CN110129737A - 一种cwdm滤光片的制作方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种CWDM滤光片的制作方法，基底为蓝宝石；CWDM滤光片的制作方法包括如下步骤：S1、将蓝宝石基板进行第一次超声波清洗，清洗后进入镀膜腔室；S2、镀制主要膜系面；S3、出炉检测产品性能指标是否达标，如果符合进入S4，如果不符合则退镀并重新依次进入S1和S2；S4、经S3检测合格的产品进行第二次超声波清洗；S5、镀制另一面的增透膜，即可。本发明的CWDM滤光片的制作方法工艺简单，降低了成产成本，制备产品尺寸降低，产品的抗温飘能力强，在不用恶劣工作条件下仍能正常工作。

Description

一种CWDM滤光片的制作方法
技术领域
本发明涉及光学通讯领域，特别涉及一种CWDM滤光片的制作方法。
背景技术
目前，WDM波分复用系统已经在世界各地得到广泛的部署和应用，并且形成了一个迅速成长的全球市场，巨大的市场吸引了世界主要的电信供应商竞相投入大量的资金和技术力量进行研究开发，不断取得重大突破，稀疏波分复用(CWDM)技术已在反城域网及以太网中获得了广泛的应用。CWDM作为一种经济实用的短距离WDM传输系统，在城域网应用越来越受到大家的认可并已经实用化。目前，国际上一些公司已推出CWDM相关产品。
但是目前市场上的CWDM基底材质主要是普通玻璃(BK7、K9或D263T)和微晶玻璃(WMS-15)，上述材料和方法制得的CWDM滤光片抗温飘能力较弱，且在不用恶劣工作条件下可能会导致无法正常使用；同时，上述现有的CWDM滤光片的制备方法工艺复杂，制备的产品尺寸较大，生产成本高。
亟需一种制作工艺简单，降低成产成本，制备产品尺寸降低，产品抗温飘能力强，在不用恶劣工作条件下仍能正常工作的CWDM滤光片的制作方法来解决上述技术问题。
发明内容
为了解决上述技术问题，本发明提供了一种CWDM滤光片的制作方法，本发明的CWDM滤光片的制作方法工艺简单，降低了成产成本，制备产品尺寸降低，产品的抗温飘能力强，在不用恶劣工作条件下仍能正常工作。
本发明是通过如下技术方案解决上述技术问题的：
本发明提供了一种CWDM滤光片的制作方法，所述CWDM滤光片的基底为蓝宝石；所述CWDM滤光片的制作方法包括如下步骤：
S1、将蓝宝石基板进行第一次超声波清洗，清洗后进入镀膜腔室；
S2、镀制主要膜系面；
S3、出炉检测产品性能指标是否达标，如果符合进入S4，如果不符合则退镀并重新依次进入S1和S2；
S4、经S3检测合格的产品进行第二次超声波清洗；
S5、镀制另一面的增透膜，即可。
本发明中，所述CWDM滤光片的基底为蓝宝石，蓝宝石是刚玉宝石中除红宝石之外，其它颜色刚玉宝石的通称，主要成分是氧化铝。
本发明中，S1中，蓝宝石基板是整个镀膜工艺的主要原料，所述蓝宝石基板的尺寸以符合产品最终的规格为佳；
较佳地，所述蓝宝石基板的尺寸为40mm*40mm*0.3mm。
本发明中，S2中，镀制主要膜系面的步骤为本领域常规；
较佳地，镀制主要膜系面的步骤为：将高折射率材料和低折射率材料放置于镀膜腔室中，控制电流，进行蒸发镀膜，高折射率材料为Ta2O5，折射率为2.25，低折射率材料为SiO2，折射率为1.46。
本发明中，S1中和S4中分别进行的第一次超声波清洗和第二次超声波清洗为本领域常规，是利用超声波在液体中的空化作用、加速度作用及直进流作用对液体和污物直接、间接的作用，使污物层被分散、乳化、剥离而达到清洗目的。
本发明中，S5中，镀制另一面的增透膜的步骤为本领域常规；
较佳地，镀制另一面的增透膜的步骤为：将高折射率材料和低折射率材料放置于镀膜腔室中，控制电流，进行蒸发镀膜，高折射率材料为Ta2O5，折射率为2.25，低折射率材料为SiO2，折射率为1.46。
本发明中，较佳地，在S5后还包括切割步骤，将经过S5得到的产品根据具体的应用需求，切割为不同的尺寸。
本发明的CWDM滤光片的制作方法相比于现有的CWDM滤光片的制作方法区别在于：
1、本发明的CWDM滤光片的基底材料与现有技术不同；
2、针对本发明特定的基底材料，本发明采用了与之相匹配的与现有其他技术不同的制作方法。
现有的传统的CWDM滤光片的制作方法包括如下步骤：
1、镀膜前清洗，把基板清洗干净放置进镀膜腔室；
2、镀制主要膜系面；
3、出炉测试产品性能指标是否符合产品规格书，如果合格流转至步骤(4)，不合格则进行退镀并依次进入步骤(1)和步骤(2)；
4、后工序抛光、裂片；
5、镀另一面的增透膜，完成滤光片制作工艺。
其中，现有技术中，针对不同的基底材料，步骤(4)均存在差异：
当基底材料为φ95*10mm微晶玻璃(WMS-15)时，步骤(4)具体包括：
(1)把φ95*10mm厚度的基板先做裂片，把镀制过主要膜系这边的裂出φ95*1.1mm的尺寸；
(2因为φ95*1.1mm尺寸过大，光精度无法保证所以需要切割分离，分离成40*40*1.1mm；
(3)粘胶，把40*40*1.1mm玻璃粘在抛光盘上；
(4)进行抛光，抛成40*40*1.0mm的尺寸；
(5)解胶，解胶完成后回到镀膜工艺步骤。
当基底材料为φ300*10mm的K9玻璃时，步骤(4)具体包括：步骤如下：
(1)把φ300*10mm镀制完主要膜系后直接做切割分，抛光后分离中片35*35*1mm；
(2)裂片，裂成尺寸70*70*10mm的进行抛光；
(3)粘胶，把70*70*10mm玻璃粘在抛光盘上；
(4)抛光，抛成70*70*1.0mm厚度的基板；
(5)解胶，解完胶后自动分离成35*35*1mm玻璃中片；回到镀膜工艺步骤。
本发明的积极进步效果：
1、由于现有的CWDM滤光片，在经过制备后最终切割成小片后的尺寸为1.4*1.4*1.0mm，因为长宽高的尺寸很接近，又小，人的肉眼不好分辨，需要通过治具或其它的东西来确定长宽高，确定某个面为粘胶面，完成粘胶；而经过本申请的CWDM滤光片制作方法得到产品以蓝宝石为基底，蓝宝石相对较薄，基底的长宽有明显差异，肉眼就能分辨区分，不需要通过治具或其它的来分辨，减少了一个工序，降低了成产成本；
2、由于原料基底中，蓝宝石的厚度相对较薄，得到的产品在组装到Z-Block里面后，可以缩小Z-Block整体的尺寸；
3、经检测，经过本发明得到的CWDM滤光片抗温飘能力强，可以在各种恶劣工作条件下保持正常使用。
附图说明
为了更清楚地说明本发明或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例的CWDM滤光片的0度设计光谱图；
图2为本发明实施例的CWDM滤光片的主要膜系面的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例，对本发明的具体实施方式作进一步描述。以下实施例仅用于更加清楚地说明本发明的技术方案，而不能以此来限制本发明的保护范围。
实施例1
本实施例提供了一种CWDM滤光片的制作方法，CWDM滤光片的基底为蓝宝石；CWDM滤光片的制作方法包括如下步骤：
S1、将蓝宝石基板进行第一次超声波清洗，清洗后进入镀膜腔室；
S2、镀制主要膜系面；
S3、出炉检测产品性能指标是否达标，如果符合进入S4，如果不符合则退镀并重新依次进入S1和S2；
S4、经S3检测合格的产品进行第二次超声波清洗；
S5、镀制另一面的增透膜；
S6、将经过S5得到的产品根据具体的应用需求，切割为不同的尺寸。
本实施例中，CWDM滤光片的基底为蓝宝石，蓝宝石是刚玉宝石中除红宝石之外，其它颜色刚玉宝石的通称，主要成分是氧化铝。
本实施例中，S1中，蓝宝石基板是整个镀膜工艺的主要原料，蓝宝石基板的尺寸为40mm*40mm*0.3mm。
本实施例中，S2中，镀制主要膜系面的步骤为：将高折射率材料和低折射率材料放置于镀膜腔室中，控制电流，进行蒸发镀膜，高折射率材料为Ta2O5，折射率为2.25，低折射率材料为SiO2，折射率为1.46，主要膜系面结构如图2所示。
本实施例中，S5中，镀制另一面的增透膜的步骤为：将高折射率材料和低折射率材料放置于镀膜腔室中，控制电流，进行蒸发镀膜，高折射率材料为Ta2O5，折射率为2.25，低折射率材料为SiO2，折射率为1.46。
本实施例中，在S5后还包括切割步骤，将经过S5得到的产品根据具体的应用需求，切割为不同的尺寸。
其中，本发明实施例的CWDM滤光片的0度设计光谱图如图1所示。
由于现有的CWDM滤光片，在经过制备后最终切割成小片后的尺寸为1.4*1.4*1.0mm，因为长宽高的尺寸很接近，又小，人的肉眼不好分辨，需要通过治具或其它的东西来确定长宽高，确定某个面为粘胶面，完成粘胶；而经过本申请的CWDM滤光片制作方法得到产品以蓝宝石为基底，蓝宝石相对较薄，基底的长宽有明显差异，肉眼就能分辨区分，不需要通过治具或其它的来分辨，减少了一个工序，降低了成产成本；
由于原料基底中，蓝宝石的厚度相对较薄，得到的产品在组装到Z-Block里面后，可以缩小Z-Block整体的尺寸；
经检测，经过本实施例得到的CWDM滤光片抗温飘能力强，可以在各种恶劣工作条件下保持正常使用。
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (5)

1.一种CWDM滤光片的制作方法，其特征在于，所述CWDM滤光片的基底为蓝宝石；所述CWDM滤光片的制作方法包括如下步骤：
S1、将蓝宝石基板进行第一次超声波清洗，清洗后进入镀膜腔室；
S2、镀制主要膜系面；
S3、出炉检测产品性能指标是否达标，如果符合进入S4，如果不符合则退镀并重新依次进入S1和S2；
S4、经S3检测合格的产品进行第二次超声波清洗；
S5、镀制另一面的增透膜，即可。
2.如权利要求1所述的CWDM滤光片的制作方法，其特征在于，所述蓝宝石基板的尺寸为40mm*40mm*0.3mm。
3.如权利要求1所述的CWDM滤光片的制作方法，其特征在于，镀制主要膜系面的步骤为：将高折射率材料和低折射率材料放置于镀膜腔室中，控制电流，进行蒸发镀膜，高折射率材料为Ta2O5，折射率为2.25，低折射率材料为SiO2，折射率为1.46。
4.如权利要求1所述的CWDM滤光片的制作方法，其特征在于，镀制另一面的增透膜的步骤为：将高折射率材料和低折射率材料放置于镀膜腔室中，控制电流，进行蒸发镀膜，高折射率材料为Ta2O5，折射率为2.25，低折射率材料为SiO2，折射率为1.46。
5.如权利要求1所述的CWDM滤光片的制作方法，其特征在于，在S5后还包括切割步骤，将经过S5得到的产品根据具体的应用需求，切割为不同的尺寸。
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