JP2010133864A - 異物検出装置及び方法、並びに露光装置及び方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】レチクルRの被検査面(ガラス面RG)に波長の異なる複数のプローブ光を照射し、ガラス面RGからの散乱光を複数の受光角で受光し、受光した散乱光L1,L2のそれぞれの強度を計測する。ガラス面RGでのプローブ光の照射位置と照射位置に対応する散乱光L1,L2の強度の計測結果とから、複数のプローブ光の波長と複数の散乱光の受光角毎に、ガラス面RGについての散乱光の強度分布を求める。求められた複数の強度分布を相互に比較して解析することにより、レチクルパターンによる回折光からガラス面RG上に付着した異物APによる散乱光を分離して検出することができるので、精度良く異物APを検出することが可能となる。
【選択図】図4
Description
Claims (32)
- パターンを有する基板に付着した異物を検出する異物検出装置であって、
前記基板の被検査面に波長の異なる複数のプローブ光を照射する照射系と;
前記被検査面からの散乱光を複数の受光角で受光して、前記散乱光の強度を計測する受光系と;
前記被検査面上での前記複数のプローブ光の照射位置と該照射位置に対応する前記受光系の計測結果とから、前記複数のプローブ光の波長と前記複数の受光角毎に、前記被検査面についての前記散乱光の強度分布を求め、該強度分布を解析することにより前記被検査面上の異物を検出する解析系と;を備える異物検出装置。 - 前記解析系は、前記複数のプローブ光の波長と前記複数の受光角に対して作成された前記強度分布のうちの少なくとも2つについて共通して現れる有意な信号を確認することにより、異物を検出する請求項1に記載の異物検出装置。
- 前記解析系は、少なくとも2つの異なる前記波長と1つの共通の前記受光角に対する前記強度分布について共通して現れる信号を前記有意な信号とする請求項2に記載の異物検出装置。
- 前記解析系は、前記有意な信号が、少なくとも2つの異なる前記受光角に対する前記強度分布について確認できる場合、前記有意な信号をより有意な信号とする請求項3に記載の異物検出装置。
- 前記解析系は、前記有意な信号が、より大きな前記受光角に対する前記強度分布について確認できる場合、前記有意な信号をより有意な信号とする請求項3又は4に記載の異物検出装置。
- 前記受光系は、前記散乱光の受光角と受光位置との少なくとも一方が可変であり、
前記解析系は、前記有意な信号が、前記散乱光の受光角と受光位置との少なくとも一方を変えても確認できる場合、前記有意な信号をより有意な信号とする請求項2〜5のいずれか一項に記載の異物検出装置。 - 前記基板と前記照射系は、相対的に、前記基板の被検査面にほぼ平行な面内の少なくとも一軸方向に移動可能であり、
前記照射系は、前記被検査面に、前記複数のプローブ光を前記一軸と非平行に照射する請求項1〜6のいずれか一項に記載の異物検出装置。 - 前記照射系は、前記複数のプローブ光を、前記平行な面内で前記一軸に直交する軸にほぼ平行な前記被検査面内の直線上に照射する請求項7に記載の異物検出装置。
- 前記受光系は、前記散乱光を受光する少なくとも1つの1次元受光素子を有する請求項8に記載の異物検出装置。
- 前記1次元受光素子は、前記直線とほぼ平行に配置される請求項9に記載の異物検出装置。
- 前記照射系は、前記複数のプローブ光を、順次、前記被検査面に照射する請求項1〜10のいずれか一項に記載の異物検出装置。
- 前記照射系は、前記複数のプローブ光のうちの少なくとも2つを、同時に、前記被検査面に照射する請求項1〜11のいずれか一項に記載の異物検出装置。
- 前記照射系は、前記少なくとも2つのプローブ光を、それぞれ異なる入射角で、前記被検査面に照射する請求項12に記載の異物検出装置。
- 前記受光系は、前記複数のプローブ光のそれぞれに由来する散乱光を個別に受光する複数の光学系を有する請求項1〜13のいずれか一項に記載の異物検出装置。
- 前記受光系は、前記複数のプローブ光のそれぞれに由来する散乱光を受光する共通の受光素子を有する請求項1〜14のいずれか一項に記載の異物検出装置。
- 前記基板は、該基板を保持して移動することができる移動体を用いることにより、前記照射系に対して相対的に移動することができる請求項1〜15のいずれか一項に記載の異物検出装置。
- 前記解析系は、前記移動体の位置を計測し、該位置の計測結果より、前記被検査面上での前記複数のプローブ光の照射位置を求める請求項16に記載の異物検出装置。
- 前記基板は該基板が有するパターンを物体に転写するための露光用マスクであり、
請求項1〜17のいずれか一項に記載の異物検出装置を備え、該異物検出装置を用いて前記露光用マスクの表面を検査し、検査済みの前記露光用マスクを用いて該露光用マスクのパターンを前記物体に転写する露光装置。 - パターンを有する基板に付着した異物を検出する異物検出方法であって、
前記基板の被検査面に波長の異なる複数のプローブ光を照射し、前記被検査面からの散乱光を複数の受光角で受光して、前記散乱光の強度を計測する工程と;
前記被検査面上での前記複数のプローブ光の照射位置と該照射位置に対応する前記散乱光の強度の計測結果とから、前記複数のプローブ光の波長と前記複数の受光角毎に、前記被検査面についての前記散乱光の強度分布を求め、該強度分布を解析して前記被検査面上の異物を検出する工程と;
を含む異物検出方法。 - 前記検出する工程では、前記複数のプローブ光の波長と前記複数の受光角に対して作成された前記強度分布のうちの少なくとも2つについて共通して現れる有意な信号を確認することにより、異物を検出する請求項19に記載の異物検出方法。
- 前記検出する工程では、少なくとも2つの異なる前記波長と1つの共通の前記受光角に対する前記強度分布について共通して現れる信号を前記有意な信号とする請求項20に記載の異物検出方法。
- 前記検出する工程では、前記有意な信号が、少なくとも2つの異なる前記受光角に対する前記強度分布について確認できる場合、前記有意な信号をより有意な信号とする請求項21に記載の異物検出方法。
- 前記検出する工程では、前記有意な信号が、より大きな前記受光角に対する前記強度分布について確認できる場合、前記有意な信号をより有意な信号とする請求項21又は22に記載の異物検出方法。
- 前記計測する工程では、さらに、前記散乱光の受光角と受光位置との少なくとも一方を変えて前記散乱光の強度を計測し、
前記検出する工程では、前記有意な信号が、前記散乱光の受光角と受光位置との少なくとも一方を変えても確認できる場合、前記有意な信号をより有意な信号とする請求項20〜23のいずれか一項に記載の異物検出方法。 - 前記計測する工程では、前記基板と前記照射系を、相対的に、前記基板の被検査面にほぼ平行な面内の少なくとも一軸方向に移動させ、前記被検査面に前記複数のプローブ光を前記一軸と非平行に照射して、前記散乱光の強度を計測する請求項19〜24のいずれか一項に記載の異物検出方法。
- 前記計測する工程では、前記複数のプローブ光を、前記平行な面内で前記一軸に直交する軸にほぼ平行な前記被検査面内の直線上に照射して、前記散乱光の強度を計測する請求項25に記載の異物検出方法。
- 前記計測する工程では、前記複数のプローブ光を、順次、前記被検査面に照射する請求項19〜26のいずれか一項に記載の異物検出方法。
- 前記計測する工程では、前記複数のプローブ光のうちの少なくとも2つを、同時に、前記被検査面に照射する請求項19〜27のいずれか一項に記載の異物検出方法。
- 前記計測する工程では、前記少なくとも2つのプローブ光を、それぞれ異なる入射角で、前記被検査面に照射する請求項28に記載の異物検出方法。
- 前記計測する工程では、前記基板を、該基板を保持して移動することができる移動体を用いて、前記照射系に対して相対的に移動させる請求項19〜29のいずれか一項に記載の異物検出方法。
- 前記計測する工程では、さらに、前記移動体の位置を計測し、
前記検出する工程では、前記移動体の位置の計測結果より、前記被検査面上での前記複数のプローブ光の照射位置を求める請求項30に記載の異物検出方法。 - 前記基板は該基板が有するパターンを物体に転写するための露光用マスクであり、
請求項19〜31のいずれか一項に記載の異物検出方法を利用して前記露光用マスクの表面を検査し、検査済みの前記露光用マスクを用いて該露光用マスクのパターンを前記物体に転写する露光方法。
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2008
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