JPWO2011040435A1 - Esd保護デバイスおよびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
しかしながら、この特許文献2のESD保護デバイスの場合にも、上記特許文献1のESD保護デバイスの場合と全く同様の問題点を有している。
ガラス成分を有するセラミック基材と、
前記セラミック基材の内部に、先端部が互いに間隔をおいて対向するように形成された一方側対向電極と他方側対向電極とを備えてなる対向電極と、
前記対向電極を構成する前記一方側対向電極と前記他方側対向電極のそれぞれと接続し、前記一方側対向電極から前記他方側対向電極にわたるように配設された放電補助電極とを具備し、
前記放電補助電極と、前記セラミック基材との間に、前記セラミック基材から前記放電補助電極にガラス成分が浸入することを防止するためのシール層を備えていること
を特徴としている。
第一のセラミックグリーンシートの一方主面上にシール層ペーストを印刷して未焼成のシール層を形成する工程と、
前記シール層の少なくとも一部を被覆するように放電補助電極ペ−ストを印刷して未焼成の放電補助電極を形成する工程と、
前記第1のセラミックグリーンシートの一方主面上に、対向電極ペーストを印刷して、それぞれが、前記放電補助電極の一部を覆うとともに、互いに間隔をおいて配設された一方側対向電極と他方側対向電極とを備える未焼成の対向電極を形成する工程と、
前記対向電極を構成する前記一方側対向電極と前記他方側対向電極の先端部が互いに対向する放電ギャップ部および前記放電補助電極の前記放電ギャップ部に位置する領域を覆うようにシール層ペーストを印刷して未焼成のシール層を形成する工程と、
前記第1のセラミックグリーンシートの一方主面上に、第2のセラミックグリーンシートを積層して未焼成の積層体を形成する工程と、
前記積層体を焼成する工程と
を備えていることを特徴としている。
なお、対向電極と放電補助電極との接続部とセラミック基材との間にも、シール層を介在させることにより、ガラス成分が対向電極を通して放電補助電極に浸入することを抑制、防止することが可能になり、本発明をより実効あらしめることができる。
なお、本発明のESD保護デバイスの製造方法においては、上記積層体を焼成する工程の前に、未焼成の積層体の表面に、対向電極と接続するように外部電極ペーストを印刷し、その後に焼成することにより一度の焼成で外部電極を備えたESD保護デバイスが得られるようにすることも可能であり、また、上記積層体の焼成後に、積層体の表面に外部電極ペーストを印刷し、焼き付けることにより外部電極を形成することも可能である。
図1は、本発明の一実施例にかかるESD保護デバイスの構造を模式的に示す断面図であり、図2は、その要部を拡大して示す要部拡大正面断面図、図3は本発明の一実施例にかかるESD保護デバイスの内部構造を示す平面図である。
金属粒子としては、銅粉や、好ましくは表面を無機酸化物やセラミック成分にてコーティングした銅粉末などを用いることが可能である。また、セラミック成分には、特別の制約はないが、より好ましいセラミック成分として、セラミック基材の構成材料を含むもの(この場合、Ba−Si−Al系)、あるいは、SiCなどの半導体成分を含むものなどが例示される。
(1)セラミックグリーンシートの作製
セラミック基材1の材料となるセラミック材料として、Ba、Al、Siを主たる成分とする材料を用意する。
そして、各材料を所定の組成になるよう調合し、800〜1000℃で仮焼する。得られた仮焼粉末をジルコニアボールミルで12時間粉砕し、セラミック粉末を得る。
このセラミック粉末に、トルエン・エキネンなどの有機溶媒を加え混合した後、さらにバインダー、可塑剤を加え、混合することによりスラリーを作製する。
このスラリーをドクターブレード法により成形し、厚さ50μmのセラミックグリーンシートを作製した。
また、一対の対向電極2a,2bを形成するための対向電極ペーストとして、平均粒径約2μmのCu粉80重量%と、エチルセルロースなどからなるバインダー樹脂を調合し、溶剤を添加して3本ロールにより撹拌、混合することにより対向電極ペーストを作製した。なお、上記のCu粉の平均粒径とは、マイクロトラックによる粒度分布測定から求めた中心粒径(D50)をいう。
さらに、放電補助電極3を形成するための放電補助電極ペーストとして、
(a)表面が無機酸化物でコートされた金属粒子(金属導体粉末)、
(b)上記(a)の金属粒子にセラミック成分を混合した混合材料、もしくは、
(c)上記(a)の金属粒子にさらに無機酸化物を混合した混合材料、もしくは、
(d)上記(a)の金属粒子にさらに半導体粉末を混合した混合材料
に有機ビヒクルを添加して3本ロールにより撹拌、混合することにより放電補助電極ペーストを作製した。
この実施例では、シール層ペーストとして、無機酸化物と有機ビヒクルとを含む複数種類のペーストを用意した。
酸化物融体の塩基度は、対象とする系の組成から計算で求まる平均的な酸素イオン活量(概念的塩基度)と、化学反応など外部から与えられた刺激の応答(酸化・還元電位測定、光学スペクトル測定等)を測定して得られる酸素イオン活量(作用点塩基度)に大別できる。
すなわち、酸化物(無機酸化物)MiOのMi−O間の結合力は、陽イオンと酸素イオン間の引力で表すことができ、下記の式(1)で表される。
Ai:陽イオン−酸素イオン間引力、
Zi:i成分陽イオン価数、
ri:i成分陽イオン半径(Å)、
ここで、酸素供与能力を観念的に、かつ、定量的に取り扱うために、得られたBi 0値を指標化する。
Bi=(Bi 0−BSiO2 0)/(BCaO 0−BSiO2 0) ……(3)
なお、指標化時には、CaOのBi値を1.000(Bi 0=1.43)、SiO2のBi値を0.000(Bi 0=0.41)と定義する。
上述の空洞部12を形成するためのペーストとして、樹脂、有機溶剤、有機バインダーなど、焼成工程で分解、燃焼して消失する樹脂ペーストを用意した。
この実施例では、図1〜3に示すように空洞部12を備えた構造を有するESD保護デバイスと、図5に示すように空洞部を備えていないESD保護デバイスを作製した。
なお、この実施例では、焼成工程などを経て得られるESD保護デバイスにおいて、対向電極2を構成する一方側対向電極2a,他方側対向電極2bの幅W(図3)が100μm、放電ギャップ10の寸法G(図3)が30μmとなるようにした。
なお、シール層ペーストをはじめとして、各ペーストは直接塗布対象上に塗布してもよく、また、転写工法など他の方法で塗布してもよい。
上述のようにして、シール層ペースト、放電補助電極ペースト、対向電極ペースト、樹脂ペースト、シール層ペーストの順で各ペーストを塗布した第1のセラミックグリーンシート上に、ペーストの塗布されていない第2のセラミックグリーンシートを積層し、圧着する。ここでは厚み0.3mmの積層体が形成されるようにした。
積層体を所定の寸法にカットした後、N2/H2/H2Oを用いて雰囲気制御した焼成炉にて、最高温度980〜1000℃の条件で焼成した。その後、焼成済みのチップ(試料)の両端に外部電極ペーストを塗布し、さらに雰囲気制御した焼成炉にて焼き付けることにより、図1〜3に示すような構造を有するESD保護デバイスを得た。
また、比較のため、空洞部を備えておらず、シール層も備えていないESD保護デバイス(表5の試料番号11の試料)と、空洞部を備えているが、シール層を備えていないESD保護デバイス(表5の試料番号22の試料)を作製した。
次に、上述のようにして作製した各ESD保護デバイス(試料)について、以下の方法で各特性を調べた。
試料を厚み方向に沿って切断し、切断面を研磨した後、シール層と、セラミック基材との界面をSEM、およびWDXにて観察し、前記界面に形成されている反応層の厚みを調べた。
8kV×50ショット、20kV×10ショットの2条件で各試料に電圧を印加し、logIR>6Ωの試料については、ショート特性が良好(○)と評価し、電圧の連続印加中に一度でもlogIR≦6Ωとなった試料についてはショート特性が不良(×)と評価した。
IECの規格、IEC61000−4−2に基づき、8kVの接触放電にて、ピーク電圧値:Vpeak、および波頭値から30ns後の電圧値:Vclampを測定した。印加回数は、各試料20回とした。
Vpeak_max≦900Vの試料をVpeakが良好(○)と評価し、Vclamp_max≦100Vとなる試料をVclampが良好(○)と評価した。
ショート:8kV×100ショット
Vclamp:8kV×1000ショット
の負荷をかけ、全測定結果がlog IR>6、Vclamp_max≦100Vとなる試料を繰り返し特性が良好(○)と評価した。
焼き上がった製品の外観を目視観察、また断面研磨後の製品を顕微鏡観察し、割れが発生していない試料を良好(○)と評価した。また、基板反りについては、水平板上に製品を置き、中央部や端部に浮きが存在していないものを良好(○)と評価した。
上述のようにして特性を評価した結果を表6に示す。
また、試料番号11、22の試料はシール層を設けていない試料であるため、反応層の厚みは測定していない。
ただし、シール層を備えていない試料番号11、22の試料の場合、Vpeak、Vclampについては必要な特性が得られたが、ショート特性に関しては連続印加中にショートが発生するものが見られた。なお、ショート発生率に関しては、表6には示していないが、空洞部を有する構造のものの方が低くなることが確認された。これは、空洞部を有するものの方が放電補助電極の焼結が進行しにくいことによるものと考えられる。
上記実施例では、空洞部を備えた図1〜4に示す構造を有するESD保護デバイス、空洞部を備えていない図5に示す構造を有するESD保護デバイスを例にとって説明したが、本発明が適用されたESD保護デバイスの例としては、そのほかにも、
(1)図7に示すように、空洞部12を備え、該空隙部12を取り囲むように放電補助電極3が配設され、その放電補助電極3を取り囲むようにシール層11が配設された構造を有するESD保護デバイス、
(2)図8に示すように、空洞部を備えず、対向電極2を構成する一方側および他方側対向電極2a,2bの先端部が放電補助電極3に埋没するように配設され、放電補助電極3を取り囲むようにシール層11が配設された構造を有するESD保護デバイス、
(3)図9に示すように、空洞部を備えず、対向電極2の全体および放電補助電極3の全体が、両主面側からシール層11により挟まれた構造を有するESD保護デバイス、
(4)図10に示すように、空洞部を備えず、対向電極2の放電補助電極3との接続部および該接続部間(放電ギャップ10)が、両主面側からシール層11により挟まれてセラミック基材1を構成するセラミックから隔てられた構造を有するESD保護デバイス
などが挙げられる。
2 対向電極
2a 対向電極を構成する一方側対向電極
2b 対向電極を構成する他方側対向電極
3 放電補助電極
5a,5b 外部電極
11 シール層
12 空洞部
10 放電ギャップ部
W 対向電極の幅
G 放電ギャップ部の寸法
Claims (8)
- ガラス成分を有するセラミック基材と、
前記セラミック基材の内部に、先端部が互いに間隔をおいて対向するように形成された一方側対向電極と他方側対向電極とを備えてなる対向電極と、
前記対向電極を構成する前記一方側対向電極と前記他方側対向電極のそれぞれと接続し、前記一方側対向電極から前記他方側対向電極にわたるように配設された放電補助電極とを具備し、
前記放電補助電極と、前記セラミック基材との間に、前記セラミック基材から前記放電補助電極にガラス成分が浸入することを防止するためのシール層を備えていること
を特徴とするESD保護デバイス。 - 前記シール層とセラミック基材の界面に、前記シール層の構成材料と前記セラミック基材の構成材料とが反応することにより生成した反応生成物を含む反応層を備えていることを特徴とする請求項1記載のESD保護デバイス。
- 前記シール層の主要構成材料の塩基度B1と、前記セラミック基材を構成する非晶質部の塩基度B2との差ΔB(=B1−B2)が1.4以下であることを特徴とする請求項1または2記載のESD保護デバイス。
- 前記シール層は、前記セラミック基材を構成する元素の一部を含有していることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のESD保護デバイス。
- 前記シール層は、主成分が酸化アルミニウムであることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のESD保護デバイス。
- 前記セラミック基材内部には空洞部が設けられ、前記対向電極を構成する前記一方側対向電極と前記他方側対向電極の先端部が互いに対応する放電ギャップ部および前記放電補助電極の前記放電ギャップ部に位置する領域が、前記空洞部に臨んでいることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載のESD保護デバイス。
- 前記放電補助電極は、金属粒子と、セラミック成分とを含むことを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載のESD保護デバイス。
- 第一のセラミックグリーンシートの一方主面上にシール層ペーストを印刷して未焼成のシール層を形成する工程と、
前記シール層の少なくとも一部を被覆するように放電補助電極ペ−ストを印刷して未焼成の放電補助電極を形成する工程と、
前記第1のセラミックグリーンシートの一方主面上に、対向電極ペーストを印刷して、それぞれが、前記放電補助電極の一部を覆うとともに、互いに間隔をおいて配設された一方側対向電極と他方側対向電極とを備える未焼成の対向電極を形成する工程と、
前記対向電極を構成する前記一方側対向電極と前記他方側対向電極の先端部が互いに対向する放電ギャップ部および前記放電補助電極の前記放電ギャップ部に位置する領域を覆うようにシール層ペーストを印刷して未焼成のシール層を形成する工程と、
前記第1のセラミックグリーンシートの一方主面上に、第2のセラミックグリーンシートを積層して未焼成の積層体を形成する工程と、
前記積層体を焼成する工程と
を備えることを特徴とするESD保護デバイスの製造方法。
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