.86 (1H, br s), 3.70-3.52 (5H, m), 3.36-3.18 (2H, m), 3.12-2.89 (4H, m), 2.77-2.64 (2H, m).
MS (m+1) = 791.98

（実施例６２）
化合物Ｉ−６２

¹H-NMR (D₂O) δ: 7.11-6.99 (3H, m), 5.86 (1H, d, J = 5.0 Hz), 5.56 (1H, d, J = 5.0 Hz), 4.98 (1H, dd, J = 8.1, 5.1 Hz), 4.63 (1H, d, J = 14.4 Hz), 4.16-3.96 (4H, m), 3.80-3.60 (2H, m), 2.94 (3H, s), 2.81-2.64 (4H, m), 2.62-2.49 (1H, m), 2.44-2.31 (2H, m), 2.26-2.03 (3H, m), 1.41 (1H, s).
MS (m+1) = 816.16

（実施例６３）
化合物Ｉ−６３

¹H-NMR (D₂O) δ: 6.98 (1H, s), 6.92-6.71 (2H, br m), 5.85 (1H, d, J = 5.0 Hz), 5.60-5.51 (1H, m), 4.99-4.95 (1H, m), 4.30 (1H, d, J = 13.6 Hz), 4.16-3.04 (12H, m), 2.76-2.67 (2H, m), 2.05-1.90 (3H, m), 1.46-1.43 (1H, m).
MS (m+1) = 802.02

（実施例６４）
化合物Ｉ−６４

¹H-NMR (D₂O) δ: 8.63 (2H, d, J = 7.2 Hz), 8.13 (2H, d, J = 7.2 Hz), 7.19 (1H, d, J = 8.5 Hz), 6.99 (1H, s), 6.94 (1H, d, J = 8.5 Hz), 5.89 (1H, d, J = 4.9 Hz), 5.48 (1H, d, J = 4.9 Hz), 5.31 (2H, dd, J = 34.6, 14.9 Hz), 4.96 (1H, dd, J = 9.0, 4.3 Hz), 3.72 (1H, d, J = 18.1 Hz), 3.48 (1H, d, J = 18.1 Hz), 2.74-2.65 (2H, m).
MS (m+1) = 802.02

（実施例６５）
化合物Ｉ−６５

¹H-NMR (D₂O) δ: 8.96 (1H, s), 8.01 (1H, d, J = 6.6 Hz), 7.81 (1H, d, J = 6.6 Hz), 7.39 (1H, s), 7.20 (1H, s), 6.88 (1H, s), 5.84 (1H, d, J = 5.0 Hz), 5.45 (1H, d, J = 5.0 Hz), 5.31 (2H, dd, J = 28.0, 14.9 Hz), 4.96 (1H, dd, J = 9.9, 3.5 Hz), 3.69 (1H, d, J = 16.9 Hz), 3.42 (1H, d, J = 18.2 Hz), 2.81-2.64 (2H, m).
MS (m+1) = 682.97

（実施例６６）
化合物Ｉ−６６

¹H-NMR (D₂O) δ: 8.66-8.63 (1H, m), 7.66 (1H, br s), 7.06-6.95 (3H, m), 5.90 (1H, d, J = 4.8 Hz), 5.70-5.53 (1H, m), 5.47 (1H, d, J = 4.8 Hz), 5.33 (1H, d, J = 15.2 Hz), 5.03-4.96 (1H, m), 4.06 (1H, s), 3.71-3.45 (3H, m), 3.14-2.67 (4H, m), 2.29-1.95 (2H, br m).
MS (m+1) = 825.96

（実施例６７）
化合物Ｉ−６７

¹H-NMR (D₂O) δ: 6.98 (1H, s), 6.96 (1H, d, J = 8.3 Hz), 6.90 (1H, d, J = 8.3 Hz), 5.84 (1H, d, J = 5.0 Hz), 5.55 (1H, d, J = 5.0 Hz), 4.99-4.93 (3H, m), 4.22 (1H, d, J = 14.2 Hz), 4.05 (1H, d, J = 16.9 Hz), 3.73 (1H, d, J = 16.9 Hz), 3.56-3.29 (7H, m), 3.17-3.05 (2H, m), 2.81-2.69 (2H, m), 1.96-1.52 (6H, m).
MS (m+1) = 820.02

（実施例６８）
化合物Ｉ−６８

¹H-NMR (D₂O) δ: 8.80 (1H, s), 7.48 (1H, s), 7.20 (1H, s), 6.91 (2H, s), 5.84 (1H, d, J = 4.7 Hz), 5.44 (1H, d, J = 15.8 Hz), 5.40 (1H, d, J = 4.7 Hz), 5.16 (1H, d, J = 15.8 Hz), 4.98 (1H, dd, J = 9.9, 3.6 Hz), 3.46 (2H, s), 2.82-2.66 (2H, m), 2.37 (3H, s).
MS (m+1) = 697.01

（実施例６９）
化合物Ｉ−６９

¹H-NMR (D₂O) δ: 6.98-6.86 (3H, m), 5.90 (1H, d, J = 5.0 Hz), 5.58 (1H, d, J = 5.0 Hz), 4.92 (1H, d, J = 14.2 Hz), 4.21 (1H, d, J = 14.2 Hz), 4.09 (1H, d, J = 16.8 Hz), 3.75 (1H, d, J = 16.8 Hz), 3.57-3.07 (9H, m), 1.75 (5H, t, J = 41.0 Hz), 1.48-1.36 (9H, m).
MS (m+1) = 790.03

（実施例７０）
化合物Ｉ−７０

¹H-NMR (D₂O) δ: 9.01 (2H, d, J = 6.8 Hz), 8.08 (2H, d, J = 6.8 Hz), 7.18 (1H, s), 7.05 (1H, d, J = 8.7 Hz), 6.88 (1H, d, J = 8.7 Hz), 5.90 (1H, d, J = 4.9 Hz), 5.70 (1H, d, J = 15.1 Hz), 5.55 (1H, d, J = 4.9 Hz), 5.48 (1H, d, J = 15.1 Hz), 5.23 (1H, dd, J = 7.0, 4.9 Hz), 4.85 (2H, s), 3.83 (1H, d, J = 18.3 Hz), 3.43 (1H, d, J = 18.3 Hz), 3.10-3.03 (2H, m).
MS (m+1) = 799.93

（実施例７１）
化合物Ｉ−７１

¹H-NMR (D₂O) δ: 8.83 (2H, d, J = 6.6 Hz), 8.03 (3H, d, J = 6.6 Hz), 7.07 (1H, d, J = 8.2 Hz), 6.96 (1H, s), 6.92 (1H, d, J = 8.2 Hz), 5.93 (1H, d, J = 4.9 Hz), 5.51 (1H, d, J = 4.9 Hz), 5.44 (2H, d, J = 9.3 Hz), 3.75 (1H, d, J = 18.1 Hz), 3.44 (1H, d, J = 18.1 Hz), 1.49 (3H, s), 1.47 (3H, s).
MS (m+1) = 769.91

（実施例７２）
化合物Ｉ−７２

¹H-NMR (D₂O) δ: 8.89-8.83 (2H, m), 8.64-8.56 (1H, m), 8.14-8.06 (2H, m), 7.01-6.97 (2H, m), 6.92-6.87 (1H, m), 6.80-6.76 (1H, m), 5.81 (1H, d, J = 5.2 Hz), 5.44-5.38 (3H, m), 5.37-5.29 (1H, m), 4.89-4.86 (1H, m), 3.61-3.53 (1H, m), 3.07-2.99 (1H, m).
MS (m+1) = 650.93

（実施例７３）
化合物Ｉ−７３

¹H-NMR (D₂O) δ: 9.46 (1H, s), 8.65-8.62 (1H, m), 8.47-8.42 (1H, m), 8.00-7.93 (1H, m), 7.05 (1H, d, J = 8.6 Hz), 6.92-6.81 (2H, m), 5.90 (1H, d, J = 4.9 Hz), 5.50 (1H, d, J = 4.9 Hz), 5.43 (2H, s), 3.76 (1H, d, J = 18.0 Hz), 3.43 (1H, d, J = 18.0 Hz), 1.43 (6H, s).
MS (m+1) = 755.90

（実施例７４）
化合物Ｉ−７４

¹H-NMR (D₂O) δ: 8.97 (1H, s), 7.63 (1H, s), 7.56 (1H, s), 6.93 (1H, s), 6.89 (1H, d, J = 8.2 Hz), 6.84 (1H, d, J = 8.2 Hz), 5.85 (1H, d, J = 5.2 Hz), 5.22 (1H, d, J = 5.2 Hz), 5.12-4.89 (2H, m), 4.47-4.44 (2H, m), 3.88-3.82 (2H, m), 3.54 (1H, d, J = 18.4 Hz), 3.32 (1H, d, J = 18.4 Hz), 1.46 (6H, br s).
MS (m+1) = 772.90

（実施例７５）
化合物Ｉ−７５

¹H-NMR (D₂O) δ: 8.54 (1H, br s), 8.12 (1H, br s), 7.55 (1H, br s), 6.94-6.84 (3H, m), 5.85 (1H, d, J = 4.9 Hz), 5.51 (1H, br s), 5.40 (1H, d, J = 4.9 Hz), 5.22 (1H, d, J = 15.3 Hz), 3.96 (1H, br s), 3.55-3.35 (3H, m), 2.97-2.90 (1H, m), 2.76 (1H, br s), 2.04 (2H, br s), 1.42 (3H, s), 1.39 (3H, s).
元素分析：C32H29ClN11O8S2Na(H2O)8.2(NaCl)0.1
計算値：C,39.55; H,4.71; Cl,4.01; N,15.85; S,6.60; Na, 2.60 (%)
実験値：C,39.80; H,4.64; Cl,4.17; N,15.20; S,6.43; Na, 2.30 (%)

（実施例７６）
化合物Ｉ−７６

¹H-NMR (D₂O) δ: 9.39-9.24 (2H, m), 8.24-8.08 (3H, m), 7.91 (1H, br s), 7.28 (1H, br s), 6.97 (2H, br s), 6.10-5.76 (5H, m), 3.55 (1H, br s), 1.51 (3H, s), 1.46 (3H, s).
元素分析：C33H27ClN11O8S2Na(H2O)8.7
計算値：C,40.24; H,4.54; Cl,3.60; N,15.64; S,6.51; Na, 2.33 (%)
実験値：C,40.28; H,4.30; Cl,3.83; N,15.37; S,6.57; Na, 2.30 (%)

（実施例７７）
化合物Ｉ−７７

¹H-NMR (D₂O) δ: 8.61 (1H, s), 7.77 (1H, d, J = 6.9 Hz), 7.50 (1H, d, J = 6.9 Hz), 7.11 (1H, s), 6.85 (1H, s), 6.83 (1H, s), 5.88 (1H, d, J = 4.9 Hz), 5.42 (1H, d, J = 4.9 Hz), 5.23 (1H, d, J = 14.9 Hz), 5.12 (1H, d, J = 14.9 Hz), 3.61 (1H, d, J = 18.0 Hz), 3.38 (1H, d, J = 18.0 Hz), 1.47 (3H, s), 1.45 (3H, s).
MS (m+1) = 652.94

（実施例７８）
化合物Ｉ−７８

¹H-NMR (D₂O) δ: 8.90 (1H, br s), 8.41 (1H, br s), 8.22 (1H, br s), 7.87 (1H, br s), 7.68 (1H, br s), 7.56 (1H, br s), 6.90 (1H, br s), 6.72 (1H, br s), 6.56 (1H, br s), 5.76-5.72 (2H, br m), 5.46-5.38 (1H, m), 5.21 (1H, br s), 3.35 (2H, br s), 1.37 (3H, s), 1.34 (3H, s).
元素分析：C33H27ClN11O8S2Na(H2O)9.3(NaHCO3)0.1
計算値：C,39.59; H,4.59; Cl,3.53; N,15.34; S,6.39; Na, 2.52 (%)
実験値：C,39.72; H,4.49; Cl,3.71; N,15.46; S,6.40; Na, 2.59 (%)

（実施例７９）
化合物Ｉ−７９

¹H-NMR (D₂O) δ: 8.76 (2H, br s), 8.07 (2H, br s), 6.95-6.92 (3H, m), 5.93 (1H, d, J = 4.2 Hz), 5.51-5.40 (2H, m), 3.77 (1H, d, J = 18.0 Hz), 3.49 (1H, d, J = 18.0 Hz), 1.49 (3H, s), 1.47 (3H, s).
元素分析：C28H24.2ClN10O7S2Na0.8(H2O)6.2
計算値：C,39.92; H,4.38; Cl,4.21; N,16.63; S,7.61; Na, 2.18 (%)
実験値：C,40.14; H,4.25; Cl,4.99; N,15.40; S,6.80; Na, 2.28 (%)

（実施例８０）
化合物Ｉ−８０

¹H-NMR (D₂O) δ: 6.97-6.89 (3H, m), 5.92 (1H, d, J = 5.0 Hz), 5.59 (1H, d, J = 5.0 Hz), 4.19 (1H, d, J = 14.4 Hz), 4.04 (1H, d, J = 17.1 Hz), 3.95 (1H, d, J = 14.4 Hz), 3.84-3.80 (1H, m), 3.72-3.64 (3H, m), 3.40-3.32 (1H, m), 3.26-3.17 (1H, m), 2.38-2.03 (6H, m), 1.93-1.78 (2H, m), 1.52 (3H, s), 1.49 (3H, s).
MS (m+1) = 801.95

（実施例８１）
化合物Ｉ−８１

¹H-NMR (D₂O) δ: 6.93 (1H, d, J = 0.7 Hz), 6.78 (1H, s), 6.36 (1H, s), 5.89 (1H, d, J = 5.0 Hz), 5.49 (1H, d, J = 5.0 Hz), 5.01 (1H, d, J = 13.6 Hz), 4.59 (2H, s), 4.43 (2H, s), 4.14 (1H, d, J = 13.6 Hz), 4.05 (1H, d, J = 17.1 Hz), 3.71 (1H, d, J = 17.1 Hz), 3.25 (3H, s), 1.51 (3H, s), 1.49 (3H, s).
MS (m+1) = 656.98

（実施例８２）
化合物Ｉ−８２

¹H-NMR (D₂O) δ: 6.93 (1H, d, J = 8.4 Hz), 6.88 (1H, d, J = 8.4 Hz), 5.95 (1H, d, J = 5.0 Hz), 5.59 (1H, d, J = 5.0 Hz), 4.13 (2H, t, J = 15.8 Hz), 3.77 (1H, d, J = 17.3 Hz), 3.59-3.33 (9H, m), 2.11-1.92 (3H, m), 1.55 (3H, s), 1.52 (3H, s), 1.49-1.35 (1H, m).
MS (m+1) = 777.31

（実施例８３）
化合物Ｉ−８３

¹H-NMR (D₂O) δ: 6.92 (1H, d, J = 8.4 Hz), 6.87 (1H, d, J = 8.4 Hz), 5.93 (1H, d, J = 5.0 Hz), 5.59 (1H, d, J = 5.0 Hz), 4.92 (1H, d, J = 13.8 Hz), 4.16 (1H, d, J = 13.8 Hz), 4.08 (1H, d, J = 17.1 Hz), 3.78-3.56 (3H, m), 3.52-3.38 (1H, m), 3.23-3.14 (1H, m), 3.05 (3H, s), 2.89 (3H, s), 1.55 (3H, s), 1.53 (3H, s).
MS (m+1) = 751.12

（実施例８４）
化合物Ｉ−８４

¹H-NMR (D₂O) δ: 7.13 (1H, d, J = 8.6 Hz), 6.98 (1H, s), 6.88 (1H, d, J = 8.6 Hz), 5.85 (1H, d, J = 5.0 Hz), 5.38 (1H, d, J = 5.0 Hz), 4.72-4.64 (3H, m), 4.55 (1H, d, J = 13.9 Hz), 3.65 (1H, d, J = 17.1 Hz), 3.55 (1H, d, J = 13.9 Hz), 3.32-2.91 (8H, m), 1.88-1.82 (6H, m).
MS (m+1) = 774.24

（実施例８５）
化合物Ｉ−８５

¹H-NMR (D₂O) δ: 6.91 (1H, d, J = 8.4 Hz), 6.87 (1H, d, J = 8.4 Hz), 5.90 (1H, d, J = 5.0 Hz), 5.56 (1H, d, J = 5.0 Hz), 4.93 (1H, d, J = 13.9 Hz), 4.16 (1H, d, J = 13.9 Hz), 4.06 (1H, d, J = 17.0 Hz), 3.73-3.37 (4H, m), 3.23-3.14 (1H, m), 3.04 (3H, s), 2.88 (3H, s), 1.53 (3H, s), 1.50 (3H, s).
MS (m+1) = 784.11

（実施例８６）
化合物Ｉ−８６

¹H-NMR (D₂O) δ: 6.87 (2H, s), 5.91 (1H, d, J = 5.0 Hz), 5.57 (1H, d, J = 5.0 Hz), 4.72-4.62 (1H, m), 4.17-3.98 (4H, m), 3.73 (1H, d, J = 17.1 Hz), 3.62 (1H, br s), 2.92 (3H, s), 2.78-1.93 (8H, m), 1.53 (3H, s), 1.51 (3H, s).
MS (m+1) = 836.15

（実施例８７）
化合物Ｉ−８７

¹H-NMR (D₂O) δ: 6.85 (2H, s), 5.93 (1H, d, J = 5.0 Hz), 5.59 (1H, d, J = 5.0 Hz), 4.63 (1H, d, J = 14.8 Hz), 4.19-3.90 (4H, m), 3.77-3.61 (2H, m), 2.91 (3H, s), 2.79-1.99 (8H, m), 1.56 (3H, s), 1.53 (3H, s).
MS (m+1) = 803.20

（実施例８８）
化合物Ｉ−８８

¹H-NMR (D₂O) δ: 6.94 (1H, d, J = 8.4 Hz), 6.88 (1H, d, J = 8.4 Hz), 5.92 (1H, d, J = 5.0 Hz), 5.58 (1H, d, J = 5.0 Hz), 4.16 (1H, d, J = 14.8 Hz), 4.10 (1H, d, J = 17.1 Hz), 3.77 (1H, d, J = 17.1 Hz), 3.57-3.34 (9H, m), 2.16-1.96 (3H, m), 1.52 (3H, s), 1.50 (3H, s), 1.46-1.38 (1H, m).
MS (m+1) = 810.15

（実施例８９）
化合物Ｉ−８９

¹H-NMR (D₂O) δ: 6.89 (2H, br s), 5.91 (1H, d, J = 5.0 Hz), 5.57 (1H, d, J = 5.0 Hz), 4.65 (1H, d, J = 13.8 Hz), 4.04 (1H, d, J = 17.5 Hz), 3.92 (1H, d, J = 13.8 Hz), 3.65 (1H, d, J = 17.5 Hz), 3.41-3.27 (5H, m), 3.17-3.06 (3H, m), 1.87-1.80 (6H, m), 1.53 (3H, s), 1.50 (3H, s).
MS (m+1) = 836.19

（実施例９０）
化合物Ｉ−９０

¹H-NMR (D₂O) δ: 6.89 (1H, s), 6.88 (1H, s), 5.93 (1H, d, J = 5.0 Hz), 5.57 (1H, d, J = 5.0 Hz), 4.65 (1H, d, J = 14.3 Hz), 4.03 (1H, d, J = 17.3 Hz), 3.91 (1H, d, J = 14.3 Hz), 3.64 (1H, d, J = 17.3 Hz), 3.40-3.31 (3H, m), 3.29-3.26 (2H, m), 3.17-3.05 (3H, m), 1.87-1.79 (6H, m), 1.55 (3H, s), 1.53 (3H, s).
MS (m+1) = 803.24

（実施例９１）
化合物Ｉ−９１

¹H-NMR (D₂O) δ: 6.93 (1H, d, J = 8.4 Hz), 6.87 (1H, d, J = 8.4 Hz), 5.85 (1H, d, J = 5.2 Hz), 5.52 (1H, d, J = 5.2 Hz), 4.98 (1H, t, J = 6.9 Hz), 4.87 (1H, d, J = 14.6 Hz), 4.14 (1H, d, J = 14.6 Hz), 4.04 (1H, d, J = 16.9 Hz), 3.73 (1H, d, J = 16.9 Hz), 3.57-3.30 (8H, m), 2.77 (2H, d, J = 6.9 Hz), 2.14-1.96 (3H, m), 1.49-1.44 (1H, m).
MS (m+1) = 839.86

（実施例９２）
化合物Ｉ−９２

¹H-NMR (D₂O) δ: 6.98 (1H, s), 6.92 (1H, d, J = 8.4 Hz), 6.88 (1H, d, J = 8.4 Hz), 5.84 (1H, d, J = 4.9 Hz), 5.55 (1H, d, J = 4.9 Hz), 4.99-4.89 (2H, m), 4.19 (1H, d, J = 13.9 Hz), 4.04 (1H, d, J = 16.9 Hz), 3.73-3.61 (2H, m), 3.52-3.44 (1H, m), 3.23-3.16 (1H, m), 3.07 (3H, s), 2.92 (3H, s), 2.73-2.70 (2H, m).
元素分析：C28H28ClN11O10S2Na2(H2O)6
計算値：C,36.07; H,4.32; Cl,3.80; N,16.53; S,6.88; Na, 4.93 (%)
実験値：C,36.04; H,4.32; Cl,3.87; N,16.70; S,6.92; Na, 4.64 (%)

（実施例９３）
化合物Ｉ−９３

¹H-NMR (D₂O) δ: 7.00 (1H, s), 6.91 (1H, d, J = 8.3 Hz), 6.88 (1H, d, J = 8.3 Hz), 5.85 (1H, d, J = 5.0 Hz), 5.54 (1H, d, J = 5.0 Hz), 4.99-4.96 (1H, m), 4.65 (1H, d, J = 13.9 Hz), 3.98 (2H, t, J = 15.1 Hz), 3.65 (1H, d, J = 17.6 Hz), 3.39-3.30 (5H, m), 3.15-3.10 (3H, m), 2.71 (2H, d, J = 6.7 Hz), 1.90-1.81 (6H, m).
MS (m+1) = 832.19

（実施例９４）
化合物Ｉ−９４

¹H-NMR (D₂O) δ: 6.92 (1H, d, J = 8.3 Hz), 6.89 (1H, d, J = 8.3 Hz), 5.85 (1H, d, J = 5.0 Hz), 5.53 (1H, d, J = 5.0 Hz), 5.00 (1H, t, J = 6.7 Hz), 4.65 (1H, d, J = 13.9 Hz), 3.98 (2H, t, J = 15.1 Hz), 3.65 (1H, d, J = 17.6 Hz), 3.41-3.29 (5H, m), 3.17-3.10 (3H, m), 2.73 (2H, d, J = 6.7 Hz), 1.90-1.81 (6H, m).
MS (m+1) = 866.15

（実施例９５）
化合物Ｉ−９５

¹H-NMR (D₂O) δ: 6.97 (1H, s), 6.89 (2H, dd, J = 12.2, 8.5 Hz), 5.42 (1H, d, J = 2.5 Hz), 5.11 (1H, d, J = 2.5 Hz), 4.91 (1H, dd, J = 11.3, 2.9 Hz), 4.26 (1H, d, J = 13.8 Hz), 4.11 (1H, d, J = 17.1 Hz), 3.93 (1H, d, J = 13.9 Hz), 3.62 (1H, d, J = 17.3 Hz), 3.45-3.33 (3H, m), 3.30 (2H, s), 3.20-3.07 (3H, m), 2.76 (1H, dd, J = 15.6, 3.1 Hz), 2.57 (1H, dd, J = 15.6, 11.2 Hz), 1.91-1.81 (6H, m).
MS (m+1) = 832.19

（実施例９６）
化合物Ｉ−９６

¹H-NMR (D₂O) δ: 6.89 (2H, s), 5.85 (1H, d, J = 5.1 Hz), 5.54 (1H, d, J = 5.1 Hz), 5.00 (1H, t, J = 6.6 Hz), 4.63 (1H, d, J = 14.1 Hz), 4.14-4.05 (4H, m), 3.73 (1H, d, J = 16.9 Hz), 3.63 (1H, br s), 2.93 (3H, s), 2.74-2.72 (4H, m), 2.62-2.58 (1H, m), 2.32-2.30 (2H, m), 2.11-2.04 (3H, m).
MS (m+1) = 865.99

（実施例９７）
化合物Ｉ−９７

¹H-NMR (D₂O) δ: 6.96-6.93 (1H, m), 6.82-6.78 (1H, m), 5.86 (1H, d, J = 4.8 Hz), 5.56-5.50 (1H, m), 5.00-4.98 (1H, m), 4.26-4.05 (3H, m), 3.78-2.96 (9H, m), 2.75-2.75 (2H, m), 2.24-1.60 (5H, m).
MS (m+1) = 851.99

（実施例９８）
化合物Ｉ−９８

¹H-NMR (D₂O) δ: 6.93-6.90 (2H, m), 6.78-6.68 (1H, m), 5.90-5.90 (1H, m), 5.60-5.54 (1H, m), 4.32-3.95 (3H, m), 3.57-3.15 (10H, m), 2.36-1.61 (4H, m), 1.51 (6H, d, J = 11.0 Hz).
MS (m+1) = 788.02

（実施例９９）
化合物Ｉ−９９

¹H-NMR (D₂O) δ: 7.19-7.09 (2.1H, m), 6.99 (0.9H, s), 5.86 (1.1H, d, J = 5.0 Hz), 5.56 (1.0H, d, J = 5.0 Hz), 4.98 (1.0H, dd, J = 8.7, 4.6 Hz), 4.86 (2.2H, d, J = 14.4 Hz), 4.16 (1.0H, d, J = 14.4 Hz), 4.06 (1.0H, d, J = 17.0 Hz), 3.76 (1.2H, d, J = 17.0 Hz), 3.62-3.26 (8.6H, m), 2.74-2.69 (2.0H, m), 2.05-1.98 (3.4H, m), 1.51-1.49 (0.9H, m).
MS (m+1) = 790.03

（実施例１００）
化合物Ｉ−１００

¹H-NMR (D₂O) δ: 7.16-7.13 (2H, m), 5.87 (1H, d, J = 5.0 Hz), 5.55 (1H, d, J = 5.0 Hz), 5.00 (1H, t, J = 6.5 Hz), 4.87 (2H, d, J = 14.4 Hz), 4.16 (1H, t, J = 14.4 Hz), 4.06 (1H, d, J = 16.9 Hz), 3.76 (1H, d, J = 16.9 Hz), 3.62-3.26 (9H, m), 2.74 (2H, d, J = 6.8 Hz), 2.18-1.93 (3H, m), 1.51-1.49 (1H, m).
MS (m+1) = 824.02

（実施例１０１）
化合物Ｉ−１０１

¹H-NMR (D₂O) δ: 6.94 (2H, d, J = 8.4 Hz), 6.90 (2H, d, J = 8.4 Hz), 5.86 (1H, d, J = 5.0 Hz), 5.55 (1H, d, J = 5.0 Hz), 4.99 (1H, t, J = 6.6 Hz), 4.92 (1H, d, J = 13.9 Hz), 4.19 (1H, d, J = 13.9 Hz), 4.05 (1H, d, J = 17.1 Hz), 3.76-3.59 (3H, m), 3.55-3.42 (1H, m), 3.22-3.15 (1H, m), 3.08 (3H, s), 2.92 (3H, s), 2.75 (2H, d, J = 6.6 Hz).
MS (m+1) = 813.90

（実施例１０２）
化合物Ｉ−１０２

¹H-NMR (D₂O) δ: 7.14 (1H, t, J = 8.7 Hz), 6.98 (1H, s), 6.78 (1H, d, J = 8.7 Hz), 5.87 (1H, d, J = 5.0 Hz), 5.56 (1H, d, J = 5.0 Hz), 4.98 (1H, dd, J = 8.9, 4.8 Hz), 4.87 (1H, d, J = 14.4 Hz), 4.15 (1H, d, J = 14.4 Hz), 4.07 (1H, d, J = 16.9 Hz), 3.76 (1H, d, J = 16.9 Hz), 3.62-3.23 (8H, m), 2.71 (2H, t, J = 4.8 Hz), 2.09-2.03 (3H, m), 1.53-1.51 (1H, m).
MS (m+1) = 790.00

（実施例１０３）
化合物Ｉ−１０３

¹H-NMR (D₂O) δ: 7.15 (1H, t, J = 8.8 Hz), 6.79 (1H, d, J = 8.8 Hz), 5.87 (1H, d, J = 5.0 Hz), 5.55 (1H, d, J = 5.0 Hz), 5.00 (1H, t, J = 6.7 Hz), 4.86 (2H, d, J = 14.3 Hz), 4.15 (1H, d, J = 14.3 Hz), 4.06 (1H, d, J = 17.1 Hz), 3.75 (1H, d, J = 17.1 Hz), 3.62-3.20 (8H, m), 2.75 (2H, d, J = 6.7 Hz), 2.15-1.92 (3H, m), 1.51-1.49 (1H, m).
MS (m+1) = 823.98

（実施例１０４）
化合物Ｉ−１０４

¹H-NMR (D₂O) δ: 7.13-7.11 (2H, m), 5.92 (1H, d, J = 5.0 Hz), 5.58 (1H, d, J = 5.0 Hz), 4.88 (1H, d, J = 14.4 Hz), 4.11 (2H, t, J = 15.2 Hz), 3.75 (1H, d, J = 17.1 Hz), 3.56-3.24 (8H, m), 2.13-1.93 (3H, m), 1.53 (3H, s), 1.50 (3H, s), 1.42-1.25 (1H, m).
MS (m+1) = 794.03

（実施例１０５）
化合物Ｉ−１０５

¹H-NMR (D₂O) δ: 7.00-6.87 (1H, m), 6.94-6.92 (1H, m), 6.85-6.72 (1H, m), 5.59-5.52 (1H, m), 5.04-4.97 (1H, m), 4.30-4.22 (1H, m), 4.17-3.92 (2H, m), 3.76-2.98 (9H, m), 2.44-1.57 (4H, m), 1.53 (3H, s), 1.50 (3H, s), 1.43-1.21 (1H, m).
MS (m+1) = 821.93

（実施例１０６）
化合物Ｉ−１０６

¹H-NMR (D₂O) δ: 7.15 (1H, t, J = 8.7 Hz), 6.78 (1H, d, J = 8.7 Hz), 5.93 (1H, d, J = 5.0 Hz), 5.58 (1H, d, J = 5.0 Hz), 4.14 (1H, d, J = 13.8 Hz), 4.10 (1H, d, J = 17.1 Hz), 3.76 (1H, d, J = 17.1 Hz), 3.59-3.25 (8H, m), 2.18-1.90 (3H, m), 1.52 (3H, s), 1.50 (3H, s), 1.47-1.39 (1H, m).
MS (m+1) = 793.92

（実施例１０７）
化合物Ｉ−１０７

¹H-NMR (D₂O) δ: 7.15-7.10 (1H, br m), 6.76 (1H, d, J = 8.6 Hz), 5.94 (1H, d, J = 5.1 Hz), 5.59 (1H, d, J = 5.1 Hz), 4.87 (1H, d, J = 14.7 Hz), 4.15-4.08 (2H, m), 3.75 (1H, d, J = 16.9 Hz), 3.59-3.24 (8H, m), 2.11-1.92 (3H, m), 1.55 (3H, s), 1.53 (3H, s), 1.46-1.36 (1H, m).
MS (m+1) = 761.05

（実施例１０８）
化合物Ｉ−１０８

¹H-NMR (D₂O) δ: 7.15-7.08 (2H, m), 5.94 (1H, d, J = 5.1 Hz), 5.59 (1H, d, J = 5.1 Hz), 4.87 (1H, d, J = 14.4 Hz), 4.16-4.07 (2H, m), 3.76 (1H, d, J = 16.9 Hz), 3.56-3.30 (8H, m), 2.16-1.89 (3H, m), 1.55 (3H, s), 1.53 (3H, s), 1.45-1.36 (1H, m).
MS (m+1) = 760.98

（実施例１０９）
化合物Ｉ−１０９

¹H-NMR (D₂O) δ: 8.63 (1H, s), 7.37 (1H, s), 7.21 (1H, s), 6.81 (1H, s), 5.93 (1H, d, J = 4.8 Hz), 5.45 (1H, d, J = 4.8 Hz), 5.41 (1H, d, J = 16.6 Hz), 5.10 (1H, d, J = 16.6 Hz), 3.48 (2H, d, J = 18.2 Hz), 3.42 (2H, d, J = 18.2 Hz), 2.29 (3H, s), 1.53 (3H, s), 1.50 (3H, s).
MS (m+1) = 668.03

（実施例１１０）
化合物Ｉ−１１０

¹H-NMR (D₂O) δ: 6.96-6.89 (1H, m), 6.77-6.68 (1H, m), 5.96-5.93 (1H, m), 5.60-5.56 (1H, m), 5.08-4.88 (1H, m), 4.28-4.14 (1H, m), 4.07 (1H, t, J = 16.1 Hz), 3.92-3.78 (1H, m), 3.76-3.39 (5H, m), 3.31-2.81 (7H, m), 1.55 (3H, s), 1.53 (3H, s).
MS (m+1) = 763.00

（実施例１１１）
化合物Ｉ−１１１

¹H-NMR (D₂O) δ: 6.87-6.73 (2H, m), 5.92 (1H, d, J = 5.0 Hz), 5.58 (1H, d, J = 5.0 Hz), 4.97 (1H, d, J = 14.3 Hz), 4.26 (1H, d, J = 14.3 Hz), 4.08-3.07 (11H, m), 1.96 (3H, dd, J = 70.3, 49.0 Hz), 1.55 (3H, s), 1.53 (3H, s), 1.38 (1H, d, J = 15.7 Hz).
MS (m+1) = 773.08

（実施例１１２）
化合物Ｉ−１１２

¹H-NMR (D₂O) δ: 6.98-6.88 (1H, m), 6.83-6.72 (1H, m), 5.98-5.90 (1H, m), 5.61-5.53 (1H, m), 4.35-2.93 (13H, m), 2.44-1.78 (3H, m), 1.55 (3H, s), 1.53 (3H, s), 1.43-1.28 (1H, m).
MS (m+1) = 789.02

（実施例１１３）
化合物Ｉ−１１３

¹H-NMR (D₂O) δ: 8.60 (1H, s), 7.75 (1H, d, J = 6.9 Hz), 7.55 (1H, d, J = 6.9 Hz), 7.21 (1H, s), 6.89 (1H, s), 5.94 (1H, d, J = 4.9 Hz), 5.47 (1H, d, J = 4.9 Hz), 5.26 (1H, d, J = 15.1 Hz), 5.12 (1H, d, J = 15.1 Hz), 3.62 (1H, d, J = 17.9 Hz), 3.42 (1H, d, J = 17.9 Hz), 1.51 (3H, s), 1.49 (3H, s).
MS (m+1) = 653.99

（実施例１１４）
化合物Ｉ−１１４

¹H-NMR (D₂O) δ: 8.82 (2H, d, J = 6.1 Hz), 8.00 (2H, d, J = 6.1 Hz), 7.03 (1H, d, J = 8.4 Hz), 6.88 (1H, d, J = 8.4 Hz), 5.94 (1H, d, J = 5.0 Hz), 5.50 (1H, d, J = 5.0 Hz), 5.46 (1H, d, J = 15.3 Hz), 5.39 (1H, d, J = 15.3 Hz), 3.73 (1H, d, J = 18.1 Hz), 3.43 (1H, d, J = 18.1 Hz), 1.51 (3H, s), 1.50 (3H, s).
MS (m+1) = 770.99

（実施例１１５）
化合物Ｉ−１１５

¹H-NMR (D₂O) δ: 8.63 (1H, br s), 8.19 (1H, br s), 7.63 (1H, br s), 6.99-6.91 (2H, m), 5.98 (1H, d, J = 4.6 Hz), 5.66-5.54 (1H, m), 5.49 (1H, d, J = 4.6 Hz), 5.31 (1H, d, J = 15.7 Hz), 4.04 (1H, br s), 3.66-3.43 (3H, m), 3.09-2.95 (1H, m), 2.89-2.74 (1H, br m), 2.22-1.95 (2H, br m), 1.54 (3H, s), 1.52 (3H, s).
MS (m+1) = 797.02

（実施例１１６）
化合物Ｉ−１１６

¹H-NMR (D₂O) δ: 8.59 (2H, br s), 8.02 (2H, br s), 7.07 (1H, d, J = 8.2 Hz), 6.80 (1H, d, J = 8.2 Hz), 5.93 (1H, d, J = 4.4 Hz), 5.48 (1H, d, J = 4.4 Hz), 5.25 (2H, s), 3.70 (1H, d, J = 17.7 Hz), 3.41 (1H, d, J = 17.7 Hz), 1.48 (3H, s), 1.47 (3H, s).
MS (m+1) = 756.98

（実施例１１７）
化合物Ｉ−１１７

¹H-NMR (D₂O) δ: 7.07-7.00 (2H, m), 5.94 (1H, d, J = 5.0 Hz), 5.59 (1H, d, J = 5.0 Hz), 4.65 (1H, d, J = 13.9 Hz), 4.16-3.93 (4H, m), 3.75 (1H, d, J = 17.4 Hz), 3.64 (1H, br s), 2.93 (3H, s), 2.82-2.00 (8H, m), 1.56 (3H, s), 1.54 (3H, s).
MS (m+1) = 787.04

（実施例１１８）
化合物Ｉ−１１８

¹H-NMR (D₂O) δ: 6.93 (1H, d, J = 8.3 Hz), 6.87 (1H, d, J = 8.3 Hz), 5.93 (1H, d, J = 5.0 Hz), 5.59 (1H, d, J = 5.0 Hz), 4.93 (1H, d, J = 14.4 Hz), 4.20 (1H, d, J = 14.4 Hz), 4.10 (1H, d, J = 17.2 Hz), 3.74 (1H, d, J = 17.2 Hz), 3.61-3.51 (2H, m), 3.46-3.24 (4H, m), 3.14-3.02 (2H, m), 1.94-1.43 (12H, m).
MS (m+1) = 791.29

（実施例１１９）
化合物Ｉ−１１９

¹H-NMR (D₂O) δ: 7.29 (1H, br s), 7.14 (1H, br s), 5.93 (1H, d, J = 5.1 Hz), 5.58 (1H, t, J = 5.1 Hz), 4.16-4.02 (2H, m), 3.82-3.16 (10H, m), 2.14-1.87 (3H, m), 1.54 (3H, s), 1.52 (3H, s), 1.41-1.34 (1H, m).
MS (m+1) = 777.04

（実施例１２０）
化合物Ｉ−１２０

¹H-NMR (D₂O) δ: 6.97-6.89 (1H, m), 6.82-6.71 (1H, m), 5.95-5.90 (1H, m), 5.61-5.57 (1H, m), 5.01-4.86 (1H, m), 4.75-4.47 (1H, m), 4.12-3.98 (2H, m), 3.74-3.60 (2H, m), 3.52-3.43 (3H, m), 3.24-2.58 (9H, m), 2.32-1.65 (2H, m), 1.55 (3H, s), 1.53 (3H, s), 1.46-1.21 (1H, m).
MS (m+1) = 791.04

（実施例１２１）
化合物Ｉ−１２１

¹H-NMR (D₂O) δ: 8.56 (1H, s), 7.24 (1H, s), 7.06 (1H, s), 6.89 (1H, s), 6.70 (1H, s), 5.89 (1H, d, J = 4.8 Hz), 5.39-5.33 (2H, m), 5.05 (1H, d, J = 15.8 Hz), 3.42 (1H, d, J = 18.2 Hz), 3.36 (1H, d, J = 18.2 Hz), 2.26 (3H, s), 1.49 (3H, s), 1.45 (3H, s).
MS (m+1) = 667.02

（実施例１２２）
化合物Ｉ−１２２

¹H-NMR (D₂O) δ: 6.87-6.77 (2H, m), 5.94 (1H, d, J = 5.1 Hz), 5.59 (1H, d, J = 5.1 Hz), 4.92 (1H, d, J = 14.4 Hz), 4.20 (1H, d, J = 14.4 Hz), 4.11 (1H, d, J = 17.2 Hz), 3.79-3.72 (1H, m), 3.65-3.50 (2H, m), 3.41-3.28 (4H, m), 3.14-3.05 (2H, m), 1.89-1.61 (4H, m), 1.55 (3H, s), 1.53 (3H, s), 1.37 (1H, d, J = 14.9 Hz).
元素分析：C30H32ClN12O8S2Na1.5(H2O)6.6
計算値：C,38.27; H,4.84; Cl,3.77; N,17.85; S,6.81; Na, 3.66 (%)
実験値：C,38.36; H,4.96; Cl,3.94; N,17.75; S,6.75; Na, 3.60 (%)

（実施例１２３）
化合物ＩＩ−１の合成

化合物１Kの調製

工程（１）：化合物１A→化合物１B
既知化合物１A（100mg, 0.252mmol）を1,4-ジオキサン（1mL）に溶解させ、二炭酸ジ-tert-ブチル（0.076mL, 0.328mmol）、炭酸アンモニウム（30.3mg, 0.315mmol）、次いでピリジン(0.010mL, 0.126mmol)を加え、室温で終夜撹拌した。反応液に精製水を加え、水層から酢酸エチル-テトラヒドロフラン混液で抽出した。有機層を精製水、次いで飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムを用いて乾燥した。乾燥剤をろ過により除去し、溶媒を減圧下留去した。析出した固体をろ取し、酢酸エチルで洗浄して化合物１Bを白色固体として得た。（収量75mg, 収率75%）
¹H-NMR (DMSO-d₆) δ: 9.20 (1H, d, J = 7.5 Hz), 7.36 (1H, dt, J = 5.0, 1.1 Hz), 6.97-6.89 (2H, m), 6.72 (1H, s), 5.43 (1H, dd, J = 7.5, 3.7 Hz), 5.15 (1H, d, J = 3.7 Hz), 4.90 (1H, s), 4.64 (2H, dd, J = 18.1, 12.7 Hz), 3.76 (2H, s), 2.02 (3H, s).

工程（２）：化合物１B→化合物１C
化合物１B（13.2g, 33.4mmol）をテトラヒドロフラン（135mL）にけん濁させ、−20℃に冷却した。溶液にピリジン（8.11mL, 100mmol）及び無水トリフルオロ酢酸（7.06mL, 50.1mmol）を加え、−20℃で30分間撹拌した。反応液に精製水を加え、水層から酢酸エチルを用い抽出した。有機層を精製水、次いで飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムを用いて乾燥した。乾燥剤をろ過により除去し、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し化合物１Cを橙色泡状物質として得た。（収量13.88g, 定量的）
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 7.29-7.25 (1H, m), 7.02-6.97 (2H, m), 6.53 (1H, d, J = 1.1 Hz), 6.32 (1H, d, J = 8.2 Hz), 5.72 (1H, dd, J = 8.2, 4.1 Hz), 5.26 (1H, d, J = 1.1 Hz), 5.11 (1H, d, J = 4.1 Hz), 4.73 (1H, d, J = 13.2 Hz), 4.61 (1H, d, J = 13.2 Hz), 3.87 (2H, s), 2.09 (3H, s).

工程（３）：化合物１C→化合物１D
化合物１C（273mg, 0.723mmol）を1,4-ジオキサンに溶解させ、トリメチルシリルアジド（0.192mL, 1.447mmol）、次いでジブチルスズオキサイド（18.01mg, 0.072mmol）を加え90℃で1時間30分間撹拌した。反応液を室温まで冷却し、減圧下溶媒を留去した。残渣に精製水、酢酸エチルを加え抽出した。有機層を精製水、次いで飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムを用いて乾燥した。乾燥剤をろ過により除去し、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し化合物１Dを得た。（収量169.2mg, 収率56%）
¹H-NMR (DMSO-d₆) δ: 9.25 (1H, d, J = 7.8 Hz), 7.36 (1H, dd, J = 4.9, 1.4 Hz), 6.97-6.85 (3H, m), 5.90 (1H, d, J = 1.5 Hz), 5.44 (1H, dd, J = 7.8, 4.0 Hz), 5.14 (1H, d, J = 4.0 Hz), 4.60 (1H, d, J = 12.7 Hz), 4.53 (1H, d, J = 12.7 Hz), 3.77 (2H, s), 1.90 (3H, s).

工程（４）：化合物１D→化合物１E、化合物１F
化合物１D（85mg, 0.243mmol）をテトラヒドロフラン（1mL）に溶解させ、ジフェニルジアゾメタン（47.1mg, 0.243mmol）を加え3時間30分間撹拌した。さらに、ジフェニルジアゾメタン（11.8mg, 0.606mmol）を加え35分間撹拌した。反応液を減圧下で溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、化合物１E（収量72mg, 収率61%）と化合物１Fを得た。ジフェニルメチル基の位置については1H NMRの核オーバーハウザー効果により決定した。
化合物１E 低極性側；
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 7.41-7.12 (13H, m), 7.03-6.91 (2H, m), 6.41 (1H, s), 6.37 (1H, d, J = 9.1 Hz), 5.80 (1H, s), 5.64 (1H, dd, J = 9.1, 4.0 Hz), 5.26 (1H, d, J = 4.0 Hz), 4.51 (1H, d, J = 12.8 Hz), 4.39 (1H, d, J = 12.8 Hz), 3.86 (2H, s), 1.89 (3H, s)
化合物１F 高極性側；
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 7.42-7.33 (5H, m), 7.28-7.18 (4H, m), 7.13 (2H, dd, J = 6.6, 3.0 Hz), 7.02-6.95 (2H, m), 6.90 (1H, s), 6.57 (1H, d, J = 1.4 Hz), 6.30 (1H, d, J = 9.1 Hz), 5.80 (1H, d, J = 1.4 Hz), 5.01 (1H, dd, J = 9.1, 4.0 Hz), 4.64 (1H, d, J = 12.8 Hz), 4.58 (1H, d, J = 4.0 Hz), 4.51 (1H, d, J = 12.8 Hz), 3.82 (2H, s), 1.80 (3H, s).

工程（５）：化合物１E→化合物１H
五塩化リン（1.249g, 6.00mmol）を塩化メチレン（15mL）にけん濁させ、０℃に冷却した。そのけん濁液にピリジン（0.53mL, 6.60mmol）、次いで化合物１E（1.689g, 3.00mmol）を加え、0℃で40分間撹拌した後、室温に昇温し、数分間撹拌した。反応液を0℃に冷却し、メタノール（13.3mL, 328mmol）を一気に加え、室温に昇温した。反応液に精製水（130mL）を加え、水層から塩化メチレンで抽出した。
塩化メチレン層を重曹水、次いで飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤をろ過により除去し、有機層に4mol/L 塩酸-酢酸エチル溶液（2.25ｍL, 9mmol）を加え、室温で３時間15分間撹拌した。反応液を減圧下溶媒を留去し、化合物１Hをゼリー状物質として得た。（収量2.02g, 収率142%）化合物１Hをアセトニトリルにけん濁させ、スパーテルで壁面をこすることで化合物１Hの種結晶を得た。
別途、五塩化リン（9.12g, 43.8mmol）を塩化メチレン（130mL）にけん濁させ、０℃に冷却した。そのけん濁液にピリジン（3.90mL, 48.2mmol）、次いで化合物１E（12.8g, 21.9mmol）を加え、室温で45分間撹拌した。反応液を−40℃に冷却し、メタノール（13.3mL, 328mmol）を一気に加え、室温に昇温した。反応液に精製水（130mL）を加え、水層から塩化メチレンで抽出した。
塩化メチレン層を重曹水、次いで飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤をろ過により除去し、有機層に4mol/L 塩酸-ジオキサン溶液（27.4mL, 109mmol）を加え、室温で３時間15分間撹拌した。反応液に1,4-ジオキサン（150mL）を加え、減圧下溶媒を留去し、全量を約30mLとした。得られた溶液にアセトニトリルを100mL加え、上記の化合物１Hの種結晶を加え室温で撹拌した。析出した結晶をろ取し、化合物１Hを得た。（収量7.92g, 収率73%）
¹H-NMR (DMSO-d₆) δ: 8.82 (2H, br s), 7.72 (1H, s), 7.45-7.26 (11H, m), 7.00 (1H, d, J = 1.2 Hz), 5.94 (1H, d, J = 1.2 Hz), 5.19 (1H, d, J = 4.2 Hz), 4.94 (1H, d, J = 4.2 Hz), 4.48 (1H, d, J = 11.8 Hz), 4.16 (1H, d, J = 11.8 Hz).

工程（６）：化合物１Ｈ→化合物１Ｊ
化合物１Ｈを塩化エチレン（40mL）にけん濁させ、−40℃に冷却した。けん濁液に化合物１Ｉ（3.54g, 8.24mmol）を加え、フェニルリン酸ジクロライド（1.85mL, 12.36mmol）を加え、N-メチルモルホリン（3.62mL, 33.0mmol）を滴下し、−40℃で30分間撹拌した。反応液に精製水を加え、水層から酢酸エチルを用い抽出した。得られた有機層を精製水、次いで飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムを用いて乾燥した。乾燥剤をろ過により除去し、溶媒を減圧下留去し、化合物１Ｊを得た。（収量7.8g, 定量的）
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 8.32 (1H, d, J = 8.5 Hz), 7.41-7.15 (16H, m), 6.46 (1H, s), 5.99 (1H, s), 5.79 (1H, dd, J = 8.5, 4.0 Hz), 5.37 (1H, d, J = 4.0 Hz), 5.29 (1H, s), 4.15-4.01 (2H, m), 1.63 (3H, s), 1.60 (3H, s), 1.52 (9H, s), 1.42 (9H, s).

工程（７）：化合物１Ｊ→化合物１Ｋ
化合物１Ｊ（2.30g, 2.7mmol）を塩化メチレン（25mL）に溶解させ、−40℃に冷却した。その溶液にm-クロロ過安息香酸（788mg, 2.97mmol）を加え、−40℃で1時間15分間撹拌した。反応液に亜硫酸水素ナトリウム水溶液を加え、塩化メチレンを減圧下留去した。濃縮液から酢酸エチルで抽出し、有機層を重曹水、精製水、次いで飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤をろ過により除去し、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し化合物１Ｋを得た。（収量1.41g, 収率60%）
化合物１Ｋをエタノールにけん濁させ、スパーテルで壁面に刺激を与えることで結晶を得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 8.08 (1H, br s), 7.90 (1H, d, J = 9.9 Hz), 7.39-7.18 (20H, m), 6.29 (1H, dd, J = 9.7, 5.0 Hz), 5.13 (1H, d, J = 12.4 Hz), 4.73 (1H, d, J = 4.9 Hz), 4.29 (1H, d, J = 12.1 Hz), 3.90 (1H, d, J = 19.0 Hz), 3.50 (1H, d, J = 19.0 Hz), 1.59 (6H, d, J = 7.1 Hz), 1.56 (9H, s), 1.38 (10H, s).

化合物１Ｍの調製
化合物１Ｌの五酢酸和物(14.4 g, 33.7 mmol)に４mol/L塩酸酢酸エチル溶液を加え、室温で30分撹拌し、濃縮、トルエン共沸した。ついで、ここにテトラヒドロフラン(45mL)、エタノール(90mL)を加えた溶液を調製し、氷冷下二炭酸ジ-tert-ブチル(24.2 mL, 104 mmol)を加え、室温で2時間半撹拌した。溶液に、5.3mol/Lナトリウムメトキシド溶液(45.9 mL, 243 mmol)を加え、室温で30分撹拌後シリカゲルを加え濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。所望の化合物を含むフラクションを濃縮、減圧乾燥することで化合物１Ｍ(3.16g, 収率40%)を得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 3.54-3.53 (3H, m), 3.25-3.22 (2H, m), 2.83-2.80 (2H, m), 2.66-2.62 (2H, m), 2.38-2.35 (2H, m), 2.32 (3H, s), 1.45 (9H, s).

化合物１Ｋ＋化合物１Ｍ→化合物１Ｎ
化合物１Ｋ(0.560g, 0.646mmol)のジメチルホルムアミド(1.5 mL)溶液にヨウ化ナトリウム(0.194 g, 1.29 mmol)を加え、15℃で10分間攪拌した後、化合物１Ｍ(0.146 g, 0.646 mmol)を加え15℃で2時間撹拌した。反応液に0.2mol/L塩酸水溶液を加え、酢酸エチルで抽出、水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムを除去し、減圧濃縮することで化合物１Ｎ(0.739g)を得た。得られた化合物１Ｎは精製せずそのまま次の反応に用いた。

化合物１Ｎ→化合物ＩＩ−１
得られた化合物１Ｎ（全量）を塩化メチレン(7.5 ml)に溶解し、−40℃まで冷却した後、三臭化リン (0.177 mL, 1.87 mmol)を加え、−40℃で1時間攪拌した。反応液にアニソール (0.682 mL, 6.24 mmol)、2mol/L 塩化アルミニウム/ニトロメタン溶液 (3.12 mL, 6.24 mmol)を加え−20℃〜0℃で1.5時間攪拌した。反応液に0.2mol/L塩酸水溶液、アセトニトリルを加え不溶物を溶解させた後、ジイソプロピルエーテルで洗浄し、水層にHP-20SS樹脂を加え濃縮後、ODSカラムクロマトグラフィーに付し、水-アセトニトリルで溶離させた。所望の化合物を含むフラクションを減圧下濃縮し凍結乾燥して化合物ＩＩ−１(0.140 g, 0.227 mmol)を白色粉末として得た。
MS : 618.34 (M+H)
¹H-NMR (DMSO-d₆) δ: 10.07-10.03 (1H, m), 7.27 (2H, br s), 6.76 (1H, s), 5.87 (1H, dd, J = 8.5, 5.1 Hz), 5.61 (1H, d, J = 5.1 Hz), 5.13-5.09 (1H, m), 4.15-2.70 (18H, m), 1.47 (3H, s), 1.40 (3H, s).

（実施例１２４）
化合物ＩＩ−２の合成

化合物２Ｂの調製
化合物２Ｂ(0.300 g, 2.38 mmol)のテトラヒドロフラン(6mL)溶液に、氷冷下二炭酸ジ-tert-ブチル(0.828mL, 3.57 mmol)を加え、室温で2時間撹拌した。この懸濁液をろ過し、メタノールで洗浄し、シリカゲルを加え、濃縮した。その後シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。所望の化合物を含むフラクションを濃縮、減圧乾燥することで化合物２Ｂ(0.262g, 収率49%)を得た。
¹H-NMR (DMSO-d₆) δ: 4.07-4.01 (1H, m), 3.49 (2H, t, J = 5.8 Hz), 2.89-2.77 (6H, m), 1.88-1.79 (2H, m), 1.62-1.51 (2H, m), 1.39 (9H, s).

化合物１Ｋ＋化合物２Ｂ→化合物２Ｃ→化合物ＩＩ−２
化合物１Ｋ(0.560g, 0.646mmol)を化合物ＩＩ−１の合成と同様に処理することで、化合物２Ｃ (0.141g, 収率35%)を得た。
MS : 618.31 (M+H)
¹H-NMR (DMSO-d₆) δ: 9.96 (1H, br s), 7.27 (2H, br s), 6.75 (1H, s), 5.86 (1H, dd, J = 8.1, 5.2 Hz), 5.43 (1H, d, J = 5.2 Hz), 5.15 (1H, d, J = 12.6 Hz), 4.12-1.96 (18H, m), 1.46 (3H, s), 1.41 (3H, s).

（実施例１２５）
ＩＩ−３の合成

化合物３Ｂの調製
化合物３Ａ(1.00 g, 10.0 mmol)のテトラヒドロフラン(10 mL)溶液に、氷冷下二炭酸ジ-tert-ブチル(3.48 mL, 15.0 mmol)を加え、室温で2時間撹拌した。この溶液を濃縮した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。所望の化合物を含むフラクションを濃縮、減圧乾燥することで化合物３Ｂ(2.15g, 収率定量的)を得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 3.44 (4H, t, J = 5.0 Hz), 2.34 (4H, t, J = 5.0 Hz), 2.29 (3H, s), 1.46 (9H, s).

化合物１Ｋ＋化合物３Ｂ→化合物３Ｃ→化合物ＩＩ−３
化合物１Ｋ(0.693g, 0.800mmol)と化合物３Ｃを化合物ＩＩ−１の合成と同様に処理することで、化合物ＩＩ−３(0.172g, 収率36%)を得た。
MS : 592.27 (M+H)
¹H-NMR (DMSO-d₆) δ: 9.50 (1H, d, J = 7.5 Hz), 7.29-7.19 (3H, m), 6.73 (1H, s), 5.83 (1H, dd, J = 8.3, 5.1 Hz), 5.42 (1H, d, J = 5.1 Hz), 5.25-5.21 (1H, m), 4.07-3.04 (12H, m), 2.22 (3H, s), 1.46-1.43 (6H, m).

（実施例１２６）
化合物ＩＩ−４の合成

化合物４Ｉの調製

工程（１）：化合物４Ａ→化合物４Ｂ
化合物４Ａ(54.5 g, 200 mmol)及び炭酸水素ナトリウム(42.0 g, 500 mmol)を水(1000 mL)/アセトン(400 mL)の混合液に溶解させた後、氷冷下、クロロギ酸アリル(25.6 mL, 240 mmol)を加えた。氷冷下で30分間攪拌した後、室温で１時間攪拌した。反応液を減圧下で濃縮した後、酢酸エチルで希釈し、水で抽出した。水層を酸性とし、酢酸エチルで抽出し、飽和食塩水で洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムをろ過した後、減圧下で濃縮し化合物４Ｂ(66.39 g, 93%)を得た。
¹H-NMR (DMSO-d₆) δ: 8.42 (1H, d, J = 8.73 Hz), 5.97-5.85 (1H, m), 5.54 (1H, dd, J = 8.73, 4.84 Hz), 5.30 (1H, dd, J = 17.23, 1.53 Hz), 5.20 (1H, dd, J = 10.37, 1.53 Hz), 5.08 (1H, d, J = 4.84 Hz), 4.98 (1H, d, J = 12.73 Hz), 4.68 (1H, d, J = 12.73 Hz), 4.53 (2H, d, J = 5.19 Hz), 3.62 (1H, d, J = 18.07 Hz), 3.48 (1H, d, J = 18.07 Hz), 2.03 (3H, s).

工程（２）：化合物４Ｂ→化合物４Ｃ
化合物４Ｂ(65.0 g, 182 mmol)を塩化メチレン(650 mL)に懸濁させた後、氷冷下１−クロロ-N,N,2-トリメチル-1-プロペニルアミン(29.0 mL, 219 mmol)を加え、氷冷下で30分間攪拌した。反応液を−60℃に冷却した後、4-メトキシベンジルアミン(59.6 mL, 456 mmol)の塩化メチレン(60 mL)溶液を滴下した。反応液に塩化メチレン(200 mL)を加えた後、−60℃〜−50℃で10分間攪拌した。反応液を塩化メチレン/アセトニトリルで希釈し、有機層を塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムをろ過した後、減圧下で濃縮し、塩化メチレン/ジイソプロピルエーテルを加え、析出した結晶をろ取し、化合物４Ｃ(73.94 g, 85%)を得た。
¹H-NMR (DMSO-d₆) δ: 8.76 (1H, t, J = 5.68 Hz), 8.46 (1H, d, J = 8.85 Hz), 7.23 (2H, d, J = 8.39 Hz), 6.85 (2H, d, J = 8.24 Hz), 5.96-5.85 (1H, m), 5.40 (1H, dd, J = 8.85, 4.80 Hz), 5.30 (1H, d, J = 17.23 Hz), 5.20 (1H, d, J = 10.37 Hz), 5.02 (1H, d, J = 4.80 Hz), 4.94 (1H, d, J = 12.58 Hz), 4.71 (1H, d, J = 12.58 Hz), 4.54 (2H, d, J = 5.68 Hz), 4.36 (1H, dd, J = 14.83, 5.76 Hz), 4.24 (1H, dd, J = 14.83, 5.76 Hz), 3.72 (3H, s), 3.56 (1H, d, J = 17.62 Hz), 3.43 (1H, d, J = 17.62 Hz), 2.02 (3H, s).

工程（３）：化合物４Ｃ→化合物４Ｄ
化合物４Ｃ(39.0 g, 82 mmol)とピリジン(23.17 mL, 287 mmol)を塩化メチレン(400 mL)に懸濁させた後、氷冷下でトリホスゲン(12.17 g, 41 mmol)を加え、氷冷下で30分間攪拌した。氷冷下でトリメチルシリルアジド(12.17 g, 41 mmol)、メタノール(8.32 mL, 205 mmol)を加え、室温で一晩放置した。反応液を塩化メチレンで希釈し、有機層を塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムをろ過した後、減圧下で濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサン/酢酸エチルで溶離させた。所望の化合物を含む画分を減圧下で濃縮し、化合物４Ｄ(21.29 g, 52%)を得た。
¹H-NMR (DMSO-d₆) δ: 8.47 (1H, d, J = 8.85 Hz), 7.25 (2H, d, J = 8.54 Hz), 6.92 (2H, d, J = 8.54 Hz), 5.98-5.85 (1H, m), 5.61-5.56 (3H, m), 5.27-5.33 (2H, m), 5.20 (1H, d, J = 9.30 Hz), 4.54 (2H, d, J = 5.34 Hz), 4.31 (1H, d, J = 12.73 Hz), 4.18 (1H, d, J = 12.73 Hz), 3.74 (3H, s), 3.66 (1H, d, J = 18.00 Hz), 3.57 (1H, d, J = 18.00 Hz), 1.90 (3H, s).

工程（４）：化合物４Ｄ→化合物４Ｅ
化合物４Ｄ(21.29 g, 42.5 mmol)をテトラヒドロフラン(300 mL)に溶解させた後、3mol/L 硫酸(284 mL, 851 mmol)を加え、45℃で3時間攪拌した。反応液を酢酸エチルで希釈し、有機層を水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムをろ過した後、減圧下で濃縮し、化合物４Ｅ(19.63 g, 101%)を得た。得られた化合物４Ｅは精製せずそのまま次の反応に用いた。
¹H-NMR (DMSO-d₆) δ: 8.45 (1H, d, J = 9.00 Hz), 7.24 (2H, d, J = 8.62 Hz), 6.91 (2H, d, J = 8.62 Hz), 5.98-5.85 (1H, m), 5.52-5.48 (3H, m), 5.33-5.18 (3H, m), 5.09 (1H, t, J = 5.34 Hz), 4.53 (2H, d, J = 5.19 Hz), 3.74 (3H, s), 3.55-3.60 (4H, m).

工程（５）：化合物４Ｅ→化合物４Ｆ
化合物４Ｅ(19.63 g, 42.8 mmol)とピリジン(5.18 mL, 64.2 mmol)を塩化メチレン(200 mL)に懸濁させた後、氷冷下トリホスゲン(5.08 g, 17.13 mmol)を加え、氷冷下2時間攪拌した。反応液を塩化メチレンで希釈し、有機層を塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムをろ過した後、減圧下で濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサン/酢酸エチルで溶離させた。所望の化合物を含むフラクションを減圧下で濃縮し、ジイソプロピルエーテルで結晶化させ、化合物４Ｆ(9.15 g, 45%)を得た。
¹H-NMR (DMSO-d₆) δ: 8.48 (1H, d, J = 9.00 Hz), 7.24 (2H, d, J = 8.39 Hz), 6.91 (2H, d, J = 8.39 Hz), 5.97-5.85 (1H, m), 5.65-5.52 (3H, m), 5.32-5.27 (2H, m), 5.20 (1H, d, J = 10.37 Hz), 4.53 (2H, d, J = 4.88 Hz), 4.02 (1H, d, J = 11.82 Hz), 3.97 (1H, d, J = 11.82 Hz), 3.73-3.59 (5H, m).

工程（６）：化合物４Ｆ→化合物４Ｇ
化合物４Ｆ(9.15 g, 19.18 mmol)とジメドン(8.07 g, 57.6 mmol)を塩化メチレン(90 mL)に懸濁させた後、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム(1.108 g, 0.959 mmol)を加え、室温で1時間攪拌した。反応液を塩化メチレンで希釈し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムをろ過した後、減圧下で濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサン/酢酸エチルで溶離させた。所望の化合物を含むフラクションを減圧下で濃縮し、酢酸エチル/ジイソプロピルエーテルを加え、析出した結晶をろ取し化合物４Ｇ(4.89 g, 65%)を得た。
¹H-NMR (DMSO-d₆) δ: 7.21 (2H, d, J = 8.46 Hz), 6.90 (2H, d, J = 8.46 Hz), 5.60 (1H, d, J = 14.79 Hz), 5.49 (1H, d, J = 14.79 Hz), 5.19 (1H, d, J = 5.19 Hz), 4.82-4.74 (1H, m), 4.08 (1H, d, J = 12.12 Hz), 4.03 (1H, d, J = 12.12 Hz), 3.72 (3H, s), 3.67 (1H, d, J = 17.92 Hz), 3.57 (1H, d, J = 17.92 Hz), 2.38 (2H, d, J = 9.46 Hz).

工程（７）：化合物４Ｇ＋化合物４Ｈ→化合物４Ｉ
化合物４Ｇ(2.00 g, 5.09 mmol)と化合物４Ｈ(2.30 g, 5.35 mmol)を塩化メチレン(20 mL)に溶解させた後、−40℃に冷却した後ジクロロフェニルリン酸(1.14 mL, 7.64 mmol)を加えた。次いでN-メチルモルホリン(1.68 mL, 15.27 mmol)を−40℃で滴下し、−40℃〜−30℃で2時間攪拌した。反応液を塩化メチレンで希釈し、0.2mol/L塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムをろ過した後、減圧下で濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサン/酢酸エチルで溶離させた。所望の化合物を含むフラクションを減圧下で濃縮し、化合物４Ｉ(3.54 g, 87%)を得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 8.38 (1H, d, J = 8.66 Hz), 8.19 (1H, br s), 7.31 (1H, s), 7.15 (2H, d, J = 8.69 Hz), 6.87 (2H, d, J = 8.69 Hz), 5.91 (1H, dd, J = 8.66, 4.99 Hz), 5.62 (1H, d, J = 15.10 Hz), 5.44 (1H, d, J = 15.10 Hz), 5.00 (1H, d, J = 4.99 Hz), 3.96 (1H, d, J = 12.20 Hz), 3.78 (3H, s), 3.73 (1H, d, J = 12.20 Hz), 3.64 (1H, d, J = 18.00 Hz), 3.39 (1H, d, J = 18.00 Hz), 1.63 (3H, s), 1.55 (3H, s), 1.53 (9H, s), 1.39 (9H, s).

化合物４Ｉ＋化合物４Ｊ→化合物ＩＩ−４
化合物４Ｉ(804 mg, 1.00 mmol)のジメチルホルムアミド(2 mL)溶液にヨウ化ナトリウム(300 mg, 2.00 mmol)を加え、室温で5分間攪拌した。0℃まで冷却した後、化合物４Ｊ(382 mg, 1.00 mmol)を加えた後、0〜10℃で5時間攪拌した。反応混合物を氷冷したチオ硫酸ナトリウム(1 g) を含む5%食塩水(20 mL)にゆっくりと加えた。析出した固体をろ取し、水洗した後、水に懸濁させ、凍結乾燥することにより化合物４Ｋを淡黄色固体として得た。得られた化合物４Ｋは精製せずそのまま次の反応に用いた。
得られた化合物４Ｋ（全量）を塩化メチレン(10 mL)に溶かし、−40℃まで冷却した後、アニソール(2.49 mL, 22.5 mmol)と2mol/L塩化アルミニウム/ニトロメタン溶液(7.50 mL, 15.0 mmol)を順に加え、0℃で1時間攪拌した。反応液を水、２mol/L塩酸水溶液、アセトニトリルに溶解させた後、ジイソプロピルエーテルで洗浄した。水層にHP20-SS樹脂を加えアセトニトリルを減圧留去した。得られた混合液をODSカラムクロマトグラフィに付し、水/アセトニトリルで溶離させた。得られた目的化合物の溶液を減圧濃縮した後、凍結乾燥することにより化合物ＩＩ−４を白色粉末として得た。
収量 183.0 mg, (22%)
¹H-NMR (D₂O) δ: 6.95 (1H, s), 5.90 (1H, d, J = 4.80 Hz), 5.57 (1H, d, J = 4.80 Hz), 4.63 (1H, d, J = 14.95 Hz), 4.12-3.99 (3H, m), 3.87-3.82 (1H, m), 3.72 (1H, d, J = 16.47 Hz), 3.64-3.61 (1H, m), 2.89 (3H, br s), 2.78-2.51 (2H, m), 2.31-2.21 (2H, m), 2.10-1.94 (3H, m), 1.52 (3H, s), 1.49 (3H, s).
元素分析：C26H35N13O5S2(H2O)5.2
計算値：C,40.69; H,5.96; N,23.73; S,8.36 (%)
実験値：C,40.53; H,5.71; N,23.78; S,8.60 (%)

（実施例１２７）
化合物ＩＩ−５の合成

化合物４Ｉ＋化合物５Ａ→化合物ＩＩ−５
化合物４Ｉ(693 mg, 0.80 mmol)と化合物５Ａ(268 mg, 0.88 mmol)のジメチルホルムアミド(1.5 mL)溶液を0℃まで冷却した後、ヨウ化ナトリウム(240 mg, 1.60 mmol)を加え、0〜10℃で6時間攪拌した。ジメチルホルムアミド(4.5 mL)を加えた後、−40℃に冷却し、三臭化リン(151 μL, 1.60 mmol)を加え、−40℃で30分間攪拌した。反応混合物を氷冷したチオ硫酸ナトリウム(1 g) を含む5%食塩水(20 mL)にゆっくりと加えた。析出した固体をろ取し、水洗した後、水に懸濁させ、凍結乾燥することにより化合物５Ｂを淡黄色固体として得た。得られた５Ｂは精製せずそのまま次の反応に用いた。
得られた化合物５Ｂ（全量）を塩化メチレン(10 mL)に溶かし、−40 ℃まで冷却した後、アニソール(1.57 mL, 14.4 mmol)と2mol/L 塩化アルミニウム/ニトロメタン溶液(4.80 mL, 9.6 mmol)を順に加え、0 ℃で1時間攪拌した。反応液を水、2mol/L塩酸水溶液、アセトニトリルに溶解させた後、ジイソプロピルエーテルで洗浄した。水層にHP20-SS樹脂を加えアセトニトリルを減圧留去した。得られた混合液をODSカラムクロマトグラフィに付し、水/アセトニトリルで溶離させた。得られた目的化合物の溶液を減圧濃縮した後、凍結乾燥することにより化合物ＩＩ−５を淡黄色粉末として得た。
収量 259.6 mg, (43%)
¹H-NMR (D₂O) δ: 6.95 (1H, s), 5.91 (1H, d, J = 4.88 Hz), 5.58 (1H, d, J = 4.88 Hz), 4.66 (1H, d, J = 14.64 Hz), 4.12-4.04 (3H, m), 3.81-3.66 (3H, m), 2.91 (3H, br s), 2.80-2.65 (2H, m), 2.43-1.88 (5H, m), 1.52 (3H, s), 1.49 (3H, s).
元素分析：C25H33N11O5S2(H2O)5.6
計算値：C,40.99; H,6.08; N,21.03; S,8.75 (%)
実験値：C,40.99; H,5.87; N,21.01; S,8.91 (%)

（実施例１２８および実施例１２９）
化合物ＩＩ−６、化合物ＩＩ−７の合成

工程（１）：化合物６Ａ→化合物６Ｂ
化合物６Ａ(26.5g)，ジメトキシベンジルアミン(14.85g)の塩化メチレン(120mL)溶液に氷冷下でWSCD (18.4g)を加えた。室温で3時間攪拌後、酢酸エチルで希釈し、希塩酸、水で洗浄後、濃縮残渣を塩化メチレン／エーテルから結晶化し、化合物６Ｂ(26.4g)を得た。
¹H-NMR (CDCl3) δ: 2.01 (3H, s), 3.41, 3.55 (2H, AB-q), 3.73 (3H, s), 3.76 (3H, s), 4.48-4.52 (2H, m), 4.70, 4.91 (2H, AB-q, J=12.6 Hz), 5.00 (1H, d, J=4.8 Hz), 5.14-5.33 (2H, m), 5.39 (1H, dd, J=4.8, 9.0 Hz), 5.86-5.93 (1H, m), 6.4-6.52 (2H, m), 7.17 (1H, d, J=8.4 Hz), 8.42 (1H, d, J=8.7 Hz), 8.50-8.53 (1H, m)
MS(ESI): 506.5⁺(M+H)⁺

工程（２）：化合物６Ｂ→化合物６Ｃ
化合物６Ｂ(6.5g)を塩化メチレン(100mL)に溶かし、氷冷下、ピリジン(2.06mL)、次いでPCl₅(3.48mL)を加え80分間攪拌した。次いでMeSiN₃(8.53mL)、ピリジン(6.68mL)、メタノール(2.6mL) を順次加えた。室温で1.5時間、40℃で4時間攪拌した。希塩酸、次いで食塩水で洗浄濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトで精製し化合物６Ｃ(4.02g)を得た。
¹H-NMR (CDCl3) δ: 2.01 (3H, s), 3.36, 3.50 (2H, AB-q), 3.75 (3H, s), 3.81 (3H, s), 4.33, 4.41 (2H, AB-q, J=12.9Hz), 4.56-4.63 (2H, m), 4.90 (1H, d, J=4.8 Hz), 5.23-5.58 (3H, m), 5.57 (1H, dd, J=4.8, 12.0 Hz), 5.86-5.59 (1H, m), 6.43-6.50 (3H, m), 7.07 (1H, d, J=8.1Hz)
MS(ESI): 531.4⁺(M+H)⁺

工程（３）：化合物６Ｃ→化合物６Ｄ
化合物６Ｃ(4.00g)とジメドン(3.17g)の塩化メチレン(40mL) 溶液に、室温にてPh₃P (250mg)、次いで(Ph₃P)₄Pd (250mg)を加え2.5時間攪拌した。20mLまで濃縮しNaHCO₃水溶液、水で洗浄し濃縮し化合物６Ｄ(3.31g)を得た。
¹H-NMR (CDCl3) δ: 2.00 (3H, s), 3.73 (3H, s), 3.79 (3H, s), 4.25, 4.33 (2H, AB-q, J=10.5 Hz), 4.92 (1H, d, J = 5.1 Hz), 5.51 (1H, d, J=5.1 Hz), 6.41-6.48 (2H, m), 7.08 (2H, m), 7.62-7.70 (1H, m)
MS(ESI): 448⁺ (M+H)⁺

工程（４）：化合物６Ｄ→化合物６Ｅ
化合物６Ｄ(3.31g)と化合物１Ｈ(3.24g)の塩化メチレン(50mL)溶液にWSCD(1.88g)を加え氷冷下30分間攪拌した。酢酸エチルで希釈し、水、NaHCO₃水溶液、食塩水で洗浄後、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトで精製し、化合物６Ｅ(3.10g)を得た。
¹H-NMR (CDCl3) δ: 1.40 (9H, s), 1.41 (9H, s), 1.61 (3H, s), 1.63 (3H, s), 3.13, 3.47 (2H, AB-q, J=18.0 Hz), 3.75 (3H, s), 3.80 (3H, s), 4.23, 4.37 (2H, AB-q, J=10 Hz), 4.98 (1H, m), 7.70-3.31 (3H, m), 8.28 (1H, d, J = 8.1 Hz),
MS(ESI): 859.8⁺ (M+H)⁺

工程（５）：化合物６Ｅ→化合物ＩＩ−６
化合物６Ｅ(257mg)を塩化メチレン(2mL)に溶かし−60℃に冷却し、Me₃Si-I(0.71mL)を加えた。室温で20分間攪拌し減圧濃縮した。残渣をDMF(2mL)に溶かしピリジン(0.15mL)を加え、室温で1時間攪拌した。イソプロピルエーテル20mLを加え、析出したガム状物質を集めた。これを塩化メチレン(0.5mL)に溶かし、アニソール(0.20mL)を加え、次いでTFA(4mL)を加え40分間攪拌した。溶媒を濃縮し、イソプロピルエーテル(20mL)を加え、析出した沈殿物を濾取し、HP-20カラムクロマトで精製し、溶出液を凍結乾燥して化合物ＩＩ−６(49mg)を得た。
¹H-NMR (d-DMSO) δ: 1.48 (3H, s), 1.50 (3H, s), 3.28, 3.66 (2H, AB-q, J=17.7 Hz), 5.35, 5.43 (2H, AB-q, J=13.8 Hz ), 5.33 (1H, d, J=5.1 Hz), 5.83 (1H, dd, J=5.1, 8.7 Hz), 7.12 (2H, s), 7.59 (1H, s), 8.20-8.24 (2H, m), 8.61-8.66 (2H, m), 9.32-9.44 (3H, m),
MS(ESI): 571.3⁺ (M+H)⁺

工程（６）：化合物６Ｅ→化合物ＩＩ−７
化合物６Ｅ(215mg)を塩化メチレン(2mL)に溶かし−60℃に冷却し、Me₃Si-I(0.21mL)を加えた。室温で20分間攪拌し減圧濃縮した。残渣をDMF(2mL)に溶かしメチルピロリジン(0.07mL)を加えた。室温で1.5時間攪拌、−20℃で2日間放置後、イソプロピルエーテル20mLを加え析出したガム状物質を集めた。これを塩化メチレン(0.5mL)に溶かし、アニソール(0.20mL)を加え、次いでTFA(4mL)を加え40分間攪拌した。溶媒を濃縮しイソプロピルエーテル(20mL)を加え、析出した沈殿物を濾取し、HP-20カラムクロマトで精製し、溶出液を凍結乾燥して化合物ＩＩ−７(31mg)を得た。
¹H-NMR (d6-DMSO) δ: 1.80-2.16 (4H, m), 2.77 (3H, s), 3.05-3.75 (4H, m), 3.70, 3.91 (2H, AB-q, J=17.0 Hz), 4.10, 4.89 (2H, AB-q, J=13.8 Hz), 5.43 (1H, d, J=4.8 Hz), 5.85 (1H, bb, J=4.8, 7.2 Hz), 6.72 (1H, s), 7.20 (2H, bs), 7.30 (1H, bs), 7.60 (1H, s), 9.43 (1H, d, J = 8.7 Hz)
MS(ESI): 577.3⁺(M+H)⁺

（実施例１３０）
化合物ＩＩ−８の合成

工程(1):化合物８Ｂの合成
化合物８Ａ (5.87 g、 10 mmol)を塩化メチレン(50 mL)に溶解し、4mol/L 塩酸/酢酸エチル溶液 (10 mL、40 mmol)を加えた。反応液を室温で2時間30分間攪拌し、減圧下、溶媒を留去した。得られた残渣にジイソプロピルエーテルを加え、析出した固体を濾取する事により化合物８Ｂ (5.5 g、収率98%)を得た。
¹H-NMR（CDCl₃）δ：3.86 (s, 2H), 4.03, 4.07 (ABq, J = 12.3Hz, 2H), 3.76 (d, J = 3.9Hz, 1H), 5.62 (dd, J = 4.2, 8.7Hz, 1H), 5.95 (s, 1H), 6.42 (s, 1H), 6.52 (d, J = 8.7Hz, 1H), 6.97-7.02 (m, 2H), 7.23-7.39 (m, 12H).

工程（２）：化合物８Ｃの合成
化合物８Ｂを塩化メチレン (50 mL)に溶解し、-50℃に冷却した後、ｍＣＰＢＡ(3.43 g、12.9 mmol)の塩化メチレン(30 mL)溶液を10分間かけて滴下した。反応液は‐50℃でさらに30分間攪拌した後、チオ硫酸ナトリウム(1.36 g、8.61 mmol）の水(50 mL)溶液を加えた。混合液に酢酸エチルを加え減圧濃縮し、析出した固体を濾取する事により化合物８Ｃ(2.5 g、収率50%)を得た。
¹H-NMR（DMSO-d₆）δ：3.81, 3.90 (ABq, J = 15.5Hz, 2H), 3.76, 4.02 (ABq, J = 17.9Hz, 2H), 4.50, 4.68 (ABq, J = 11.6Hz, 2H), 5.10 (d, J = 4.5Hz, 1H), 5.92 (dd, J = 4.8, 8.4Hz, 1H), 6.95-6.97 (m, 2H), 7.30-7.44 (m, 11H), 7.82 (s, 1H), 8.49 (d, J = 7.8Hz, 1H).

工程（３）：化合物８Ｄの合成
化合物８Ｃ(4.92g、8.5mmol)をＤＭＦ(20mL)に溶解し、ヨウ化ナトリウム(2.55g、17mmol)ついでトリフェニルホスフィン(2.67g、10.2mmol)を加えた後、室温で３０分間攪拌した。反応液を攪拌下のジイソプロピルエーテル(70mL)と水(100mL)に注加し、析出した固体を濾取した。固体を風乾する事により化合物８Ｄ(8.19g、収率100%)を得た。
¹H-NMR（DMSO-d₆）δ：3.54-3.92 (m, 4H), 5.01-5.36 (m, 2H),5.18 (d, J = 4.5Hz, 2H), 5.84-5.88 (m, 1H), 6.93-6.96 (m, 2H), 7.18-7.79 (m, 27H), 8.58 (d, J = 7.8Hz, 1H).

工程（４）：化合物８Ｅの合成
化合物８Ｄ(25.54g、26.6mmol)、及び２−（ｔｅｒｔ―ブチルシリルオキシ）アセトアルデヒドを塩化メチレン(250mL)に溶解し、8.4%重曹水(260mL)を加えた後、室温で20時間攪拌した。反応液の塩化メチレン層を分取し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサンー酢酸エチル）により精製し、化合物８Ｅ(2.85g、収率26%)を得た。
¹H-NMR（CDCl₃）δ：-0.07 (s, 6H), 0.81 (s, 9H), 3.59-3.61 (m, 1H), 3.62 (ABq, J = 18.0Hz, 2H), 4.00-4.02 (m, 1H), 4.60 (d, J = 3.3Hz, 1H), 5.61 (m, 1H), 6.11 (dd, J = 4.5, 9.9Hz, 1H), 6.18 (d, J = 11.7Hz, 1H), 6.89 (d, J = 9.6Hz, 1H), 6.97-7.00 (m, 2H), 7.22-7.36 (m, 12H).

工程（５）：化合物８Ｆの合成
化合物８Ｅ(4.65g、6.63mmol)をテトラヒドロフラン(50mL)に溶解し、酢酸(0.95mL、16.58mmol)次いで1mol/L フッ化テトラブチルアンモニウム／テトラヒドロフラン(9.95mL、9.95mmol)を加えた。反応液を室温にて4時間攪拌した後、水、酢酸エチルを加え、有機層を分取した。有機層を希重曹水、飽和食塩水の順に洗浄した後無水硫酸マグネシウムにより乾燥した。溶媒を留去し、残渣にジイソプロピルエーテルを加え、析出した固体を濾取する事により、化合物８Ｆ(3.14g、収率81%)を得た。
¹H-NMR（CDCl₃）δ：3.58 (ABq, J = 19.2Hz, 2H), 3.71-3.77 (m, 1H), 3.85 (s, 1H), 4.07-4.14 (m, 1H), 4.61 (d, J = 4.8Hz, 1H), 5.69-5.77 (m, 1H), 6.06-6.12 (m, 1H), 6.94-7.00 (m, 2H), 7.23-7.40 (m, 12H).

工程（６）：化合物８Ｇの合成
化合物８Ｆ(3.07g、5.23g)をＤＭＦ(30mL)に溶解し、-50℃に冷却した後、３塩化リン(1.37mL、15.7mL)を加えた。反応液は温度を0℃まで徐々に上昇させながら30分間攪拌した。得られた反応液に酢酸エチル及び水を加え、有機層を分取した。有機層は水、ついで飽和食塩水にて洗浄した後、無水硫酸マグネシウムにより乾燥した。溶媒を減圧留去する事により化合物８Ｇ(2.25g、収率73%、Z:E=4:6)を得た。
¹H-NMR（CDCl₃）δ：3.36-4.06 (m, 6H), 5.11-5.16 (m, 1H), 5.53-5.62 (m, 0.4H), 5.84-5.98 (m, 1.6H), 6.15 (d, J = 11.1Hz, 0.4H), 6.36-6.41 (m, 1H), 6.79 (d, J = 15.9Hz, 0.6H), 6.96-7.01 (m, 2H), 7.21-7.41 (m, 12H).

工程（７）：化合物８Ｈの合成
５塩化リン(0.75g、3.50mmol)を塩化メチレン(10mL)に懸濁し、氷冷下ピリジン(0.32mL、3.96mmol)を加えた、懸濁液を氷冷下10分間攪拌した後、化合物8G(1.06g、1.8mmol)を加えた。反応液を氷冷下30分間攪拌した後、-50℃に冷却し、メタノール(2.5mL)を加えた。反応液を氷冷下で20分間攪拌した後、水を加え、有機層を分取した。有機層は水、希重曹水にて洗浄した後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。得られた溶液に4mol/L塩酸／酢酸エチル(1mL)を加え、濃縮した。この濃縮液を７位アミノ体塩酸塩溶液とした。
一方で（Ｚ）−２−（５−ｔｅｒｔ―ブトキシカルボニルアミノ）−１，２，４−チアジアゾールー３−イル）−２−（フルオロメトキシイミノ）酢酸(288mg、0.9mmol)をＤＭＡ(3mL)に溶解し、トリエチルアミン（0.162mL、1.17mmol)を加えた後、−２０℃に冷却した。この溶液にメタンスルフォニルクロリド(0.084mL、1.08mmol)を加え同温にて20分間攪拌した。この溶液を混合酸無水物溶液とした。
次いで７位アミノ体塩酸塩溶液を氷冷し、２，６−ルチジン(0.314mL、2.7mmol)を加えた後、混合酸無水物溶液を加えた。反応液は氷冷下20分間攪拌した後、酢酸エチル、希塩酸を加え有機層を分取した。有機層は水、飽和食塩水の順に洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、シリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサンー酢酸エチル）により精製し、化合物８Ｈ(220mg、収率32%、Z:E=15:85)を得た。
¹H-NMR（CDCl₃）δ：1.49 (s, 9H), 3.44-3.76 (m, 2H), 4.00-4.09 (m, 2H), 5.31-5.35 (m, 1H), 5.59-6.25 (m, 4.15H), 6.88 (d, J = 15.6Hz, 0.85H), 7.23-7.43 (m, 10H), 7.95 (br, 1H).

工程（８）：化合物ＩＩ−８
化合物８Ｈ(220mg、0.29mmol)をＤＭＦ(1mL)に溶解し、臭化ナトリウム(89mg、0.86mmol)、ついで２−（エチル（メチル）アミノ）アセトアミド(33mg、0.287mmol)を加え室温で3時間攪拌した。反応液に酢酸エチルと希塩酸を加え有機層を分取した。有機層は水、飽和食塩水の順に洗浄し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した後、溶媒を減圧留去した。得られた残渣を塩化メチレンに溶解し、アニソール(0.34mL、3.12mmol)を加えた後-30℃に冷却した。次いで溶液に４塩化チタン(0.344mL、3.12mmol)を加え氷冷下2時間30分間攪拌した。反応液にジイソプロピルエーテル、水、アセトニトリルを加え水層を分取した。得られた水溶液にHP20SS樹脂を加え減圧濃縮した後、HP20SSカラムクロマトグラフィー（水―アセトニトリル）にて精製した。目的物を含む画分を減圧下濃縮し、凍結乾燥することにより化合物ＩＩ−８(39mg、収率23%)を得た。
¹H-NMR（DMSO-d₆）δ：1.25 (t, J = 6.9Hz, 2H), 3.08 (s, 3H), 3.48-3.63 (m, 3H), 3.89-3.94 (m, 3H), 4.10 (br, 2H), 5.32 (d, J = 4.8Hz, 1H), 5.70-5.89 (m, 4H), 7.01 (d, J =15.3Hz, 1H), 7.69 (s, 1H), 7.94 (s, 1H), 8.21 (s, 2H), 9.74 (d, J = 8.4Hz, 1H).
MS (ESI) : 581 [M+H]⁺

（実施例１３１）
化合物ＩＩ−９の合成

工程（１）：化合物９Ｂの合成
（Ｚ）−２−（５−ｔｅｒｔ―ブトキシカルボニルアミノ）−１，２，４−チアジアゾールー３−イル）−２−（エトキシイミノ）酢酸(696mg、2.2mmol)をＤＭＡ（１０ｍＬ）に溶解し、トリエチルアミン(0.36mL、2.6mmol)を加えた後、-20℃に冷却した。この溶液にメタンスルフォニルクロリド(0.187mL、2.4mmol)を加え同温にて20分間攪拌した。この溶液に２，６−ルチジン(0.699mL、6.0mmol)、化合物９Ａ(0.951g、2mmol)の順に加えた。反応液は氷冷下15分間攪拌した後、酢酸エチル、希塩酸を加え有機層を分取した。有機層は水、飽和食塩水の順に洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去する事により残渣を得た。この残渣を塩化メチレン(20mL)に溶解し、-40℃に冷却した後、ｍＣＰＢＡ(0.637g、2.398mmol)を加えた。反応液は氷冷下15分間攪拌した後、チオ硫酸ナトリウム(0,316g、2mmol)の水(30mL)溶液を加えた。この混合溶液に酢酸エチルを加え、減圧濃縮し塩化メチレンを除去した。次いで有機層を分取し、希重曹水で２回、飽和食塩水の順に洗浄した後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。溶媒を減圧留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサンー酢酸エチル）にて精製することにより化合物９Ｂ(1.3g、収率86%)を得た。
¹H-NMR（CDCl₃）δ：1.36 (t, J = 6.9Hz, 3H), 1.56 (s, 9H), 3.52, 3.85 (Abq, J = 18.6Hz, 2H), 4.29-4.41 (m, 2H), 4,36, 4.96 (ABq, J = 12.5Hz, 2H), 4.84 (d, J = 3.9Hz, 1H), 6.15 (dd, J = 4.5, 8.4Hz, 1H), 7.25-7.39 (m, 10H), 8.00 (d, J = 8.4Hz, 1H).

工程（２）：化合物９Ｃの合成
化合物９Ｂ(1.29g、1.71mmol)をＤＭＦ(10mL)に溶解し、-40℃に冷却した。この溶液に３塩化りん(0.449mL、5.14mmol)を加え同温にて15分間攪拌した。反応液に酢酸エチル、希塩酸を加え有機層を分取した。有機層は水、飽和食塩水の順に洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去する事により、化合物９Ｃ(1.71g、収率100%)を得た。
¹H-NMR（CDCl₃）δ：1.37 (t, J = 6.9Hz, 3H), 1.46 (s, 9H), 3.56, 3.78 (Abq, J = 18.2Hz, 2H), 4.38-4.48 (m, 2H), 4,39, 4.61 (ABq, J = 12.0Hz, 2H), 5.27 (d, J = 5.1Hz, 1H), 6.21 (dd, J = 5.1, 9.0Hz, 1H), 7.23-7.39 (m, 10H), 7.87 (d, J = 8.7Hz, 1H), 9.63 (br s, 1H).

工程（３）：化合物ＩＩ−９の合成
化合物９Ｃ(621mg、0.8mmol)をＤＭＦ(2mL)に溶解し、臭化ナトリウム(165mg、1.6mmol)、ついで３−（１Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジンー１−イル）プロピル（メチル）カルバミン酸―ｔｅｒｔ−ブチル(232mg、0.8mmol)を加え室温で一晩攪拌した。反応液に酢酸エチルと水を加え有機層を分取した。有機層は水、飽和食塩水の順に洗浄し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した後、溶媒を減圧留去した。得られた残渣を塩化メチレンに溶解し、アニソール(0.78mL、7.14mmol)を加えた後、-30℃に冷却した。次いで溶液に2mol/L 塩化アルミニウムのニトロエタン溶液(3.57mL、7.14mmol)を加え氷冷下1.5時間攪拌した。反応液にジイソプロピルエーテル、希塩酸、アセトニトリルを加え水層を分取した。得られた水溶液にHP20SS樹脂を加え減圧濃縮した後、HP20SSカラムクロマトグラフィー（水―アセトニトリル）にて精製した。目的物を含む画分を減圧下濃縮し、凍結乾燥することにより化合物ＩＩ−９(210mg、収率45%)を得た。
¹H-NMR（DMSO-d₆）δ：1.21 (t, J = 6.9Hz, 3H), 2.25-2.30 (m, 3H), 2.92 (brt, J = 5.7Hz, 2H), 3.53, 3.60 (Abq, J = 18.2Hz, 2H), 4.14 (q, J = 7.2Hz, 2H), 4.69 (t, J = 7.2Hz, 2H), 5.30 (d, J = 5.1Hz, 1H), 5.62, 6.06 (ABq, J = 14.6Hz, 2H), 5.86 (dd, J = 5.1, 8.4Hz, 1H),8.01-8.06 (m, 1H), 8.18 (ds, 2H), 9.17 (s, 1H), 9.18 (d, J = 6.9Hz, 1H), 9.24 (d, J = 6.3Hz, 1H), 9.39 (br, 2H), 9.62 (d, J = 8.4Hz, 1H).

（実施例１３２）
化合物ＩＩ−１０の合成

工程（１）：化合物６Ｅ→化合物１０Ｂ
化合物６Ｅ (300 mg)を塩化メチレン (3.5 mL)に溶かし−60℃に冷却し、Ｍｅ₃Ｓｉ−Ｉ (0.25 mL)を加えた。室温で15分間攪拌後、減圧濃縮した。残渣をDMF (2 mL)に溶かし、ピリジン誘導体１０Ａ (245 mg)を加え室温で2時間攪拌した。イソプロピルエーテル25 mLを加え冷却し析出した油状物質を集めた。これを塩化メチレン(1 mL)に溶かし、アニソール (0.25 mL)を加え、次いでTFA (6 mL)を加え40分間攪拌した。濃縮しイソプロピルエーテル (20 mL)を加え、生成した沈殿物を濾取した。HP-20カラムクロマトで精製し、溶出液を凍結乾燥し化合物ＩＩ−１０ (60 mg)を得た。
¹H-NMR (d-DMSO) δ: 1.39 (3H, s), 1.50 (3H, s), 2.50 (3H, s), 3.20, 3.66 (2H, AB-q, J=18.9 Hz), 4.69, 4.97 (2H, AB-q, J=14.1 Hz ), 5.36 (1H, d, J=5.1 Hz), 5.83 (1H, dd, J=5.4, 7.2 Hz), 6.74 (1H, s), 6.75-6.79 (1H, m), 7.00 (1H, d, J=5.7 Hz), 7.27 (2H, bs), 8.41 (1H, d, J=6.9Hz), 8.86 (1H, bs).
MS(ESI): 643.4^+-(M+H)⁺

（実施例１３３）
化合物ＩＩ−１１

¹H-NMR (DMSO-D₆) δ: 9.44 (1H, d, J = 8.1 Hz), 7.28 (2H, br s), 6.73 (1H, s), 5.84 (1H, dd, J = 8.1, 5.2 Hz), 5.42 (1H, d, J = 5.2 Hz), 5.18 (1H, d, J = 12.9 Hz), 3.96-3.90 (2H, br m), 2.31-1.17 (18H, m), 0.40-0.34 (1H, m).
元素分析：C25H33N11O5S2(H2O)6.1(HCl)0.6
計算値：C,39.33; H,6.05; Cl,2.79; N,20.18; S,8.40 (%)
実験値：C,39.61; H,5.88; Cl,2.68; N,19.73; S,8.25 (%)

（実施例１３４）
化合物ＩＩ−１２

¹H-NMR (DMSO-D₆) δ: 9.44 (1H, d, J = 8.4 Hz), 8.32 (1H, br s), 7.52 (4H, br s), 7.29 (2H, br s), 6.73 (1H, s), 5.86 (1H, dd, J = 8.4, 5.2 Hz), 5.44 (1H, d, J = 5.2 Hz), 5.12 (1H, d, J = 12.9 Hz), 4.11-3.94 (2H, m), 2.17-1.90 (8H, m), 1.78-1.65 (2H, m), 1.52-1.28 (9H, m), 0.54-0.46 (1H, m).
元素分析：C26H35N13O5S2(H2O)6(HCl)1.2
計算値：C,37.82; H,5.88; Cl,5.15; N,22.05; S,7.77 (%)
実験値：C,37.74; H,5.68; Cl,5.24; N,22.02; S,7.86(%)

（実施例１３５）
化合物ＩＩ−１３

¹H-NMR (DMSO-d₆) δ: 10.06-10.03 (1H, m), 8.21-8.17 (2H, m), 5.89-5.85 (1H, m), 5.60-5.42 (1H, m), 5.12-5.08 (1H, m), 3.79-2.98 (18H, m), 1.48 (3H, s), 1.42 (3H, s).
MS (m+1) = 619.32

（参考例１）
中間体（iii）の合成

化合物 (iii)の合成
化合物 (ii) (0.86 g、5 mmol) のジクロロメタン (25 ml) 溶液に１−クロロ−Ｎ，Ｎ，２−トリメチルプロピル−１−エン−１−アミン (0.728 ml、5.5 mmol)を0 ℃で加え、室温で 35 分間攪拌した。反応液に化合物 (i) (0.86 g、6 mmol) を0 ℃で加え、室温で終夜静置させた。反応液に飽和重曹水を加えて、クロロホルムで 3 回抽出した。有機層を食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過した。濃縮して固体をジイソプロピルエーテルで洗浄して濾過して化合物 (iii) (2.24 g, 80% 収率) を得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 8.96 (1H, d, J = 4.4 Hz), 8.50 (1H, br s), 8.35 (1H, d, J = 8.2 Hz), 8.09-8.01 (2H, m), 7.79-7.69 (2H, m), 7.49-7.34 (6H, m), 7.07-7.02 (1H, m), 6.97-6.92 (2H, br m), 6.86-6.83 (2H, br m), 5.14 (2H, s), 5.02 (2H, s), 3.84 (3H, s), 3.81 (3H, s).

（参考例２）
中間体（vi）の合成

化合物 (vi) の合成
化合物 (v) ( 1.34 g、3.15 mmol) の1,4-ジオキサン (45 ml) 溶液に炭酸セシウム (2.44 g, 7.50 mmol)、(R)- 2,2'-ビス（ジフェニルホスフィノ）-1,1'-ビナフチル (112 mg, 0.18 mmol)、トリス（ジベンジリデンアセトン）ビスパラジウム (82 mg, 0.09 mmol) を加え 10 分間超音波処理を行い、化合物 (iv) を加えて終夜加熱還流した。反応液を室温に昇温させ濾過、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィ（ヘキサンー酢酸エチル）で精製して化合物 (vi) (453 mg, 27% 収率) を得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 9.05 (1H, br s), 8.91 (1H, d, J = 5.0 Hz), 8.48 (1H, d, J = 5.0 Hz), 8.15 (1H, d, J = 8.6 Hz), 7.91 (1H, d, J = 8.6 Hz), 7.78-7.72 (2H, m), 7.63-7.57 (1H, m), 7.40-7.34 (5H, m), 7.07 (1H, d, J = 8.9 Hz), 6.97-6.92 (2H, m), 6.88-6.84 (2H, m), 5.16 (3H, s), 5.03 (3H, s), 3.84 (4H, s), 3.81 (4H, s).

（実施例１３６）
化合物ＩＩＩ−１の合成

工程（１）：化合物ＩＩＩａ→化合物ＩＩＩｂ
窒素雰囲気下化合物ＩＩＩａ（１．０２ｇ、１．５０ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（１０．０ｍＬ）に溶解させ、０℃に冷却し、１‐クロロ‐Ｎ,N,２‐トリメチル‐１‐プロペニルアミン（０．２００ｇ、１．５ｍｍｏｌ)を加え４０分間撹拌した。
この溶液を−３０℃に冷却し、１,２,４‐チアジアゾール‐５‐アミン（０．３０３ｇ、３．０ｍｍｏｌ）を加え、2時間撹拌した。反応終了後、反応液に１ｍｏｌ／Ｌ塩酸を加え抽出した。得られた有機層を精製水、飽和重曹水次いで飽和食塩水で洗浄し無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤をろ過により除去し、溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し化合物ＩＩＩｂ（０．５２５ｇ、収率４５．６％）を得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 8.46 (d, J = 8.8 Hz, 1H), 8.35 (s, 1H), 7.34 (s, 1H), 5.88-5.83 (m, 1H), 5.22-5.18 (m, 2H), 5.07 (d, J = 14.2 Hz, 1H), 3.57 (d, J = 18.3 Hz, 1H), 3.42 (d, J = 18.3 Hz, 1H), 2.11 (s, 3H), 1.59-1.50 (m, 15H), 1.38 (s, 9H).

工程（２）：化合物ＩＩＩｂ→化合物ＩＩＩ−１
窒素雰囲気下、化合物ＩＩＩｂ（５２５ｍｇ、０．６８５ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（５．００ｍＬ）に溶解させ、−２０℃に冷却し、アニソール（０．７４８ｍＬ、６．８５ｍｍｏ０ｌ）と２．００ｍｏｌ／Ｌ塩化アルミニウム‐ニトロメタン溶液（３．４２ｍＬ、６．８５ｍｍｏｌ）を加え−２０℃で１時間撹拌した。反応液に０．２ｍｏｌ／Ｌ塩酸とジイソプロピルエーテルを加えた。混合液にアセトニトリルと０．２ｍｏｌ／Ｌ塩酸水を加え残渣を溶解させた。有機層から水層を抽出しＨＰ２０ＳＳを加え溶液を減圧濃縮した。得られた懸濁液をＯＤＳクロマトグラフィーに付した。目的物を含む分画を濃縮し、凍結乾燥し、化合物ＩＩＩ−１（１１７ｍｇ、収率２７．０％）を得た。
¹H-NMR (D₂O) δ: 8.43 (s, 1H), 6.97 (s, 1H), 5.94 (d, J = 4.7 Hz, 1H), 5.37 (d, J = 4.7 Hz, 1H), 5.06 (d, J = 13.1 Hz, 1H), 4.86-4.82 (m, 1H), 3.80 (d, J = 18.6 Hz, 1H), 3.60 (d, J = 18.6 Hz, 1H), 2.08 (s, 3H), 1.52 (s, 3H), 1.49 (s, 3H).

（実施例１３７）
化合物ＩＩＩ−２の合成

工程（１）：化合物ＩＩＩｃ→化合物ＩＩＩｄ
窒素雰囲気下化合物ＩＩＩｃ（１．０３ｇ、１．５０ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（１０．０ｍＬ）に溶解させ、０℃に冷却し、１‐クロロ‐Ｎ,N,２‐トリメチル‐１‐プロペニルアミン（０．２３８ｇ、１．２ｍｍｏｌ)を加え４０分間撹拌した。
この溶液を−４０℃に冷却し、１,３,４‐チアジアゾール‐２‐アミン（０．２１９ｇ、２．１ｍｍｏｌ）を加え、2時間撹拌、０℃で2時間撹拌した後、４℃で終夜静置した。反応終了後、反応液に１ｍｏｌ／Ｌ塩酸を加え抽出した。得られた有機層を精製水、飽和重曹水次いで飽和食塩水で洗浄し無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤をろ過により除去し、溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付しＩＩＩｄ（０．５０５ｇ、収率４３．９％）を得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 8.94 (s, 1H), 8.50 (br s, 1H), 8.11 (d, J = 8.7 Hz, 1H), 7.30 (s, 1H), 6.05 (dd, J = 8.7, 5.0 Hz, 1H), 5.41 (d, J = 5.0 Hz, 1H), 5.12 (d, J = 13.7 Hz, 1H), 4.93 (d, J = 13.7 Hz, 1H), 3.64 (d, J = 18.6 Hz, 1H), 3.45 (d, J = 18.6 Hz, 1H), 2.07 (s, 3H), 1.60 (s, 3H), 1.56 (s, 3H), 1.49 (s, 9H), 1.41 (s, 9H).

工程（２）：ＩＩＩｄ→化合物ＩＩＩ−２
窒素雰囲気下、ＩＩＩｄ（４７４ｍｇ、０．６１８ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（５．００ｍＬ）に溶解させ、−２０℃に冷却し、アニソール（０．６７５ｍＬ、６．１８ｍｍｏ０ｌ）と２．００ｍｏｌ／Ｌ塩化アルミニウム‐ニトロメタン溶液（３．０９ｍＬ、６．１８ｍｍｏｌ）を加え−２０℃で１時間撹拌した。反応液に０．２ｍｏｌ／Ｌ塩酸とジイソプロピルエーテルを加えた。混合液にアセトニトリルと０．２ｍｏｌ／Ｌ塩酸水を加え残渣を溶解させた。有機層から水層を抽出しＨＰ２０ＳＳを加え溶液を減圧濃縮した。得られた懸濁液をＯＤＳクロマトグラフィーに付した。目的物を含む分画を濃縮し、凍結乾燥し、化合物ＩＩＩ−２（２９６ｍｇ、収率７８．４％）を得た。
¹H-NMR (DMSO-D₆) δ: 9.52 (d, J = 8.5 Hz, 1H), 9.26 (s, 1H), 7.30 (s, 2H), 6.75 (s, 1H), 5.78 (dd, J = 8.5, 4.9 Hz, 1H), 5.19 (d, J = 4.9 Hz, 1H), 5.00 (d, J = 13.2 Hz, 1H), 4.72 (d, J = 13.2 Hz, 1H), 3.70 (d, J = 18.7 Hz, 1H), 3.58 (d, J = 18.7 Hz, 1H), 2.01 (s, 3H), 1.45 (s, 3H), 1.44 (s, 3H).

（実施例１３８）
化合物ＩＩＩ−３の合成

工程（１）：化合物ＩＩＩｅ→化合物ＩＩＩｆ
窒素雰囲気下化合物ＩＩＩｅ（３．４２ｇ、５．００ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（３５．０ｍＬ）に溶解させ、０℃に冷却し、１‐クロロ‐Ｎ,N,２‐トリメチル‐１‐プロペニルアミン（０．７０２ｇ、０．４２５ｍｍｏｌ)を加え４０分間撹拌した。
別途、ヒドラジン水和物（０．３７５ｇ、７．５０ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（３５．０ｍＬ）に溶解させ、ピリジン（０．４１５ｇ、５．２５ｍｍｏｌ）を加え−４０℃に冷却した。この溶液に上記反応液を滴下し、−４０℃で撹拌した。反応終了後、反応液に精製水を加え水層から酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を精製水、次いで飽和食塩水で洗浄し無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤をろ過により除去し、溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し化合物ＩＩＩｆ（０．６３０ｇ、収率１８．１％）を得た。
¹H-NMR (DMSO-D₆) δ: 11.82 (br s, 1H), 9.59 (s, 1H), 9.53 (d, J = 8.5 Hz, 1H), 7.35-7.10 (m, 3H), 5.70 (dd, J = 8.5, 4.9 Hz, 1H), 5.10 (d, J = 4.9 Hz, 1H), 4.89 (d, J = 12.7 Hz, 1H), 4.72 (d, J = 12.7 Hz, 1H), 3.56 (d, J = 17.9 Hz, 1H), 3.41 (d, J = 17.9 Hz, 1H), 1.98 (s, 3H), 1.49-1.42 (m, 15H), 1.38 (s, 9H).

工程（２）：化合物ＩＩＩｆ→化合物ＩＩＩｇ
窒素雰囲気下、化合物ＩＩＩｆ（０．６００ｇ、０．８６０ｍｍｏｌ）をＤＭＦ（６．００ｍＬ）を溶解させ、ＣＤＩ（カルボニルジイミダゾール)(０．１５３ｇ、０．９４６ｍｍｏｌ）を加え０℃で３０分間撹拌した。反応液に精製水を加え、水層から酢酸エチルで目的物を抽出した。得られた有機層を精製水、次いで飽和食塩水で洗浄し無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤をろ過により除去し、溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し化合物ＩＩＩｇ（０．４００ｇ、収率６４．３％）を得た。
¹H-NMR (DMSO-D₆) δ: 12.84 (br s, 1H), 11.84 (s, 1H), 9.56 (d, J = 8.3 Hz, 1H), 7.25 (s, 1H), 5.95 (dd, J = 8.3, 4.9 Hz, 1H), 5.30 (d, J = 4.9 Hz, 1H), 4.93 (d, J = 13.0 Hz, 1H), 4.67 (d, J = 13.0 Hz, 1H), 3.73 (d, J = 18.3 Hz, 1H), 3.59 (d, J = 18.3 Hz, 1H), 1.99 (s, 3H), 1.50-1.44 (m, 15H), 1.39 (s, 9H).

工程（３）：化合物ＩＩＩｇ→化合物ＩＩＩ−３
窒素雰囲気下、化合物ＩＩＩｇ（３６１ｍｇ、０．４９９ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（４．００ｍＬ）に溶解させ、−３０℃に冷却し、アニソール（０．３２７ｍＬ、２．９９ｍｍｏ０ｌ）と２．００ｍｏｌ／Ｌ塩化アルミニウム‐ニトロメタン溶液（１．５０ｍＬ、２．９９ｍｍｏｌ）を加え−３０℃で２０分間撹拌した。反応液に生成水とジイソプロピルエーテルを加えた。混合液にアセトニトリルと２ｍｏｌ／Ｌ塩酸水を加え残渣を溶解させた。有機層から水層を抽出しＨＰ２０ＳＳを加え溶液を減圧濃縮した。得られたけん濁液をＯＤＳクロマトグラフィーに付した。目的物を含む分画を濃縮し、凍結乾燥し、化合物ＩＩＩ−３（１７４ｍｇ、収率６１．５％）を得た。
¹H-NMR (DMSO-D₆) δ: 12.87 (s, 1H), 9.50 (d, J = 8.4 Hz, 1H), 7.32 (br s, 2H), 6.75 (s, 1H), 5.96 (dd, J = 8.4, 4.9 Hz, 1H), 5.32 (d, J = 4.9 Hz, 1H), 4.97 (d, J = 13.0 Hz, 1H), 4.70 (d, J = 13.0 Hz, 1H), 3.75 (d, J = 18.2 Hz, 1H), 3.62 (d, J = 18.2 Hz, 1H), 2.05 (s, 3H), 1.51-1.40 (m, 6H).

（実施例１３９）
化合物Ｉ−１３９の合成
化合物１５ｆの調製

化合物１５ａ(4.29 g, 10 mmol)をジクロロメタン(40 ml)に懸濁させ、氷冷下、化合物１５ｅ (1.69 ml, 12 mmol), HOBt (1.62 g, 12 mmol), EDC (2.30 g, 12 mmol)を順に加え、室温で一晩攪拌した。
反応液を酢酸エチルで希釈した後、有機層を水酸化ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水で洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムをろ過した後、減圧下濃縮し、析出した固体を濾取することにより、化合物１５ｆ(4.55 g, 86%)を得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 7.47 (1H, d, J = 8.7 Hz), 7.35-7.34 (4H, m), 7.03 (1H, br s), 6.94-6.92 (3H, m), 6.83 (2H, d, J = 8.4 Hz), 5.08 (2H, s), 4.95 (2H, s), 3.83 (3H, s), 3.80 (3H, s), 3.50 (2H, q, J = 5.8 Hz), 2.64 (2H, t, J = 5.8 Hz), 2.55 (4H, q, J = 7.1 Hz), 1.01 (6H, t, J = 7.1 Hz).

化合物Ｉ−１３９

化合物１５ｆを用い、上記と同様の方法で化合物Ｉ−１３９を合成した。
¹H-NMR (D₂O) δ: 6.96-6.88 (3H, m), 5.92-5.91 (1H, m), 5.58-5.57 (1H, m), 4.15-4.06 (2H, m), 3.79-3.75 (1H, m), 3.60-3.54 (2H, m), 3.33-3.10 (6H, m), 1.50-1.48 (6H, m), 1.11-1.07 (6H, m).
元素分析：C30H35ClN11O8S2Na(H2O)5.5
計算値：C,40.07; H,5.16; N,17.13; Cl,3.94; S,7.13; Na,2.56 (%)
実験値：C,40.03; H,5.07; N,17.26; Cl,4.06; S,7.03; Na,2.44 (%)

（試験例１）
本発明化合物（Ｉ）のＩｎＶｉｔｒｏ抗菌活性を確認した。
（試験方法）
最小発育阻止濃度（ＭＩＣ：μｇ／ｍＬ）の測定はＣＬＳＩ（Clinical and Laboratory Standards Institute）法に準じ、試験菌量は５×１０⁵ｃｆｕ／ｍＬ、試験培地はヒトＡｐｏ−ｔｒａｎｓｆｅｒｒｉｎを添加したカチオン調整ミューラーヒントン液体培地を用いて、微量液体希釈法により実施した。使用した菌株は以下の表のとおりである。

比較化合物として、次式で示される比較化合物１（特許文献２１：国際公開第２０１０／０５０４６８号に記載の化合物Ｉ−３７のナトリウム塩）を用いた。

（結果）
試験結果を表２〜４に示す。表中、阻害活性の数値の単位はμｇ／ｍｌである。

（試験例２）
本発明化合物（Ｉ）のＩｎＶｉｔｒｏ抗菌活性を確認した。
（試験方法）
最小発育阻止濃度（ＭＩＣ：μｇ／ｍＬ）の測定はＣＬＳＩ（ＣｌｉｎｉｃａｌａｎｄＬａｂｏｒａｔｏｒｙＳｔａｎｄａｒｄｓＩｎｓｔｉｔｕｔｅ）法に準じ、試験菌量は５×１０⁵ｃｆｕ／ｍＬ、試験培地はヒトＡｐｏ−ｔｒａｎｓｆｅｒｒｉｎを添加したカチオン調整アイソ−センシテスト液体培地を用いて、微量液体希釈法により実施した。

比較化合物として、次式で示される比較化合物２（特許文献２３：国際公開第２０１１／１２５９６７号に記載の化合物ＩＩ−５８）を用いた。

（結果）
試験結果を表６〜８に示す。表中、阻害活性の数値の単位はμｇ／ｍｌである。

以上の結果から、本発明化合物（Ｉ）が広範な抗菌スペクトルを有し、特にグラム陰性菌に対して強力な抗菌スペクトルを示し、および／または多剤耐性菌に対しても有効であり、β−ラクタマーゼ産生グラム陰性菌に対しても高い安定性を有していることが示される。

（製剤例１）
本発明化合物を粉末充填することにより注射剤を調製する。

本発明に係る化合物は、グラム陰性菌およびグラム陽性菌に対する広範な抗菌スペクトルを有し、β−ラクタマーゼ産生グラム陰性菌に対して高い安定性を有している抗菌薬として有効である。また、体内動態もよく、水溶性も高いため、特に注射薬として有効である。

Claims

式（Ι）：

（式中、
Ｗは−ＣＨ₂−、−Ｓ−または−Ｏ−であり、
ａ）Ｗが−ＣＨ₂−のときは、Ｕは−ＣＨ₂−、−Ｓ−、−Ｓ（＝Ｏ）−もしくは−Ｏ−であり、または
ｂ）Ｗが−Ｓ−もしくは−Ｏ−のときは、Ｕは−ＣＨ₂−であり、
Ｌは−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ₂−ＣＨ＝ＣＨ−または−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ₂−であり、
Ｒ¹は置換もしくは非置換の炭素環式基または置換もしくは非置換の複素環式基であり、
Ｒ^2AおよびＲ^2Bについては、
ａ）Ｒ^2Aが水素原子、置換もしくは非置換のアミノ基、−ＳＯ₃Ｈ、置換もしくは非置換のアミノスルホニル基、カルボキシル基、置換もしくは非置換の低級アルキルオキシカルボニル基、置換もしくは非置換のカルバモイル基、ヒドロキシル基、もしくは置換基を有しているカルボニルオキシ基であり、および、
Ｒ^2Bが水素原子であるか、または、
ｂ）Ｒ^2AおよびＲ^2Bが一緒になって、置換もしくは非置換のメチリデン基、または置換もしくは非置換のヒドロキシイミノ基を形成し、
Ｒ³は水素原子、−ＯＣＨ₃または−ＮＨ−ＣＨ（＝Ｏ）であり、
Ｒ¹¹はカルボキシルイオン（−ＣＯＯ^-）のバイオアイソスターであり、
Ｅは置換若しくは非置換の１以上の４級アンモニウムイオンを含む２価の基であり、
Ｒ¹⁰は、Ｒ¹²または以下の式：

で示される基であって、
ここで、
環Ａはベンゼン環、または窒素原子を１〜３個有する６員の芳香族複素環であり、
ｋは２〜５の整数であり、
Ｒ⁴はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン、ヒドロキシル基、−ＣＮ、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ⁵、−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＨ、−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ⁵または−ＯＲ⁵であり、
Ｒ⁵は低級アルキル基またはハロ低級アルキル基であり、
Ｇは単結合、置換もしくは非置換の低級アルキレン基、置換もしくは非置換の低級アルケニレン基または置換もしくは非置換の低級アルキニレン基であり、
Ｂは単結合または少なくとも窒素原子を１〜３個含有する５員もしくは６員の複素環式基であり、
Ｄは単結合、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ⁶−、−ＮＲ⁶−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ⁶−、−ＮＲ⁶−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ⁶−、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｓ（＝Ｏ）−、−Ｓ（＝Ｏ）₂−ＮＲ⁶−、−ＮＲ⁶−Ｓ（＝Ｏ）₂−、−ＮＲ⁶−ＣＨ₂−、−ＣＨ₂−ＮＲ⁶−または−Ｓ（＝Ｏ）₂−であり、
Ｒ⁶はそれぞれ独立して、水素または置換もしくは非置換の低級アルキル基であり、
Ｒ¹²は水素原子、ハロゲン、ヒドロキシル基、−ＳＯ₃Ｈ、置換もしくは非置換のアミノ基、置換もしくは非置換のカルボキシル基、置換もしくは非置換のカルバモイル基、置換もしくは非置換のアシル基、置換もしくは非置換のアミノスルホニル基、置換もしくは非置換の低級アルキル基、置換もしくは非置換の低級アルケニル基、置換もしくは非置換の低級アルキニル基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基または置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基である）
で示される化合物、もしくはその７位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩。
Ｒ¹⁰が式：

で示される基である、請求項１記載の化合物、もしくはその７位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩。
Ｒ¹⁰がＲ¹²（Ｒ¹²は請求項１と同意義である）で示される基である、請求項１記載の化合物、もしくはその７位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩。
Ｇが単結合、−ＣＨ₂−、−ＣＨ₂−ＣＨ₂−、−ＣＨ₂−ＣＨ₂−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ₂−、−ＣＨ₂−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ₂−ＣＨ（ＣＨ₃）−、−ＣＨ₂−ＣＨ（ⁱＰｒ）−または−ＣＨ₂−ＣＨ（Ｐｈ）−（式中、ⁱＰｒはイソプロピル基、Ｐｈはフェニル基を表わす）
である、請求項１または２記載の化合物、もしくはその７位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩。
Ｂが単結合または式：

（ここで、左側の結合手はＧとの結合を示し、右側の結合手はＤとの結合を示す）
である請求項１、２または４記載の化合物、もしくはその７位側鎖の環上のアミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩。
Ｄが単結合、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ⁶−、−ＮＲ⁶−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ⁶−、−ＮＲ⁶−Ｃ（＝Ｏ）−または−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ⁶−（式中、Ｒ⁶は請求項１と同義である。）である請求項１、２、４または５記載の化合物、もしくはその７位側鎖の環上のアミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩。
式：

が、式：

（式中、Ｒ⁴はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン、ヒドロキシル基、−ＣＮ、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ⁵、−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＨ、−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ⁵または−ＯＲ⁵であり、Ｒ⁵は請求項１と同意義である）
である、請求項１、２、４または５記載の化合物、もしくはその７位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩。
式：

が、式：

である、請求項７記載の化合物、もしくはその７位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩。
式：

が、式：

である、請求項７記載の化合物、もしくはその７位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩。
Ｅが式：

（式中、破線は、環内の結合を示し、カチオン性窒素原子からの結合手はＬとの結合を示し、もう一方の結合手はＲ¹⁰との結合を示す。ただし、Ｒ¹⁰がカチオン性窒素原子と結合している場合、破線は存在せず、Ｒ¹⁰がカチオン性窒素原子と結合していない場合、破線はカチオン性窒素原子と隣接原子との間の単結合を示すか、またはカチオン性窒素原子と隣接原子以外の環構成原子との間の低級アルキレン基を示す。）
で示される、少なくとも窒素原子を１個有する置換もしくは非置換の飽和もしくは不飽和の単環式または縮合環式の４級アンモニウム基である、請求項１〜９のいずれかに記載の化合物、もしくはその７位側鎖の環上のアミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩。
Ｅが式：

（式中、４級窒素原子からの結合手はＬとの結合を示し、もう一方の結合手はＲ¹⁰との結合を示す。また、ｐは１〜３の整数であり、ｎは１または２の整数であり、Ｒ^Xはそれぞれ独立して置換もしくは非置換の低級アルキル基である）
から選択される、さらに環上に置換基を有していてもよい基である、請求項１〜９のいずれかに記載の化合物、もしくはその７位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩。
Ｅが式（１）〜（７）、（１０）〜（１２）、（１４）、（２５）〜（２９）、（３１）、（４１）〜（４４）、（４７）、（５０）、（５２）、（５３）、（６４）および（７３）からなる群から選択される、請求項１１記載の化合物、もしくはその７位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩。
Ｅが式（３）、（１０）〜（１２）、（２６）〜（２８）、（３１）、（４１）、（４２）、（５３）、（６４）および（７３）からなる群から選択される、請求項１１記載の化合物、もしくはその７位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩。
Ｅが式：

（式中、４級窒素原子からの結合手はＬとの結合を示し、もう一方の結合手はＲ¹⁰との結合を示す）
から選択される、さらに環上に置換基を有していてもよい基である、請求項１〜９のいずれかに記載の化合物、もしくはその７位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩。
Ｅ−Ｒ¹⁰が

（式中、４級窒素原子からの結合手はＬとの結合を示し、Ｒ¹²は請求項１と同意義である）からなる群から選択される、さらに環上に置換基を有していてもよい基である、請求項１記載の化合物、もしくはその７位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩。
Ｅ−Ｒ¹⁰が

（式中、４級窒素原子からの結合手はＬとの結合を示す）
である、請求項１記載の化合物、もしくはその７位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩。
カルボキシルイオン（−ＣＯＯ^-）のバイオアイソスターが、
−ＳＯ₃ ^-、−Ｓ（＝Ｏ）₂−Ｎ^-−Ｒ¹³、−ＰＯ^-−（ＯＲ¹³）、−ＰＯ₂ ^-−（ＯＲ¹³）、−Ｎ^-−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ¹³、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ^-−ＯＲ¹³、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−Ｎ^-−Ｓ（＝Ｏ）₂−Ｒ¹³、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ^-−Ｓ（＝Ｏ）₂−Ｒ¹³、−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ＝Ｃ（Ｏ^-）−Ｒ¹³、−Ｎ^-−Ｓ（＝Ｏ）₂−Ｒ¹³、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ^-−Ｓ（＝Ｏ）₂−Ｒ¹³、−Ｎ^-−Ｓ（＝Ｏ）₂−Ｒ¹³、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ^-−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ¹³、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ^-−Ｓ（＝Ｏ）₂−Ｒ¹³、−Ｎ^-−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ¹³、

（ここで、Ｒ¹³は水素、ヒドロキシル基、ハロゲン、置換もしく非置換の低級アルキル基、置換もしく非置換の低級アルケニル基、置換もしく非置換の低級アルキニル基、置換もしく非置換の低級アルコキシ基、置換もしく非置換のアミノ基、低級アルケニルオキシ基、置換もしく非置換のアリールオキシ基、シアノ、ニトロ、イミノ、メルカプト、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルホニル基、置換もしく非置換の炭素環式基、置換もしく非置換の複素環式基および−ＣＯ₂Ｒ¹⁷からなる群から選択され、ここでＲ¹⁷は水素、低級アルキル基または低級アルケニル基であり、Ｒ¹⁴は電子吸引性を有する基である）から選択される、請求項１〜１６のいずれかに記載の化合物、もしくはその７位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩。
カルボキシルイオン（−ＣＯＯ^-）のバイオアイソスターが、式：

で示される基である、請求項１７に記載の化合物、もしくはその７位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩。
Ｕが−Ｓ−である、請求項１〜１８のいずれかに記載の化合物、もしくはその７位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩。
Ｗが−ＣＨ₂−である、請求項１〜１９のいずれかに記載の化合物、もしくはその７位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩。
Ｒ³が水素原子または−ＯＣＨ₃である、請求項１〜２０のいずれかに記載の化合物、もしくはその７位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩。
Ｒ¹が置換もしくは非置換のフェニル基である、請求項１〜２１のいずれかに記載の化合物、もしくはその７位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩。
Ｒ¹が、式：

（式中、ＸはＮ、Ｃ（−Ｈ）またはＣ（−Ｃｌ）である）
で示される、請求項１〜２１のいずれかに記載の化合物、もしくは上記式中のアミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩。
ＸがＮである、請求項２３記載の化合物、もしくは上記式中のアミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩。
ＸがＣ（−Ｈ）またはＣ（−Ｃｌ）である、請求項２３記載の化合物、もしくは上記式中のアミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩。
Ｒ^2Aが水素原子、置換もしくは非置換のアミノ基、−ＳＯ₃Ｈ、置換もしくは非置換のアミノスルホニル基、カルボキシル基、置換もしくは非置換のカルバモイル基、ヒドロキシル基、または置換基を有しているカルボニルオキシ基であり、および、
Ｒ^2Bが水素原子である、請求項１〜２５のいずれかに記載の化合物、もしくはその７位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩。
Ｒ^2Aが以下に示す、置換アミノ基

；
以下に示す、置換アミノスルホニル基

（式中、環Ｂは置換もしくは非置換の複素環式基を表す）；
以下に示す、置換カルバモイル基

（式中、環Ｂは置換もしくは非置換の複素環式基を表す）；または
以下に示す、置換カルボニルオキシ基

（式中、環Ｂは置換もしくは非置換の複素環式基を表す）；
である、請求項１〜２６のいずれかに記載の化合物、もしくはその７位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩。
Ｒ^2AおよびＲ^2Bが一緒になって以下に示す、置換メチリデン基

；または、以下に示す、置換ヒドロキシイミノ基

（式中、Ｒ⁹は置換もしくは非置換の低級アルキル基である）
である、請求項１〜２５のいずれかに記載の化合物、もしくはその７位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩。
Ｒ^2AおよびＲ^2Bが一緒になって以下に示す、置換ヒドロキシイミノ基

（式中、Ｒ⁷およびＲ⁸はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン、ヒドロキシル基、カルボキシル基、置換もしくは非置換の低級アルキル基、置換もしくは非置換の炭素環式基、もしくは置換もしくは非置換の複素環式基であり、または
Ｒ⁷およびＲ⁸は隣接原子と一緒になって置換もしくは非置換の炭素環もしくは置換もしくは非置換の複素環を形成していてもよく、
Ｑは単結合、置換基を有していてもよい炭素環、または置換基を有していてもよい複素環であり、
ｍは０〜３の整数を表す）
である、請求項１〜２５のいずれかに記載の化合物、もしくはその７位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩。
請求項１〜２９のいずれかに記載の化合物、もしくはその７位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩を含有する医薬組成物。
抗菌作用を有する、請求項３０記載の医薬組成物。
式：

（式中、Ｙは脱離基であり、Ｕ、Ｒ³およびＬは請求項１と同意義であり、
式：

で示される基が、
以下の式：

で示される基、または、式：

で示される基のいずれかであり、
Ｐ¹は保護基である）
で示される化合物またはその塩。
Ｐ¹がベンズヒドリル基、パラメトキシベンジル基、トリチル基、２，６−ジメトキシベンジル基、メトキシメチル基、ベンジルオキシメチル基または２-（トリメチルシリル）エトキシメチル基である、請求項３２記載の化合物またはその塩。
式：

（式中、Ｙは脱離基であり、Ｕ、Ｒ³およびＬは請求項１と同意義であり、
式：

で示される基が、
以下の式：

で示される基、または、式：

で示される基のいずれかであり、
Ｐ²は保護基である）
で示される化合物またはその塩。
Ｐ²がベンズヒドリル基、パラメトキシベンジル基、トリチル基、２，６−ジメトキシベンジル基、メトキシメチル基、ベンジルオキシメチル基または２-（トリメチルシリル）エトキシメチル基である、請求項３４記載の化合物またはその塩。