TW201444998A - 導向組件及具有該導向組件的鍍膜裝置 - Google Patents

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Abstract

一種導向組件,其用於一鍍膜裝置中,該鍍膜裝置包括一鍍膜源及一鍍膜傘架。該導向組件位於該鍍膜源與該鍍膜傘架之間。該導向組件包括一馬達、一與該馬達傳動連接的傳動件及複數與該傳動件固定連接的導向板。該馬達藉由該傳動件帶動該複數導向板轉動。該複數導向板用於控制從該鍍膜源被激發出來的粒子的運動方向。另,本發明還涉及一種鍍膜裝置。

Description

導向組件及具有該導向組件的鍍膜裝置
本發明涉及一種導向組件及具有該導向組件的鍍膜裝置。
為了改善產品的外觀,通常需要在產品的表面塗覆一層裝飾膜,這種裝飾膜通常是採用鍍膜裝置塗布在產品的表面。真空蒸鍍便是一種最常用的鍍膜裝置,其藉由轟擊靶材,將靶材中的粒子激發出來,被激發出來的粒子附著在工件表面便形成了所需要的膜層。
一般待鍍膜工件被固設在一傘狀的支撐裝置上,靶材被固定在濺鍍腔體內,雖然在鍍膜過程中支撐裝置會旋轉,惟,由於被激發出來的粒子的方向不會產生變化,仍然會產生鍍膜不均勻的現象,從而影響鍍膜的品質。
有鑒於此,有必要提供一種鍍膜均勻的導向組件及具有該導向組件的鍍膜裝置。
一種導向組件,其用於一鍍膜裝置中,該鍍膜裝置包括一鍍膜源及一鍍膜傘架,該導向組件位於該鍍膜源與該鍍膜傘架之間,該導向組件包括一馬達、一與該馬達傳動連接的傳動件及複數與該傳動件固定連接的導向板,該馬達藉由該傳動件帶動該複數導向板轉動,該複數導向板用於控制從該鍍膜源被激發出來的粒子的運動方向。
一種具有上述導向組件的鍍膜裝置,其包括一腔體、一鍍膜源及一鍍膜傘架,該鍍膜源設置於該腔體的底部,該鍍膜傘架固設於該腔體的頂部並與該鍍膜源相對,該導向組件位於該鍍膜源與該鍍膜傘架之間。
本發明的導向組件及具有該導向組件的鍍膜裝置,藉由增設一導向組件來控制從該鍍膜源被激發出來的粒子的運動方向,使鍍膜更加均勻,提高鍍膜品質。
10...鍍膜裝置
11...腔體
111...抽氣孔
12...鍍膜源
13...真空抽取單元
14...控制器
15...鍍膜傘架
151...承載孔
20...導向組件
21...固定框
210...開口
211...第一邊框
2111...第一側壁
2111a...通孔
2112...容置孔
2113...第三側壁
2114...第四側壁
2114a...第二盲孔
212...第二邊框
2121...第二側壁
2121a...第一盲孔
22...馬達
221...底座
222...驅動軸
23...傳動件
231...滾輪
2311...軸孔
232...連接桿
233...傳動帶
24...導向板
241...第一端
2411...第三盲孔
242...第二端
2421...突起
圖1為本發明提供的鍍膜裝置的結構示意圖。
圖2為圖1中的鍍膜裝置的導向組件的組裝示意圖。
圖3為圖2中的導向組件的一方向的分解示意圖。
圖4為圖2中的導向組件的另一方向的分解示意圖。
下面將結合附圖對本發明實施方式作進一步的詳細說明。
請參閱圖1,為本發明實施方式的鍍膜裝置10,該鍍膜裝置10包括一腔體11、一鍍膜源12、一真空抽取單元13、一控制器14、一鍍膜傘架15及一導向組件20。
該鍍膜源12設置於該腔體11的底部。該腔體11開設一抽氣孔111。該真空抽取單元13位於該腔體11外並與該抽氣孔111對應,該真空抽取單元13用於對該腔體11抽真空。該控制器14位於該腔體11外並與該真空抽取單元13及該鍍膜傘架15電性連接。該鍍膜傘架15固設於該腔體11的頂部並與該鍍膜源12相對。該鍍膜傘架15為弧面結構,其上開設有複數承載孔151,該鍍膜傘架15可以繞其中心旋轉。鍍膜時,待鍍膜工件容置於該承載孔151,待鍍表面朝向該鍍膜源12。
該導向組件20設置於該腔體11的內壁上,且位於該鍍膜源12與該鍍膜傘架15之間,用於控制從該鍍膜源12被激發出來的粒子的運動方向。請結合圖2,該導向組件20包括一固定框21、一馬達22、一傳動件23及複數導向板24。
請結合圖3及圖4,該固定框21大致呈方形,其中心具有一方形的開口210,該固定框21包括相互平行且相對設置的第一邊框211及第二邊框212。該第一邊框211及該第二邊框212固定於該腔體11的內壁上。該第一邊框211具有一面向該第二邊框212的第一側壁2111,該第二邊框212具有一面向該第一邊框211的第二側壁2121。該第一邊框211上開設有一條形的容置孔2112,該容置孔2112包括一與該第一側壁2111平行的第三側壁2113及一與該第三側壁2113平行且相對的第四側壁2114。該第一側壁2111上開設有複數貫穿該第一側壁2111及該第三側壁2113的通孔2111a。該第二側壁2121上開設有複數與該通孔2111a對應的第一盲孔2121a。該第四側壁2114上開設有複數與該通孔2111a對應的第二盲孔2114a。
該馬達22被設置於該腔體11的內壁上且與該控制器14電連接,其包括一底座221及一設置於該底座221上的驅動軸222。該底座221用於與該腔體11的內壁固定連接。該傳動件23包括複數滾輪231、複數連接桿232及一傳動帶233,每個滾輪231沿軸向開設有軸孔2311,每個連接桿232穿設於該軸孔2311內使該連接桿232的一端可轉動地被收容於該第二盲孔2114a內,另一端穿過該通孔2111a且從該第一側壁2111露出,該連接桿232與該軸孔2311為緊配合且可以在該通孔2111a內轉動。該傳動帶233套設在複數滾輪231與該驅動軸222上,用於帶動該滾輪231隨著該驅動軸222轉動。
該導向板24呈條形板狀,其設置於該第一側壁2111及該第二側壁2121之間。每個導向板24包括一第一端241及一與該第一端241相對的第二端242,該第一端241上開設有一第三盲孔2411,該第二端242上設有一突起2421。該第一端241的第三盲孔2411與從該第一側壁2111露出的連接桿232緊配合,從而使該第一端241與該連接桿232固定連接。該第二端242的突起2421與該第二側壁2121的第一盲孔2121a配合,使該第二端242與該第二側壁2121轉動連接。其中,該突起2421由軟性材質製成,如塑膠,如此,可以方便將該導向板24組裝到該第一側壁2111及該第二側壁2121之間。
組裝該導向組件20時,先將該連接桿232的穿過該通孔2111a,再將該滾輪231套設於該連接桿232上的一固定位置,然後將該傳動帶233套設於該複數滾輪231上,再將該連接桿232的穿設於該軸孔2311內使該連接桿232的一端可轉動地被收容於該第二盲孔2114a內,另一端穿過該通孔2111a且從該第一側壁2111露出,此時將該傳動帶233還套設於該驅動軸222上,再將該驅動軸222設置於該底座221上,使該傳動帶233被該複數滾輪231及驅動軸222撐起。將每個導向板24的第一端241的第三盲孔2411與該從該第一側壁2111露出的連接桿232緊配合,再將該導向板24的第二端242的突起2421卡合到該第一盲孔2121a內。
在使用該鍍膜裝置10進行鍍膜時,該控制器14控制該真空抽取單元13抽取真空,該鍍膜源12產生的離子沉積在收容於該承載孔151內的待鍍膜工件上。在此過程中,該控制器14一方面控制該鍍膜傘架15繞其中心旋轉以使鍍膜均勻,另一方面控制該馬達22的驅動軸222帶動傳動帶233轉動,從而帶動該複數滾輪231轉動,由於該滾輪231與該連接桿232為緊配合,且該連接桿232與該第三盲孔2411也為緊配合,所以該滾輪231可以藉由該連接桿232帶動該導向板24沿該連接桿232的軸向轉動,從而藉由轉動該導向板24來控制從該鍍膜源12被激發出來的粒子的運動方向,使鍍膜更加均勻,提高鍍膜品質。
可以理解,該鍍膜裝置10還可以藉由控制該導向元件20實現鍍深淺不同的膜層。
綜上所述,本發明確已符合發明專利之要件,遂依法提出專利申請。惟,以上所述者僅為本發明之較佳實施方式,自不能以此限制本案之申請專利範圍。舉凡熟悉本案技藝之人士爰依本發明之精神所作之等效修飾或變化,皆應涵蓋於以下申請專利範圍內。
20...導向組件
210...開口
211...第一邊框
2111a...通孔
2112...容置孔
2113...第三側壁
212...第二邊框
2121...第二側壁
2121a...第一盲孔
22...馬達
221...底座
222...驅動軸
231...滾輪
2311...軸孔
232...連接桿
233...傳動帶
24...導向板
241...第一端
2411...第三盲孔

Claims (10)

  1. 一種導向組件,其用於一鍍膜裝置中,該鍍膜裝置包括一鍍膜源及一鍍膜傘架,該導向組件位於該鍍膜源與該鍍膜傘架之間,該導向組件包括一馬達、一與該馬達傳動連接的傳動件及複數與該傳動件固定連接的導向板,該馬達藉由該傳動件帶動該複數導向板轉動,該複數導向板用於控制從該鍍膜源被激發出來的粒子的運動方向。
  2. 如請求項1所述之導向組件,其中,該導向組件還包括一固定框,該固定框包括相互平行且相對設置的第一邊框及第二邊框,該第一邊框具有一面向該第二邊框的第一側壁,該第二邊框具有一面向該第一邊框的第二側壁,該導向板活動設置於該第一側壁及該第二側壁之間。
  3. 如請求項2所述之導向組件,其中,該第一邊框上開設有一用於收容該傳動件容置孔,該導向板包括一第一端及與該第一端相對的第二端,該第一端與傳動件固定連接,該第二端與活動連接於該第二側壁上。
  4. 如請求項3所述之導向組件,其中,該容置孔包括一與該第一側壁平行的第三側壁,該第一側壁上開設有複數貫穿該第一側壁及該第三側壁的通孔,該第一端穿過該通孔與該傳動件固定連接,該第二端可轉動地設置於該第二側壁。
  5. 如請求項4所述之導向組件,其中,該第二側壁上開設有複數與該通孔對應的第一盲孔,該導向板的第二端設有一突起,該導向板藉由該突起與該第一盲孔配合可轉動地設置於該第二側壁。
  6. 如請求項4所述之導向組件,其中,該容置孔還包括一與該第三側壁平行且相對的第四側壁,該第四側壁上開設有複數與該通孔對應的第二盲孔,該導向板的第一端上設有第三盲孔,該傳動件包括複數滾輪及複數連接桿,每個滾輪沿軸向開設有軸孔,每個連接桿穿設於該軸孔內且與該軸孔緊配合,該連接桿的一端可轉動地被收容於該第二盲孔內,另一端穿過該通孔固定於該第一端的第三盲孔內。
  7. 如請求項6所述之導向組件,其中,該馬達包括一底座及一設置於該底座上的驅動軸,該傳動件還包括一傳動帶,該傳動帶套設在複數滾輪與該驅動軸上,用於帶動該滾輪隨著該驅動軸轉動。
  8. 一種具有如請求項1所述之導向組件的鍍膜裝置,其包括一腔體、一鍍膜源及一鍍膜傘架,該鍍膜源設置於該腔體的底部,該鍍膜傘架固設於該腔體的頂部並與該鍍膜源相對,該導向組件位於該鍍膜源與該鍍膜傘架之間。
  9. 如請求項8所述之鍍膜裝置,其中,該鍍膜裝置還包括一真空抽取單元及一控制器,該腔體開設一抽氣孔,該真空抽取單元位於該腔體外並與該抽氣孔對應,用於對該腔體抽真空,該控制器位於該腔體外並與該真空抽取單元、鍍膜傘架及導向組件的傳動件電連接。
  10. 如請求項8所述之鍍膜裝置,其中,該導向組件還包括一固定框,該固定框包括相互平行且相對設置的第一邊框及第二邊框,該第一邊框及該第二邊框固定於該腔體的內壁上,馬達與該腔體的內壁固定連接。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2023179605A1 (zh) * 2022-03-25 2023-09-28 北京北方华创微电子装备有限公司 进气组件、工艺腔室及半导体工艺设备

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109989046B (zh) * 2018-01-03 2021-05-07 宁波舜宇车载光学技术有限公司 元器件镀膜设备
CN113019756B (zh) * 2021-03-11 2021-11-23 胜大科技有限公司 一种ar眼镜生产用镜片表面保护膜贴敷设备

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07335553A (ja) * 1994-06-08 1995-12-22 Tel Varian Ltd 処理装置および処理方法
CN1891848A (zh) * 2005-07-01 2007-01-10 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 光学镀膜装置
US20090011573A1 (en) * 2007-07-02 2009-01-08 Solyndra, Inc. Carrier used for deposition of materials on a non-planar surface
WO2010061603A1 (ja) * 2008-11-28 2010-06-03 キヤノンアネルバ株式会社 成膜装置、電子デバイスの製造方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2023179605A1 (zh) * 2022-03-25 2023-09-28 北京北方华创微电子装备有限公司 进气组件、工艺腔室及半导体工艺设备

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