JP2006322766A - パターン欠陥検査装置および方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 パターン欠陥検査装置において、複数の波長を出力可能な照明光源3から射出された光を、照明光学系4で線状に照明する。ウェハ1上の回路パターンや欠陥により回折、散乱された光は、結像光学系5でラインセンサ6に集光され、ディジタル信号に変換され、信号処理部7で欠陥が検出される。このとき、照明光学系4の光軸101と結像光学系5の光軸102でなす面と配線パターンの方向をほぼ平行にし、さらに、結像光学系5の光軸102とウェハ1とのなす角度を、パターンからの回折光が少なくなる角度に設定することにより、高感度に欠陥を検出する。
【選択図】 図1
Description
本発明の実施の形態1に係るパターン欠陥検査装置の一例を図1に示す。本発明の実施の形態1に係るパターン欠陥検査装置は、検査対象であるウェハ1を載置および移動させる搬送系2、複数の波長を射出可能な照明光源3、ウェハ1を照明する照明手段である照明光学系4、照明光学系4により照明されたウェハ1からの散乱光を結像する結像手段である結像光学系5、結像光学系5により形成されたウェハ1の像を光電変換する検出手段であるラインセンサ6、ラインセンサ6から出力された信号を処理し、ウェハ1上の欠陥を検出する信号処理手段である信号処理部7から構成されており、照明光学系4は、リレーレンズ41、シリンドリカルレンズ42で構成されている。
t=λ×n+λ/4、または、t=λ×n+λ×3/4 (式2)
(式1)(式2)からわかるように、単一波長では波長λが短くなるにつれ、干渉強度の変化は膜厚の変化に対して敏感になる。
H=L×tan(α) (式4)
図10に照明光学系と結像光学系の配置における別の例で、照明角度を変える場合を示す。図10は、照明光学系の光軸101aをウェハ1の法線に対して、x軸方向に角度γ傾けた例である。この時、照明光学系の光軸101aと結像光学系の光軸102が為す角度は90度以下である。本構成の利点は、ウェハ1の配線パターンからの正反射光と結像光学系の光軸102との角度ηが大きくなるため、ウェハ1の配線パターンからの回折光を低減できることにある。
本発明の実施の形態2に係るパターン欠陥検査装置の一例を図12に示す。本実施の形態のパターン欠陥検査装置は、検査対象であるウェハ1を載置および移動させる搬送系2、複数の波長を射出可能な照明光源3、照明光学系4、結像光学系5、ラインセンサ6、信号処理部7、観察光学系20から構成されている。この中で、照明光学系4はリレーレンズ41、シリンドリカルレンズ42で構成されており、結像光学系5はフーリエ変換レンズ51、結像光学系5の光路中で光束を制限するフィルタリング手段である開口制限フィルタ52、逆フーリエ変換レンズ53から構成されている。さらに、観察光学系20は、ミラー21、リレーレンズ22、TVカメラ23で構成されており、結像光学系5の光軸102に対して挿入および退避が可能な機構を有する。
Claims (10)
- 試料を照明する照明手段と、
前記照明手段により照明された前記試料からの散乱光を結像する結像手段と、
前記結像手段により形成された前記試料の像を光電変換する検出手段と、
前記検出手段から出力された信号を処理し、前記試料上の欠陥を検出する信号処理手段とを備えたパターン欠陥検査装置であって、
前記照明手段の光軸と前記結像手段の光軸とがなす面が前記試料上の配線パターンとほぼ平行であることを特徴とするパターン欠陥検査装置。 - 請求項1記載のパターン欠陥検査装置において、
前記照明手段は、複数の波長を射出可能であることを特徴とするパターン欠陥検査装置。 - 請求項1または2記載のパターン欠陥検査装置において、
前記照明手段による照明形状は、線状であることを特徴とするパターン欠陥検査装置。 - 請求項1乃至3のいずれか1項記載のパターン欠陥検査装置において、
前記結像手段は、前記試料の法線方向に移動可能であることを特徴とするパターン欠陥検査装置。 - 試料を照明する照明手段と、
前記照明手段により照明された前記試料からの散乱光を結像する結像手段と、
前記結像手段の光路中で光束を制限するフィルタリング手段と、
前記フィルタリング手段を通過した光束により形成された前記試料の像を光電変換する検出手段と、
前記検出手段から出力された信号を処理し、前記試料上の欠陥を検出する信号処理手段とを備えたパターン欠陥検査装置であって、
前記フィルタリング手段は、配線パターンからの回折光が少ない領域を選択することを特徴とするパターン欠陥検査装置。 - 試料を照明手段により照明し、
前記照明手段により照明された前記試料からの散乱光を結像手段により結像し、
前記結像手段により形成された前記試料の像を検出手段により光電変換し、
前記検出手段から出力された信号を信号処理手段により処理し、前記試料上の欠陥を検出するパターン欠陥検査方法であって、
前記照明手段の光軸と前記結像手段の光軸とがなす面が前記試料上の配線パターンとほぼ平行であることを特徴とするパターン欠陥検査方法。 - 請求項6記載のパターン欠陥検査方法において、
前記照明手段は、複数の波長を射出可能であることを特徴とするパターン欠陥検査方法。 - 請求項6または7記載のパターン欠陥検査方法において、
前記照明手段による照明形状は、線状であることを特徴とするパターン欠陥検査方法。 - 請求項6乃至8のいずれか1項記載のパターン欠陥検査方法において、
前記結像手段は、前記試料の法線方向に移動可能であることを特徴とするパターン欠陥検査方法。 - 試料を照明手段により照明し、
前記照明手段により照明された前記試料からの散乱光を結像手段により結像し、
前記結像手段の光路中で光束をフィルタリング手段により制限し、
前記フィルタリング手段を通過した光束により形成された前記試料の像を検出手段により光電変換し、
前記検出手段から出力された信号を信号処理手段により処理し、前記試料上の欠陥を検出するパターン欠陥検査方法であって、
前記フィルタリング手段は、配線パターンからの回折光が少ない領域を選択することを特徴とするパターン欠陥検査方法。
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