JP4598161B2 - 成膜装置、電子デバイスの製造方法 - Google Patents
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Description
前記処理チャンバーと排気口を介して接続された排気チャンバーと、
前記排気チャンバーに接続され、前記排気チャンバーを介して前記処理チャンバー内を排気する排気装置と、
前記処理チャンバー内に設置され、基板を載置する基板ホルダーと、
前記処理チャンバー内に設置され、前記基板に成膜するための成膜手段と、
前記基板ホルダーと前記成膜手段との間を遮蔽する遮蔽状態、または前記基板ホルダーと前記成膜手段との間から退避した退避状態に移動することが可能なシャッターと、
前記シャッターを前記遮蔽状態に、または前記退避状態にするために、当該シャッターを駆動する駆動手段と、
前記処理チャンバーと開口部を介して接続され、前記退避状態の前記シャッターを前記排気チャンバー内に収納するためのシャッター収納部と、
前記排気チャンバーの前記排気口を覆い、前記シャッター収納部の開口部の周囲に形成されているシールド部材と、を備え、
前記シールド部材は、前記シャッター収納部の前記開口部に対して前記成膜手段側の位置に、前記排気チャンバーの前記排気口と通じる排気路を有していることを特徴とする。
前記処理チャンバーと排気口を介して接続された排気チャンバーと、
前記排気チャンバーに接続され、前記排気チャンバーを介して前記処理チャンバー内を排気する排気装置と、
前記処理チャンバー内に設置され、基板を載置する基板ホルダーと、
前記処理チャンバー内に設置された成膜手段と、
前記基板ホルダーと前記成膜手段との間を遮蔽する遮蔽状態、または前記基板ホルダーと前記成膜手段との間から退避した退避状態に移動することが可能なシャッターと、
前記シャッターを前記遮蔽状態に、または前記退避状態にするために、当該当該シャッターを駆動する駆動手段と、
前記処理チャンバーと開口部を介して接続され、前記退避状態の前記シャッターを前記排気チャンバー内に収納するためのシャッター収納部と、
前記排気チャンバーの前記排気口を覆い、前記シャッター収納部の開口部の周囲に形成されているシールド部材と、を備え、
前記シールド部材は、前記シャッター収納部の前記開口部に対して前記成膜手段側の位置に、前記排気チャンバーの前記排気口と通じる排気路を有している成膜装置を用いた電子デバイスの製造方法であって、
前記駆動手段により前記シャッターを前記遮蔽状態にする第1工程と、
前記第1工程の後に、前記遮蔽状態を維持したまま、前記成膜手段により、成膜する第2工程と、
前記第2工程の後に、前記駆動手段により前記シャッターを退避状態にするとともに、前記成膜手段により、前記基板ホルダーに載置された前記基板に成膜する第3工程と、
を有することを特徴とする。
Claims (11)
- 成膜処理を行うための処理チャンバーと、
前記処理チャンバーと排気口を介して接続された排気チャンバーと、
前記排気チャンバーに接続され、前記排気チャンバーを介して前記処理チャンバー内を排気する排気装置と、
前記処理チャンバー内に設置され、基板を載置する基板ホルダーと、
前記処理チャンバー内に設置され、前記基板に成膜するための成膜手段と、
前記基板ホルダーと前記成膜手段との間を遮蔽する遮蔽状態、または前記基板ホルダーと前記成膜手段との間から退避した退避状態に移動することが可能なシャッターと、
前記シャッターを前記遮蔽状態に、または前記退避状態にするために、当該シャッターを駆動する駆動手段と、
前記処理チャンバーと開口部を介して接続され、前記退避状態の前記シャッターを前記排気チャンバー内に収納するためのシャッター収納部と、
前記排気チャンバーの前記排気口を覆い、前記シャッター収納部の開口部の周囲に形成されているシールド部材と、を備え、
前記シールド部材は、前記シャッター収納部の前記開口部に対して前記成膜手段側の位置に、前記排気チャンバーの前記排気口と通じる排気路を有していることを特徴とする成膜装置。 - 前記シールド部材は、前記シャッター収納部の前記開口部に対応した位置に開口部を有し、前記排気口を覆う第1のシールドと、
前記シャッター収納部の前記開口部に対して前記成膜手段側の位置に設けられており、前記排気口を覆う第2のシールドと、を有し
前記第1のシールドと、前記第2のシールドとの隙間により、前記排気路が形成されることを特徴とする請求項1に記載の成膜装置。 - 前記シールド部材は、前記シャッター収納部の前記開口部に対して、前記成膜手段とは反対側に設けられており、前記排気口を覆う第3のシールドを更に備え、前記第1のシールドと、前記第3のシールドとの隙間により、前記排気チャンバーの排気口と通じる補助排気路が形成されることを特徴とする請求項2に記載の成膜装置。
- 前記排気路及び前記補助排気路は、ラビリンス形状を有していることを特徴とする請求項3に記載の成膜装置。
- 前記第1のシールドと前記第2のシールドとは、前記処理チャンバーの内面を保護するためのシールド部材として構成され、
前記第3のシールドは、前記基板ホルダーに連結されていることを特徴とする請求項3に記載の成膜装置。 - 前記基板ホルダーを上昇または降下させる基板ホルダー駆動手段を更に備え、
前記基板ホルダー駆動手段による前記基板ホルダーの移動に従って、前記補助排気路の排気コンダクタンスは変更可能であることを特徴とする請求項3または4に記載の成膜装置。 - 前記基板ホルダー駆動手段により前記基板ホルダーが上昇した位置で、前記排気路の排気コンダクタンスは、前記補助排気路の排気コンダクタンスより大きいことを特徴とする請求項6に記載の成膜装置。
- 前記処理チャンバーに基板を搬入するための位置まで、または前記基板を前記処理チャンバーから搬出するための位置まで、前記基板ホルダー駆動手段により前記基板ホルダーを降下させた場合に、
前記補助排気路の排気コンダクタンスは、前記排気路の排気コンダクタンスより大きくなることを特徴とする請求項6に記載の成膜装置。 - 成膜処理を行うための処理チャンバーと、
前記処理チャンバーと排気口を介して接続された排気チャンバーと、
前記排気チャンバーに接続され、前記排気チャンバーを介して前記処理チャンバー内を排気する排気装置と、
前記処理チャンバー内に設置され、基板を載置する基板ホルダーと、
前記処理チャンバー内に設置された成膜手段と、
前記基板ホルダーと前記成膜手段との間を遮蔽する遮蔽状態、または前記基板ホルダーと前記成膜手段との間から退避した退避状態に移動することが可能なシャッターと、
前記シャッターを前記遮蔽状態に、または前記退避状態にするために、当該当該シャッターを駆動する駆動手段と、
前記処理チャンバーと開口部を介して接続され、前記退避状態の前記シャッターを前記排気チャンバー内に収納するためのシャッター収納部と、
前記排気チャンバーの前記排気口を覆い、前記シャッター収納部の開口部の周囲に形成されているシールド部材と、を備え、
前記シールド部材は、前記シャッター収納部の前記開口部に対して前記成膜手段側の位置に、前記排気チャンバーの前記排気口と通じる排気路を有している成膜装置を用いた電子デバイスの製造方法であって、
前記駆動手段により前記シャッターを前記遮蔽状態にする第1工程と、
前記第1工程の後に、前記遮蔽状態を維持したまま、前記成膜手段により、成膜する第2工程と、
前記第2工程の後に、前記駆動手段により前記シャッターを退避状態にするとともに、前記成膜手段により、前記基板ホルダーに載置された前記基板に成膜する第3工程と、
を有することを特徴とする電子デバイスの製造方法。 - 前記成膜手段は、ターゲットが保持されたターゲットホルダーを有することを特徴とする請求項9に記載の電子デバイスの製造方法。
- 前記成膜手段は、ターゲットが保持されたターゲットホルダーを有し、
前記成膜装置は、
前記ターゲットと前記基板との間を開閉することが可能であって、その開閉の位置は前記シャッターの遮蔽状態の位置よりも前記ターゲットに近い、ターゲットシャッターと、
前記ターゲットシャッターを駆動するターゲットシャッター駆動手段と、を更に備え、
前記第2工程は、前記ターゲットシャッター駆動手段により前記ターゲットシャッターを開状態として、ターゲットをスパッタリングするコンディショニング工程を含むことを特徴とする請求項9に記載の電子デバイスの製造方法。
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