JPWO2012128323A1 - 光学素子、照明装置、測定装置、フォトマスク、露光方法、及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
本願は、2011年3月22日に出願された特願2011−062411号に基づき優先権を主張しその内容をここに援用する。
第1実施形態について説明する。図1は、第1実施形態に係る光学素子1Aの一例を示す側断面図、図2は、光学素子1Aを+Z側から見た平面図、図3は、図1の一部を拡大した図である。
L=m・λsp/2 (mは、正の奇数) …(1)
の条件を満たす。なお、距離Lは、第2群の表面プラズモンG2が伝搬する方向に関する距離であり、本実施形態においては、孔6の中心に対する放射方向に関する距離である。
ksp=k0〔εm・εd/(εm+εd)〕1/2 …(2)で表される。
λsp=2π/ksp …(3)
で表される。
第1群の表面プラズモンG1及び第2群の表面プラズモンG2のそれぞれは、孔6の内側に伝播して、射出面5側の孔6の端部に到達すると、空間伝搬光に再変換され、孔6から射出される。これにより、エネルギーが高められた光(疑似点光源)が得られる。
次に、第2実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
次に、第3実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
次に、第4実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
L=m・λsp/2 (mは、正の偶数) …(4)
の条件を満たす。
次に、第5実施形態について説明する。以下、上述の光学素子1Aの効果を確認した実験の結果について説明する。
次に、第6実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
次に、第7実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
次に、第8実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
次に、第9実施形態として、波面収差等の光学特性を計測する機能を備えた露光装置について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
Claims (36)
- 照射光が照射される入射面と、
少なくとも一部が前記入射面の反対方向を向く射出面と、
前記入射面と前記射出面とを結ぶように形成された孔を有する金属膜と、を備え、
前記入射面は、前記入射面側の前記孔の端部の周囲に配置され前記孔の内面と結ばれる内側エッジを有する第1面と、前記第1面の周囲に配置され前記第1面の外側エッジとの間に不連続部を形成する第2面とを含み、
前記照射光の照射により前記内側エッジで励起され前記孔に向かう表面プラズモンと前記不連続部から前記孔に向かう表面プラズモンとの干渉により前記孔から前記射出面側に射出される光の強度が高くなるように、前記内側エッジと前記外側エッジとの距離が前記表面プラズモンの波長に応じて定められている、光学素子。 - 前記内側エッジは、前記第1面と前記孔の内面とで形成される第1の角部を含む請求項1記載の光学素子。
- 前記不連続部は、前記第1面と前記第2面とで形成される第2の角部を含む請求項1又は2記載の光学素子。
- 前記不連続部から前記孔に向かう表面プラズモンは、前記照射光の照射により前記内側エッジで励起され前記不連続部で反射した表面プラズモンを含む請求項1〜3のいずれか一項記載の光学素子。
- 前記第2面は、前記孔の中心に対する放射方向に関して内側を向くように前記第1面の周囲に配置され、
前記内側エッジで励起された表面プラズモンの少なくとも一部は、前記第1面の外側エッジと前記内側を向く前記第2面との間の前記不連続部で反射する請求項4記載の光学素子。 - 前記内側エッジと前記外側エッジとの距離をL、前記表面プラズモンの波長をλspとしたとき、
L=m・λsp/2 (mは、正の奇数)
の条件を満たす請求項5記載の光学素子。 - 前記第2面は、前記孔の中心に対する放射方向に関して外側を向くように前記第1面の周囲に配置され、
前記内側エッジで励起された表面プラズモンの少なくとも一部は、前記第1面の外側エッジと前記外側を向く前記第2面との間の前記不連続部で反射する請求項4記載の光学素子。 - 前記内側エッジと前記外側エッジとの距離をL、前記表面プラズモンの波長をλspとしたとき、
L=m・λsp/2 (mは、正の偶数)
の条件を満たす請求項7記載の光学素子。 - 前記不連続部から前記孔に向かう表面プラズモンは、前記照射光の照射により前記不連続部で励起された表面プラズモンを含む請求項1〜3のいずれか一項記載の光学素子。
- 前記第2面は、前記孔の中心に対する放射方向に関して外側を向くように前記第1面の周囲に配置され、
前記照射光の照射により前記第1面の外側エッジと前記外側を向く前記第2面との間の前記不連続部で前記表面プラズモンが励起される請求項9記載の光学素子。 - 前記内側エッジと前記外側エッジとの距離をL、前記表面プラズモンの波長をλspとしたとき、
L=m・λsp/2 (mは、正の偶数)
の条件を満たす請求項10記載の光学素子。 - 前記入射面は、前記第2面の周囲に配置され、前記第1面と実質的に平行な第3面を含む請求項1〜11のいずれか一項記載の光学素子。
- 前記照射光を透過可能であり、前記金属膜が形成される表面を有する透明部材を備え、
前記透明部材を介して前記金属膜に前記照射光が照射される請求項1〜12のいずれか一項記載の光学素子。 - 照射光が照射される入射面、少なくとも一部が前記入射面の反対方向を向く射出面、及び前記入射面と前記射出面とを結ぶように形成された孔を有する金属膜を備える光学素子であって、
前記入射面は、前記入射面側の前記孔の端部の周囲に配置され前記孔の内面と結ばれる内側エッジを有する第1面と、前記第1面の周囲に配置され前記第1面の外側エッジとの間に不連続部を形成する第2面とを含み、
前記内側エッジは、前記第1面と前記孔の内面とで形成される第1の角部を含み、
前記不連続部は、前記第1面と前記第2面とで形成される第2の角部を含み、
前記第2面は、前記孔の中心に対する放射方向に関して内側を向くように前記第1面の周囲に配置され、
前記照射光を透過可能であり、前記金属膜が形成される表面を有する透明部材を備え、
前記金属膜がアルミニウムからなり、
前記透明部材が石英ガラスからなり、
前記内側エッジと前記外側エッジとの距離をLとしたとき、
L=m・43(nm) (mは、正の奇数)
の条件を満たし、
前記透明部材を介して前記金属膜に前記照射光が照射される光学素子。 - 照射光が照射される入射面、少なくとも一部が前記入射面の反対方向を向く射出面、及び前記入射面と前記射出面とを結ぶように形成された孔を有する金属膜を備える光学素子であって、
前記入射面は、前記入射面側の前記孔の端部の周囲に配置され前記孔の内面と結ばれる内側エッジを有する第1面と、前記第1面の周囲に配置され前記第1面の外側エッジとの間に不連続部を形成する第2面とを含み、
前記内側エッジは、前記第1面と前記孔の内面とで形成される第1の角部を含み、
前記不連続部は、前記第1面と前記第2面とで形成される第2の角部を含み、
前記第2面は、前記孔の中心に対する放射方向に関して外側を向くように前記第1面の周囲に配置され、
前記照射光を透過可能であり、前記金属膜が形成される表面を有する透明部材を備え、
前記金属膜がアルミニウムからなり、
前記透明部材が石英ガラスからなり、
前記内側エッジと前記外側エッジとの距離をLとしたとき、
L=m・43(nm) (mは、正の偶数)
の条件を満たし、
前記透明部材を介して前記金属膜に前記照射光が照射される光学素子。 - 前記透明部材は、固体液浸レンズであり、
前記金属膜が形成される前記固体液浸レンズの表面は、前記固体液浸レンズの焦点面である請求項13〜15のいずれか一項記載の光学素子。 - 請求項1〜16のいずれか一項記載の光学素子と、
前記光学素子の前記入射面に前記照射光を照射する光学系と、を備え、
前記光学素子の前記孔から射出された光で物体を照明する照明装置。 - 請求項17記載の照明装置と、
前記照明装置から射出され物体の表面に照射された球面波の反射光を検出する検出装置と、
前記検出装置の検出結果に基づいて前記物体の表面の波面収差を算出する演算装置と、を備える測定装置。 - 請求項17記載の照明装置と、
前記照明装置から射出され物体を経由した測定光を検出する検出装置と、
前記検出装置の検出結果に基づいて前記物体の光学特性を算出する演算装置と、を備える測定装置。 - 露光光が照射される入射面、少なくとも一部が前記入射面の反対方向を向く射出面、及び前記入射面と前記射出面とを結ぶように形成された孔を有する金属膜を備えるフォトマスクであって、
前記入射面は、前記入射面側の前記孔の端部の周囲に配置され前記孔の内面と結ばれる内側エッジを有する第1面と、前記第1面の周囲に配置され前記第1面の外側エッジとの間に不連続部を形成する第2面とを含み、
前記露光光の照射により前記内側エッジで励起され前記孔に向かう表面プラズモンと前記不連続部から前記孔に向かう表面プラズモンとの干渉により前記孔から前記射出面側に射出される露光光の強度が高くなるように、前記内側エッジと前記外側エッジとの距離が前記表面プラズモンの波長に応じて定められているフォトマスク。 - 前記内側エッジは、前記第1面と前記孔の内面とで形成される第1の角部を含む請求項19記載のフォトマスク。
- 前記不連続部は、前記第1面と前記第2面とで形成される第2の角部を含む請求項20又は21記載のフォトマスク。
- 前記不連続部から前記孔に向かう表面プラズモンは、前記露光光の照射により前記内側エッジで励起され前記不連続部で反射した表面プラズモンを含む請求項20〜22いずれか一項記載のフォトマスク。
- 前記不連続部から前記孔に向かう表面プラズモンは、前記露光光の照射により前記不連続部で励起された表面プラズモンを含む請求項20〜23のいずれか一項記載のフォトマスク。
- 請求項23〜24のいずれか一項記載のフォトマスクを露光光で照明することと、
前記フォトマスクからの前記露光光で基板を露光することと、を含む露光方法。 - 請求項25記載の露光方法で基板を露光することと、
露光された前記基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。 - パターンの像を基板に転写する露光装置であって、
請求項1〜16のいずれか一項記載の光学素子と、
前記光学素子に光を照射する光学系と、
前記光学素子から射出された光を検出する検出装置と、を備える露光装置。 - 請求項1〜16のいずれか一項記載の光学素子を用いて所定の光学特性を計測することと、
前記光学特性の計測結果に基づいて、パターンの像を基板に転写することと、
を含む、露光方法。 - 光源と、
投影光学系と、
前記光源からの光が照射される光学素子と、を備え、
前記光学素子は、
前記光が通過する孔と、
前記孔を囲み、前記孔の軸方向と交差する面と、
前記孔の近傍に配置され、前記面で結ばれる2つのコーナーであり、前記光に照射され、各々で励起した表面プラズモンが互いに干渉する、前記2つのコーナーと、
を有する、露光装置。 - 光源と、
投影光学系と、
前記光源からの光が照射される光学素子と、を備え、
前記光学素子は、
前記光が通過する孔と、
前記孔の近傍に配置され、各々が前記孔を囲み、前記光に照射される2つのコーナーを有する段差構造であり、前記2つのコーナーで励起した表面プラズモンが互いに干渉する、前記段差構造と、
を有する、露光装置。 - 光源と、
投影光学系と、
前記光源からの光が照射される光学素子と、を備え、
前記光学素子は、
前記光が通過する孔と、
前記孔の近傍に配置され、各々が前記孔を囲み、前記光に照射される2つのコーナーを有するバンクであり、前記2つのコーナーで励起した表面プラズモンが互いに干渉する、前記バンクと、
を有する、露光装置。 - 露光装置に用いられる光学素子であって、
光が通過する孔と、
前記孔を囲み、前記孔の軸方向と交差する面と、
前記孔の近傍に配置され、前記面で結ばれる2つのコーナーであり、前記光に照射され、各々で励起した表面プラズモンが互いに干渉する、前記2つのコーナーと、
を有する、光学素子。 - 露光装置に用いられる光学素子であって、
光が通過する孔と、
前記孔の近傍に配置され、前記孔を囲み、前記光に照射される2つのコーナーを有する段差構造であり、前記2つのコーナーの励起した表面プラズモンが互いに干渉する、前記段差構造と、
を備える、光学素子。 - 露光装置に用いられる光学素子であって、
光が通過する孔と、
前記孔の近傍に配置され、前記孔を囲み、前記光に照射される2つのコーナーを有するバンクであり、前記2つのコーナーの各々で励起した表面プラズモンが互いに干渉する、前記バンクと、
を備える、光学素子。 - 請求項32〜34のいずれか一項記載の光学素子を用いて所定の光学特性を計測することと、
前記光学特性の計測結果に基づいて、パターンの像を基板に転写することと、
を含む、露光方法。 - 請求項35記載の露光方法を用いて基板を露光することと、
露光された前記基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6092446B1 (ja) * | 2015-10-23 | 2017-03-08 | デクセリアルズ株式会社 | 部分駆動型光源装置及びそれを用いた画像表示装置 |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6866565B2 (ja) * | 2016-01-20 | 2021-04-28 | ウシオ電機株式会社 | 光源装置 |
US10839972B2 (en) | 2017-03-14 | 2020-11-17 | Joseph T. Young | High resolution X-Ray imaging system |
JP7063754B2 (ja) * | 2018-07-13 | 2022-05-09 | 浜松ホトニクス株式会社 | 光モジュール及び反射型エンコーダ |
CN114740687B (zh) * | 2022-06-09 | 2022-11-01 | 上海传芯半导体有限公司 | 曝光光线频率增强装置、光掩模及其制备方法 |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001256664A (ja) * | 2000-03-08 | 2001-09-21 | Hitachi Ltd | プラズモンを用いた記録再生ヘッドおよびその作製法 |
US20030173501A1 (en) * | 2002-03-14 | 2003-09-18 | Nec Research Institute, Inc. | Enhanced optical transmission apparatus with imporved aperture geometry |
JP2004213000A (ja) * | 2003-01-06 | 2004-07-29 | Nec Corp | 光学素子、それを用いた光ヘッドおよび光記録再生装置 |
US6834027B1 (en) * | 2000-02-28 | 2004-12-21 | Nec Laboratories America, Inc. | Surface plasmon-enhanced read/write heads for optical data storage media |
JP2006040347A (ja) * | 2004-07-23 | 2006-02-09 | Fuji Xerox Co Ltd | 近接場光出射素子および光ヘッド |
JP2006091204A (ja) * | 2004-09-22 | 2006-04-06 | Shimadzu Corp | 回折格子 |
JP2006259064A (ja) * | 2005-03-16 | 2006-09-28 | Fdk Corp | 表面プラズモンによる電界増強方法及びデバイス |
JP2008525838A (ja) * | 2004-12-22 | 2008-07-17 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 放射状偏向放射線を用いた、小開口を通る光の透過性を向上させる機器および方法 |
JP2009010329A (ja) * | 2007-06-06 | 2009-01-15 | National Cheng Kung Univ | 電磁波伝播構造 |
WO2009141353A1 (fr) * | 2008-05-20 | 2009-11-26 | Commissariat A L'energie Atomique | Dispositif de focalisation de lumiere a des dimensions sub-longueur d'onde a fort rendement |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100300618B1 (ko) | 1992-12-25 | 2001-11-22 | 오노 시게오 | 노광방법,노광장치,및그장치를사용하는디바이스제조방법 |
JP3316833B2 (ja) | 1993-03-26 | 2002-08-19 | 株式会社ニコン | 走査露光方法、面位置設定装置、走査型露光装置、及び前記方法を使用するデバイス製造方法 |
JPH09219354A (ja) | 1996-02-13 | 1997-08-19 | Nikon Corp | 位置検出装置及び該装置を備えた露光装置 |
KR970062816A (ko) | 1996-02-13 | 1997-09-12 | 박병재 | 헤드 램프를 이용한 엔진룸 조사 장치 |
WO1999060361A1 (fr) | 1998-05-19 | 1999-11-25 | Nikon Corporation | Instrument et procede de mesure d'aberrations, appareil et procede de sensibilisation par projection incorporant cet instrument, et procede de fabrication de dispositifs associe |
WO2003029751A1 (fr) | 2001-09-27 | 2003-04-10 | Nikon Corporation | Procede et dispositif d'interferometrie a diffraction ponctuelle |
US7667829B2 (en) | 2004-08-09 | 2010-02-23 | Nikon Corporation | Optical property measurement apparatus and optical property measurement method, exposure apparatus and exposure method, and device manufacturing method |
JP2006351091A (ja) | 2005-06-15 | 2006-12-28 | Fuji Xerox Co Ltd | 光アシスト磁気記録ヘッド |
-
2012
- 2012-03-22 JP JP2013506003A patent/JP6248345B2/ja active Active
- 2012-03-22 WO PCT/JP2012/057354 patent/WO2012128323A1/ja active Application Filing
-
2013
- 2013-09-18 US US14/030,586 patent/US9389345B2/en active Active
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6834027B1 (en) * | 2000-02-28 | 2004-12-21 | Nec Laboratories America, Inc. | Surface plasmon-enhanced read/write heads for optical data storage media |
JP2001256664A (ja) * | 2000-03-08 | 2001-09-21 | Hitachi Ltd | プラズモンを用いた記録再生ヘッドおよびその作製法 |
US20030173501A1 (en) * | 2002-03-14 | 2003-09-18 | Nec Research Institute, Inc. | Enhanced optical transmission apparatus with imporved aperture geometry |
JP2004213000A (ja) * | 2003-01-06 | 2004-07-29 | Nec Corp | 光学素子、それを用いた光ヘッドおよび光記録再生装置 |
JP2006040347A (ja) * | 2004-07-23 | 2006-02-09 | Fuji Xerox Co Ltd | 近接場光出射素子および光ヘッド |
JP2006091204A (ja) * | 2004-09-22 | 2006-04-06 | Shimadzu Corp | 回折格子 |
JP2008525838A (ja) * | 2004-12-22 | 2008-07-17 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 放射状偏向放射線を用いた、小開口を通る光の透過性を向上させる機器および方法 |
JP2006259064A (ja) * | 2005-03-16 | 2006-09-28 | Fdk Corp | 表面プラズモンによる電界増強方法及びデバイス |
JP2009010329A (ja) * | 2007-06-06 | 2009-01-15 | National Cheng Kung Univ | 電磁波伝播構造 |
WO2009141353A1 (fr) * | 2008-05-20 | 2009-11-26 | Commissariat A L'energie Atomique | Dispositif de focalisation de lumiere a des dimensions sub-longueur d'onde a fort rendement |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6092446B1 (ja) * | 2015-10-23 | 2017-03-08 | デクセリアルズ株式会社 | 部分駆動型光源装置及びそれを用いた画像表示装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US9389345B2 (en) | 2016-07-12 |
JP6248345B2 (ja) | 2017-12-20 |
WO2012128323A1 (ja) | 2012-09-27 |
US20140017603A1 (en) | 2014-01-16 |
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