CN1891848A - 光学镀膜装置 - Google Patents

光学镀膜装置 Download PDF

Info

Publication number
CN1891848A
CN1891848A CNA2005100357471A CN200510035747A CN1891848A CN 1891848 A CN1891848 A CN 1891848A CN A2005100357471 A CNA2005100357471 A CN A2005100357471A CN 200510035747 A CN200510035747 A CN 200510035747A CN 1891848 A CN1891848 A CN 1891848A
Authority
CN
China
Prior art keywords
coating device
optical coating
base plate
plate carrying
carrying mechanism
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CNA2005100357471A
Other languages
English (en)
Inventor
简士哲
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hongfujin Precision Industry Shenzhen Co Ltd
Hon Hai Precision Industry Co Ltd
Original Assignee
Hongfujin Precision Industry Shenzhen Co Ltd
Hon Hai Precision Industry Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hongfujin Precision Industry Shenzhen Co Ltd, Hon Hai Precision Industry Co Ltd filed Critical Hongfujin Precision Industry Shenzhen Co Ltd
Priority to CNA2005100357471A priority Critical patent/CN1891848A/zh
Priority to US11/448,180 priority patent/US20070000443A1/en
Publication of CN1891848A publication Critical patent/CN1891848A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
    • C23C14/044—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks using masks to redistribute rather than totally prevent coating, e.g. producing thickness gradient

Abstract

本发明是关于一种光学镀膜装置，包括真空镀膜室、基板承载机构、多个坩埚系统及多个修正板，其中基板承载机构设置于真空镀膜室的上部，坩埚系统位于真空镀膜室内基板承载机构下部，其中该多个修正板通过旋转机构可旋转的遮盖于基板承载机构与坩埚系统之间。

Description

光学镀膜装置
【技术领域】
本发明是关于一种光学镀膜装置，尤其是关于一种镀膜均匀的光学镀膜装置。
【背景技术】
目前，光学薄膜广泛应用于光学仪器，如传感器、半导体雷射、干涉仪、眼镜以及光纤通讯组件等很多领域。光学薄膜通常是通过干涉作用而达到其预期效果，其是指于光学组件或独立基板上镀上一层或多层的介电质膜或金属膜来改变光波传输特性。
目前，光学薄膜制作通常以物理蒸镀法为主(physics vapor deposition，简称PVD)，该方法为将薄膜材料由固态转化为气态或离子态，气态或离子态的材料，由蒸发源穿越空间，抵达基板表面，材料抵达基板表面后，将沉积而逐渐形成薄膜。通常，为了制作高纯度的薄膜，镀膜的制程须于高真空环境下完成。由此延伸出真空镀膜，一般做法为将基片以超音波洗净机洗净，洗净后排上夹具，送入镀膜机，进行加热及抽真空。达到高真空后，开始镀膜。镀膜时，以电子枪或电阻式加热，将薄膜材料变成离子态，镀膜时间则视层数及程序不同而有长短。镀膜完毕后，待温度冷却后取出。
在现有的光学镀膜设备中，通常会使用伞状结构的基板承载架。当使用伞状结构的基板承载架进行镀膜时，通常会于基板承载架下方设置一修正板(mask)，用来修正镀膜时伞状结构的基板承载架的内圈与外圈所产生的厚度差异，以达到较均匀的厚度。但如需制作精度较高的光学组件时，则需要更好的方法来解决使用单一片修正板所产生镀膜均匀度的误差。尤其使用多种以上蒸镀材料来制作光学组件时，因为蒸镀出的粒子大小不同造成不同材料的蒸镀范围及角度存在差异，若只使用单一修正板容易因为不同材料的关系造成镀膜均匀度不好，从而无法达到高精度的要求。
【发明内容】
鉴于上述状况，有必要提供一种镀膜均匀的光学镀膜装置。
一种光学镀膜装置，包括真空镀膜室、基板承载机构、多个坩埚系统及多个修正板，其中基板承载机构设置于真空镀膜室的上部，坩埚系统位于真空镀膜室内基板承载机构下部，其中该多个修正板通过旋转机构可旋转的遮盖于基板承载机构与坩埚系统之间。
相较现有技术，本发明光学镀膜装置通过多个修正板分别对应不同的蒸镀源，可最大程度的修正镀膜时每一种膜层的均匀度。
【附图说明】
图1是本发明较佳实施例的光学镀膜装置示意图。
【具体实施方式】
请参阅图1所示，本发明较佳实施例的光学镀膜装置1包括真空镀膜室10、基板承载机构20、第一坩埚系统30、第二坩埚系统40、第一修正板50及第二修正板60。
该真空镀膜室10内部是一密封的真空环境。该基板承载机构20呈伞状，可拆卸的安装于真空镀膜室10的上部，且该基板承载机构20上设有多个基板固定位202，该多个基板固定位202于镀膜时可将多个基板固定于其上，该基板承载机构20上还设有驱动装置70，该驱动装置70于镀膜时可带动基板承载机构20高速旋转。
第一坩埚系统30及第二坩埚系统40安装于真空镀膜室10的下部，是用来容置镀膜时的蒸镀源，第一修正板50及第二修正板60安装于基板承载机构20的下方，第一修正板50及第二修正板60的面积分别对应于第一坩埚系统30及第二坩埚系统40内的不同蒸镀源材料而设计。该第一修正板50及第二修正板60通过一旋转机构80连结于一框架90上，该旋转机构80可为一铰链机构。该光学镀膜装置1还包括有电子枪激发系统(图未示)、真空度测量系统(图未示)及膜厚监测系统(图未示)，电子枪激发系统是用来激发蒸镀源，真空度测量系统是用来测量真空镀膜室10内的真空度，膜厚监测系统是用来测量基板上镀膜的厚度以控制镀膜进度。
镀膜前，将欲镀膜的基板固定于基板承载机构20上的基板固定位202内，然后将该基板承载机构20装入真空镀膜室10内，密封该真空镀膜室10，对该真空镀膜室10进行抽真空，达到预定的真空度后停止抽真空。然后激活基板承载机构20上的驱动装置使其以一定转速旋转，通过旋转机构将80将第一修正板50旋转并固定于基板承载机构20与第一坩埚系统30之间。激活电子枪激发系统激发第一坩埚系统30内的蒸镀源302，开始镀第一层膜，该第一修正板50可遮盖住基板承载机构20下方的部分区域，以调整镀膜时粒子较均匀的镀于基板表面。镀完第一层膜后，关闭电子枪激发系统。此时，如果第二修正板60的面积大于第一修正板50的面积，则直接通过旋转机构80将第二修正板60旋转并固定于基板承载机构20与第一坩埚系统30之间；如果第二修正板60面积小于第一修正板50的面积，则需将第一修正板50转回至初始位置，然后再将第二修正板60旋转并固定于基板承载机构20与第一坩埚系统30之间。然后激活电子枪激发系统激发第二坩埚系统40内的蒸镀源(图未标)，开始镀第二层膜。
通过膜厚测量系统对基板上的膜厚进行测量，达到预定厚度时停止镀膜，冷却后打开真空镀膜室10，取出基板承载机构20，将固定于其上的镀膜基板取下即可得到镀膜的光学组件。
可理解的，光学镀膜装置1还可包括更多的坩埚系统及修正板，用于调整镀膜的均匀度。

Claims (10)

1.一种光学镀膜装置，其包括真空镀膜室、基板承载机构及多个坩埚系统，该基板承载机构设置于真空镀膜室的上部，该坩埚系统位于真空镀膜室内基板承载机构下部，其特征在于：该光学镀膜装置还包括多个修正板，该多个修正板通过旋转机构可选择性地旋转遮盖于基板承载机构与坩埚系统之间。
2.如权利要求1所述的光学镀膜装置，其特征在于：所述坩埚系统内装有蒸镀源。
3.如权利要求2所述的光学镀膜装置，其特征在于：所述坩埚系统与修正板个数相同。
4.如权利要求3所述的光学镀膜装置，其特征在于：所述坩埚系统与修正板个数均为2个。
5.如权利要求1所述的光学镀膜装置，其特征在于：所述旋转机构是铰链机构。
6.如权利要求1所述的光学镀膜装置，其特征在于：该光学镀膜装置还包括电子枪激发系统。
7.如权利要求1所述的光学镀膜装置，其特征在于：该光学镀膜装置还包括真空度测量系统。
8.如权利要求1所述的光学镀膜装置，其特征在于：该光学镀膜装置还包括膜厚监测系统。
9.如权利要求1所述的光学镀膜装置，其特征在于：所述基板承载机构为伞状结构。
10.如权利要求9所述的光学镀膜装置，其特征在于：所述基板承载机构上设有多个基板固定位。
CNA2005100357471A 2005-07-01 2005-07-01 光学镀膜装置 Pending CN1891848A (zh)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CNA2005100357471A CN1891848A (zh) 2005-07-01 2005-07-01 光学镀膜装置
US11/448,180 US20070000443A1 (en) 2005-07-01 2006-06-07 Vacuum vapor deposition apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CNA2005100357471A CN1891848A (zh) 2005-07-01 2005-07-01 光学镀膜装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN1891848A true CN1891848A (zh) 2007-01-10

Family

ID=37588013

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CNA2005100357471A Pending CN1891848A (zh) 2005-07-01 2005-07-01 光学镀膜装置

Country Status (2)

Country Link
US (1) US20070000443A1 (zh)
CN (1) CN1891848A (zh)

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102220556A (zh) * 2010-04-19 2011-10-19 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 承载治具及承载装置
CN101603169B (zh) * 2008-06-11 2012-01-25 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 镀膜装置
CN101586231B (zh) * 2008-05-21 2012-05-30 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 镀膜装置
CN102517559A (zh) * 2011-12-28 2012-06-27 北京奥博泰科技有限公司 一种基片光学特性的在线膜厚直接监测系统及方法
CN101457349B (zh) * 2007-12-10 2013-01-09 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 镀膜修正板
CN101994095B (zh) * 2009-08-14 2013-03-20 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 镀膜伞架
CN104862656A (zh) * 2015-06-10 2015-08-26 光驰科技(上海)有限公司 双向沉积镀膜装置及镀膜方法
CN105887020A (zh) * 2016-06-30 2016-08-24 光驰科技(上海)有限公司 多蒸发源镀膜装置及其镀膜方法
CN115011943A (zh) * 2022-06-22 2022-09-06 中科光智(西安)科技有限公司 一种可切换的均匀性修正板组结构及其真空镀膜机
CN117127160A (zh) * 2023-08-30 2023-11-28 苏州佑伦真空设备科技有限公司 一种可大面积镀膜基板装置

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010529419A (ja) * 2007-05-01 2010-08-26 クゥアルコム・インコーポレイテッド ワイヤレス通信システムの位置特定
US8039052B2 (en) * 2007-09-06 2011-10-18 Intermolecular, Inc. Multi-region processing system and heads
US8330128B2 (en) * 2009-04-17 2012-12-11 Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. Implant mask with moveable hinged mask segments
TWI452163B (zh) * 2010-04-08 2014-09-11 Hon Hai Prec Ind Co Ltd 鍍膜治具
CN102211853A (zh) * 2010-04-09 2011-10-12 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 镀膜治具
CN102212783A (zh) * 2010-04-12 2011-10-12 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 镀膜支架及镀膜机
TW201200614A (en) * 2010-06-29 2012-01-01 Hon Hai Prec Ind Co Ltd Coating device
CN102337504B (zh) * 2010-07-19 2015-03-18 赛恩倍吉科技顾问（深圳）有限公司 膜料加工装置及具有该膜料加工装置的蒸镀设备
TW201245474A (en) * 2011-05-12 2012-11-16 Hon Hai Prec Ind Co Ltd Evaporation source device and a coating method using the same
TW201444998A (zh) * 2013-05-28 2014-12-01 Hon Hai Prec Ind Co Ltd 導向組件及具有該導向組件的鍍膜裝置
TWI578821B (zh) 2015-06-26 2017-04-11 鴻海精密工業股份有限公司 省電方法及低功耗藍牙設備
KR102597694B1 (ko) * 2021-06-23 2023-11-03 주식회사 아이브이티코리아 렌즈 코팅 장치 및 그 제어 방법

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2978364A (en) * 1956-03-05 1961-04-04 Fairchild Camera Instr Co Automatic control system for precision resistor manufacture
CH650028A5 (de) * 1980-09-26 1985-06-28 Balzers Hochvakuum Anordnung zum gleichfoermigen beschichten von rotationsflaechen durch bedampfen im hochvakuum.
US4942063A (en) * 1989-04-20 1990-07-17 North American Philips Corporation Method for controlling the thickness distribution of an interference filter
US6039806A (en) * 1998-04-20 2000-03-21 E-Tek Dynamics, Inc. Precision thickness optical coating system and method of operation thereof
US7195797B2 (en) * 2000-07-10 2007-03-27 Atomic Telecom High throughput high-yield vacuum deposition system
US20020008891A1 (en) * 2000-07-10 2002-01-24 Atomic Telecom Substrate fixture for high-yield production of thin film based dense wavelength division multiplexers
US6495010B2 (en) * 2000-07-10 2002-12-17 Unaxis Usa, Inc. Differentially-pumped material processing system
US6649208B2 (en) * 2001-04-17 2003-11-18 Wayne E. Rodgers Apparatus and method for thin film deposition onto substrates

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101457349B (zh) * 2007-12-10 2013-01-09 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 镀膜修正板
CN101586231B (zh) * 2008-05-21 2012-05-30 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 镀膜装置
CN101603169B (zh) * 2008-06-11 2012-01-25 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 镀膜装置
CN101994095B (zh) * 2009-08-14 2013-03-20 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 镀膜伞架
CN102220556A (zh) * 2010-04-19 2011-10-19 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 承载治具及承载装置
CN102517559A (zh) * 2011-12-28 2012-06-27 北京奥博泰科技有限公司 一种基片光学特性的在线膜厚直接监测系统及方法
CN104862656A (zh) * 2015-06-10 2015-08-26 光驰科技(上海)有限公司 双向沉积镀膜装置及镀膜方法
CN105887020A (zh) * 2016-06-30 2016-08-24 光驰科技(上海)有限公司 多蒸发源镀膜装置及其镀膜方法
CN105887020B (zh) * 2016-06-30 2019-04-02 光驰科技(上海)有限公司 多蒸发源镀膜装置及其镀膜方法
CN115011943A (zh) * 2022-06-22 2022-09-06 中科光智(西安)科技有限公司 一种可切换的均匀性修正板组结构及其真空镀膜机
CN117127160A (zh) * 2023-08-30 2023-11-28 苏州佑伦真空设备科技有限公司 一种可大面积镀膜基板装置

Also Published As

Publication number Publication date
US20070000443A1 (en) 2007-01-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN1891848A (zh) 光学镀膜装置
TW591202B (en) Dynamic film thickness control device/method and ITS coating method
US6649208B2 (en) Apparatus and method for thin film deposition onto substrates
US6206065B1 (en) Glancing angle deposition of thin films
US11732349B2 (en) In-line coater for vacuum deposition of thin film coatings
EP1778889A1 (de) Reinraumfähige beschichtungsanlage
CA2214546A1 (en) Method and apparatus for the high rate automated manufacture of thin films
JP2004269988A (ja) スパッタ装置
KR20120079716A (ko) 내지문 코팅 방법 및 장치
CN109136856B (zh) 膜厚监测装置、成膜设备
JP2005281859A (ja) 堆積厚測定方法、材料層の形成方法、堆積厚測定装置および材料層の形成装置
JP2005281858A (ja) 堆積厚測定方法、材料層の形成方法、堆積厚測定装置および材料層の形成装置
US4424103A (en) Thin film deposition
TWI391507B (zh) 光學鍍膜裝置
JP3264444B2 (ja) 両面同時撥水処理機構
Rademacher et al. Sputtering of dielectric single layers by metallic mode reactive sputtering and conventional reactive sputtering from cylindrical cathodes in a sputter-up configuration
RU2654991C1 (ru) Способ нанесения покрытий в вакууме
CN100543172C (zh) 光学镀膜装置
CN2736786Y (zh) 光学镀膜装置
JPH07109569A (ja) 薄膜形成方法
JP2011256442A (ja) 成膜方法
JP3964355B2 (ja) 気相成長装置および気相成長方法
JP2003205235A (ja) 傾斜膜の製造方法および装置
LV15606B (lv) Ierīce vakuuma pārklājumu izgatavošanai
CN108085742A (zh) 形成过渡金属二硫属化物（tmdc）材料层的方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Open date: 20070110