JPWO2010058837A1 - 電磁制振装置 - Google Patents

電磁制振装置 Download PDF

Info

Publication number
JPWO2010058837A1
JPWO2010058837A1 JP2010539259A JP2010539259A JPWO2010058837A1 JP WO2010058837 A1 JPWO2010058837 A1 JP WO2010058837A1 JP 2010539259 A JP2010539259 A JP 2010539259A JP 2010539259 A JP2010539259 A JP 2010539259A JP WO2010058837 A1 JPWO2010058837 A1 JP WO2010058837A1
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electromagnet
steel plate
electromagnets
control
damping device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2010539259A
Other languages
English (en)
Inventor
大原 久典
久典 大原
和久 松田
和久 松田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sinfonia Technology Co Ltd
Original Assignee
Sinfonia Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sinfonia Technology Co Ltd filed Critical Sinfonia Technology Co Ltd
Publication of JPWO2010058837A1 publication Critical patent/JPWO2010058837A1/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C2/00Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
    • C23C2/003Apparatus
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C2/00Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
    • C23C2/32Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor using vibratory energy applied to the bath or substrate
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C2/00Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
    • C23C2/14Removing excess of molten coatings; Controlling or regulating the coating thickness
    • C23C2/24Removing excess of molten coatings; Controlling or regulating the coating thickness using magnetic or electric fields
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C2/00Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
    • C23C2/34Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor characterised by the shape of the material to be treated
    • C23C2/36Elongated material
    • C23C2/40Plates; Strips
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C2/00Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
    • C23C2/50Controlling or regulating the coating processes
    • C23C2/52Controlling or regulating the coating processes with means for measuring or sensing
    • C23C2/524Position of the substrate
    • C23C2/5245Position of the substrate for reducing vibrations of the substrate

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Coating With Molten Metal (AREA)

Abstract

走行する鋼板の振動を適切に抑制できるように、対向配置した電磁石と、各電磁石に設けられ且つ対向する電磁石の間を走行する鋼板と各電磁石との距離を検出するセンサと、各センサにより検知された鋼板と各電磁石との距離に基づいて各電磁石に流す電流を制御する制御部とを備え、表面被覆処理が施された後、前記電磁石の間を通過するようにした鋼板の振動を、その電磁石の間で抑制制御する電磁制振装置において、電磁石に流す電流の制御に用いる制御ゲインを、鋼板の板厚、板幅、鋼種に基づいて決定するようにした構成した。

Description

本発明は、例えば溶融亜鉛メッキ鋼板製造設備等の設備に用いられる電磁制振装置に関するものである。
従来より、例えば連続溶融亜鉛メッキラインにおいて、溶融亜鉛槽を通過して引き上げられながら走行する鋼板に対して、エアーナイフ部(例えばノズルを用いて構成したもの)から加圧空気又は加圧ガスを噴出させることによって過剰な溶融亜鉛を吹き落とし、所望のメッキ厚みにすることが行われている。このような場合、鋼板がエアーナイフ部に対して接離する方向に振動すれば、ノズルと鋼板との距離が変動し、その結果、鋼板がうける圧力(噴射力)が変動してメッキの厚みが不均一となり、品質の劣化を招くことがある。
そこで、走行する鋼板を挟む位置に対向配置した一対の電磁石と、各電磁石に設けられ鋼板との相対位置(距離)を検知するセンサとを備え、各センサが検出する鋼板との相対位置(距離)に基づいて各電磁石に流す電流を制御することにより、電磁石の吸引力を制御し、走行する鋼板の振動を低減する制振装置が考えられている(例えば特許文献1、特許文献2)。
特開平10−60614号公報 特開2000−334512号公報
ところで、従来の制振装置は、電磁石に流す電流の制御に用いる制御ゲインを、鋼板の厚みのみに基づいて決定していた。このような制振装置においては、鋼板の厚みのみを考慮して、走行する鋼板に作用するユニットテンション(単位面積当たりに作用する張力(=鋼板に作用する張力÷鋼板の断面積))を一定にするように制御していた。すなわち、鋼板の厚みが異なる鋼板に対しても適切な制振を行えるように、例えば鋼板の厚みを複数パターン想定し、制御部に、各パターンごとに制御ゲインを対応付けたゲインテーブルを複数記憶させておき、走行する鋼板の厚みに応じて制御ゲインを決定して、ユニットテンションが一定となるように制御していた。
しかしながら、制振装置を導入するラインによっては、ユニットテンションではなく、ほぼ鉛直方向に引き上げられながら走行する鋼板に作用させる張力を一定にするように制御するケースもあると考えられる。このように張力を一定にするライン制御を行うケースにおいて、例えば、鋼板の厚みが変われば、当然のことながら鋼板に作用するユニットテンションも変化し、鋼板に対する制振を安定して行うことができず、適切な制御が困難になるという問題が想定される。
そもそも、ユニットテンションを一定にするように制御するケースであっても、張力を一定にするように制御するケースであっても、鋼板の厚みのみに基づいて制御ゲインを決定する態様であれば、鋼板の厚み以外の鋼板に関する情報、例えば鋼板の幅等が変更した場合にユニットテンションも変化するため、このような変化に柔軟に対応することができず、適切な制御を行うことが困難である。そして、適切な制御が困難であるということは、走行する鋼板の振動を適切に抑制することができず、メッキの厚みが不均一となり、メッキ鋼板の品質劣化を招くことを意味する。
本発明は、このような問題に着目してなされたものであって、主たる目的は、鋼板の厚み以外の鋼板に関する情報が異なる鋼板にも対応でき、走行する鋼板の振動を適切に抑制することが可能な電磁制振装置を提供することにある。
すなわち、本発明の電磁制振装置は、対向配置した電磁石と、各電磁石に設けられ且つ対向する電磁石間を走行する鋼板と各電磁石との距離を検出するセンサと、少なくともセンサにより検知された鋼板と各電磁石との距離に基づいて各電磁石に流す電流を制御する制御部とを備えたものであり、表面被覆処理が施された後、電磁石の間を通過するようにした鋼板の振動を、その電磁石の間で抑制制御するものであって、各電磁石に流す電流の制御に用いる制御ゲインを、少なくとも鋼板の厚み及び鋼板の幅に基づいて決定していることを特徴とする。なお、両電磁石の間を通過する鋼板の姿勢は特に限定されるものではなく、鉛直姿勢、水平姿勢、傾斜姿勢の何れかから適宜選択すればよい。
このような電磁制振装置であれば、走行する鋼板の厚み(板厚)に加えて鋼板の幅(板幅)を、制御ゲインを決定する際のファクターとして取り込むことにより、制御ゲインを細分化することができ、板厚のみならず板幅が異なる鋼板に対しても、対応する制御ゲインを設定することにより、その制御ゲインに基づいて各電磁石に流す電流を適切に制御することができる。したがって、このような電磁制振装置を、鋼板に付着した余剰な溶融金属を吹き飛ばすエアーナイフ部とともに表面被覆処理ライン(例えば連続メッキ鋼板ラインや表面塗装ライン)に配設した場合には、この電磁制振装置によって、板厚及び板幅が異なる鋼板に対しても細分化された制御ゲインを利用して走行中の振動を効果的に抑制することができ、その結果、鋼板とエアーナイフ部との距離を一定範囲内に維持することが可能になり、鋼板に作用する噴射力の変動を防止し、表面被覆処理によって形成される被膜の厚みを均一又はほぼ均一にすることができる。また、本発明の電磁制振装置では、表面被覆処理として溶融金属槽を通過させて行う溶融メッキ処理を採用することができる。さらに、本発明の電磁制振装置では、表面被覆処理を施した後に引き下げながら電磁石の間を通過するようにした鋼板の振動を抑制制御する態様や、表面被覆処理を施した後に水平に移動させながら電磁石の間を通過するようにした鋼板の振動を抑制制御する態様であってもよいが、表面被覆処理を施した後に引き上げられて電磁石の間を通過するようにした鋼板の振動を抑制制御するように構成することが好ましい。
また、電磁制振装置が、制御ゲインを、板厚、板幅に加えてさらに鋼板の種類(鋼種)に基づいて決定するようにすれば、制御ゲインの内容を従来よりも細分化することができ、鋼種の異なる鋼板に対しても走行中の振動を抑制することができる。
本発明によれば、鋼板の厚み以外の鋼板に関する情報、具体的には幅や種類が異なる鋼板に対しても、走行中の振動を適切に抑制して表面被覆処理によって形成される被膜の厚みが不均一となる事態を回避することができる。
本発明の一実施形態に係る電磁制振装置の構成を模式的に示す図。 同実施形態においてシーケンサ内におけるテーブル管理の概要及びゲインテーブルの内容を模式的に示す図。
以下、本発明の一実施形態を、図面を参照して説明する。
本実施形態に係る電磁制振装置1は、図1に示すように、例えば連続メッキ鋼板ラインLにおいて、溶融金属槽(実施形態では溶融亜鉛槽Zを適用)よりも下流側に配設され、溶融亜鉛槽Zを通過して引き上げられながら走行する鋼板Sの振動を抑制するものである。なお、図1では鋼板Sを側面から見た状態を模式的に示している。また、連続メッキ鋼板ラインL(特に溶融亜鉛を用いるメッキ鋼板ラインは「連続溶融亜鉛メッキライン」(CGL;Continuous Galvanizing Line)と称される)は、溶融亜鉛槽Zと電磁制振装置1との間に、噴出口を鋼板Sに向けたノズルA1を備えたエアーナイフ部Aを設け、溶融亜鉛槽Zを通過して引き上げられながら走行する鋼板Sに対して各ノズルA1の噴出口から加圧空気又は加圧ガスを噴出させることによって過剰な溶融亜鉛を吹き落とすようにしている。溶融亜鉛槽Z及びエアーナイフ部Aは既知のものを適用することができ、詳細な説明は省略する。
電磁制振装置1は、図1及び図2に示すように、鋼板Sを厚み方向に挟み得る位置に対向配置した第1電磁石2A、第2電磁石2Bと、各電磁石(第1電磁石2A、第2電磁石2B)のうち鋼板Sに対向する面に設けられ鋼板Sまでの距離を検出する第1センサ3A、第2センサ3Bと、少なくとも各センサ(第1センサ3A、第2センサ3B)により検知された鋼板Sと各電磁石(第1電磁石2A、第2電磁石2B)との距離に基づいて各電磁石(第1電磁石2A、第2電磁石2B)に流す電流を制御する制御部4とを備えたものである。
第1電磁石2A及び第2電磁石2Bは、既知のものであり、鋼板Sに対向する面である磁極面に凹部を形成し、各凹部にそれぞれ第1センサ3A、第2センサ3Bを設けている。
第1センサ3A及び第2センサ3Bは、検出面をそれぞれ対応する各電磁石(第1電磁石2A、第2電磁石2B)の磁極面と同一面又はほぼ同一面に設定され、鋼板Sを挟んで対向する位置に設けられている。第1センサ3A及び第2センサ3Bは、鋼板Sまでの距離d1、d2を検出し、それぞれの検出結果(第1検出信号、第2検出信号)を制御部4に出力するものである。
制御部4は、各センサ(第1センサ3A、第2センサ3B)からの出力(第1検出信号、第2検出信号)が入力されるコントローラ5と、少なくとも制御ゲインに関する指令(ゲイン指令信号)をコントローラ5に出力するシーケンサ6と、コントローラ5が出力した第1電磁石2A、第2電磁石2Bに流す電流に関する指令(電流指令信号β)に基づいて第1電磁石2A、第2電磁石2Bにそれぞれ電流を供給する第1アンプ7A、第2アンプ7Bとを備えたものである。
コントローラ5は、第1センサ3Aが出力する第1検出信号と第2センサ3Bが出力する第2検出信号との差分を算出する第1差分検出手段51と、第1差分検出手段51が出力する差分値αとシーケンサ6が出力する走行する鋼板Sの適切な制御目標位置に関する指令(位置指令信号)との差分を算出する第2差分検出手段53と、第2差分検出手段53が出力する差分値βが入力されるPID制御手段54と、第2差分検出手段53から入力された差分値βに応じてPID制御手段54が出力する制御信号αとシーケンサ6が出力する電流指令信号αとを加算するメイン加算手段55と、メイン加算手段55が出力した加算値(制御信号β)に応じて第1電磁石2A、第2電磁石2Bに流す電流に関する指令(電流指令信号β)を第1アンプ7A及び第2アンプ7Bに出力する電流制御手段56とを備えたものである。なお、走行する鋼板Sの適切な制御目標位置に関する指令(位置指令信号)を出力する位置指令手段(図示省略)をシーケンサ6とは別に設けてもよい。この場合、第2差分検出手段53は、位置指令手段が出力する位置指令信号と第1差分検出手段51が出力する差分値αとの差分を算出するものとなる。
PID制御手段54は、図2に示すように、第2差分検出手段53から差分値βが入力されるゲイン決定手段541と、このゲイン決定手段541からの出力及びシーケンサ6からの出力(ゲイン指令信号)によって第1電磁石2A、第2電磁石2Bに流す電流の制御を行う比例制御手段542、積分制御手段543、及び微分制御手段544と、これら比例制御手段542、積分制御手段543、微分制御手段544からの出力が入力されるPID制御用加算手段545とから構成される。PID制御用加算手段545から出力される制御信号αはメイン加算手段55に入力される。
本実施形態では、コントローラ5のうち、第1差分検出手段51、第2差分検出手段53、PID制御手段54、メイン加算手段55、及び電流制御手段56を、制御回路基板B上に配設している。なお、これら制御回路基板B上に配設される各手段、つまりコントローラ5によって本発明の「制御部4」を構成していると考えることも可能であり、その場合、本発明の電磁制振装置1は、電磁石(第1電磁石2A、第2電磁石2B)と、センサ(第1センサ3A、第2センサ3B)と、コントローラ5(本発明の「制御部」に相当)と、シーケンサ6と、アンプ(第1アンプ7A、第2アンプ7B)とを備えたものといえる。
シーケンサ6には、図2に示すように、鋼板Sの厚み(板厚)と鋼板Sの幅(板幅)と鋼板Sの種類(鋼種)とをパラメータ(制御パラメータ)として、これらのパラメータの組み合わせごとに設定した制御ゲインをテーブル化して記憶させている。すなわち、図2に示すように、パラメータ(板厚、板幅、鋼種)の組み合わせごとにそれぞれ適する制御ゲインを対応付けたゲインテーブルを複数記憶させている。このシーケンサ6に記憶された複数のゲインテーブルから走行する鋼板Sに応じたゲインテーブルを選択し、このゲインテーブルに基づいて電磁石(第1電磁石2A、第2電磁石2B)に流す電流を制御するための制御ゲインを決定(設定)する。本実施形態では、例えば鋼種を6パターン、板厚を15パターン、板幅を4パターン設定し、各パターンごとに適した制御ゲイン(Pゲイン、Iゲイン、Dゲイン、電流)を対応付けた360通りのゲインテーブルをテーブル管理(マトリックス管理)して、電磁石(第1電磁石2A、第2電磁石2B)に流す電流の制御に適用している。なお、鋼種、板厚、板幅の各パターン数を適宜増減しても構わず、これら各パラメータのパターン数の変化に応じてゲインテーブル数も増減する。
また、本実施形態では、電磁制振装置1とは別の装置であるライン情報を管理しているライン情報管理コンピュータ(図示省略)とシーケンサ6とのインターフェース8により、ラインL側の情報、つまり走行する鋼板Sに関する情報である板厚、板幅、鋼種、張力等をシーケンサ6に入力できるようにしている。なお、インターフェース8に入力されたラインL側の情報を、図示しないタッチパネルや操作盤に表示することもできる。
次に、このような構成を有する電磁制振装置1の使用方法及び作用について説明する。
まず、操業管理者が直接又は操業管理コンピュータ(当該操業管理コンピュータは上述したライン情報管理コンピュータを兼ねるもの、又はライン情報管理コンピュータとは別体のもの、これら何れであってもよい)が自動的にインターフェース8を通じて、走行する鋼板Sの板厚、板幅、鋼種を入力する。これにより、走行する鋼板Sの板厚、板幅、鋼種が制御部4に伝達され、鋼板Sの板厚、板幅、鋼種に応じて各電磁石(第1電磁石2A、第2電磁石2B)を制御するための制御ゲインを設定する。上述したように、制御ゲインは、鋼板Sの板厚、板幅、鋼種に応じてシーケンサ6に記憶(内蔵)されているゲインテーブルによって決定される。決定された制御ゲインは、制御ゲインに関する指令(ゲイン指令信号)としてコントローラ5(具体的にはPID制御手段54)に入力される。
そして、図1に示すように、溶融亜鉛槽Zを通過して引き上げられながら第1電磁石2Aと第2電磁石2Bとの間を走行する鋼板Sに対して、第1センサ3A及び第2センサ3Bがそれぞれ鋼板Sまでの距離を検出し、それぞれの検出情報(第1検出信号、第2検出信号)をコントローラ5に出力する。コントローラ5は、これらの検出情報(第1検出信号、第2検出信号)及びシーケンサ6から出力されたゲイン指令信号等に基づいて、第1電磁石2A、第2電磁石2Bに流す電流に関する指令(電流指令信号β)を第1アンプ7A及び第2アンプ7Bに出力する。
具体的には、第1センサ3Aによって検出された第1検出信号と第2センサ3Bによって検出された第2検出信号とが第1差分検出手段51に入力され、この第1差分検出手段51により、第1検出信号と第2検出信号との差分を算出する。この算出値(差分値α)とシーケンサ6(又はシーケンサ6とは別に設けた位置指令手段)が出力する位置指令信号とが第2差分検出手段53に入力され、第2差分検出手段53により算出値(差分値α)と位置指令信号との差分を算出する。第2差分検出手段53で算出された差分値βはPID制御手段54に入力される。PID制御手段54には、さらにシーケンサ6が出力するゲイン指令信号が入力される。詳述すると、PID制御手段54のうちゲイン決定手段541に、第2差分検出手段53で算出された差分値βが入力され、このゲイン決定手段からの出力、及びシーケンサ6からの出力であるゲイン指令信号が、比例制御手段542、積分制御手段543、微分制御手段544に入力され、これら比例制御手段542、積分制御手段543、微分制御手段544からの出力はPID制御用加算手段545に入力される。PID制御用加算手段545により、これら比例制御手段542、積分制御手段543、微分制御手段544からの出力が加算され、この加算値に基づく制御信号αをメイン加算手段55に入力する。メイン加算手段55により、PID制御用加算手段545が出力した制御信号αと、シーケンサ6から出力される電流指令信号αとが加算され、この加算値に基づく制御信号βが電流制御手段56に入力される。そして、電流制御手段56により、制御信号βに基づいて各電磁石(第1電磁石2A、第2電磁石2B)に流す電流に関する信号(電流指令信号β)を各アンプ(第1アンプ7A、第2アンプ7B)に出力する。
以上のステップを経てコントローラ5から出力された電流指令信号βは、第1アンプ7A及び第2アンプ7Bに入力され、電流指令信号βに基づく電流が、第1アンプ7Aから第1電磁石2Aに出力されるとともに、第2アンプ7Bから第2電磁石2Bに出力される。このようにして、第1電磁石2A、第2電磁石2Bに流す電流が制御され、その結果、鋼板Sは、各電磁石(第1電磁石2A、第2電磁石2B)の吸引力により第1電磁石2Aと第2電磁石2Bとの中間位置に位置付けられ、走行中の振動が抑制される。
したがって、溶融亜鉛槽Zを通過して引き上げられながら走行する鋼板Sと、エアーナイフ部Aを構成する各ノズルA1における噴出口との距離を一定範囲内に維持することができ、鋼板Sに作用する噴射力の変動を防止し、均一又はほぼ均一なメッキ厚みにすることができる。
さらにまた、本実施形態に係る電磁制振装置1は、上述したように、走行する鋼板Sの板厚、板幅、鋼種を制御パラメータとするゲインテーブルを有しているため、走行する鋼板Sの板厚、板幅、鋼種を制御部4に入力することにより、該当するゲインテーブルに記録された制御ゲインに基づき、上述したステップを経て各電磁石(第1電磁石2A、第2電磁石2B)に流す電流を制御することができる。このように、本実施形態に係る電磁制振装置1は、板幅や鋼種が異なる鋼板Sに対しても細分化された制御ゲインを利用することで、従来のように板厚のみに基づいて制御ゲインを決定して走行中の鋼板に作用させる張力やユニットテンションが一定となるように制御していた態様よりも柔軟に対応することが可能であり、走行する鋼板Sの振動を効果的に抑制することができ、実用性に優れたものとなる。
なお、本発明は上述した実施形態に限定されるものではない。例えば、電磁石に流す電流の制御に用いる制御ゲインを、鋼板の厚み(板厚)及び鋼板の幅(板幅)のみに基づいて決定する態様であっても構わない。また、制御ゲインを、鋼板の走行速度又は鋼板の形状に基づいて決定するようにしてもよい。
また、上述した実施形態では、溶融金属槽として溶融亜鉛槽を例示したが、これに変えて、例えば溶融した錫又はアルミニウム或いは樹脂材料などを貯留した槽を適用しても構わない。また、適宜の表面処理材料を鋼鈑に噴霧することによって表面被覆処理を施すようにしてもよい。また、溶融メッキ処理以外の表面被覆処理として、例えば表面塗装処理等に適用することもできる。さらに、本発明の電磁制振装置が、表面被覆処理を施した後に引き下げながら電磁石の間を通過するようにした鋼板の振動を抑制制御する装置であったり、表面被覆処理を施した後に水平に移動させながら電磁石の間を通過するようにした鋼板の振動を抑制制御する装置であっても構わない。また、上述した実施形態では、電磁石間を通過する鋼板の姿勢が鉛直の場合を示したが、本発明において鋼板は鉛直以外の姿勢、例えば水平姿勢、傾斜姿勢の何れかで電磁石間を通過させるようにすることもできる。
その他、各部の具体的構成についても上記実施形態に限られるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々変形が可能である。
本発明は、鋼板の厚み以外の鋼板に関する情報、具体的には幅や種類が異なる鋼板に対しても、走行中の振動を適切に抑制して表面被覆処理によって形成される被膜の厚みが不均一となる事態を回避することができ、例えば溶融亜鉛メッキ鋼板製造設備等の設備に用いることが可能である。

Claims (4)

  1. 対向配置した電磁石と、各電磁石に設けられ且つ対向する電磁石の間を走行する鋼板と各電磁石との距離を検出するセンサと、少なくとも前記センサにより検知された鋼板と各電磁石との距離に基づいて各電磁石に流す電流を制御する制御部とを具備してなり、表面被覆処理が施された後、前記電磁石の間を通過するようにした鋼板の振動を、その電磁石の間で抑制制御する電磁制振装置であって、
    前記電磁石に流す電流の制御に用いる制御ゲインを、少なくとも前記鋼板の厚み及び前記鋼板の幅に基づいて決定していることを特徴とする電磁制振装置。
  2. 前記表面被覆処理は溶融金属槽を通過させて行う溶融メッキ処理である請求項1に記載の電磁制振装置。
  3. 前記表面被覆処理が施された後に引き上げられて前記電磁石の間を通過するようにした鋼板の振動を抑制制御する請求項1又は2に記載の電磁制振装置。
  4. 〈基礎出願の請求項2に対応〉
    前記制御ゲインを、さらに前記鋼板の種類に基づいて決定している請求項1乃至3の何れかに記載の電磁制振装置。
JP2010539259A 2008-11-21 2009-11-20 電磁制振装置 Pending JPWO2010058837A1 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008298814 2008-11-21
JP2008298814 2008-11-21
PCT/JP2009/069701 WO2010058837A1 (ja) 2008-11-21 2009-11-20 電磁制振装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPWO2010058837A1 true JPWO2010058837A1 (ja) 2012-04-19

Family

ID=42198276

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010539259A Pending JPWO2010058837A1 (ja) 2008-11-21 2009-11-20 電磁制振装置

Country Status (7)

Country Link
US (1) US20110217481A1 (ja)
JP (1) JPWO2010058837A1 (ja)
KR (1) KR20110088522A (ja)
CN (1) CN102224271A (ja)
BR (1) BRPI0920913A2 (ja)
TW (1) TW201030182A (ja)
WO (1) WO2010058837A1 (ja)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SE531120C2 (sv) * 2007-09-25 2008-12-23 Abb Research Ltd En anordning och ett förfarande för stabilisering och visuell övervakning av ett långsträckt metalliskt band
BR112012023619A2 (pt) * 2010-03-19 2016-08-02 Sinfonia Technology Co Ltd dispositivo de eliminação de vibração eletromagnética e programa de controle de eliminação de vibração eletromagnética
WO2012133362A1 (ja) * 2011-03-30 2012-10-04 シンフォニアテクノロジー株式会社 電磁制振装置、電磁制振制御プログラム
JP5626092B2 (ja) * 2011-04-15 2014-11-19 新日鐵住金株式会社 制振制御装置、制振制御方法およびコンピュータプログラム
KR101531461B1 (ko) 2012-05-10 2015-06-24 신닛테츠스미킨 카부시키카이샤 강판 형상 제어 방법 및 강판 형상 제어 장치
ITMI20121533A1 (it) * 2012-09-14 2014-03-15 Danieli Off Mecc Stabilizzatore elettromagnetico

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW476679B (en) * 1999-05-26 2002-02-21 Shinko Electric Co Ltd Device for suppressing the vibration of a steel plate
JP3901969B2 (ja) * 2001-08-29 2007-04-04 三菱重工業株式会社 鋼板の制振装置
JP2004091864A (ja) * 2002-08-30 2004-03-25 Jfe Steel Kk 鋼帯形状矯正装置及び鋼帯製造方法
US8062711B2 (en) * 2005-03-24 2011-11-22 Abb Research Ltd. Device and a method for stabilizing a steel sheet

Also Published As

Publication number Publication date
CN102224271A (zh) 2011-10-19
US20110217481A1 (en) 2011-09-08
KR20110088522A (ko) 2011-08-03
BRPI0920913A2 (pt) 2015-12-29
TW201030182A (en) 2010-08-16
WO2010058837A1 (ja) 2010-05-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2010058837A1 (ja) 電磁制振装置
WO2011115153A1 (ja) 電磁制振装置、電磁制振制御プログラム
JP2009179834A (ja) 帯板の形状矯正・制振方法及び溶融金属めっき鋼板の製造方法
JP2010535945A (ja) 溶融漬浸被覆装備の放出ノズル間に案内された被覆を備えたストリップを安定化させる方法と溶融漬浸被覆装備
KR20140010106A (ko) 전자기 제진 장치, 전자기 제진 제어 프로그램
JP2004027315A (ja) 溶融金属めっき鋼板の製造方法および製造装置
JP3901969B2 (ja) 鋼板の制振装置
JP5811554B2 (ja) 電磁制振装置、電磁制振制御プログラム
JPH06136502A (ja) 溶融金属めっき鋼帯の電磁力によるめっき付着量制御方法
JPH1053849A (ja) 溶融めっき鋼帯の蛇行防止方法及び装置
JP5636708B2 (ja) 電磁制振装置、電磁制振制御プログラム
JP3002331B2 (ja) 鋼板の制振装置
JPH1060614A (ja) 電磁力を利用しためっき付着量調整方法及び装置
JP2014201798A (ja) 溶融亜鉛めっき鋼帯の製造方法
JP3125640B2 (ja) 帯状体の制振方法及びその制振装置
JP2991922B2 (ja) 金属帯の支持装置
JP5644141B2 (ja) 金属帯の制振及び位置矯正装置、および該装置を用いた溶融めっき金属帯製造方法
JPH05245521A (ja) 鋼板の制振方法及び装置
JP4713184B2 (ja) 鋼板の形状矯正装置および形状矯正方法
JPH05245523A (ja) 鋼板の制振装置
JP4450662B2 (ja) 鋼板の制振装置
JPH10273764A (ja) 連続溶融金属メッキラインのメッキ付着量制御方法及び装置
JPH08197139A (ja) 鋼板形状制御装置
JP4495553B2 (ja) 鋼板のフラッタリング抑制方法
JP2005171336A (ja) 溶融金属めっき方法及び設備