JPWO2011052762A1 - 無機酸化物微粒子の有機溶媒分散体の製造方法 - Google Patents
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- 239000006185 dispersion Substances 0.000 title claims abstract description 215
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 title claims abstract description 78
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 title claims abstract description 56
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 52
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 9
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 174
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 144
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 54
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 21
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical group CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 122
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 claims description 46
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 39
- 238000004821 distillation Methods 0.000 claims description 23
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 22
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 claims description 16
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 238000000108 ultra-filtration Methods 0.000 claims description 5
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 claims description 4
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 claims description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 2
- 239000011859 microparticle Substances 0.000 claims 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 abstract description 18
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 abstract description 5
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 183
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 60
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 57
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 38
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 37
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 30
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 17
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 14
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 13
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 13
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- JLGNHOJUQFHYEZ-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(3,3,3-trifluoropropyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCC(F)(F)F JLGNHOJUQFHYEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 9
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 5
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 5
- KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C=C KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 3
- BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N butan-2-ol Chemical compound CCC(C)O BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 3
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 3
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 1-Octanol Chemical compound CCCCCCCCO KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BBMCTIGTTCKYKF-UHFFFAOYSA-N 1-heptanol Chemical compound CCCCCCCO BBMCTIGTTCKYKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PSLRXNFNXYNXEK-UHFFFAOYSA-N 2-triethoxysilylethyl prop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCOC(=O)C=C PSLRXNFNXYNXEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BUJVPKZRXOTBGA-UHFFFAOYSA-N 2-trimethoxysilylethyl prop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCOC(=O)C=C BUJVPKZRXOTBGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HJIMAFKWSKZMBK-UHFFFAOYSA-N 3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10-heptadecafluorodecyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F HJIMAFKWSKZMBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N Butyric acid Chemical compound CCCC(O)=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 2
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 2
- BPCRGIAAAKYTMD-UHFFFAOYSA-N bis(1,1,1,2,3,3,3-heptafluoropropan-2-yloxy)-[1,1,1,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10-icosafluoro-2-(trifluoromethyl)decan-2-yl]oxy-(1,1,2,2,2-pentafluoroethyl)silane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(C(F)(F)F)(C(F)(F)F)O[Si](OC(F)(C(F)(F)F)C(F)(F)F)(OC(F)(C(F)(F)F)C(F)(F)F)C(F)(F)C(F)(F)F BPCRGIAAAKYTMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DIJRHOZMLZRNLM-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-(3,3,3-trifluoropropyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCC(F)(F)F DIJRHOZMLZRNLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WOXXJEVNDJOOLV-UHFFFAOYSA-N ethenyl-tris(2-methoxyethoxy)silane Chemical compound COCCO[Si](OCCOC)(OCCOC)C=C WOXXJEVNDJOOLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N lactic acid Chemical compound CC(O)C(O)=O JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 2
- WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N octanoic acid Chemical compound CCCCCCCC(O)=O WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 2
- FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N pentan-3-one Chemical compound CCC(=O)CC FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 2
- -1 preferably Chemical compound 0.000 description 2
- YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N salicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1O YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MLXDKRSDUJLNAB-UHFFFAOYSA-N triethoxy(3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10-heptadecafluorodecyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F MLXDKRSDUJLNAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WDUXKFKVDQRWJN-UHFFFAOYSA-N triethoxysilylmethyl prop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)COC(=O)C=C WDUXKFKVDQRWJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OYHQOLUKZRVURQ-NTGFUMLPSA-N (9Z,12Z)-9,10,12,13-tetratritiooctadeca-9,12-dienoic acid Chemical compound C(CCCCCCC\C(=C(/C\C(=C(/CCCCC)\[3H])\[3H])\[3H])\[3H])(=O)O OYHQOLUKZRVURQ-NTGFUMLPSA-N 0.000 description 1
- WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N (E)-8-Octadecenoic acid Natural products CCCCCCCCCC=CCCCCCCC(O)=O WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N (S)-malic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N 0.000 description 1
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 20:1omega9c fatty acid Natural products CCCCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDQWJFXZTAWJST-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(=O)C=C XDQWJFXZTAWJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 9-Heptadecensaeure Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005635 Caprylic acid (CAS 124-07-2) Substances 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005642 Oleic acid Substances 0.000 description 1
- ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N Oleic acid Natural products CCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KVXNKFYSHAUJIA-UHFFFAOYSA-N acetic acid;ethoxyethane Chemical compound CC(O)=O.CCOCC KVXNKFYSHAUJIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 125000003158 alcohol group Chemical group 0.000 description 1
- 150000007933 aliphatic carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 125000005037 alkyl phenyl group Chemical group 0.000 description 1
- BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N alpha-hydroxysuccinic acid Natural products OC(=O)C(O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- XGZGKDQVCBHSGI-UHFFFAOYSA-N butyl(triethoxy)silane Chemical compound CCCC[Si](OCC)(OCC)OCC XGZGKDQVCBHSGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SXPLZNMUBFBFIA-UHFFFAOYSA-N butyl(trimethoxy)silane Chemical compound CCCC[Si](OC)(OC)OC SXPLZNMUBFBFIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 235000015165 citric acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N cyclohexanol Chemical compound OC1CCCCC1 HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XCIXKGXIYUWCLL-UHFFFAOYSA-N cyclopentanol Chemical compound OC1CCCC1 XCIXKGXIYUWCLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BAAAEEDPKUHLID-UHFFFAOYSA-N decyl(triethoxy)silane Chemical compound CCCCCCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC BAAAEEDPKUHLID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KQAHMVLQCSALSX-UHFFFAOYSA-N decyl(trimethoxy)silane Chemical compound CCCCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC KQAHMVLQCSALSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZZNQQQWFKKTOSD-UHFFFAOYSA-N diethoxy(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 ZZNQQQWFKKTOSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)OC JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AHUXYBVKTIBBJW-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 AHUXYBVKTIBBJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N dimethyldiethoxysilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)OCC YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- LQZZUXJYWNFBMV-UHFFFAOYSA-N dodecan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCCCO LQZZUXJYWNFBMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002296 dynamic light scattering Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N ethyl(trimethoxy)silane Chemical compound CC[Si](OC)(OC)OC SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N heptan-2-one Chemical compound CCCCCC(C)=O CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZWLNMOIEMTDJY-UHFFFAOYSA-N hexyl(trimethoxy)silane Chemical compound CCCCCC[Si](OC)(OC)OC CZWLNMOIEMTDJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPMRWEIDCWFCHY-UHFFFAOYSA-N hydroxy-methoxy-dimethylsilane Chemical compound CO[Si](C)(C)O FPMRWEIDCWFCHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001867 inorganic solvent Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003049 inorganic solvent Substances 0.000 description 1
- QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N isooleic acid Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCCC(O)=O QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004310 lactic acid Substances 0.000 description 1
- 235000014655 lactic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000001630 malic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011090 malic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000002609 medium Substances 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000005055 methyl trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N methyltrichlorosilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)Cl JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N n'-(3-trimethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCN PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002446 octanoic acid Drugs 0.000 description 1
- MSRJTTSHWYDFIU-UHFFFAOYSA-N octyltriethoxysilane Chemical compound CCCCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC MSRJTTSHWYDFIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960003493 octyltriethoxysilane Drugs 0.000 description 1
- ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N oleic acid Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical group 0.000 description 1
- CMOAHYOGLLEOGO-UHFFFAOYSA-N oxozirconium;dihydrochloride Chemical compound Cl.Cl.[Zr]=O CMOAHYOGLLEOGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N papa-hydroxy-benzoic acid Natural products OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- WBHHMMIMDMUBKC-XLNAKTSKSA-N ricinelaidic acid Chemical compound CCCCCC[C@@H](O)C\C=C\CCCCCCCC(O)=O WBHHMMIMDMUBKC-XLNAKTSKSA-N 0.000 description 1
- 229960003656 ricinoleic acid Drugs 0.000 description 1
- FEUQNCSVHBHROZ-UHFFFAOYSA-N ricinoleic acid Natural products CCCCCCC(O[Si](C)(C)C)CC=CCCCCCCCC(=O)OC FEUQNCSVHBHROZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960004889 salicylic acid Drugs 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 1
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003608 titanium Chemical class 0.000 description 1
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- ALVYUZIFSCKIFP-UHFFFAOYSA-N triethoxy(2-methylpropyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC(C)C)(OCC)OCC ALVYUZIFSCKIFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WUMSTCDLAYQDNO-UHFFFAOYSA-N triethoxy(hexyl)silane Chemical compound CCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC WUMSTCDLAYQDNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(phenyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOCC1CO1 JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYJRNCYWTVGEEG-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(2-methylpropyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CC(C)C XYJRNCYWTVGEEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QNKXRZAXBKSFQC-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)ethoxy]propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCCOCC1CO1 QNKXRZAXBKSFQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JPPHEZSCZWYTOP-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilylmethyl prop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)COC(=O)C=C JPPHEZSCZWYTOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
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- C01G9/02—Oxides; Hydroxides
- C01G9/03—Processes of production using dry methods, e.g. vapour phase processes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
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- C01G23/00—Compounds of titanium
- C01G23/04—Oxides; Hydroxides
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
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- C09C1/3607—Titanium dioxide
- C09C1/3684—Treatment with organo-silicon compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- C09C3/00—Treatment in general of inorganic materials, other than fibrous fillers, to enhance their pigmenting or filling properties
- C09C3/12—Treatment with organosilicon compounds
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2002/00—Crystal-structural characteristics
- C01P2002/80—Crystal-structural characteristics defined by measured data other than those specified in group C01P2002/70
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- C01P2004/01—Particle morphology depicted by an image
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Abstract
Description
従来、このような微粒子分散体は、分散媒が水であるものが用いられてきたが、光学用フィルムの分野においては、水分散体は樹脂成分との混練が容易ではないので、近年、分散媒が有機溶媒である分散体が強く求められるに至っている。
例えば、ジルコニア微粒子の水分散体に有機溶媒と酢酸のようなジルコニア安定化剤を加え、水を有機溶媒に置換して、ジルコニア微粒子の有機溶媒分散体を得ることが提案されている(特許文献1参照)。しかし、このように、ジルコニア微粒子の分散媒を単に水から有機溶媒の代えても、ジルコニア微粒子が凝集しやすく、透明性も十分とはいえない。
そこで、無機酸化物微粒子の有機溶媒分散体を製造するに際しては、無機酸化物微粒子を親油性に改質するために、シランカップリング剤にて表面処理することが有効であることが既に知られている。無機酸化物微粒子をシランカップリング剤にて表面処理するとき、表面処理の効果を強くするために、沸点100℃以上である両親媒性の有機溶媒、例えば、1−ブタノールを分散媒とする無機酸化物微粒子の分散体を還流下にシランカップリング剤処理して、シランカップリング剤を加水分解させ、無機酸化物微粒子の表面の水酸基と反応させて、シランカップリング剤を無機酸化物微粒子の表面に化学的に結合させることが提案されている(特許文献2参照)。
しかし、このように高い温度でシランカップリング剤を加水分解させて、無機酸化物微粒子を表面処理するときは、一方において、シランカップリング剤自体も脱水縮合し、オリゴマー化し、場合によっては高分子量化し、溶媒に不溶化し、析出することも知られている。このように、シランカップリング剤が高分子量化し、溶媒に不溶化すれば、得られる分散体の透明性に有害な影響を与える。
特に、近年、屈折率が高く、透明性にすぐれるジルコニアやチタニアの有機溶媒分散体は、その特性を活かして、光学分野、なかでも、反射防止膜をはじめとする光学用フィルム等に広く用いられるに至っているが、ジルコニアやチタニアの微粒子分散体をシランカップリング剤にて表面処理するときに、上述したように、シランカップリング剤が不溶化し、溶媒中に析出すれば、透明性にすぐれる分散体を得ることができない。
更に、従来、透明性にすぐれるチタニアの有機溶媒分散体を得ることは困難であったが、本発明によれば、製造条件を最適に選ぶとき、原料分散体よりも高い透明性を有するチタニアの有機溶媒分散体を得ることができる。
上記第1の工程において用いるジルコニアの微粒子のアルコール分散体は、通常、オキシ塩化ジルコニウムを水中、熱又はアルカリで加水分解した後、分散媒をアルコール置換する方法によって製造されるが、しかし、市販品も用いることができる。チタニアの微粒子のアルコール分散体も、同様にして、通常、四塩化チタン等のチタン塩を加水分解した後、分散媒をアルコール置換する方法により製造されるが、市販品も用いることができる。
上記ジルコニアやチタニアの微粒子のアルコール分散体における分散媒であるアルコールは、特に限定されるものではなく、例えば、メタノール、エタノール、1−プロパノール、イソプロパノール、1−ブタノール、2−ブタノール、t−ブチルアルコール、ヘプタノール、シクロペンタノール、シクロヘキサノール、オクタノール、ラウリルアルコール等を例示することができるが、通常、メタノール、エタノール又はイソプロパノール、が好ましく用いられ、なかでも、メタノールが特に好ましく用いられる。
また、上記ジルコニア又はチタニアの微粒子のアルコール分散体におけるジルコニア又はチタニアの微粒子の濃度は、特に限定されるものではないが、シランカップリング剤による表面処理が効率よく行うことができるように、通常、1〜40重量%の範囲であり、好ましくは、5〜30重量%の範囲である。
更に、上記ジルコニア又はチタニアの微粒子のアルコール分散体におけるジルコニア又はチタニアの微粒子の平均粒子径は、得られる有機溶媒分散体が透明性にすぐれるように、好ましくは、1〜50nmの範囲が適当である。
本発明の方法によれば、先ず、第1の工程として、上述したようなジルコニア又はチタニアの微粒子のアルコール分散体に酸の存在下に−20〜60℃の範囲の温度にてシランカップリング剤を混合、攪拌して、上記無機酸化物微粒子を表面処理する。
好ましくは、ジルコニア又はチタニアの微粒子のアルコール分散体に酸を加え、−20〜60℃の範囲の温度で適宜時間、例えば、0.5〜5時間の間、攪拌した後、この分散体にシランカップリング剤を加え、−20〜60℃の範囲の温度で適宜時間、例えば、3〜24時間の間、攪拌し、このようにして、ジルコニア又はチタニアの微粒子を表面処理する。ジルコニア又はチタニアの微粒子のアルコール分散体に酸を加えて攪拌する際の温度と、得られた分散体をシランカップリング剤にて表面処理する際の温度は同じである必要はないが、いずれも、−20〜60℃の範囲の温度であることが必要である。
本発明によれば、第1の工程においては、原料分散体、即ち、無機酸化物微粒子のアルコール分散体における無機酸化物微粒子の分散性を確保する等のために、酸の存在下に上記原料分散体の無機酸化物微粒子をシランカップリング剤にて処理する。
上記酸としては、有機酸が好ましく、具体例として、例えば、酢酸、ギ酸、酪酸、カプロン酸、カプリル酸、カプロン酸、リノール酸、オレイン酸等の脂肪族カルボン酸、乳酸、クエン酸、酒石酸、リンゴ酸、リシノレイン酸等の脂肪族オキシカルボン酸、サリチル酸等の芳香族オキシカルボン酸を挙げることができる。このような有機酸は、ジルコニア又はチタニアの微粒子のアルコール分散体におけるジルコニア又はチタニア100重量部に対して、通常、10〜200重量部の範囲で用いられ、好ましくは、ジルコニア又はチタニアの微粒子のアルコール分散体におけるジルコニア又はチタニアに対して、10重量%以上であって、ジルコニア又はチタニアの微粒子のアルコール分散体におけるジルコニア又はチタニア100重量部に対して150重量部以下の範囲で用いられる。
しかし、本発明によれば、原料分散体をシランカップリング剤処理する際に存在させる上記酸として、無機酸も用いることができる。無機酸の具体例としては、例えば、硫酸、硝酸、リン酸等を挙げることができる。このような無機酸は、ジルコニア又はチタニアの微粒子のアルコール分散体におけるジルコニア又はチタニアに対して、通常、0.01〜1重量%の割合で用いられる。
本発明において用いるシランカップリング剤は、一般式(I)
Rn−Si−X4−n
(式中、Rは非反応性基又は反応性官能基を含む基を示し、Xは加水分解性基又はヒドロキシ基を示し、nは1、2又は3である。)
で表される有機ケイ素化合物である。
非反応性基としては、例えば、アルキル基、シクロアルキル基、ハロゲン化アルキル基、フェニル基、アルキルフェニル基等を挙げることができ、反応性官能基を含む基としては、例えば、アミノ基、エポキシ基、ビニル基、メルカプト基、ハロゲン原子、(メタ)アクリロイル基等を含む基を挙げることができる。
従って、非反応性基を有する所謂非反応性シランカップリング剤の具体例として、例えば、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、ブチルトリエトキシシラン、イソブチルトリエトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、デシルトリエトキシシラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、メチル−3,3,3−トリフルオロプロピルジメトキシシラン、パーフルオロオクチルエチルトリメトキシシラン、パーフルオロオクチルエチルトリエトキシシラン、パーフルオロオクチルエチルトリイソプロポキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、ジメチルメトキシヒドロキシシラン等を挙げることができる。
反応性官能基を含む基を有する所謂反応性シランカップリング剤の具体例としては、例えば、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(β−メトキシエトキシ)シラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシメチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシメチルトリエキシシラン、γ−グリシドキシエチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシエチルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−(β−グリシドキシエトキシ)プロピルトリメトキシシラン、γ−(メタ)アクリロイルオキシメチルトリメトキシシラン、γ−(メタ)アクリロイルオキシメチルトリエトキシシラン、γ−(メタ)アクリロイルオキシエチルトリメトキシシラン、γ−(メタ)アクリロイルオキシエチルトリエトキシシラン、γ−(メタ)アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−(メタ)アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、メチルトリクロロシラン等を挙げることができる。
本発明によれば、このようなシランカップリング剤のなかでも、反応性官能基を含む基を有する反応性シランカップリング剤と、ハロゲン化アルキル基、なかでも、フッ化アルキル基を有する非反応性シランカップリング剤が好ましく用いられる。なかでも、本発明によれば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(β−メトキシエトキシ)シラン等のビニルトリアルコキシシラン、γ−(メタ)アクリロイルオキシメチルトリメトキシシラン、γ−(メタ)アクリロイルオキシメチルトリエトキシシラン、γ−(メタ)アクリロイルオキシエチルトリメトキシシラン、γ−(メタ)アクリロイルオキシエチルトリエトキシシラン、γ−(メタ)アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−(メタ)アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン等の(メタ)アクリロイルオキシアルキルトリアルコキシシラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、メチル−3,3,3−トリフルオロプロピルジメトキシシラン、パーフルオロオクチルエチルトリメトキシシラン、パーフルオロオクチルエチルトリエトキシシラン、パーフルオロオクチルエチルトリイソプロポキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン等のフッ化アルキル基を有するシランカップリング剤が好ましく用いられる。
特に、本発明によれば、ジルコニア又はチタニアの微粒子のアルコール分散体を酸の存在下に−20〜25℃の範囲の温度でシランカップリング剤処理し、この際に、好ましくは、上記ビニルトリアルコキシシラン、(メタ)アクリロイルオキシアルキルトリアルコキシシラン又はフルオロアルキル基を有するシランカップリング剤を用いることによって、原料分散体よりも高い透明性を有する有機溶媒分散体を得ることができる。
本発明においては、このようなシランカップリング剤は、ジルコニア又はチタニアの微粒子のアルコール分散体におけるジルコニア又はチタニア100重量部に対して5〜200重量部の範囲で用いられ、好ましくは、ジルコニア又はチタニアの微粒子のアルコール分散体におけるジルコニア又はチタニアに対して5重量%以上、特に、10重量%以上であって、ジルコニア又はチタニアの微粒子のアルコール分散体におけるジルコニア又はチタニア100重量部に対して150重量部以下の範囲で用いられる。シランカップリング剤をジルコニア又はチタニア100重量部に対して200重量部を超えて用いるときは、得られる有機溶媒分散体におけるジルコニア又はチタニアの屈折率を著しく低下させる。
特に、本発明によれば、無機酸化物微粒子がジルコニアであるとき、シランカップリング剤としては、ビニルトリアルコキシシラン及び(メタ)アクリロイルオキシアルキルトリアルコキシシランから選ばれる少なくとも1種が好ましく用いられる。他方、無機酸化物微粒子がチタニアであるときは、シランカップリング剤としては、(メタ)アクリロイルオキシアルキルトリアルコキシシラン及びフルオロアルキル基を有するシランカップリング剤から選ばれる少なくとも1種が好ましく用いられる。
本発明によれば、このように、無機酸化物微粒子のアルコール分散体をシランカップリング剤で表面処理した後、第2の工程として、得られた無機酸化物微粒子のアルコール分散体の分散媒である上記アルコールを親油性有機溶媒と置換し、かくして、目的とする上記無機酸化物微粒子の有機溶媒分散体を得る。
上記親油性有機溶媒としては、例えば、ケトン類、エステル類、エーテル類、炭化水素類、ハロゲン化炭素類、カルボン酸アミド類等を挙げることができる。具体的には、ケトン類としては、メチルエチルケトン(MEK)、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン(MIBK)、メチルアミルケトン、シクロヘキサノン等、エステル類としては、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル等を、エーテル類としては、ジブチルエーテル、ジオキサン等を、炭化水素類としては、n−ヘキサン、シクロヘキサン、トルエン、キシレン、ソルベントナフサ等を、また、ハロゲン化炭素水素類としては、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン等を、カルボン酸アミドとしては、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等を挙げることができる。
無機酸化物微粒子のアルコール分散体の分散媒を親油性有機溶媒と置換するには、方法それ自体は既によく知られている蒸留置換法や限外濾過濃縮置換法によることができる。
蒸留置換法は、無機酸化物微粒子のアルコール分散体をそのアルコールの沸点以上の温度に加熱して、アルコールを蒸留し、除去しながら、分散体に目的とする有機溶媒を加える方法である。例えば、シランカップリング剤で表面処理した無機酸化物微粒子のアルコール分散体を常圧下又は減圧下に加熱し、アルコールを蒸留し、その留出速度と同じ速度にて有機溶媒を分散体に加えることによって、アルコールを上記有機溶媒に置換することができる。
従って、無機酸化物微粒子のアルコール分散体の分散媒をこのように蒸留置換法によって有機溶媒と置換するには、用いる有機溶媒は、蒸留条件下において、上記アルコールと同程度か、より高い沸点を有することが望ましい。
限外濾過濃縮置換法は、無機酸化物微粒子のアルコール分散体を限外濾過に付して、そのアルコールを膜透過させて除去しながら、分散体に目的とする有機溶媒を加える方法である。例えば、シランカップリング剤で表面処理した無機酸化物微粒子のアルコール分散体を限外濾過モジュールに圧送し、そのアルコールを膜透過させることによって、アルコールを除去し、段階的に又は連続的に目的とする有機溶媒を分散体に加えることによって、アルコールを上記有機溶媒に置換することができる。
本発明によれば、このようにして、原料分散体における無機酸化物微粒子の平均粒子径にもよるが、前述したように、平均粒子径が1〜50nmの無機酸化物微粒子のアルコール分散体を用いることによって、その無機酸化物微粒子の凝集が殆どなしに、又はその無機酸化物微粒子の凝集を低減して、通常、平均粒子径が1〜120nm、好ましくは、5〜100nmであり、無機酸化物微粒子濃度が1〜40重量%、好ましくは、5〜30重量%の有機溶媒分散体を得ることができる。必要であれば、平均粒子径が3〜30nm程度の無機酸化物微粒子の有機溶媒分散体をも得ることができる。また、得られた無機酸化物微粒子の有機溶媒分散体は、必要に応じて、更に、有機溶媒を蒸留等によって除去し、無機酸化物微粒子の濃度を高めることができる。
実施例1
ジルコニアのメタノール分散体(堺化学工業(株)製SZR−M、ジルコニア濃度10重量%、ジルコニアの平均粒子径3nm、全光線透過率88.1%)100gに酢酸(和光純薬工業(株)製試薬特級)13gを加え、50℃で1時間攪拌した。この分散体にビニルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製KBM−1003)4gを加え、50℃で一晩攪拌した。このように処理した分散体を常圧下、加熱して、メタノールを留出させつつ、分散体に上記メタノールの留出速度と同じ速度でメチルエチルケトン(和光純薬工業(株)製試薬特級)を滴下しながら溶媒置換を行って、ジルコニアのメチルエチルケトン分散体を得た。
実施例2
ジルコニアのメタノール分散体(堺化学工業(株)製SZR−M)100gに酢酸(和光純薬工業(株)製試薬特級)13gを加え、23℃で1時間攪拌した。この分散体にビニルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製KBM−1003)4gを加え、23℃で一晩攪拌した。このように処理した分散体を加圧下に(株)ノリタケカンパニーリミテド製セラミックフィルターを用いて限外濾過し、メタノールを膜透過させて除去しつつ、分散体に上記メタノールの透過速度と同じ速度でメチルエチルケトン(和光純薬工業(株)製試薬特級)を加えながら溶媒置換を行って、ジルコニアのメチルエチルケトン分散体を得た。
実施例3
ジルコニアのメタノール分散体(堺化学工業(株)製SZR−M)100gに酢酸(和光純薬工業(株)製試薬特級)13gを加え、50℃で1時間攪拌した。この分散体に3−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製KBM−5103)2gを加え、50℃で一晩攪拌した。このように処理した分散体を常圧下、加熱して、メタノールを留出させつつ、分散体に上記メタノールの留出速度と同じ速度でメチルエチルケトン(和光純薬工業(株)製試薬特級)を滴下しながら溶媒置換を行って、ジルコニアのメチルエチルケトン分散体を得た。
実施例4
ジルコニアのメタノール分散体(堺化学工業(株)製SZR−M)100gに酢酸(和光純薬工業(株)製試薬特級)13gを加え、23℃で1時間攪拌した。この分散体に3−メタアクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製KBM−503)2gを加え、23℃で一晩攪拌した。このように処理した分散体を常圧下、加熱して、メタノールを留出させつつ、分散体に上記メタノールの留出速度と同じ速度でメチルエチルケトン(和光純薬工業(株)製試薬特級)を滴下しながら溶媒置換を行って、ジルコニアのメチルエチルケトン分散体を得た。
実施例5
ジルコニアのメタノール分散体(堺化学工業(株)SZR−M)100gに1−ブチルアルコール(和光純薬工業(株)製試薬特級)200gを加えた後、エバポレータを用いて濃縮して、ジルコニア濃度10重量%の1−ブチルアルコール分散体100gを得た。この分散体100gに酢酸(和光純薬工業(株)製試薬特級)13gを加え、50℃で1時間攪拌した。この分散体にビニルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製KBM−1003)12gを加え、50℃で一晩攪拌した。このように処理したゾルを常圧下、加熱して、1−ブチルアルコールを留出させつつ、分散体に上記1−ブチルアルコールの留出速度と同じ速度でトルエン(和光純薬工業(株)製試薬特級)を滴下しながら溶媒置換を行って、ジルコニアのトルエン分散体を得た。
実施例6
ジルコニアのメタノール分散体(堺化学工業(株)SZR−M)100gに1−ブチルアルコール200gを加えた後、エバポレータを用いて濃縮して、ジルコニア濃度10重量%の1−ブチルアルコール分散体100gを得た。この分散体100gに酢酸(和光純薬工業(株)製試薬特級)13gを加え、23℃で1時間攪拌した。この分散体にビニルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製KBM−1003)12gを加え、23℃で一晩攪拌した。このように処理したゾルを常圧下、加熱して、1−ブチルアルコールを留出させつつ、分散体に上記1−ブチルアルコール(和光純薬工業(株)製試薬特級)の留出速度と同じ速度でトルエンを滴下しながら溶媒置換を行って、ジルコニアのトルエン分散体を得た。
実施例7
ジルコニアのメタノール分散体(堺化学工業(株)製SZR−M)からメタノールを蒸留して、ジルコニア濃度を30重量%に調整した。この分散体100gに酢酸(和光純薬工業(株)製試薬特級)39gを加え、10℃で1時間攪拌した。この分散体に3−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製KBM−503)6gを加え、10℃で一晩攪拌した。この分散体を常圧下、加熱して、メタノールを留出させつつ、分散体に上記メタノールの留出速度と同じ速度でメチルエチルケトン(和光純薬工業(株)製試薬特級)を滴下しながら溶媒置換を行って、チタニアのメチルエチルケトン分散体を得た。
実施例8
ジルコニアのメタノール分散体(堺化学工業(株)製SZR−M)100gに酢酸(和光純薬工業(株)製試薬特級)13gを加え、−10℃で1時間攪拌した。この分散体に3−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製KBM−503)2gを加え、−10℃で一晩攪拌した。このように処理した分散体を常圧下、加熱して、メタノールを留出させつつ、分散体に上記メタノールの留出速度と同じ速度でメチルエチルケトン(和光純薬工業(株)製試薬特級)を滴下しながら溶媒置換を行って、ジルコニアのメチルエチルケトン分散体を得た。
実施例9
ジルコニアのメタノール分散体(堺化学工業(株)製SZR−M)100gに25重量%濃度の硝酸50mgを加え、50℃で1時間攪拌した。この分散体に3−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製KBM−5103)2gを加え、50℃で一晩攪拌した。このように処理した分散体を常圧下、加熱して、メタノールを留出させつつ、分散体に上記メタノールの留出速度と同じ速度でメチルエチルケトン(和光純薬工業(株)製試薬特級)を滴下しながら溶媒置換を行って、ジルコニアのメチルエチルケトン分散体を得た。
実施例10
アナターゼ型チタニアのメタノール分散体(堺化学工業(株)製SAD−M、チタニア濃度5重量%、チタニアの平均粒子径19nm、全光線透過率74.3%)100gに酢酸(和光純薬工業(株)製試薬特級)6.5gを加え、50℃で1時間攪拌した。この分散体に3−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製KBM−503)1gを加え、50℃で一晩攪拌した。このように処理した分散体を常圧下、加熱して、メタノールを留出させつつ、分散体に上記メタノールの留出速度と同じ速度でメチルエチルケトン(和光純薬工業(株)製試薬特級)を滴下しながら溶媒置換を行って、チタニアのメチルエチルケトン分散体を得た。
実施例11
アナターゼ型チタニアのメタノール分散体(堺化学工業(株)製SAD−M)100gに酢酸(和光純薬工業(株)製試薬特級)6.5gを加え、23℃で1時間攪拌した。この分散体にトリフルオロプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製KBM−7103)1gを加え、23℃で一晩攪拌した。このように処理した分散体を常圧下、加熱して、メタノールを留出させつつ、分散体に上記メタノールの留出速度と同じ速度でメチルエチルケトン(和光純薬工業(株)製試薬特級)を滴下しながら溶媒置換を行って、チタニアのメチルエチルケトン分散体を得た。
実施例12
アナターゼ型チタニアのメタノール分散体(堺化学工業(株)製SAD−M)100gに酢酸(和光純薬工業(株)製試薬特級)6.5gを加え、10℃で1時間攪拌した。この分散体に3−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製KBM−503)1gを加え、10℃で一晩攪拌した。このように処理した分散体を常圧下、加熱して、メタノールを留出させつつ、分散体に上記メタノールの留出速度と同じ速度でメチルエチルケトン(和光純薬工業(株)製試薬特級)を滴下しながら溶媒置換を行って、チタニアのメチルエチルケトン分散体を得た。
実施例13
ルチル型チタニアのメタノール分散体(堺化学工業(株)SRD−M、チタニア濃度5重量%、チタニアの平均粒子径30nm、全光線透過率46.0%)100gに酢酸(和光純薬工業(株)製試薬特級)6.5gを加え、10℃で1時間攪拌した。この分散体にトリフルオロプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製KBM−7103)1gを加え、10℃で一晩攪拌した。このように処理した分散体を常圧下、加熱して、メタノールを留出させつつ、分散体に上記メタノールの留出速度と同じ速度でメチルエチルケトン(和光純薬工業(株)製試薬特級)を滴下しながら溶媒置換を行って、チタニアのメチルエチルケトン分散体を得た。
実施例14
ルチル型チタニアのメタノール分散体(堺化学工業(株)SRD−M)100gに酢酸(和光純薬工業(株)製試薬特級)6.5gを加え、−10℃で1時間攪拌した。この分散体にトリフルオロプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製KBM−7103)1gを加え、−10℃で一晩攪拌した。このように処理した分散体を常圧下、加熱して、メタノールを留出させつつ、分散体に上記メタノールの留出速度と同じ速度でメチルエチルケトン(和光純薬工業(株)製試薬特級)を滴下しながら溶媒置換を行って、チタニアのメチルエチルケトン分散体を得た。
比較例1
ジルコニアのメタノール分散体(堺化学工業(株)製SZR−M)100gに酢酸(和光純薬工業(株)製試薬特級)13gを加え、23℃で1時間攪拌した。この分散体にビニルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製KBM−1003)4gを加え、65℃で一晩攪拌した。このように処理した分散体を常圧下、加熱して、メタノールを留出させつつ、分散体に上記メタノールの留出速度と同じ速度でメチルエチルケトン(和光純薬工業(株)製試薬特級)を滴下しながら溶媒置換を行って、ジルコニアのメチルエチルケトン分散体を得た。
比較例2
ジルコニアのメタノール分散体(堺化学工業(株)SZR−M)100gに1−ブチルアルコール(和光純薬工業(株)製試薬特級)200gを加えた後、エバポレータを用いて濃縮して、ジルコニア濃度10重量%の1−ブチルアルコール分散体100gを得た。この分散体100gに酢酸13gを加え、98℃で1時間攪拌した。この分散体にビニルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製KBM−1003)12gを加え、98℃で一晩攪拌した。このように処理した分散体を常圧下、加熱して、1−ブチルアルコールを留出させつつ、分散体に上記1−ブチルアルコールの留出速度と同じ速度でトルエン(和光純薬工業(株)製試薬特級)を滴下しながら溶媒置換を行って、ジルコニアのトルエン分散体を得た。
比較例3
ジルコニアのメタノール分散体(堺化学工業(株)SZR−M、ジルコニア濃度10重量%)100gに1−ブチルアルコール(和光純薬工業(株)製試薬特級)200gを加えた後、エバポレータを用いて濃縮して、ジルコニア濃度10重量%の1−ブチルアルコール分散体100gを得た。この分散体100gに酢酸13gを加え、117℃で還流下に1時間攪拌した。このように処理した分散体にビニルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製KBM−1003)12gを加え、117℃で還流下に一晩攪拌した。このように処理した分散体を常圧下、加熱して、1−ブチルアルコールを留出させつつ、分散体に上記1−ブチルアルコールの留出速度と同じ速度でトルエン(和光純薬工業(株)製試薬特級)を滴下しながら溶媒置換を行った。
しかし、この溶媒置換中にジルコニアの分散体が白濁し始め、溶媒置換を終了した時点において、ジルコニアのトルエン分散体には沈殿が生じて、均一で透明な分散体を得ることができなかった。
比較例4
アナターゼ型チタニアのメタノール分散体(堺化学工業(株)製SAD−M)100gに酢酸(和光純薬工業(株)製試薬特級)6.5gを加え、65℃で還流下に1時間攪拌した。この分散体に3−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製KBM−503)1gを加え、65℃で一晩攪拌したところ白濁した。このように処理した分散体を常圧下、加熱して、メタノールを留出させつつ、分散体に上記メタノールの留出速度と同じ速度でメチルエチルケトン(和光純薬工業(株)製試薬特級)を滴下しながら溶媒置換を行った。このようにして溶媒置換を終了した後、チタニア粒子が完全に沈降して、上層が透明なメチルエチルケトンとなる二層分離状態となった。上層にレーザー光を当てたが、チンダル現象は確認されず、チタニア粒子は存在しなかった。
比較例5
ルチル型チタニアのメタノール分散体(堺化学工業(株)SRD−M)100gに酢酸(和光純薬工業(株)製試薬特級)6.5gを加え、65℃で還流下に1時間攪拌した。この分散体にトリフルオロプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製KBM−7103)1gを加え、65℃で一晩攪拌したところ、白濁した。このように処理した分散体を常圧下、加熱して、メタノールを留出させつつ、分散体に上記メタノールの留出速度と同じ速度でメチルエチルケトン(和光純薬工業(株)製試薬特級)を滴下しながら溶媒置換を行った。
しかし、溶媒置換後のチタニアのメチルエチルケトン分散体は白濁しているうえに、沈殿が生じており、均一で透明な分散体を得ることができなかった。
上記実施例及び比較例において出発物質として用いたジルコニア及びチタニアの有機分散体の平均粒子径はそれぞれ下記のようにして測定した。また、上記実施例及び比較例においてそれぞれ得られたジルコニアの有機溶媒分散体及びチタニアの有機溶媒分散体について、全光線透過率と平均粒子径を測定した。結果を表1及び表2に示す。有機溶媒分散体の全光線透過率と平均粒子径は下記のようにして測定した。
全光線透過率
全光線透過率は、光路長が10mmのセルに分散液を充填し、可視紫外分光光度計(日本分光(株)製V−750)を用いて測定した。
平均粒子径
分散体における無機酸化物粒子の平均粒子径は、日機装(株)製UPA−UTを用いて、動的光散乱法により測定した。
これに対して、実施例1〜4及び実施例7〜9は、ジルコニアのメタノール分散体を酸の存在下に本発明にて規定する範囲の温度でシランカップリング剤処理した後、分散媒をメチルエチルケトンに置換して、ジルコニアの有機溶媒分散体を得たものであり、いずれも全光線透過率が74%以上であり、好ましい場合には、全光線透過率は、原料分散体に近く、80%を越えている。
特に、ジルコニアのメタノール分散体を酸の存在下に25℃以下の温度で(メタ)アクリロイルオキシアルキルトリアルコキシシランで処理した後、分散媒をメチルエチルケトンに置換することによって、透明性によりすぐれる有機溶媒分散体を得ることができる。
ジルコニアのメタノール分散体からトルエン分散体を得る場合、比較例2及び3においてはそれぞれ、98℃及び117℃で原料分散体をシランカップリング剤処理しており、比較例2は透明性の低いトルエン分散体を得たにすぎず、比較例3では、均一な分散体を得ることができない。
しかし、本発明によれば、実施例5及び6に示すように、比較例2に比べて、遥かに高い透明性を有するジルコニアのトルエン分散体を得ることができる。
一方、比較例4及び5にみられるように、チタニアのメタノール分散体を酸の存在下に65℃の温度でシランカップリング剤処理するときは、沈殿物が生成して、均一で透明な有機溶媒分散体を得ることができず、又は二層分離が生じて、分散体を得ることができない。
これに対して、実施例10〜14は、チタニアのメタノール分散体を酸の存在下に本発明にて規定する範囲の温度でシランカップリング剤処理した後、分散媒をメチルエチルケトンに置換して、チタニアの有機溶媒分散体を得たものであり、均一で透明なメチルエチルケトン分散体を得ることができる。
特に、本発明に従って、チタニアのメタノール分散体を酸の存在下に25℃以下の温度でトリフルオロプロピルトリメトキシシランで処理した後、分散媒をメチルエチルケトンに置換することによって、原料分散体よりも全光線透過率の高い有機溶媒分散体を得ることができる。
詳しくは、実施例14においては、原料分散体であるルチル型チタニアのメタノール分散体の全光線透過率は46.0%であるところ、原料分散体を10℃でトリフルオロプロピルトリメトキシシランで処理した後、分散媒をメチルエチルケトンに置換することによって、全光線透過率83%の有機溶媒分散体を得ることができる。実施例15においては、原料分散体を−10℃でトリフルオロプロピルトリメトキシシランで処理した後、分散媒をメチルエチルケトンに置換することによって、全光線透過率87%の有機溶媒分散体を得ることができる。
Claims (8)
- ジルコニアとチタニアから選ばれる無機酸化物微粒子のアルコール分散体に酸の存在下に−20〜60℃の範囲の温度にてシランカップリング剤を混合、攪拌して、上記無機酸化物微粒子を表面処理した後、上記アルコールを親油性有機溶媒に置換することを含む無機酸化物微粒子の有機溶媒分散体の製造方法。
- 酸が有機酸又は無機酸である請求項1に記載の方法。
- シランカップリング剤がビニルトリアルコキシシラン、(メタ)アクリロイルオキシアルキルトリアルコキシシラン及びフルオロアルキル基を有するシランカップリング剤から選ばれる少なくとも1種である請求項1に記載の方法。
- 無機酸化物微粒子がジルコニアであり、シランカップリング剤がビニルトリアルコキシシラン及び(メタ)アクリロイルオキシアルキルトリアルコキシシランから選ばれる少なくとも1種である請求項1に記載の方法。
- 無機酸化物微粒子がチタニアであり、シランカップリング剤が(メタ)アクリロイルオキシアルキルトリアルコキシシラン及びフルオロアルキル基を有するシランカップリング剤から選ばれる少なくとも1種である請求項1に記載の方法。
- ジルコニアとチタニアから選ばれる無機酸化物微粒子のアルコール分散体に酸の存在下に−20〜25℃の範囲の温度にてビニルトリアルコキシシラン、(メタ)アクリロイルオキシアルキルトリアルコキシシラン及びフルオロアルキル基を有するシランカップリング剤から選ばれる少なくとも1種のシランカップリング剤を混合、攪拌して、上記無機酸化物微粒子を表面処理した後、上記アルコールを親油性有機溶媒に置換することを含む請求項1に記載の方法。
- 親油性有機溶媒がメチルエチルケトン又はトルエンである請求項1又は6に記載の方法。
- アルコール分散体におけるアルコールを蒸留置換法又は限外濾過濃縮置換法によって親油性有機溶媒に置換する請求項1又は6に記載の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011538514A JP5776552B2 (ja) | 2009-10-29 | 2010-10-26 | 無機酸化物微粒子の有機溶媒分散体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009249166 | 2009-10-29 | ||
JP2009249166 | 2009-10-29 | ||
PCT/JP2010/069392 WO2011052762A1 (ja) | 2009-10-29 | 2010-10-26 | 無機酸化物微粒子の有機溶媒分散体の製造方法 |
JP2011538514A JP5776552B2 (ja) | 2009-10-29 | 2010-10-26 | 無機酸化物微粒子の有機溶媒分散体の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2011052762A1 true JPWO2011052762A1 (ja) | 2013-03-21 |
JP5776552B2 JP5776552B2 (ja) | 2015-09-09 |
Family
ID=43922184
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011538514A Expired - Fee Related JP5776552B2 (ja) | 2009-10-29 | 2010-10-26 | 無機酸化物微粒子の有機溶媒分散体の製造方法 |
Country Status (10)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20120217456A1 (ja) |
EP (1) | EP2495291A1 (ja) |
JP (1) | JP5776552B2 (ja) |
KR (1) | KR20120110099A (ja) |
CN (1) | CN102575124A (ja) |
AU (1) | AU2010312371A1 (ja) |
CA (1) | CA2778761A1 (ja) |
RU (1) | RU2012122027A (ja) |
TW (1) | TW201121892A (ja) |
WO (1) | WO2011052762A1 (ja) |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6192895B2 (ja) * | 2012-03-29 | 2017-09-06 | 石原産業株式会社 | 無機物粒子分散体の製造方法 |
CN106170872A (zh) | 2013-09-23 | 2016-11-30 | 皮瑟莱根特科技有限责任公司 | 高折射率有机硅纳米复合材料 |
JP2015081275A (ja) * | 2013-10-22 | 2015-04-27 | 第一工業製薬株式会社 | 光半導体用シリコーン樹脂組成物およびその硬化物 |
JP6025701B2 (ja) * | 2013-12-18 | 2016-11-16 | レジノカラー工業株式会社 | 酸化ジルコニウム粒子の非アルコール有機溶媒分散液とその製造方法 |
CN104140692B (zh) * | 2014-07-10 | 2016-01-20 | 池州市英派科技有限公司 | 一种疏水效果好的改性纳米二氧化钛及其制备方法 |
CN107001066B (zh) * | 2014-09-05 | 2019-07-30 | 堺化学工业株式会社 | 氧化锆粒子的有机溶剂分散体及其制备方法 |
JP6083490B2 (ja) * | 2014-12-12 | 2017-02-22 | Dic株式会社 | 無機微粒子分散液の製造方法及び光学部材用硬化物の製造方法 |
JP6028958B1 (ja) * | 2015-02-27 | 2016-11-24 | 堺化学工業株式会社 | 酸化チタン粒子の有機溶媒分散体の製造方法 |
US10047239B2 (en) | 2015-02-27 | 2018-08-14 | Sakai Chemical Industry Co., Ltd. | Organic solvent dispersion of titanium oxide particles and method for producing same |
JP6468020B2 (ja) * | 2015-03-20 | 2019-02-13 | 住友大阪セメント株式会社 | 無機酸化物粒子分散液、樹脂組成物、マスターバッチ、樹脂複合体、及び光半導体発光装置 |
DE102016209499A1 (de) * | 2016-05-31 | 2017-11-30 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Nanostrukturierte Mikropartikel aus silanisierten Primärpartikeln mit steuerbarer Redispergierbarkeit und Verfahren zu deren Herstellung |
CN110577241B (zh) * | 2018-06-07 | 2020-11-03 | 北京化工大学 | 一种形貌可控的透明单分散纳米氧化锆液相分散体的制备方法 |
WO2021182378A1 (ja) * | 2020-03-10 | 2021-09-16 | 石原産業株式会社 | 表面被覆無機粒子及びその製造方法並びにそれを分散した有機溶媒分散体 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20050011409A1 (en) * | 2001-12-25 | 2005-01-20 | Yasuhide Isobe | Inorganic oxide |
JP3988936B2 (ja) * | 2003-05-13 | 2007-10-10 | 信越化学工業株式会社 | シラン表面処理球状シリカチタニア系微粒子、その製造方法、および、それを用いた静電荷像現像用トナー外添剤 |
JP4803630B2 (ja) | 2003-05-21 | 2011-10-26 | 扶桑化学工業株式会社 | 高純度疎水性有機溶媒分散シリカゾルの製造方法 |
US20050154086A1 (en) * | 2003-12-26 | 2005-07-14 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Fine inorganic oxide dispersion, coating composition, optical film, antireflection film, polarizing plate, and image display device |
JP2007119310A (ja) * | 2005-10-28 | 2007-05-17 | Fujifilm Corp | 無機微粒子、これを用いた分散液、コーティング組成物、光学フィルム、偏光板および画像表示装置 |
JP2007238422A (ja) | 2006-03-10 | 2007-09-20 | Daiichi Kigensokagaku Kogyo Co Ltd | 有機溶媒分散ジルコニアゾル及びその製造方法 |
JP5142617B2 (ja) * | 2007-07-31 | 2013-02-13 | 日揮触媒化成株式会社 | 金属酸化物粒子の表面処理方法、該表面処理金属酸化物粒子を含む分散液、透明被膜形成用塗布液および透明被膜付基材 |
JP5084418B2 (ja) * | 2007-09-20 | 2012-11-28 | 日揮触媒化成株式会社 | 有機溶媒に再分散可能な塊状組成物、その製造方法および該塊状組成物を再分散させた有機溶媒分散ゾル |
JP5252898B2 (ja) * | 2007-11-30 | 2013-07-31 | 日揮触媒化成株式会社 | 改質ジルコニア微粒子の製造方法、改質ジルコニア微粒子を含む透明被膜形成用塗布液および透明被膜付基材 |
-
2010
- 2010-10-26 CA CA2778761A patent/CA2778761A1/en not_active Abandoned
- 2010-10-26 RU RU2012122027/05A patent/RU2012122027A/ru not_active Application Discontinuation
- 2010-10-26 WO PCT/JP2010/069392 patent/WO2011052762A1/ja active Application Filing
- 2010-10-26 EP EP10826892A patent/EP2495291A1/en not_active Withdrawn
- 2010-10-26 CN CN2010800495184A patent/CN102575124A/zh active Pending
- 2010-10-26 JP JP2011538514A patent/JP5776552B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2010-10-26 US US13/504,330 patent/US20120217456A1/en not_active Abandoned
- 2010-10-26 AU AU2010312371A patent/AU2010312371A1/en not_active Abandoned
- 2010-10-26 KR KR1020127012537A patent/KR20120110099A/ko not_active Application Discontinuation
- 2010-10-28 TW TW099136906A patent/TW201121892A/zh unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20120217456A1 (en) | 2012-08-30 |
CA2778761A1 (en) | 2011-05-05 |
KR20120110099A (ko) | 2012-10-09 |
WO2011052762A1 (ja) | 2011-05-05 |
CN102575124A (zh) | 2012-07-11 |
TW201121892A (en) | 2011-07-01 |
EP2495291A1 (en) | 2012-09-05 |
RU2012122027A (ru) | 2013-12-10 |
AU2010312371A1 (en) | 2012-05-31 |
JP5776552B2 (ja) | 2015-09-09 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130620 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Request for written amendment filed |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |