JP5816606B2 - 被成膜品を載置するステージに特徴を有する成膜装置 - Google Patents
被成膜品を載置するステージに特徴を有する成膜装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5816606B2 JP5816606B2 JP2012263942A JP2012263942A JP5816606B2 JP 5816606 B2 JP5816606 B2 JP 5816606B2 JP 2012263942 A JP2012263942 A JP 2012263942A JP 2012263942 A JP2012263942 A JP 2012263942A JP 5816606 B2 JP5816606 B2 JP 5816606B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- stage
- forming apparatus
- chamber
- film forming
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000010408 film Substances 0.000 description 73
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 23
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 7
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 5
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 4
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 4
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 4
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 description 4
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 4
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 3
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 2
- -1 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000002537 cosmetic Substances 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 230000009191 jumping Effects 0.000 description 1
- 239000002932 luster Substances 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の成膜装置において、前記傾斜部の前記回転軸に対する角度は調整可能になっていることを特徴とする成膜装置として構成される。
請求項3に記載の発明は、請求項1または2に記載の成膜装置において、前記揺動機構は、前記固定部材に固定的に設けられている第1のピンと、前記ステージに固定的に設けられている第2のピンと、連結バーとからなり、前記連結バーの一方の端部は前記第1のピンに、他方の端部は前記第2のピンにそれぞれ回動自在に接続されていることを特徴とする成膜装置として構成される。
請求項4に記載の発明は、請求項1〜3のいずれかの項に記載の成膜装置において、前記傾斜部と前記ステージはベアリングを介して接続されていることを特徴とする成膜装置として構成される。
4 ターゲット 6 ステージ
7 回転体 8 揺動機構
10 回転軸 11 モータ
14 水平板 15 傾斜板
19 垂直片 20 結合片
24 ベアリング 25 支柱
27 第1のピン 28 第2のピン
29 連結バー
H 被成膜品
Claims (4)
- チャンバの底部に回転体が設けられ、該回転体の上に被成膜品が載置されるステージが設けられている成膜装置であって、
前記回転体は所定の駆動機構によって鉛直の回転軸周りに回転されるようになっていると共にその上部が前記回転軸に対して所定の角度で傾斜した傾斜部になっており、
前記ステージは前記傾斜部に摺動自在に設けられ、そして前記チャンバ内の固定部材に所定の揺動機構を介して係合されて回転が規制されていることを特徴とする成膜装置。 - 請求項1に記載の成膜装置において、前記傾斜部の前記回転軸に対する角度は調整可能になっていることを特徴とする成膜装置。
- 請求項1または2に記載の成膜装置において、前記揺動機構は、前記固定部材に固定的に設けられている第1のピンと、前記ステージに固定的に設けられている第2のピンと、連結バーとからなり、前記連結バーの一方の端部は前記第1のピンに、他方の端部は前記第2のピンにそれぞれ回動自在に接続されていることを特徴とする成膜装置。
- 請求項1〜3のいずれかの項に記載の成膜装置において、前記傾斜部と前記ステージはベアリングを介して接続されていることを特徴とする成膜装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012263942A JP5816606B2 (ja) | 2012-12-03 | 2012-12-03 | 被成膜品を載置するステージに特徴を有する成膜装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012263942A JP5816606B2 (ja) | 2012-12-03 | 2012-12-03 | 被成膜品を載置するステージに特徴を有する成膜装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014109058A JP2014109058A (ja) | 2014-06-12 |
JP5816606B2 true JP5816606B2 (ja) | 2015-11-18 |
Family
ID=51029871
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012263942A Expired - Fee Related JP5816606B2 (ja) | 2012-12-03 | 2012-12-03 | 被成膜品を載置するステージに特徴を有する成膜装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5816606B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113789500B (zh) * | 2021-08-04 | 2023-07-25 | 湖北三峡职业技术学院 | 自动调整离子束溅射角和入射角的离子镀装置及方法 |
-
2012
- 2012-12-03 JP JP2012263942A patent/JP5816606B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2014109058A (ja) | 2014-06-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6209286B2 (ja) | 成膜装置及び成膜ワーク製造方法 | |
CN102227514B (zh) | 溅射装置、溅射方法和电子器件制造方法 | |
WO2011135810A1 (ja) | 成膜装置 | |
WO2014076947A1 (ja) | 成膜装置 | |
TWI510658B (zh) | 成膜裝置及成膜方法 | |
JP5816606B2 (ja) | 被成膜品を載置するステージに特徴を有する成膜装置 | |
US11842889B2 (en) | Device, method and use for the coating of lenses | |
US8512527B2 (en) | Magnet transportation system, sputtering apparatus including the same and sputtering method | |
CN101713063B (zh) | 镀膜装置 | |
TWI260063B (en) | Drive-mechanism for a vacuum-processing apparatus | |
KR102206900B1 (ko) | 기판 처리 장치 | |
CN206706198U (zh) | 磁控溅射装置和磁控溅射设备 | |
JP2009280881A (ja) | 膜形成対象物品支持装置及び膜形成装置 | |
JP2008013817A (ja) | スパッタリングによる薄膜の製造方法及び製造装置 | |
KR20170044259A (ko) | 스퍼터링 장치 | |
US8293081B2 (en) | Physical vapor deposition device | |
JP4921320B2 (ja) | 真空成膜装置 | |
JP5075662B2 (ja) | マルチターゲットスパッタリング装置 | |
TW202300679A (zh) | 用於塗布三維物件的濺鍍設備 | |
JP2009287046A (ja) | スパッタリング方法及びスパッタリング装置 | |
JP2006330411A (ja) | 液晶配向膜用真空蒸着装置およびその成膜方法 | |
KR20210080770A (ko) | 스퍼터용 회전형 타겟장치 및 상기 타겟장치를 구비한 스퍼터장치 | |
WO2019003827A1 (ja) | 成膜装置、マスクフレーム、アライメント方法 | |
US12270099B2 (en) | Film-forming device, film-forming unit, and film-forming method | |
JP2014018257A (ja) | 球状体の被膜形成方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20141222 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20150810 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150915 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150928 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5816606 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |