JP6008320B2 - コンビナトリアル成膜装置 - Google Patents
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Description
本発明は上述した課題を解決したもので、雰囲気ガス圧力を低くしたまま、良好なプラズマを安定生成し、スパッタ領域へ均一のガス供給流を実現し、高品質のスパッタ成膜が得られるスパッタガンを用いたコンビナトリアル成膜装置を提供すること目的をする。ここで、高品質のスパッタ成膜とは、コーティング内の不純物量が少なく、膜の密度が高いと共に、成膜成分の純度が高いものをいう。
本発明のコンビナトリアル成膜装置において、好ましくは、スパッタガンに、さらに、カバーキャップ36の被蒸着基板側に開閉板24を設け、開閉板24は、ターゲットホルダー35に格納された蒸着試料が覆われた状態と開いた状態の少なくとも二つの姿勢をとるように構成するとよい。
図1は、本発明のスパッタガンが装着される成膜装置の概略構成図で、例えばコンビナトリアル成膜装置、半導体ウェハを用いた半導体素子、有機EL素子の製造装置等として用いられる。
図1に示すように、この成膜装置10にあっては、真空チャンバー12の下部にスパッタガン20が配設されるとともに、このスパッタガン20の上方に成膜対象物である基板14が配置されている。基板14には、シリコンウェハやガラス基板が用いられる。真空チャンバー12では、アルゴンガスのような不活性ガスが、例えば0.13Pa(0.001Torr)程度で存在する真空度となっている。
カバーリング38の内周面には、噴射ノズル50が一定間隔で設けてある。噴射ノズル50は、例えば内周面に3〜50個程度設けるとよく、特に好ましくは12〜20個程度設けるのがよい。各ノズルの形状は内径1mm〜8mmとする。噴射ノズル50は、噴出されるアルゴンガスが安定なプラズマ形成に役立つと共に、均一で安定な品質の成膜が得られるように、ノズル穴の形状と分布状態や数を定める。噴射ノズル50の数が2個以下であれば、ガスの分布が均一でないため成膜品質に影響し、50個以上であればカバーリング38に噴射ノズル50を形成する作業が煩雑になる。また、噴射ノズル50の穴形状が内径8mmを超える場合は、カバーリング38からのガス供給が増加して真空チャンバー12内のガス圧が高まり好ましくない。噴射ノズル50の穴形状が内径1mm未満の場合は、噴出するガスがジェット状になって拡散不十分となり、ガスの分布が均一でなくなる。
ガス噴霧体50aは、噴射ノズル50から噴霧される円錐状の錐体で、ガスの拡散に伴って希薄になっている。図3Bでは、ガス噴霧体50aは各噴射ノズル50について細線で示してある。また、図3Bにおいて、個別の噴射ノズル50を示す円は、個別のノズル穴の存在を示すための補助線である。
ターゲットホルダー35には、マグネトロン37を格納してある。
図4は、図2の装置で開閉板を開いた状態のカバーキャップとカバーリングの詳細を説明する斜視図である。開閉板24を開いた状態とすると、蒸着用試料が露出して、スパッタリングが可能となる。なお、図中、カバーリング38の頂部側の内周面の縁には、切欠き面38aが設けてある。切欠き面38aがカバーリング38に設けてあることで、ターゲットホルダー35へのアクセスが容易となり、ターゲットの交換作業が円滑に行える。
基板の入替え時には、開閉板24を閉じて、蒸着済みの基板に余計な蒸着が行われることを防止し、あるいは、蒸着前の清浄な基板が意図せぬスパッタリングにより汚染されるのを防止する。
この結果、コンビナトリアル成膜装置のように、一枚の基板で複数の蒸着物質の組成比率を変化させて、最適な組成比率を探索するような用途でも、安定して意図する組成比率の薄膜が得られる。
12 真空チャンバー
14 基板
16 マスク
20 スパッタガン
22 フランジ
24 開閉板
26 開閉ハンドル
27 取付軸
28 ワイヤー部
29 ワイヤー取付部
30 本体管
32 RF電源入力部
34 水冷管
35 ターゲットホルダー
36 カバーキャップ
37 マグネトロン
38 カバーリング
40 ガス配管部
42 ガス調整バルブ
44 ガス配管部
46 ガス接続部
50 噴射ノズル
Claims (3)
- 蒸着試料が格納されるターゲットホルダーと、このターゲットホルダーの外周面を覆う状態に設けられたカバーキャップと、このカバーキャップの被蒸着基板側に位置して所定間隔で設けられた噴射ノズルと、この噴射ノズルにスパッタガスを供給するガス配管部と、前記噴射ノズルより導入したスパッタガスをプラズマ化するためのプラズマ化電気回路とを具備するスパッタガンであって、
前記スパッタガスの種類はアルゴンガスであり、当該アルゴンガスの圧力は0.013Pa(0.0001Torr)から0.13Pa(0.001Torr)の範囲であり、
前記噴射ノズルは、噴出される前記スパッタガスが安定なプラズマ形成に役立つと共に、前記被蒸着基板に均一で安定な品質の成膜が得られるように、ノズル穴の形状や分布状態が構成してある前記スパッタガンが装着されたことを特徴とするコンビナトリアル成膜装置。 - 前記スパッタガンにおいて、前記カバーキャップの被蒸着基板側の端面にカバーリングを設け、前記カバーリングの内周面に、前記カバーキャップの中心軸に向かってスパッタガスを導入する前記噴射ノズルを設けたことを特徴とする請求項1に記載のコンビナトリアル成膜装置。
- 前記スパッタガンにおいて、さらに、前記カバーキャップの被蒸着基板側に開閉板を設け、当該開閉板は、ターゲットホルダーに格納された蒸着試料が覆われた状態と開いた状態の少なくとも二つの姿勢をとることを特徴とする請求項1又は2に記載のコンビナトリアル成膜装置。
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