CN107884859B - 一种cwdm滤光片的制作方法 - Google Patents

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Abstract

本申请公开了一种CWDM滤光片的制作方法，包括：首先将厚度为1mm的基板放置在伞形工作盘上进行镀主膜；然后在镀完主膜后直接进行超声波清洗；清洗后在基板的背面进行镀增透膜；最后将基板进行切割成品。本申请提供的上述制作方法工艺流程简单，减少过程中加工带来的不良，且单位产出量多。

Description

一种CWDM滤光片的制作方法
技术领域
本发明涉及滤光片领域，特别是涉及一种CWDM滤光片的制作方法。
背景技术
传统的制备稀疏波分复用器(Coarse Wavelength Division Multiplexer，CWDM)滤光片，工艺流程包括：首先利用超声波清洗基板，然后在基板表面镀主膜，此时基板厚度为10mm，之后将基板平均分割成四份，并对基板进行减薄处理，将厚度减薄为1mm，随后利用超声波再次清洗基板，最后在基板的背面镀上增透膜，并将基板切割成1.4mm*1.4mm*1.0mm成品。
其中，镀主膜的方法有两种，一种是电子束蒸发镀膜，如图1所示，01是监控点，02是有效镀膜区域，03是无效镀膜区域，玻璃基板面积为直径150mm，有效镀膜区域02为直径120mm，厚度10mm，产出成品为3000片左右，镀膜时间为36小时，耗时较少，产量较低；另一种方法为离子束溅射，如图2所示，04是监控点，05是有效镀膜区域，06是无效镀膜区域，基板为直径300mm*40mm的环形基板，有效镀膜区域05为直径280mm的环，厚度为10mm，产出成品约8000片左右，耗时72小时，时间较长，产量较高，但单位时间产出少。
因此，如何解决传统的CWDM制备方法单位时间产量少的问题，是我们研发技术人员需要迫切解决的问题。
发明内容
有鉴于此，本发明的目的在于提供一种CWDM滤光片的制作方法，工艺流程简单，减少过程中加工带来的不良，且单位产出量多。其具体方案如下：
一种CWDM滤光片的制作方法，包括：
将厚度为1mm的基板放置在伞形工作盘上进行镀主膜；
在镀完主膜后直接进行超声波清洗；
清洗后在所述基板的背面进行镀增透膜；
将所述基板进行切割成品。
优选地，在本发明实施例提供的上述CWDM滤光片的制作方法中，所述伞形工作盘的直径为1182mm，有效镀膜区域为直径为740mm的环状结构。
优选地，在本发明实施例提供的上述CWDM滤光片的制作方法中，所述环状结构的宽度为40mm。
优选地，在本发明实施例提供的上述CWDM滤光片的制作方法中，所述基板的长度为35mm，宽度为35mm。
优选地，在本发明实施例提供的上述CWDM滤光片的制作方法中，所述伞形工作盘的有效镀膜区域设置有直接监控点；所述直接监控点是通过直接监控系统进行监控；
所述伞形工作盘的中心区域设置有间接监控点；所述间接监控点是通过间接监控系统进行监控。
优选地，在本发明实施例提供的上述CWDM滤光片的制作方法中，所述主膜包括带通膜和截止膜；
进行镀所述带通膜的同时，还包括：通过所述直接监控系统对位于所述直接监控点上的所述带通膜进行监控；
进行镀所述截止膜的同时，还包括：通过所述间接监控系统对位于所述间接监控点上的所述截止膜进行监控。
优选地，在本发明实施例提供的上述CWDM滤光片的制作方法中，所述直接监控系统包括：第一高光量投光器，直接监控单色仪，第一锁相放大器，以及安装有直接监控控制软件的第一控制电脑；其中，
所述第一高光量投光器，用于为所述直接监控系统提供光源；
所述直接监控单色仪，用于将所述光源进行过滤，滤出所需要波长并进入所述第一锁相放大器；
所述第一锁相放大器，用于对过滤后的所述光源进行信号处理，将信号反馈到所述第一控制电脑；
所述第一控制电脑，用于根据处理后的信号，通过所述直接监控软件对所述直接监控点进行监控。
优选地，在本发明实施例提供的上述CWDM滤光片的制作方法中，所述直接监控单色仪滤出的波长范围为900nm至2400nm。
优选地，在本发明实施例提供的上述CWDM滤光片的制作方法中，所述间接监控系统包括：第二高光量投光器，间接监控单色仪，第二锁相放大器，以及安装有间接监控控制软件的控制电脑；其中，
所述第二高光量投光器，用于为所述间接监控系统提供光源；
所述间接监控单色仪，用于将所述光源进行过滤，滤出所需要波长并进入第二锁相放大器；
所述第二锁相放大器，用于对过滤后的所述光源进行信号处理，将信号反馈到所述第二控制电脑；
所述第二控制电脑，用于根据处理后的信号，通过所述间接监控软件对所述间接监控点进行监控。
优选地，在本发明实施例提供的上述CWDM滤光片的制作方法中，所述间接监控单色仪滤出的波长范围为400nm至1100nm。
本发明所提供的一种CWDM滤光片的制作方法，包括：首先将厚度为1mm的基板放置在伞形工作盘上进行镀主膜；然后在镀完主膜后直接进行超声波清洗；清洗后在基板的背面进行镀增透膜；最后将基板进行切割成品。本发明提供的上述制作方法工艺流程简单，减少过程中加工带来的不良，且单位产出量多。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图获得其他的附图。
图1为现有技术中制作CWDM滤光片过程中使用的镀膜夹具的结构示意图之一；
图2为现有技术中制作CWDM滤光片过程中使用的镀膜夹具的结构示意图之二；
图3为本发明实施例提供的CWDM滤光片的制作方法流程图；
图4为本发明实施例提供的制作CWDM滤光片过程中使用的伞形工作盘的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
本发明提供一种CWDM滤光片的制作方法，如图3所示，包括以下步骤：
S301、将厚度为1mm的基板放置在伞形工作盘上进行镀主膜；
S302、在镀完主膜后直接进行超声波清洗；
S303、清洗后在所述基板的背面进行镀增透膜；
S304、将所述基板进行切割成品。
在本发明实施例提供的上述CWDM滤光片的制作方法中，首先将厚度为1mm的基板放置在伞形工作盘上进行镀主膜；然后在镀完主膜后直接进行超声波清洗；清洗后在基板的背面进行镀增透膜；最后将基板进行切割成品。这种制作方法工艺流程简单，相较于传统的CWDM滤光片的制作方法工艺流程步骤少，无需进行分割和减薄处理，减少过程中加工带来的不良可达到20％左右，且单位产出量多。
需要说明的是，在执行步骤S301之前，还包括：将厚度为1mm的基板进行超声波清洗，清洗后再进行镀主膜。
在具体实施时，在本发明实施例提供的上述CWDM滤光片的制作方法中，如图4所示，1为有效镀膜区域，2为无效镀膜区域，所述伞形工作盘的直径可以设置为1182mm，有效镀膜区域1可以设置为直径为740mm的环状结构。优选地，所述环状结构的宽度可以设置为40mm(图4中示出了环状结构具体为外圆直径为740mm，内圆直径为660mm)。此时所述基板的长度可以选择为35mm，宽度可以选择为35mm，也就是说，基板的尺寸可以选择为35mm*35mm*1.0mm。将该尺寸的基板装载在伞形工作盘上，有效装载数量可以达65片，每炉小片产出平均达8000片以上，单位产出量是传统工艺的2倍多。
进一步地，在具体实施时，在本发明实施例提供的上述CWDM滤光片的制作方法中，如图4所示，所述伞形工作盘的有效镀膜区域1设置有直接监控点3；所述直接监控点是通过直接监控系统进行监控；所述伞形工作盘的中心区域设置有间接监控点4；所述间接监控点是通过间接监控系统进行监控。传统的CWDM滤光片制备方法只有一个监控点，并且都为直接监控点；本发明不但配备直接监控点，还在伞形工作盘的中心配置了间接监控点，使镀膜工艺降低难度。
具体地，在具体实施时，在本发明实施例提供的上述CWDM滤光片的制作方法中，所述主膜可以包括带通膜和截止膜；
首先，进行镀所述带通膜的同时，还可以包括：通过所述直接监控系统对位于所述直接监控点上的所述带通膜进行监控；
其次，进行镀所述截止膜的同时，还可以包括：通过所述间接监控系统对位于所述间接监控点上的所述截止膜进行监控。
传统的滤光片制备方法由于只有一个监控点，带通膜和截止膜只能用直接监控点对应的直接监控系统进行监控，这样会造成在镀截止膜部分误差大，控制难度系数高；而本发明可以在镀带通膜部分使用直接监控系统进行监控，在镀截止膜部分使用间接监控系统进行监控，降低了整个膜系的难度，从而实现批量产出。
在具体实施时，在本发明实施例提供的上述CWDM滤光片的制作方法中，所述直接监控系统可以包括：第一高光量投光器，直接监控单色仪，第一锁相放大器，以及安装有直接监控控制软件的第一控制电脑；其中，
所述第一高光量投光器，用于为所述直接监控系统提供光源；
所述直接监控单色仪，用于将所述光源进行过滤，滤出所需要波长并进入所述第一锁相放大器；
所述第一锁相放大器，用于对过滤后的所述光源进行信号处理，将信号反馈到所述第一控制电脑；
所述第一控制电脑，用于根据处理后的信号，通过所述直接监控软件对所述直接监控点进行监控。
具体地，所述直接监控单色仪滤出的波长范围可以为900nm至2400nm。由于CWDM带通膜系膜层为四分之一波长或它的整数倍，直接监控系统适合于控制四分之一波长或它的整数倍膜系。在镀制每镀一层时可以将前一层误差进行补偿，使其整个膜系误差极小，从而实现CWDM带通膜层的镀制。
在具体实施时，在本发明实施例提供的上述CWDM滤光片的制作方法中，所述间接监控系统可以包括：第二高光量投光器，间接监控单色仪，第二锁相放大器，以及安装有间接监控控制软件的控制电脑；其中，
所述第二高光量投光器，用于为所述间接监控系统提供光源；
所述间接监控单色仪，用于将所述光源进行过滤，滤出所需要波长并进入第二锁相放大器；
所述第二锁相放大器，用于对过滤后的所述光源进行信号处理，将信号反馈到所述第二控制电脑；
所述第二控制电脑，用于根据处理后的信号，通过所述间接监控软件对所述间接监控点进行监控。
具体地，所述间接监控单色仪滤出的波长范围可以为400nm至1100nm。由于CWDM截止膜系膜层为非四分之一波长，间接监控系统适合于控制非四分之一波长，每层都走过一个或多个四分之一波长，然后应用间接控制软件的比例法停止，从而实现CWDM截止膜层的镀制。
需要说明的是，为了提高效率和节省成本，所述第一高光量投光器和所述第二高光量投光器可以为同一个高光量投光器，均用于提供光源；另外，所述第一锁相放大器和所述第二锁相放大器也可以为同一个锁相放大器，所述第一控制电脑和第二控制电脑也可以为同一个控制电脑，它们的设置可以根据实际情况而定，只要不影响其功能即可。
本发明实施例提供的一种CWDM滤光片的制作方法，包括：首先将厚度为1mm的基板放置在伞形工作盘上进行镀主膜；然后在镀完主膜后直接进行超声波清洗；清洗后在基板的背面进行镀增透膜；最后将基板进行切割成品。本发明提供的上述制作方法工艺流程简单，减少过程中加工带来的不良，且单位产出量多。
最后，还需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。
以上对本发明所提供的CWDM滤光片的制作方法进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想；同时，对于本领域的一般技术人员，依据本发明的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本发明的限制。

Claims (8)

1.一种CWDM滤光片的制作方法，其特征在于，包括：
将厚度为1mm的基板放置在伞形工作盘上进行镀主膜；所述伞形工作盘的有效镀膜区域设置有直接监控点；所述直接监控点是通过直接监控系统进行监控；所述伞形工作盘的中心区域设置有间接监控点；所述间接监控点是通过间接监控系统进行监控；所述主膜包括带通膜和截止膜；
进行镀所述带通膜的同时，还包括：通过所述直接监控系统对位于所述直接监控点上的所述带通膜进行监控；
进行镀所述截止膜的同时，还包括：通过所述间接监控系统对位于所述间接监控点上的所述截止膜进行监控；
在镀完主膜后直接进行超声波清洗；
清洗后在所述基板的背面进行镀增透膜；
将所述基板进行切割成品。
2.根据权利要求1所述的CWDM滤光片的制作方法，其特征在于，所述伞形工作盘的直径为1182mm，有效镀膜区域为直径为740mm的环状结构。
3.根据权利要求2所述的CWDM滤光片的制作方法，其特征在于，所述环状结构的宽度为40mm。
4.根据权利要求3所述的CWDM滤光片的制作方法，其特征在于，所述基板的长度为35mm，宽度为35mm。
5.根据权利要求4所述的CWDM滤光片的制作方法，其特征在于，所述直接监控系统包括：第一高光量投光器，直接监控单色仪，第一锁相放大器，以及安装有直接监控控制软件的第一控制电脑；其中，
所述第一高光量投光器，用于为所述直接监控系统提供光源；
所述直接监控单色仪，用于将所述光源进行过滤，滤出所需要波长并进入所述第一锁相放大器；
所述第一锁相放大器，用于对过滤后的所述光源进行信号处理，将信号反馈到所述第一控制电脑；
所述第一控制电脑，用于根据处理后的信号，通过所述直接监控软件对所述直接监控点进行监控。
6.根据权利要求5所述的CWDM滤光片的制作方法，其特征在于，所述直接监控单色仪滤出的波长范围为900nm至2400nm。
7.根据权利要求4所述的CWDM滤光片的制作方法，其特征在于，所述间接监控系统包括：第二高光量投光器，间接监控单色仪，第二锁相放大器，以及安装有间接监控控制软件的第二控制电脑；其中，
所述第二高光量投光器，用于为所述间接监控系统提供光源；
所述间接监控单色仪，用于将所述光源进行过滤，滤出所需要波长并进入第二锁相放大器；
所述第二锁相放大器，用于对过滤后的所述光源进行信号处理，将信号反馈到所述第二控制电脑；
所述第二控制电脑，用于根据处理后的信号，通过所述间接监控软件对所述间接监控点进行监控。
8.根据权利要求7所述的CWDM滤光片的制作方法，其特征在于，所述间接监控单色仪滤出的波长范围为400nm至1100nm。
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