JPWO2011077653A1 - スパッタリング方法およびスパッタリング装置 - Google Patents
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Abstract
Description
上記実施形態においては、カソードシャッター14、ターゲットホルダー6、及び筒型シールド40によって囲まれたターゲット空間に設けられた導入口34からプロセスガスを導入したが、これに限定されず、スパッタリング空間内であればどこに第1ガス配管(第1不活性ガス導入口)を設けてもよい。また、第1ガス配管34、及び第2ガス配管35から導入するプロセスガスとしては、アルゴン、キセノン、クリプトンなどの不活性ガスでも、酸素、窒素などの反応性ガスであってもよい。また、第1ガス配管34から導入するプロセスガスと、第2ガス配管35から導入するプロセスガスは、同一のガスであっても、異種のガスであってもよい。さらに、上述の実施形態では、第1ガス導入口からプロセスガスを導入する第1ガス導入ステップの後に、スパッタリング空間の外側に設けられた第2ガス導入口からプロセスガスを導入する第2ガス導入ステップを実施したが、これに限定されず、流量を調整することで、例えば、第2ガス導入ステップの後、又は同時に、第1ガス導入ステップをおこなってもよい。
Claims (13)
- 処理チャンバー内のターゲットに電圧を印加してスパッタリングすることにより、電子デバイスを製造する電子デバイスの製造方法であって、
前記処理チャンバー内に設けられた防着板、基板ホルダー及び前記ターゲットによって画定されたスパッタリング空間に設けられた第1ガス導入口からプロセスガスを導入する第1ガス導入ステップと、
前記第1ガス導入ステップの後、前記ターゲットに電圧を印加する電圧印加ステップと、
前記スパッタリング空間の外側に設けられた第2ガス導入口からプロセスガスを導入する第2ガス導入ステップと、を含むことを特徴とする電子デバイスの製造方法。 - 前記ターゲットの前方には、カソードシャッターが設けられており、
前記第1ガス導入口は、前記カソードシャッターと前記ターゲット、及び該ターゲットの周囲を囲むシールドとによって囲まれたターゲット空間に設けられたことを特徴とする請求項1に記載の電子デバイスの製造方法。 - 前記第1ガス導入口は、前記ターゲットの周囲に設けられたシールドの先端に設けられていることを特徴とする請求項1に記載の電子デバイスの製造方法。
- 前記第2ガス導入口は、前記カソードシャッターと前記処理チャンバーの内壁との間に設けられていることを特徴とする請求項1に記載の電子デバイスの製造方法。
- さらに、前記防着板を、別の防着板に交換するステップを含むことを特徴とする請求項1に記載の電子デバイスの製造方法。
- さらに、前記防着板を取り外し、洗浄するステップと、洗浄された前記防着板を前記処理チャンバーに取り付けるステップと、を含むことを特徴とする請求項1に記載の電子デバイスの製造方法。
- 前記スパッタリング空間に設けられた第3ガス導入口から反応性ガスを導入することを特徴とする請求項1に記載の電子デバイスの製造方法。
- 処理チャンバーと、
前記処理チャンバーに設けられた基板ホルダーと、
前記処理チャンバーに設けられ、ターゲットを保持するためのターゲットホルダーと、
前記処理チャンバー内に設けられ、前記ターゲットホルダーと基板ホルダーとの間でスパッタリング空間を形成する防着板と、
前記スパッタリング空間に設けられ、プロセスガスを導入するための第1ガス導入口と、
前記スパッタリング空間の外側に設けられ、かつプロセスガスを導入する第2ガス導入口と、を備えることを特徴とするスパッタリング装置。 - 前記ターゲットホルダーの前方に設けられたカソードシャッターと、
前記ターゲットホルダーの周囲を囲む筒状シールドと、を有し、
前記第1ガス導入口は、前記カソードシャッター、前記ターゲットホルダー、及び前記筒型シールドによって囲まれたターゲット空間に設けられていることを特徴とする請求項8に記載のスパッタリング装置。 - 前記第1ガス導入口は、前記ターゲットの周囲に設けられた前記筒状シールドの先端に設けられていることを特徴とする請求項9に記載のスパッタリング装置。
- 前記第2ガス導入口は、前記カソードシャッターと前記処理チャンバーの内壁との間に設けられていることを特徴とする請求項8に記載のスパッタリング装置。
- 前記防着板は1つ以上の部材で構成され、前記1つ以上の部材の隙間から前記第2ガス導入口からのプロセスガスが前記スパッタリング空間へ導入されることを特徴とする請求項8に記載のスパッタリング装置。
- 前記スパッタリング空間に設けられ、反応性ガスを導入するため第3ガス導入口を備えることを特徴とする請求項8に記載のスパッタリング装置。
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