JPWO2010052934A1 - 評価装置および評価方法 - Google Patents
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Abstract
Description
ドーズ輝度変化=(−αの画像の輝度)−(+αの画像の輝度)…(2)
/2−f(線幅変化) …(5)
Edge Roughness)と、SEMにより計測したLERとの相関を示すデータの一例を示す。この図13から、フォーカスの変化に対するLERの変化について、本実施形態による算出値とSEMによる計測値との間で高い相関が得られたことがわかる。ここで、LERとは、パターンの壁面に出来た凹凸の大きさを表す値である。
10 ウェハ(基板) 12 繰り返しパターン
30 照明系(照明部)
40 受光系 42 検光子
43 回転駆動装置(設定部) 44 撮像カメラ(撮像部)
50 画像処理部(評価部)
L1 第1の直線偏光 L2 楕円偏光
L3 第2の直線偏光(偏光成分)
Claims (10)
- 所定の繰り返しパターンを有する基板の表面に直線偏光を照射する照明部と、
前記直線偏光が照射された前記繰り返しパターンからの正反射光のうち前記直線偏光と振動方向が異なる偏光成分を抽出する検光子と、
前記検光子により抽出された前記偏光成分に基づく前記基板の正反射像を撮像する撮像部と、
前記直線偏光の振動方向と前記偏光成分の振動方向との間の角度条件、もしくは、前記直線偏光の振動方向と前記繰り返しパターンの繰り返し方向との間の角度条件を設定する設定部と、
前記撮像部により撮像された前記正反射像の画像に基づいて、前記繰り返しパターンの状態を評価する評価部とを備え、
前記撮像部は、前記設定部により設定された、前記直線偏光の振動方向と前記偏光成分の振動方向との間の複数の角度条件、もしくは、前記直線偏光の振動方向と前記繰り返しパターンの繰り返し方向との間の複数の角度条件において得られる前記正反射像をそれぞれ撮像し、
前記評価部は、前記撮像部により撮像された複数の前記正反射像の画像に基づいて、前記繰り返しパターンの状態を評価することを特徴とする評価装置。 - 前記設定部は、前記直線偏光の進行方向と垂直な面内における振動方向と、前記正反射光の進行方向と垂直な面内における前記偏光成分の振動方向とのなす角度を、90度±所定角度である2つの角度条件となるように設定することを特徴とする請求項1に記載の評価装置。
- 前記設定部は、前記基板の表面における前記直線偏光の振動方向と、前記繰り返しパターンの繰り返し方向とのなす角度を、互いに90度だけ異なる2つの角度条件となるように設定することを特徴とする請求項1に記載の評価装置。
- 前記繰り返しパターンは、露光装置を用いて形成されており、
前記撮像部は、前記設定部により設定された、前記直線偏光の振動方向と前記偏光成分の振動方向との間の2つの角度条件、もしくは、前記直線偏光の振動方向と前記繰り返しパターンの繰り返し方向との間の2つの角度条件において得られる前記正反射像をそれぞれ撮像し、
前記評価部は、前記撮像部により撮像された2つの前記正反射像の画像における信号強度の差分に基づいて、前記露光装置における露光量の変化に起因する前記繰り返しパターンの状態変化を検出し、前記2つの前記正反射像の画像における信号強度の平均に基づいて、前記露光装置におけるフォーカスの変化に起因する前記繰り返しパターンの状態変化を検出することを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載の評価装置。 - 前記繰り返しパターンが正常である場合に前記複数の前記正反射像の画像における前記繰り返しパターンの明るさがそれぞれ同じになるように、前記照明部が前記直線偏光を照射することを特徴とする請求項1から4のいずれか一項に記載の評価装置。
- 所定の繰り返しパターンを有する基板の表面に直線偏光を照射するとともに、前記直線偏光が照射された前記繰り返しパターンからの正反射光のうち前記直線偏光と振動方向が異なる偏光成分を抽出し、前記抽出した偏光成分に基づく前記基板の正反射像を撮像して前記繰り返しパターンの状態を評価する評価方法であって、
前記直線偏光の振動方向と前記偏光成分の振動方向との間の角度条件、もしくは、前記直線偏光の振動方向と前記繰り返しパターンの繰り返し方向との間の角度条件を設定する第1のステップと、
前記第1のステップで設定した、前記直線偏光の振動方向と前記偏光成分の振動方向との間の複数の角度条件、もしくは、前記直線偏光の振動方向と前記繰り返しパターンの繰り返し方向との間の複数の角度条件において、前記基板の表面に前記直線偏光を照射する第2のステップと、
前記複数の角度条件において、前記直線偏光が照射された前記繰り返しパターンからの正反射光のうち前記直線偏光と振動方向が異なる偏光成分を抽出する第3のステップと、
前記複数の角度条件において、前記第3のステップで抽出した前記偏光成分に基づく前記基板の正反射像を撮像する第4のステップと、
前記複数の角度条件において前記第4のステップでそれぞれ撮像した複数の前記正反射像の画像に基づいて、前記繰り返しパターンの状態を評価する第5のステップとを有することを特徴とする評価方法。 - 前記第1のステップでは、前記直線偏光の進行方向と垂直な面内における振動方向と、前記正反射光の進行方向と垂直な面内における前記偏光成分の振動方向とのなす角度を、90度±所定角度である2つの角度条件となるように設定することを特徴とする請求項6に記載の評価方法。
- 前記第1のステップでは、前記基板の表面における前記直線偏光の振動方向と、前記繰り返しパターンの繰り返し方向とのなす角度を、互いに90度だけ異なる2つの角度条件となるように設定することを特徴とする請求項6に記載の評価方法。
- 前記繰り返しパターンは、露光装置を用いて形成されており、
前記第2のステップでは、前記第1のステップで設定した、前記直線偏光の振動方向と前記偏光成分の振動方向との間の2つの角度条件、もしくは、前記直線偏光の振動方向と前記繰り返しパターンの繰り返し方向との間の2つの角度条件において、前記基板の表面に前記直線偏光を照射し、
前記第3のステップでは、前記2つの角度条件において、前記直線偏光が照射された前記繰り返しパターンからの正反射光のうち、前記直線偏光と振動方向が異なる偏光成分を抽出し、
前記第4のステップでは、前記2つの角度条件において、前記第3のステップで抽出した前記偏光成分に基づく前記基板の正反射像を撮像し、
前記第5のステップでは、前記第4のステップでそれぞれ撮像した2つの前記正反射像の画像における信号強度の差分に基づいて、前記露光装置における露光量の変化に起因する前記繰り返しパターンの状態変化を検出し、前記2つの前記正反射像の画像における信号強度の平均に基づいて、前記露光装置におけるフォーカスの変化に起因する前記繰り返しパターンの状態変化を検出することを特徴とする請求項6から8のいずれか一項に記載の評価方法。 - 前記第2のステップでは、前記繰り返しパターンが正常である場合に前記複数の前記正反射像の画像における前記繰り返しパターンの明るさがそれぞれ同じになるように、前記直線偏光を照射することを特徴とする請求項6から9のいずれか一項に記載の評価方法。
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