CN101994095B - 镀膜伞架 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种镀膜伞架,其包括伞架本体、转轴及遮罩。所述伞架本体开设有多个容置通孔,用于容置多个待镀工件。所述遮罩通过所述转轴可转动地设置于伞架本体,所述遮罩与所述伞架本体同轴并相互对应,用于遮挡伞架本体。所述遮罩具有自其中心向其边缘开设的第一开口,以使伞架本体的部分容置通孔从所述第一开口露出。

Description

镀膜伞架
技术领域
本发明涉及一种镀膜装置,尤其涉及一种用于蒸镀过程中能够防止待镀工件被污染的镀膜伞架。
背景技术
当前,许多工业产品表面都镀有功能薄膜,以改善产品表面的各种性能。如在光学镜片的表面镀上一层抗反射膜,以降低镜片表面的反射率,降低入射光通过镜片的能量损耗。又如在某些滤光元件表面镀上一层滤光膜,可滤掉某一预定波段的光,制成各种各样的滤光片。一般地,镀膜方法主要包括离子镀膜法、射频磁控溅镀、真空蒸发法、化学气相沉积法等。Ichiki,M.等人在2003年5月发表于2003 Symposium on Design,Test,Integration andPackaging of MEMS/MOEMS的论文Thin film formation-a fabrication on non-planarsurface by spray coating method中介绍了通过喷涂在非平面形成薄膜的方法。
蒸镀是一种物理气相沉积技术,即以物理的方式进行薄膜沉积。具体地,其通过离子束或电子束对蒸镀材料进行加热,使蒸镀材料变成气态或离子态,而沉积在待镀工件表面以形成一蒸镀材料膜层。
在对工件的某一面进行镀膜时,通常是将待镀工件固定于镀膜伞架上。在将待镀工件固定于伞架的过程时,待镀工件暴露在环境中,环境中的粒子附着于待镀工件的表面,使得上述粒子形成于镀膜内,造成镀膜产品不良。另外,蒸镀靶材设置于镀膜伞架下方,通过蒸发而将靶材冲至镀膜伞架,从而对待镀工件的朝向镀膜伞架下方的一面进行镀膜。然而,由于在蒸镀制程中,蒸镀源的离子在真空腔体内是以无序的方式运动,其容易从固定式伞架的周围流动至伞架上方,附着在待镀工件的周缘及另一面从而污染待镀工件。
发明内容
因此,有必要提供一种镀膜伞架,能够避免在待镀工件安装及进行镀膜过程时防止待镀工件污染。
一种镀膜伞架,其包括伞架本体、转轴及遮罩。所述伞架本体开设有多个容置通孔,用于容置多个待镀工件。所述遮罩通过所述转轴可转动地设置于伞架本体,所述遮罩与所述伞架本体同轴并相互对应,用于遮挡伞架本体。所述遮罩具有自其中心向其边缘开设的第一开口,以使伞架本体的部分容置通孔从所述第一开口露出。
相较于现有技术,本技术方案提供的镀膜伞架,其包括有可以相对转动的伞架本体和遮罩,遮罩遮挡伞架本体,遮罩开设有开口,待镀工件通过开口放置于伞架本体的容置通孔内,并通过转动遮罩,使得放置有待镀工件的容置通孔被遮罩遮挡,从而可以减少外界中的粒子附着于待镀工件的表面,从而可以提高镀膜工件镀膜的质量。
附图说明
图1是本技术方案第一实施例提供的镀膜伞架的立体示意图。
图2是本技术方案第一实施例提供的镀膜伞架的立体分解示意图。
图3是本技术方案第二实施例提供的镀膜伞架的立体分解示意图。
具体实施方式
下面将结合多个附图及实施例,对本技术方案提供的镀膜伞架作进一步的详细说明。
请一并参阅图1及图2,本发明实施例提供一种镀膜伞架100,其包括一个伞架本体110、旋转轴120、一个遮罩130、一个挡板140及一个固定件150。
伞架本体110具有相对的第一表面111和第二表面112。其中,第一表面111为内凹表面,其与蒸镀源相对。第二表面112为外凸表面。自第一表面111向第二表面112开设有多个容置通孔113,用于容置待镀工件。多个容置通孔113大小相等,且在伞架本体110上整齐排布。本实施例中,多个容置通孔113排列于以伞架本体110中心为圆心的多个同心圆周上。位于同一圆周上的多个容置通孔113等间距等角度设置。
转轴120固定于伞架本体110,并使得遮罩130和挡板140可相对伞架本体110转动。转轴120设置于伞架本体110的第二表面112中心向远离伞架本体110的方向延伸。转轴120与伞架本体110同轴设置。本实施例中,转轴120包括同轴设置且均为圆柱形的支撑段121和延伸段122。支撑段121的直径大于延伸段122的直径。在延伸段122远离支撑段121的一端,形成有外螺纹123。
遮罩130用于遮挡伞架本体110。遮罩130与伞架本体110的第二表面112相对。本实施例中,遮罩130也呈伞状,其尺寸与伞架本体110相当。遮罩130与伞架本体110相互平行且同轴设置。在遮罩130的中心开设有第一配合孔131,第一配合孔131的孔径小于支撑段121的直径且略大于延伸段122的直径。遮罩130通过第一配合孔131配合套入转轴120的延伸段122上,并使得遮罩130可以绕转轴120转动。由于支撑段121的直径大于第一配合孔131的直径,使得遮罩130与伞架本体110相互分离。自遮罩130的中心向其边缘开设有开口132,开口132的宽度大于容置通孔113的孔径。本实施例中,开口132与配合孔131不相连通。遮罩130遮挡伞架本体110时,伞架本体110的部分容置通孔113从开口132露出。
挡板140设置于遮罩130远离伞架本体110的一侧。挡板140用于在进行镀膜时遮挡开口132。本实施例中,挡板140的包括相互连接的安装部141和遮挡部142。安装部141呈圆片状,在其中心开设有第二配合孔143,第二配合孔143的孔径与第一配合孔131的孔径相等。第二配合孔143也配合套入延伸段122,挡板140可以绕转轴120转动。遮挡部142的形状与开口132的形状相同。通过旋转挡板140,可以使得挡板140的遮挡部142与遮罩130的开口132相对应,从而使得伞架本体110上从开口132露出的容置通孔113被遮挡部142遮挡。当然,遮挡部142也可以为其他形状,只需要其能够全部遮挡开口132即可。
固定件150设置于延伸段122上,从而使得遮罩130和第一挡板140与延伸段122相配合。固定件150可以为本技术领域常见的螺帽等结构。固定件150呈圆筒状,其内壁设置有与外螺纹123相配合的内螺纹151。固定件150螺合于延伸段122上的外螺纹123。
本实施例提供的镀膜伞架100,进行镀膜前,可以使得第一挡板140不遮挡遮罩130的开口132,从而可以往从开口132露出的容置通孔113内放置待镀工件。并且,可以通过相对于伞架本体110转动遮罩130,从而使得未放置待镀工件的容置通孔113依次从开口132露出,同时使得放置有待镀工件的容置通孔113被遮罩130遮挡,以避免放置于容置通孔113的待镀工件表面附着杂质粒子。如此通过不断转动遮罩130,可以使得全部的容置通孔113都从开口132露出过并均可被放置入待镀工件。在整个伞架本体110的容置通孔113内放置待镀工件完成后,旋转挡板140,使得挡板140遮挡开口132,从而使得全部的待镀工件均被有效遮蔽。如此在进行镀膜时,可以使得待镀工件不需要进行镀膜的一面被遮挡,从而可以使得镀膜工件不需要镀膜的表面不会沉积蒸镀粒子,保证镀膜的质量。
请参见图3,本技术方案第二实施例提供一种镀膜伞架200,其结构与第一实施例提供的镀膜伞架100的结构相近,镀膜伞架200包括一个伞架本体210、旋转轴220、一个遮罩230、一个第一挡板240及一个固定件260。不同之处在于,镀膜伞架200还包括一个第二挡板250,并且遮罩230上开设有第一开口232和第二开口233。第一开口232与第二开口233均自遮罩230的中心向其边缘开设。第一挡板240和第二挡板250的形状与第一实施例中的挡板140的结构相同。本实施例中,第一开口232与第二开口233关于第一配合孔231的中心对称设置。第一挡板240与第一开口232相对应,用于遮挡从第一开口231。第二挡板250与第二开口233相对应,用于遮挡从第二开口233。
本实施例提供的镀膜伞架200,进行镀膜前,可以使得第一挡板240不遮挡遮罩230的第一开口232,第二挡板250不遮挡遮罩230的第二开口233,从而可以往从第一开口232和第二开口233露出的容置通孔211内放置待镀工件。并且,可以通过相对于伞架本体210转动遮罩230,从而使得未放置待镀工件的容置通孔211依次从第一开口232和第二开口233露出,同时使得放置有待镀工件的容置通孔211被遮罩230遮挡,以避免放置于容置通孔211的待镀工件表面附着杂质粒子。如此通过不断转动遮罩230,可以使得全部的容置通孔211都从第一开口232或第二开口233露出过并均可被放置入待镀工件。在整个伞架本体210的容置通孔211内放置待镀工件完成后,旋转第一挡板240,使得第一挡板240遮挡第一开口232,旋转第二挡板250,使得第二挡板250遮挡第二开口233,从而使得全部的待镀工件均被有效遮蔽。如此在进行镀膜时,可以使得待镀工件不需要进行镀膜的一面被遮挡,从而可以使得镀膜工件不需要镀膜的表面不会沉积蒸镀粒子,保证镀膜的质量。本实施提供的镀膜伞架,可以从两个开口同时放置待镀工件,可以提升放置待镀工件的速度。
本技术方案提供的镀膜伞架,其包括有可以相对转动的伞架本体和遮罩,遮罩遮挡伞架本体,遮罩开设有开口,待镀工件通过开口放置于伞架本体的容置通孔内,并通过转动遮罩,使得放置有待镀工件的容置通孔被遮罩遮挡,从而可以减少外界中的粒子附着于待镀工件的表面,从而可以提高镀膜工件镀膜的质量。
可以理解的是,对于本领域的普通技术人员来说,可以根据本发明的技术构思做出其它各种相应的改变与变形,而所有这些改变与变形都应属于本发明权利要求的保护范围。

Claims (9)

1.一种镀膜伞架,其包括伞架本体、转轴、遮罩及第一挡板,所述伞架本体开设有多个容置通孔,用于容置多个待镀工件,所述遮罩通过所述转轴可转动地设置于伞架本体,所述遮罩与所述伞架本体同轴并相互对应,用于遮挡伞架本体,所述遮罩具有自其中心向其边缘开设的第一开口,以使伞架本体的部分容置通孔从所述第一开口露出,所述第一挡板可转动地设置于遮罩远离伞架本体的一侧,所述第一挡板用于遮挡所述第一开口。
2.如权利要求1所述的镀膜伞架,其特征在于,所述伞架本体与遮罩均呈伞状,所述遮罩与伞架本体基本平行地设置于伞架本体一侧。
3.如权利要求2所述的镀膜伞架,其特征在于,所述转轴设置于伞架本体的中心,所述遮罩的中心开设有与转轴相对应的第一配合孔,所述遮罩通过第一配合孔套设于所述转轴。
4.如权利要求3所述的镀膜伞架,其特征在于,所述转轴包括同轴连接的支撑段和延伸段,所述支撑段靠近所述伞架本体,其直径大于第一配合孔的直径,所述延伸段远离所述伞架本体,其直径小于或等于第一配合孔的直径,所述遮罩通过第一配合孔配合套设于所述延伸段。
5.如权利要求4所述的镀膜伞架,其特征在于,所述镀膜伞架还包括固定件,所述固定件固定于延伸段,所述遮罩位于固定件与伞架本体之间。
6.如权利要求1所述的镀膜伞架,其特征在于,所述第一挡板包括安装部和遮挡部,所述安装部开设有与转轴相对应的第二配合孔,所述第一挡板通过第二配合孔套设于转轴,所述遮挡部的形状与第一开口的形状相对应。
7.如权利要求1所述的镀膜伞架,其特征在于,所述遮罩还具有自其中心向其边缘开设的第二开口,所述镀膜伞架还包括第二挡板,所述第二挡板可转动地设置于遮罩远离伞架本体的一侧,用于遮挡所述第二开口。
8.如权利要求7所述的镀膜伞架,其特征在于,所述第一开口和第二开口关于遮罩的中心对称设置。
9.如权利要求1所述的镀膜伞架,其特征在于,所述多个容置通孔环绕伞架本体的中心轴线排列,且排列在伞架本体的中心为圆心的多个同心圆周上。
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Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107523789B (zh) * 2017-09-18 2019-04-19 江门市卡色光学有限公司 一种渐变灰滤镜镀制装置及其镀制方法
CN107574419A (zh) * 2017-10-11 2018-01-12 新乡市百合光电有限公司 一种真空室的玻璃镀膜架及电加热装置
CN107703587A (zh) * 2017-10-27 2018-02-16 苏州东辉光学有限公司 一种双芯插针镀膜工装
CN107884859B (zh) * 2017-12-28 2020-10-23 深圳市楠轩光电科技有限公司 一种cwdm滤光片的制作方法
CN108456863B (zh) * 2018-05-25 2023-10-20 无锡清鑫光学技术有限公司 一种风镜自动旋转镀膜伞架

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN2583111Y (zh) * 2002-12-04 2003-10-29 新知科技股份有限公司 选择性镀膜装置
CN1891848A (zh) * 2005-07-01 2007-01-10 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 光学镀膜装置
CN2861180Y (zh) * 2005-10-17 2007-01-24 翔名科技股份有限公司 球体辐射局部镀膜装置
CN101538699A (zh) * 2008-03-17 2009-09-23 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 镀膜装置及其所使用的镀膜伞架遮罩

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN2583111Y (zh) * 2002-12-04 2003-10-29 新知科技股份有限公司 选择性镀膜装置
CN1891848A (zh) * 2005-07-01 2007-01-10 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 光学镀膜装置
CN2861180Y (zh) * 2005-10-17 2007-01-24 翔名科技股份有限公司 球体辐射局部镀膜装置
CN101538699A (zh) * 2008-03-17 2009-09-23 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 镀膜装置及其所使用的镀膜伞架遮罩

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