CN202275171U - 高隔离度cwdm薄膜滤光片 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种高隔离度CWDM薄膜滤光片。高隔离度CWDM薄膜滤光片，包括基板（1），基板（1）的一面设有正面膜系（2），另一面设有反面膜系（3），所述的基板(1)采用厚度为1毫米玻璃为基板，其表面平面度为光圈N＜3，局部光圈ΔN＜0.4，表面光洁度B＝III；所述的正面膜系(2)为基于12个法布里-珀罗串联；所述的反面膜系(3)为增透膜。本实用新型通过法布里-珀罗腔数、串联方式、连接层非规整控制等较好的解决高陡度滤光片通道平坦度问题，透射率可以达到98%以上，通过此滤光片可以提高器件相邻通道隔离度，将隔离度从25dB提高到46dB。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种滤光片，具体是指一种高隔离度CWDM薄膜滤光片。
背景技术
薄膜滤光片，又分为薄膜吸收滤光片和薄膜干涉滤光片两种。前者是在特定材料基材上，用化学浸蚀或真空蒸镀方法形成单层薄膜，使本征吸收线正好位于需要的波长处。后者是在一定片基上，用真空镀膜法交替形成具有一定厚度的高折射率或低折射率的金属-介质-金属膜，或全介质膜,构成一种低级次的、多级串联实心法布里-珀罗干涉仪。目前，市场上的滤光片普遍存在着峰值透射率不高或者是次峰跟旁带问题严重的问题。
实用新型内容
本实用新型的目的在于避免现有技术中的不足而提供一种高陡度通道平坦度滤光片，峰值透射率高、可以提高器件相邻通道隔离度，将隔离度从25dB提高到46dB的高隔离度CWDM薄膜滤光片。
本实用新型的目的通过以下技术方案实现：
高隔离度CWDM薄膜滤光片，包括基板，基板的一面设有正面膜系，另一面设有反面膜系，所述的基板采用厚度为1毫米玻璃为基板，其表面平面度为光 圈N＜3，局部光圈ΔN＜0.4，表面光洁度B＝III；所述的正面膜系为基于12个法布里-珀罗串联：Ns|HLHL H8LHLHLHL HLHL H8LHLHLHL ………HLHL H8LHLHLHL HLHL H8LHLHLHL0.2356H1.3526L|No，膜系中：Ns表示基板，No表示空气，L表示厚度为λ0/4五氧化二钽膜层，H 表示厚度为λ0/4二氧化硅膜层，中心波长λ0＝1470-1610纳米；所述的反面膜系为增透膜，所述的增透膜的膜层结构如下：
| 层 | 材料 | 膜厚 |
| 1 | Ta2O5 | 56.47 |
| 2 | SiO2 | 74.04 |
| 3 | Ta2O5 | 201.86 |
| 4 | SiO2 | 256.04 |
由于采用了上述的结构，本实用新型具有下述的有益效果：本实用新型通过法布里-珀罗腔数、串联方式、连接层非规整控制等较好的解决高陡度滤光片通道平坦度问题，透射率可以达到98%以上，通过此滤光片可以提高器件相邻通道隔离度，将隔离度从25dB提高到46dB。
附图说明
利用附图对本实用新型作进一步说明，但附图中的实施例不构成对本实用新型的任何限制，对于本领域的普通技术人员，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据以下附图获得其它的附图。
图１是高隔离度CWDM薄膜滤光片的结构示意图。
图2是正面膜系和反面膜系的膜层堆积原理图。
在图1中包括有：1——基板、2——正面膜系、3——反面膜系。
在图2中，A——空气，H——高折射率介质、L——低折射率介质、G——基板。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型的具体实施方式作进一步详细的描述。
如图1和图2所示，本实用新型所述的高隔离度CWDM薄膜滤光片，包括基板1，基板1的一面设有正面膜系2，另一面设有反面膜系3，本滤光片是在法布里-珀罗干涉仪基础上改进而成，以规整膜系为基础，通过精确控制每层膜层的光学厚度来完成的。所述的正面膜系2和反面膜系3分别由高反射介质ta2o5和低反射介质sio2交替堆积而成。ta2o5跟sio2两种不同折射率的材料交替在基板上沉淀，通过极值的方法来控制这两种材料每层的光学厚度。
所述的基板1采用厚度为1毫米玻璃为基板，其表面平面度为光 圈N＜3，局部光圈ΔN＜0.4，表面光洁度B＝III。
所述的正面膜系2为基于12个法布里-珀罗串联：Ns|HLHL H8LHLHLHL HLHL H8LHLHLHL ………HLHL H8LHLHLHL HLHL H8LHLHLHL0.2356H1.3526L|No，膜系中：Ns表示基板，No表示空气，L表示厚度为λ0/4五氧化二钽膜层，H 表示厚度为λ0/4二氧化硅膜层，中心波长λ0＝1470-1610纳米。
所述的反面膜系3为增透膜，所述的增透膜的膜层结构如下：
| 层 | 材料 | 膜厚 |
| 1 | Ta2O5 | 56.47 |
| 2 | SiO2 | 74.04 |
| 3 | Ta2O5 | 201.86 |
| 4 | SiO2 | 256.04 |
总之，本实用新型虽然例举了上述优选实施方式，但是应该说明，虽然本领域的技术人员可以进行各种变化和改型，除非这样的变化和改型偏离了本实用新型的范围，否则都应该包括在本实用新型的保护范围内。
Claims (1)
1.一种高隔离度CWDM薄膜滤光片，包括基板（1），基板（1）的一面设有正面膜系（2），另一面设有反面膜系（3），其特征在于：所述的基板(1)采用厚度为1毫米玻璃为基板，其表面平面度为光 圈N＜3，局部光圈ΔN＜0.4，表面光洁度B＝III；所述的正面膜系(2)为基于12个法布里-珀罗串联：Ns|HLHL H8LHLHLHL HLHL H8LHLHLHL ………HLHL H8LHLHLHL HLHL H8LHLHLHL0.2356H1.3526L|No，膜系中：Ns表示基板(1)，No表示空气，L表示厚度为λ0/4五氧化二钽膜层，H 表示厚度为λ0/4二氧化硅膜层，中心波长λ0＝1470-1610纳米；所述的反面膜系(3)为增透膜，所述的增透膜的膜层结构如下：
。
Priority Applications (1)
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| CN2011202992520U CN202275171U (zh) | 2011-08-17 | 2011-08-17 | 高隔离度cwdm薄膜滤光片 |
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112859225A (zh) * | 2021-01-11 | 2021-05-28 | 西安工业大学 | 中红外集成双通道滤光片的制备方法 |
| CN114959619A (zh) * | 2022-06-16 | 2022-08-30 | 安徽信息工程学院 | 一种高信噪比的滤光片及其制备方法和应用 |
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2011
- 2011-08-17 CN CN2011202992520U patent/CN202275171U/zh not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112859225A (zh) * | 2021-01-11 | 2021-05-28 | 西安工业大学 | 中红外集成双通道滤光片的制备方法 |
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| CN114959619B (zh) * | 2022-06-16 | 2024-01-23 | 安徽信息工程学院 | 一种高信噪比的滤光片及其制备方法和应用 |
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