JPWO2009142119A1 - 表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子 - Google Patents

表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子 Download PDF

Info

Publication number
JPWO2009142119A1
JPWO2009142119A1 JP2010512987A JP2010512987A JPWO2009142119A1 JP WO2009142119 A1 JPWO2009142119 A1 JP WO2009142119A1 JP 2010512987 A JP2010512987 A JP 2010512987A JP 2010512987 A JP2010512987 A JP 2010512987A JP WO2009142119 A1 JPWO2009142119 A1 JP WO2009142119A1
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
seed
resin particles
resin
particles
depressions
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2010512987A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5379130B2 (ja
Inventor
茂生 濱本
茂生 濱本
洋嗣 河田
洋嗣 河田
聖 山口
聖 山口
大久保　政芳
政芳 大久保
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Seika Chemicals Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Seika Chemicals Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Seika Chemicals Co Ltd filed Critical Sumitomo Seika Chemicals Co Ltd
Priority to JP2010512987A priority Critical patent/JP5379130B2/ja
Publication of JPWO2009142119A1 publication Critical patent/JPWO2009142119A1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5379130B2 publication Critical patent/JP5379130B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00—Processes of polymerisation
    • C08F2/44—Polymerisation in the presence of compounding ingredients, e.g. plasticisers, dyestuffs, fillers
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
    • A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
    • A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
    • A61K8/72—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic macromolecular compounds
    • A61K8/84—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic macromolecular compounds obtained by reactions otherwise than those involving only carbon-carbon unsaturated bonds
    • A61K8/89—Polysiloxanes
    • A61K8/895—Polysiloxanes containing silicon bound to unsaturated aliphatic groups, e.g. vinyl dimethicone
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61Q—SPECIFIC USE OF COSMETICS OR SIMILAR TOILETRY PREPARATIONS
    • A61Q19/00—Preparations for care of the skin
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/30—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising vinyl (co)polymers; comprising acrylic (co)polymers
    • B32B27/308—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising vinyl (co)polymers; comprising acrylic (co)polymers comprising acrylic (co)polymers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B5/00—Layered products characterised by the non- homogeneity or physical structure, i.e. comprising a fibrous, filamentary, particulate or foam layer; Layered products characterised by having a layer differing constitutionally or physically in different parts
    • B32B5/16—Layered products characterised by the non- homogeneity or physical structure, i.e. comprising a fibrous, filamentary, particulate or foam layer; Layered products characterised by having a layer differing constitutionally or physically in different parts characterised by features of a layer formed of particles, e.g. chips, powder or granules
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B9/00—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00
    • B32B9/04—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00 comprising such particular substance as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B9/045—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00 comprising such particular substance as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F20/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride, ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F20/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms, Derivatives thereof
    • C08F20/10—Esters
    • C08F20/12—Esters of monohydric alcohols or phenols
    • C08F20/16—Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms
    • C08F20/18—Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms with acrylic or methacrylic acids
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F271/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of nitrogen-containing monomers as defined in group C08F26/00
    • C08F271/02—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of nitrogen-containing monomers as defined in group C08F26/00 on to polymers of monomers containing heterocyclic nitrogen
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F8/00—Chemical modification by after-treatment
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/02—Diffusing elements; Afocal elements
    • G02B5/0205—Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties
    • G02B5/0236—Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties the diffusion taking place within the volume of the element
    • G02B5/0242—Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties the diffusion taking place within the volume of the element by means of dispersed particles
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/02—Diffusing elements; Afocal elements
    • G02B5/0273—Diffusing elements; Afocal elements characterized by the use
    • G02B5/0278—Diffusing elements; Afocal elements characterized by the use used in transmission
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F212/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring
    • C08F212/02—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical
    • C08F212/04—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing one ring
    • C08F212/06—Hydrocarbons
    • C08F212/08—Styrene
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F230/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal
    • C08F230/04—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal containing a metal
    • C08F230/08—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal containing a metal containing silicon
    • C08F230/085—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal containing a metal containing silicon the monomer being a polymerisable silane, e.g. (meth)acryloyloxy trialkoxy silanes or vinyl trialkoxysilanes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2800/00—Copolymer characterised by the proportions of the comonomers expressed
    • C08F2800/20—Copolymer characterised by the proportions of the comonomers expressed as weight or mass percentages
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2810/00—Chemical modification of a polymer
    • C08F2810/20—Chemical modification of a polymer leading to a crosslinking, either explicitly or inherently
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2810/00—Chemical modification of a polymer
    • C08F2810/50—Chemical modification of a polymer wherein the polymer is a copolymer and the modification is taking place only on one or more of the monomers present in minority

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Veterinary Medicine (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Animal Behavior & Ethology (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Birds (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Dermatology (AREA)
  • Graft Or Block Polymers (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
  • Processes Of Treating Macromolecular Substances (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Abstract

本発明は、耐溶剤性および耐熱性を有する表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子を提供する。より詳しくは、本発明は、シード粒子を用いて得られる、表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子であって、該樹脂粒子のシード粒子成分が架橋構造を有することを特徴とする表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子を提供する。本発明の表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子は、光散乱性に加え耐溶剤性および耐熱性に優れているため、製品中にシリコンオイル等を含む化粧料をはじめ、製造工程にて２−ブタノン等の有機溶媒中に光拡散剤としての該樹脂粒子が分散される光拡散フィルムや光拡散シート、および、製造工程にて３００℃程度の高温で溶融したポリスチレンやポリメチルメタクリレート等の母材樹脂と光拡散剤としての該樹脂粒子が高剪断力下で混練される光拡散板等に好適に使用することができる。

Description

本発明は、表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子に関する。さらに詳しくは、光拡散フィルム、光拡散シートや光拡散板、およびその材料としての光拡散剤、ならびに化粧料等に好適に使用しうる表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子に関する。
近年、表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子は、その樹脂粒子の特異形状から、光拡散剤、およびそれを用いた光拡散フィルム、光拡散シートや光拡散板、ならびに化粧料等の分野に用いられることが検討されている。
従来、表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子としては、例えば、メタクリル酸エステル重合体の球状粒子をシード粒子として分散させた溶媒中で、芳香族ビニルモノマーをシード分散重合させ、乾燥する方法により得られる表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子が知られている（特許文献１参照）。
しかしながら、この表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子は、例えば、光拡散剤として、光拡散フィルム、光拡散シート、光拡散板等に用いる際、フィルム状やシート状の樹脂に塗布する場合には、バインダーとなる溶剤に樹脂粒子が溶解し、消失する；基材樹脂中に混合分散させ板に成形する場合には、成形時の温度で樹脂粒子が溶融し、消失する等の問題があった。
そこで、耐溶剤性および耐熱性を有する表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子が望まれている。
特開２００２−１７９７０８号公報
本発明の目的は、耐溶剤性および耐熱性を有する表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子を提供することにある。
すなわち本発明は、シード粒子を用いて得られる、表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子であって、該樹脂粒子のシード粒子成分が架橋構造を有することを特徴とする表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子に関する。
本発明によれば、耐溶剤性および耐熱性を有する表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子を提供することができる。
実施例１の表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子の電子顕微鏡写真。 実施例１の表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子を、耐溶剤性評価した（４０℃、２ヶ月間）後の電子顕微鏡写真。 実施例１の表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子を、耐熱性評価（３００℃の溶融混練、熱圧成型シート作成）した後の電子顕微鏡写真。 比較例１の表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子の電子顕微鏡写真。 比較例２の表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子の電子顕微鏡写真。
本発明の表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子は、シード粒子を用いて得られる樹脂粒子であって、該樹脂粒子のシード粒子成分が架橋構造を有することを特徴とする。
架橋構造としては、特に限定されず、例えば、カルボキシル基とグリシジル基、ヒドロキシル基、アミノ基、オキサゾリン、オキセタン、カーボネート、ヒドロキシアルキルアミド、アルミニウムハライド、アゼチジニウム、イソシアネート、ハロヒドリン、アルコキシシラン等との架橋構造；アルコールとグリシジル基、イソシアネートとの架橋構造；グリシジル基の自己架橋構造；シリル基同士のシロキサン結合架橋構造等が挙げられる。
本発明においては、実施形態の一例として、シリル基同士のシロキサン結合架橋構造について、より詳しく説明する。
多数のくぼみを有する樹脂粒子のシード粒子成分がシロキサン結合架橋構造を有するには、シード粒子がシリル基を有するモノマーから構成されていることが好ましい。
シリル基を有するモノマーとしては、例えば、式（１）で表されるシリル基を有する化合物が挙げられる。
Figure 2009142119
式（１）中、Ｒ１〜Ｒ３は、それぞれ独立して、水素原子、または、炭素数１〜５のアルキル基を示す。
炭素数１〜５のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基等が挙げられる。
本発明で用いられるシリル基を有するモノマーの具体例としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン等のビニル化合物；２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等のエポキシ化合物；ｐ−スチリルトリメトキシシラン等のスチリル化合物；３−（メタ）アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン〔なお、本明細書においては、「アクリロキシ」および「メタクリロキシ」を合わせて「（メタ）アクリロキシ」と表記する。以下同様。〕、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリエトキシシラン等の（メタ）アクリロキシ化合物；Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−トリエトキシシリル−Ｎ−（１，３−ジメチル−ブチリデン）プロピルアミン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン等のアミノ化合物；３−ウレイドプロピルトリエトキシシラン等のウレイド化合物；３−クロロプロピルトリメトキシシラン等のクロロプロピル化合物；３−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等のメルカプト化合物；ビス（トリエトキシシリルプロピル）テトラスルフィド等のスルフィド化合物；３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン等のイソシアネート化合物等が挙げられる。これらの中では、シード粒子を製造する際のシリル基を有するモノマーの反応性、および、反応溶媒への溶解度の観点から、３−（メタ）アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリエトキシシラン等の（メタ）アクリロキシ化合物が好ましく用いられる。これらのシリル基を有するモノマーは、それぞれ単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
本発明の表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子は、例えば、前記シリル基を有するモノマーを構成モノマー成分とするシード粒子を、シード重合用モノマーの存在下、シード重合により表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子前駆体を得た後、該シリル基を化学反応によりシロキサン結合させて架橋する方法等により得ることができる。
本発明で用いられる前記シリル基を有するモノマーを構成モノマー成分とするシード粒子の製造方法としては、特に限定されず、例えば、従来公知の乳化重合、分散重合等の重合方法等が挙げられる。
本明細書においては、実施形態の一例として、分散重合方法についてより詳しく説明する。当該方法においては、前記シリル基を有するモノマーおよび必要によりその他のモノマーを、重合開始剤を用いて、分散剤を含む反応溶媒中にて重合反応させる。
その他のモノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸メチル〔なお、本明細書においては、「アクリル」および「メタクリル」を合わせて「（メタ）アクリル」と表記する。以下同様〕、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸ｎ−ヘキシル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸ドデシル、（メタ）アクリル酸ステアリル等の（メタ）アクリル酸エステル；酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル等のビニルエステル；スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、ジメチルスチレン等の芳香族ビニル；エチレン、プロピレン等のオレフィン等が挙げられる。これらの中では、得られる表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子の耐溶剤性および耐熱性を高める観点から、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸ブチル、スチレンが好ましく用いられる。これらのその他のモノマーは、それぞれ単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
その他のモノマーの使用量は、シリル基を有するモノマー１００質量部に対して、１００〜９００質量部であることが好ましく、１５０〜９００質量部であることがより好ましい。その他のモノマーの使用量が１００質量部未満の場合、得られるシード粒子が凝集するおそれがある。また、その他のモノマーの使用量が９００質量部を超える場合、得られる表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子の耐溶剤性と耐熱性が充分に向上しないおそれがある。
重合開始剤としては、例えば、２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオニトリル）、１，１’−アゾビス（シクロヘキサン１−カルボニトリル）等のアゾ化合物；ジベンゾイルジオキシダン、２，４−ジクロロベンゾイルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシピバレート、３，５，５−トリメチルヘキサノイルパーオキサイド、オクタノイルパーオキサイド、デカノイルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、サクシニックアシッドパーオキサイド、アセチルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ｍ−トルオイルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシマレイックアシッド、ｔ−ブチルパーオキシラウレート、ｔ−ブチルパーオキシ−３，５，５−トリメチルヘキサノエート、シクロヘキサノンパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ベンゾイルパーオキシ）ヘキサン、２，２−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）オクタン、ｔ−ブチルパーオキシアセテート、２，２−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ブタン、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、ｎ−ブチル−４，４−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）バレレート、ジ−ｔ−ブチル−ジパーオキシイソフタレート、メチルエチルケトンパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン、ｔ−ブチルクミルパーオキサイド等の過酸化物等が挙げられる。これらの中では、重合反応を制御しやすい観点から、２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオニトリル）、１，１’−アゾビス（シクロヘキサン１−カルボニトリル）、ジベンゾイルジオキシダンが好ましく用いられ、物質の安全性の観点から、２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオニトリル）、１，１’−アゾビス（シクロヘキサン１−カルボニトリル）がより好ましく用いられる。これらの重合開始剤は、それぞれ単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
重合開始剤の使用量は、シード粒子の製造に用いられる全モノマー１００質量部に対して、０．５〜５質量部が好ましく、０．８〜４質量部であることがより好ましい。重合開始剤の使用量が０．５質量部未満の場合、重合反応に多大な時間を要するおそれがある。また、重合開始剤の使用量が５質量部を超える場合、急激な重合反応が起きるおそれがあるだけでなく、シード粒子の製造に用いられるモノマーが分解するおそれがある。
分散剤としては、例えば、キサタンガム、グアーガム、カルボキシメチルセルロース、ポリビニルピロリドン、カルボキシビニルポリマー、ポリアクリル酸、ポリビニルアルコール、ポリエチレングリコール、ポリエチレンオキサイド、デンプン誘導体、多糖類等が挙げられる。これらの中では、反応溶媒への溶解度、重合反応の安定性、シード粒子の粒子径制御の観点から、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸が好ましく用いられる。これらの分散剤は、それぞれ単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
分散剤の使用量は、シード粒子の製造に用いられる全モノマー１００質量部に対して、３０〜１００質量部が好ましく、５０〜８０質量部であることがより好ましい。分散剤の使用量が３０質量部未満の場合、得られるシード粒子が凝集するおそれがある。また、分散剤の使用量が１００質量部を超える場合、分散剤が反応溶媒に溶解しないおそれがある。
反応溶媒としては、例えばアセトン、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、１−ブタノール、２−プロパノール、１−プロパノール、エタノール、メタノール、水等が挙げられる。これらの中では、シード粒子の製造に用いられるモノマーの溶解度と重合反応の安定性の観点から、メタノール、エタノールが好ましく用いられる。これらの反応溶媒は、それぞれ単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
反応溶媒の使用量は、シード粒子の製造に用いられる全モノマー１００質量部に対して、２００〜１５００質量部が好ましく、５００〜１０００質量部であることがより好ましい。反応溶媒の使用量が２００質量部未満の場合、シード粒子の製造に用いられるモノマーが溶解しないおそれがある。また、反応溶媒の使用量が１５００質量部を超える場合、反応が進行しにくくなるおそれがある。
重合反応の際の反応温度は、重合反応率を高めるだけでなく、重合反応を円滑に進める観点から、２０〜１００℃が好ましく、４０〜８０℃がより好ましい。反応時間は、通常、１２〜４８時間である。
かくして、分散重合が行われ、シリル基を有するモノマーを構成モノマー成分とするシード粒子が得られる。
本発明においては、例えば、シリル基を有するモノマーを構成モノマー成分とするシード粒子を、シード重合用モノマーの存在下、シード重合することにより、表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子前駆体を得ることができる。シード重合方法としては、特に限定されず、例えば、シード乳化重合方法、シード分散重合方法等のシード重合方法等が挙げられる。
本明細書においては、実施形態の一例として、シード分散重合方法についてより詳しく説明する。当該方法においては、前記シリル基を有するモノマーを構成モノマー成分とするシード粒子〔以下、単に「シード粒子」と表記する場合がある〕を分散させた溶媒（Ｓ１）中で、シード重合用モノマーをシード分散重合させ、乾燥することにより表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子前駆体を得ることができる。この場合、くぼみ部となるシード重合用モノマーは、溶媒（Ｓ１）に可溶であって、シード粒子に比べて溶媒（Ｓ１）との親和性が低いかまたは同等であるモノマーの重合体であることが好ましい。溶媒（Ｓ１）としては例えばメタノール／水混合溶媒が用いられる。重合反応は、重合開始剤、分散剤、および、シード粒子の貧溶媒または非溶媒であるが、シード重合用モノマーの良溶媒であって、かつ上記溶媒（Ｓ１）に不溶であるかまたは部分溶解する有機溶媒（Ｓ２）の共存下で行うことが好ましい。
溶媒（Ｓ１）としては、例えば、アセトン、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、１−ブタノール、２−プロパノール、１−プロパノール、エタノール、メタノール、水等が挙げられる。これらの中では、シード重合用モノマーの溶解度と重合反応の安定性の観点からメタノール、エタノール、水が好ましく用いられ、メタノール／水混合溶媒がより好ましく用いられる。これらの溶媒（Ｓ１）は、それぞれ単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
溶媒（Ｓ１）の使用量は、使用するシード粒子１００質量部に対して、５００〜２５００質量部が好ましく、１０００〜２０００質量部であることがより好ましい。溶媒（Ｓ１）の使用量が５００質量部未満の場合、シード重合用モノマーが溶解しないおそれがある。また、溶媒（Ｓ１）の使用量が２５００質量部を超える場合、反応が進行しにくくなるおそれがある。
シード重合用モノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸ブチル等の（メタ）アクリル酸の炭素数１〜８のアルキルエステル；スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、ジメチルスチレン等の芳香族ビニル；エチレン、プロピレン等のオレフィン等が挙げられる。これらの中では、溶媒（Ｓ１）への溶解度と重合反応の安定性の観点から、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸エチル、スチレンが好ましく用いられる。これらのシード重合用モノマーは、それぞれ単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
シード重合用モノマーの使用量は、使用するシード粒子１００質量部に対して、２０〜１００質量部が好ましく、３０〜８０質量部であることがより好ましい。シード重合用モノマーの使用量が２０質量部未満の場合、シード粒子表面にくぼみが形成されないおそれがある。また、シード重合用モノマーの使用量が１００質量部を超える場合、シード粒子表面が被覆されてくぼみが形成されないおそれがある。
有機溶媒（Ｓ２）としては、シード粒子の貧溶媒または非溶媒であるが、シード重合用モノマーの良溶媒であって、かつ上記溶媒（Ｓ１）に不溶であるかまたは部分溶解する有機溶媒であれば、特に限定されず、例えば、デカヒドロナフタレン、シクロヘキサン、ｎ−ドデカン、リモネン等が挙げられる。これらの中では、シード分散重合の際にシード粒子表面に生成するポリマーへの溶解性の観点から、ｎ−ドデカンが好ましく用いられる。これらの有機溶媒（Ｓ２）は、それぞれ単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
有機溶媒（Ｓ２）の使用量は、シード重合用モノマー１００質量部に対して、５０〜２０００質量部が好ましく、１００〜１５００質量部であることがより好ましい。有機溶媒（Ｓ２）の使用量が５０質量部未満の場合、シード粒子表面にくぼみが形成されないおそれがある。また、有機溶媒（Ｓ２）の使用量が２０００質量部を超える場合、シード粒子が凝集するおそれがある。
重合開始剤としては、例えば、２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオニトリル）、１，１’−アゾビス（シクロヘキサン１−カルボニトリル）等のアゾ化合物；ジベンゾイルジオキシダン、２，４−ジクロロベンゾイルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシピバレート、３，５，５−トリメチルヘキサノイルパーオキサイド、オクタノイルパーオキサイド、デカノイルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、サクシニックアシッドパーオキサイド、アセチルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ｍ−トルオイルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシマレイックアシッド、ｔ−ブチルパーオキシラウレート、ｔ−ブチルパーオキシ−３，５，５−トリメチルヘキサノエート、シクロヘキサノンパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ベンゾイルパーオキシ）ヘキサン、２，２−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）オクタン、ｔ−ブチルパーオキシアセテート、２，２−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ブタン、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、ｎ−ブチル−４，４−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）バレレート、ジ−ｔ−ブチル−ジパーオキシイソフタレート、メチルエチルケトンパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン、ｔ−ブチルクミルパーオキサイド等の過酸化物等が挙げられる。これらの中では、重合反応を制御しやすい観点から、２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオニトリル）、１，１’−アゾビス（シクロヘキサン１−カルボニトリル）、ジベンゾイルジオキシダンが好ましく用いられ、物質の安全性の観点から、２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオニトリル）、１，１’−アゾビス（シクロヘキサン１−カルボニトリル）がより好ましく用いられる。これらの重合開始剤は、それぞれ単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
重合開始剤の使用量は、使用するシード粒子１００質量部に対して、２〜１０質量部が好ましく、５〜８質量部であることがより好ましい。重合開始剤の使用量が２質量部未満の場合、重合反応に多大な時間を要するおそれがある。また、重合開始剤の使用量が１０質量部を超える場合、急激な重合反応が起きるおそれがあるだけでなく、シード粒子表面にくぼみが形成されないおそれがある。
分散剤としては、例えば、キサタンガム、グアーガム、カルボキシメチルセルロース、ポリビニルピロリドン、カルボキシビニルポリマー、ポリアクリル酸、ポリビニルアルコール、ポリエチレングリコール、ポリエチレンオキサイド、デンプン誘導体、多糖類等が挙げられる。これらの中では、反応溶媒への溶解度、重合反応の安定性の観点から、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸が好ましく用いられる。これらの分散剤は、それぞれ単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
分散剤の使用量は、使用するシード粒子１００質量部に対して、３０〜１００質量部が好ましく、４０〜９０質量部であることがより好ましい。分散剤の使用量が３０質量部未満の場合、シード粒子が凝集するおそれがある。また、分散剤の使用量が１００質量部を超える場合、シード粒子表面にくぼみが形成されないおそれがある。
シード分散重合反応の際の反応温度は、シード粒子表面にくぼみを形成するだけでなく、重合反応を円滑に進める観点から、２０〜１００℃が好ましく、４０〜８０℃がより好ましい。反応時間は、通常、１２〜２４時間である。
かくして、シード分散重合が行われ、例えば、メタノール等の溶媒で洗浄後、乾燥により粒子中の残存溶剤を徐放することにより、表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子前駆体が得られる。
本発明においては、例えば、前記表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子前駆体中に含まれるシリル基を、シロキサン結合させて架橋することにより、表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子を得ることができる。
シリル基をシロキサン結合させる方法としては、特に限定されず、例えば、酸触媒存在下、水含有媒体に分散させることにより、シロキサン結合させることができる。
酸触媒としては、例えば、パラトルエンスルホン酸、酢酸、ギ酸、クエン酸、シュウ酸等が挙げられる。これらの中では、水含有媒体への溶解度および均一にシロキサン結合させる観点から、パラトルエンスルホン酸、酢酸が好ましく用いられる。これらは、それぞれ単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
酸触媒の使用量は、シロキサン結合反応を円滑に進める観点から、表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子前駆体１００質量部に対して、２０〜１００質量部が好ましく、４０〜８０質量部であることがより好ましい。
前記水含有媒体には、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール；アセトニトリル等の親水性の有機溶媒を混合することもできる。
水含有媒体中の水の量は、シロキサン結合反応を円滑に進める観点から、表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子前駆体１００質量部に対して、５０〜３０００質量部が好ましく、７０〜２０００質量部であることがより好ましい。
かくして、シロキサン結合反応が行われ、表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子が得られる。
本発明の表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子が、耐溶剤性および耐熱性に優れている理由は明らかではないが、以下に基づくものと推測される。すなわち、該樹脂粒子のシード粒子成分が架橋構造を有することにより、溶剤や熱に対して強い層を形成するためと考えられる。
本発明の表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子は、表面に多数のくぼみが規則正しく配列されており、かつ、くぼみ部と粒子本体が異なる種類の重合体から構成される複合構造を形成しているため、光拡散剤として使用した場合、多数のくぼみによる光拡散性と異なる樹脂の屈折率差の相乗効果により、優れた光拡散剤ならびに光拡散フィルム、光拡散シート、および光拡散板を提供することができる。
本発明の光拡散剤における表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子の含有割合は、特に限定されるものではないが、光拡散剤全体量に対して１〜１００質量％、好ましくは５〜１００質量％であることが望ましい。表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子の含有割合が１質量％未満の場合、光拡散性が充分に発揮できないおそれがある。
また、光拡散剤に配合される任意の添加剤としては、例えば、表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子以外の光拡散剤；染顔料、酸化防止剤等の安定剤；難燃剤；帯電防止剤等が挙げられる。
本発明の光拡散剤を用いて光拡散板を製造するには、例えば、透明な基材樹脂に前記の表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子を含む光拡散剤および必要に応じてその他の添加剤を混合分散し、例えば押出成形法、射出成形法、ロール混練法を用いて所要の形状に成形する方法がある。透明な基材樹脂としては、（メタ）アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、スチレン系樹脂等が挙げられる。
また、本発明の光拡散剤を用いて光拡散フィルム、光拡散シートを製造するには、例えば、フィルム、シート等に成形した基材樹脂の片面または両面に、表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子を含む光拡散剤をバインダーにより塗布する方法が挙げられる。光拡散剤を基材に塗布するには、光拡散剤を、たとえば溶剤に溶解した有機高分子バインダー中に混合、分散し、基材樹脂上に塗布すればよい。塗布方法としては、ディッピング法、ロールコート法、スクリーン印刷法等を利用できる。基材樹脂としてはポリエチレンテレフタレート、ポリエステル、ポリアミド、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル等が好適である。これらの中でも、加工性等の観点からポリエチレンテレフタレートが好適に用いられる。光拡散剤を含む光拡散層の厚さは、通常５〜５０μｍ、好ましくは１０〜３０μｍである。
有機高分子バインダーとしては、ポリエステル樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体樹脂、アクリル酸エステル樹脂、ウレタン樹脂等が挙げられる。これらの中でも、屈折率、基材との接着性、耐擦傷性、透明性等の観点から、ポリエステル樹脂が好適に用いられる。
光拡散剤と有機高分子バインダーの配合量は、通常、有機高分子バインダー１００質量部に対して光拡散剤５０〜５００質量部、好ましくは７０〜３５０質量部である。５０〜５００質量部の範囲内ではヘイズおよび全光線透過率の低下が小さい。
本発明の光拡散フィルムの特性は、ヘイズが８０％以上、好ましくは８５％以上、光線透過率は通常８０％以上、好ましくは８５〜９５％の範囲である。ヘイズが８０％より低いと、例えば液晶ディスプレイ等の画面の鮮明度が劣るおそれがある。また、光線透過率が８０％より低いと、画面の明度が低下するおそれがある。
以下、実施例および比較例により本発明を詳細に説明するが、本発明はこれら実施例になんら限定されるものではない。
実施例１〜４および比較例１〜２で得られた表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子の耐溶剤性、耐熱性は、以下に示す方法により評価した。
（１）耐溶剤性
２−ブタノンを入れたビーカーに、表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子を浸漬させ、ビーカーに蓋をして、４０℃で保存した。
２ヶ月後、表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子を取り出し、電子顕微鏡（日本電子株式会社製、品番：ＪＳＭ−６３９０ＬＡ）により表面のくぼみの状態を評価した。評価結果を表１に示す。
（２）耐熱性
表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子２質量部およびポリスチレン樹脂（東洋スチレン株式会社製、型番：ＨＲＭ４０）９８質量部を混合し、３００℃にて溶融混練した後、熱圧プレス成型で２ｍｍ厚のシートを作成した。
シートに含まれる表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子を、電子顕微鏡（日本電子株式会社製、品番：ＪＳＭ−６３９０ＬＡ）により評価した。評価結果を表１に示す。
［実施例１］
〔シリル基を有するモノマーを構成モノマー成分とするシード粒子の製造〕
攪拌機および冷却管を備えた５００ｍＬ容の反応容器に、メタノール１７８ｇ、スチレン２２ｇ、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン５．６ｇ、ポリビニルピロリドン（Ｋ−３０）１８ｇ、２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオニトリル）０．６ｇを仕込み、攪拌回転数３００ｒｐｍ、６０℃で、重合反応を２４時間行った。
重合後、濾過し、シリル基を有するモノマーを構成モノマー成分とするシード粒子２０．２ｇを得た。
〔表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子前駆体の製造〕
攪拌機および冷却管を備えた５００ｍＬ容の反応容器中に、メタノール４８．６７ｇ、水２１．８９ｇを仕込み、シリル基を有するモノマーを構成モノマー成分とするシード粒子４．１９ｇを分散させた。ポリビニルピロリドン（Ｋ−３０）２．７ｇ、ポリビニルピロリドン（Ｋ−９０）の８質量％メタノール水溶液（７０質量％メタノール水溶液）２．６２５ｇ、２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオニトリル）０．１３９８ｇ、１，１’−アゾビス（シクロヘキサン１−カルボニトリル）０．００２１ｇをさらに添加した。
窒素ガス雰囲気下、攪拌回転数３００ｒｐｍ、６０℃で、アクリル酸ｎ−ブチル２．１ｇとｎ−ドデカン７．５４ｇの混合溶媒を５時間かけて連続添加し、さらに同温度で５時間反応させた。
重合後、濾過し、メタノールで洗浄した後、２５℃にて減圧乾燥することにより、表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子前駆体５．５６ｇを得た。
〔表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子の製造〕
攪拌機および冷却管を備えた２００ｍＬ容の反応容器中に、メタノール１４．３５ｇ、水２６．９８ｇを仕込み、表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子前駆体２．５０ｇを分散させた。さらに、パラトルエンスルホン酸一水和物１．５１８ｇを添加し、窒素ガス雰囲気下、攪拌回転数２００ｒｐｍ、６０℃で、３時間反応させた。
反応後、濾過し、表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子２．５０ｇを得た。得られた表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子の電子顕微鏡写真を図１に示す。
［実施例２］
実施例１の〔シリル基を有するモノマーを構成モノマー成分とするシード粒子の製造〕において、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン５．６ｇを３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン５．２ｇに変更した以外は実施例１と同様にして、表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子２．５０ｇを得た。
［実施例３］
実施例１の〔シリル基を有するモノマーを構成モノマー成分とするシード粒子の製造〕において、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン５．６ｇを３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン６．５ｇに変更した以外は実施例１と同様にして、表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子２．５０ｇを得た。
［実施例４］
実施例１の〔シリル基を有するモノマーを構成モノマー成分とするシード粒子の製造〕において、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン５．６ｇを３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン５．３ｇに変更した以外は実施例１と同様にして、表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子２．５０ｇを得た。
［比較例１］
攪拌機および冷却管を備えた２Ｌ容の反応容器に、メタノール５０４ｇ、純水２１６ｇ、デカリン５４ｇを仕込み、ポリビニルピロリドン（Ｋ−９０）１．８ｇを溶解させた後、ポリメタクリル酸メチル球状粒子（体積平均粒子径５μｍ）３０ｇを添加し分散させた。さらに、スチレン１８ｇ、２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオニトリル）１．２ｇを添加し、反応容器内を窒素ガス雰囲気とした後、攪拌回転数４５０ｒｐｍ、６０℃で、重合反応を２４時間行った。
得られた乳液状の反応混合物を遠心分離により固液分離し、単離した樹脂粒子をメタノールで洗浄した後、２５℃にて減圧乾燥することにより、表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子４６．５ｇを得た。得られた表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子の電子顕微鏡写真を図４に示す。
［比較例２］
攪拌機および冷却管を備えた２Ｌ容の反応容器に、メタノール２５０ｇ、純水７５０ｇ、スチレン１０８ｇを仕込み、窒素ガス雰囲気下、攪拌回転数４５０ｒｐｍ、７０℃で、２４時間反応させ、ポリスチレン粒子のエマルジョンを得た。
攪拌機および冷却管を備えた２Ｌ容の反応容器に、前記により得られたポリスチレン粒子のエマルジョン３０ｇ（固形分換算）を仕込み、アクリル酸ｎ−ブチル１２．９ｇを添加し、０℃で２４時間放置し、アクリル酸ｎ−ブチルをポリスチレン粒子に吸収させて膨潤させた。その後、エタノール／水（質量比：１０／９０）混合溶媒１０００ｇ、過硫酸カリウム１ｇを添加し、窒素雰囲気下、攪拌回転数４５０ｒｐｍ、７０℃で、重合反応を２４時間行った。
重合後、濾過し、メタノールで洗浄した後、２５℃にて減圧乾燥することにより、表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子４２．９ｇを得た。得られた表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子の電子顕微鏡写真を図５に示す。
Figure 2009142119
耐溶剤性評価において、実施例１〜４の表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子は、２−ブタノンに４０℃で２ヶ月間保存した後でも、評価前と同様のくぼみが保持されていることが電子顕微鏡写真（例えば、図２）から確認できた。しかしながら、比較例１および２の表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子は、２−ブタノンに４０℃で３０分間保存しただけで、樹脂粒子自体が溶剤に溶解し、樹脂粒子が消失した。
耐熱性評価において、実施例１〜４の表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子は、３００℃にて溶融混練した後、熱圧プレス成型でシートを作成しても、くぼみが保持されていることを電子顕微鏡写真（例えば、図３）から確認できた。しかしながら、比較例１および２の表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子は、ポリスチレン樹脂に溶融、分散し消失した。
これらの結果より、本発明の表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子は、耐溶剤性および耐熱性に優れていることがわかる。
本発明の表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子は、光散乱性に加え耐溶剤性および耐熱性に優れているため、製品中にシリコンオイル等を含む化粧料をはじめ、製造工程にて２−ブタノン等の有機溶媒中に光拡散剤としての該樹脂粒子が分散される光拡散フィルムや光拡散シート、および、製造工程にて３００℃程度の高温で溶融したポリスチレンやポリメチルメタクリレート等の母材樹脂と光拡散剤としての該樹脂粒子が高剪断力下で混練される光拡散板等に好適に使用することができる。

Claims (9)

  1. シード粒子を用いて得られる、表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子であって、該樹脂粒子のシード粒子成分が架橋構造を有することを特徴とする表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子。
  2. シード粒子が、式（１）；
    Figure 2009142119
     （式中、Ｒ１〜Ｒ３は、それぞれ独立して、水素原子、または、炭素数１〜５のアルキル基を示す。）で表されるシリル基を有するモノマーから構成された樹脂である請求項１に記載の表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子。
  3. シリル基を有するモノマーが、３−（メタ）アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、および、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリエトキシシランからなる群から選ばれた少なくとも１種である請求項２に記載の表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子。
  4. 架橋可能な反応基を有するモノマーから構成されたシード粒子存在下に、シード重合用モノマーをシード重合させた後、前記シード粒子の少なくとも一部を架橋させることにより得られる請求項１に記載の表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子。
  5. シード重合させる方法が、シード分散重合方法である請求項４に記載の表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子。
  6. 請求項１〜５のいずれか１項に記載の表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子を含む光拡散剤。
  7. 請求項６に記載の光拡散剤を、バインダーによりフィルム状樹脂に塗布した光拡散フィルム。
  8. 請求項６に記載の光拡散剤を、バインダーによりシート状樹脂に塗布した光拡散シート。
  9. 請求項６に記載の光拡散剤を、透明な基材樹脂中に混合分散させ、成形してなる光拡散板。
JP2010512987A 2008-05-21 2009-05-11 表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子 Expired - Fee Related JP5379130B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010512987A JP5379130B2 (ja) 2008-05-21 2009-05-11 表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008133144 2008-05-21
JP2008133144 2008-05-21
PCT/JP2009/058746 WO2009142119A1 (ja) 2008-05-21 2009-05-11 表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子
JP2010512987A JP5379130B2 (ja) 2008-05-21 2009-05-11 表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2009142119A1 true JPWO2009142119A1 (ja) 2011-09-29
JP5379130B2 JP5379130B2 (ja) 2013-12-25

Family

ID=41340051

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010512987A Expired - Fee Related JP5379130B2 (ja) 2008-05-21 2009-05-11 表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子

Country Status (8)

Country Link
US (1) US9187580B2 (ja)
EP (1) EP2287233B1 (ja)
JP (1) JP5379130B2 (ja)
KR (1) KR101578242B1 (ja)
CN (1) CN102037059B (ja)
ES (1) ES2405932T3 (ja)
TW (1) TWI427086B (ja)
WO (1) WO2009142119A1 (ja)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20120080710A1 (en) * 2009-06-11 2012-04-05 Hiroyasu Inoue Surface light source device, lighting device, and backlight device
JP2012208465A (ja) * 2011-03-16 2012-10-25 Adeka Corp 光拡散性樹脂組成物及びこれを用いた光拡散シート
WO2014038704A1 (ja) * 2012-09-10 2014-03-13 住友精化株式会社 研磨助剤、及び該研磨助剤を含む研磨剤組成物
JP6185872B2 (ja) * 2014-03-28 2017-08-23 積水化成品工業株式会社 高密度ポリエチレン系樹脂粒子、複合樹脂粒子、発泡粒子及び発泡成形体
CN105566568B (zh) * 2015-12-18 2017-07-04 王金明 一种硅光扩散剂的制备方法
JP6765825B2 (ja) * 2016-01-20 2020-10-07 株式会社日本触媒 重合体微粒子
CN105694042B (zh) * 2016-04-26 2021-04-13 京东方科技集团股份有限公司 光扩散粉、光扩散粉的制备方法、量子点光刻胶及量子点彩膜
CN113061267B (zh) * 2021-04-08 2022-01-18 华南理工大学 可控性单分散各向异性凹槽四面体状胶体粒子的制备方法

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS64133A (en) * 1987-03-16 1989-01-05 Nitto Denko Corp Porous composite particle and its production
JPH05331215A (ja) * 1992-05-29 1993-12-14 Mita Ind Co Ltd 表面に凹凸を有する樹脂粒子および電子写真用トナー
JPH107704A (ja) * 1996-06-25 1998-01-13 Origin Electric Co Ltd 樹脂粒子、その製造方法、樹脂粒子を用いた塗料及び 化粧品
JP2002179708A (ja) * 2000-12-15 2002-06-26 New Industry Research Organization 表面凹部を多数有する高分子微粒子の製造方法
JP2003226708A (ja) * 2002-02-07 2003-08-12 New Industry Research Organization 異形高分子微粒子の製造方法及び異形微粒子状高分子
JP2005171096A (ja) * 2003-12-11 2005-06-30 Sekisui Chem Co Ltd 突起粒子の製造方法、突起粒子、突起導電性粒子及び異方性導電材料
JP2005523351A (ja) * 2002-04-19 2005-08-04 ピーピージー インダストリーズ オハイオ， インコーポレイテッド 高度に架橋されたポリマー粒子およびそれを含むコーティング組成物
JP2006143968A (ja) * 2004-11-24 2006-06-08 Gunma Univ 異形高分子微粒子の製造方法

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2264224C3 (de) * 1972-12-30 1981-11-19 Röhm GmbH, 6100 Darmstadt Herstellung eines vernetzten Polystyrol-Emulsionspolymerisats und seine Verwendung zum Trüben von Kunststoffen auf Methacrylatbasis
US5023159A (en) * 1989-10-10 1991-06-11 Xerox Corporation Encapsulated electrophotographic toner compositions
US5147937A (en) * 1990-03-22 1992-09-15 Rohm And Haas Company Process for making controlled, uniform-sized particles in the 1 to 50 micrometer range
JP3916403B2 (ja) 2001-01-30 2007-05-16 株式会社スリーボンド 自動車用室温硬化性シール材組成物
JP4082965B2 (ja) * 2002-08-28 2008-04-30 リンテック株式会社 防眩性ハードコートフィルム
DE102004020726A1 (de) * 2004-04-28 2005-11-24 Clariant Gmbh Verfahren zur Herstellung polymerverkapselter Pigmente
JP5182460B2 (ja) 2004-05-24 2013-04-17 日清紡ホールディングス株式会社 凹凸粒子およびその製造方法
US7390606B2 (en) * 2005-10-17 2008-06-24 Xerox Corporation Emulsion aggregation toner incorporating aluminized silica as a coagulating agent

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS64133A (en) * 1987-03-16 1989-01-05 Nitto Denko Corp Porous composite particle and its production
JPH05331215A (ja) * 1992-05-29 1993-12-14 Mita Ind Co Ltd 表面に凹凸を有する樹脂粒子および電子写真用トナー
JPH107704A (ja) * 1996-06-25 1998-01-13 Origin Electric Co Ltd 樹脂粒子、その製造方法、樹脂粒子を用いた塗料及び 化粧品
JP2002179708A (ja) * 2000-12-15 2002-06-26 New Industry Research Organization 表面凹部を多数有する高分子微粒子の製造方法
JP2003226708A (ja) * 2002-02-07 2003-08-12 New Industry Research Organization 異形高分子微粒子の製造方法及び異形微粒子状高分子
JP2005523351A (ja) * 2002-04-19 2005-08-04 ピーピージー インダストリーズ オハイオ， インコーポレイテッド 高度に架橋されたポリマー粒子およびそれを含むコーティング組成物
JP2005171096A (ja) * 2003-12-11 2005-06-30 Sekisui Chem Co Ltd 突起粒子の製造方法、突起粒子、突起導電性粒子及び異方性導電材料
JP2006143968A (ja) * 2004-11-24 2006-06-08 Gunma Univ 異形高分子微粒子の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
US20110090568A1 (en) 2011-04-21
TW201002740A (en) 2010-01-16
TWI427086B (zh) 2014-02-21
KR101578242B1 (ko) 2015-12-17
JP5379130B2 (ja) 2013-12-25
US9187580B2 (en) 2015-11-17
CN102037059B (zh) 2013-08-14
EP2287233B1 (en) 2013-04-24
ES2405932T3 (es) 2013-06-04
EP2287233A1 (en) 2011-02-23
WO2009142119A1 (ja) 2009-11-26
CN102037059A (zh) 2011-04-27
EP2287233A4 (en) 2011-06-08
KR20110021791A (ko) 2011-03-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5379130B2 (ja) 表面に多数のくぼみを有する樹脂粒子
CN110031919B (zh) 低折射层和包括其的抗反射膜
JP5889633B2 (ja) 異形粒子の製造法
JP6338451B2 (ja) コーティング組成物およびそれより得られる塗膜、多層構造体および多層構造体の製造方法
WO2006080786A9 (en) Thermally curable resin composition with extended storage stability and good adhesive property
JP2007070395A (ja) 帯電防止性ハードコート樹脂組成物とその用途
TW201033230A (en) Process for producing polymer microparticles
TWI726042B (zh) 光擴散劑、光擴散性樹脂組成物及成形體
JP4283026B2 (ja) 光学樹脂用添加剤とその製造方法および光学樹脂組成物
JP2012140616A (ja) アクリル系微粒子およびこれを含む拡散フィルム
JPH11228940A (ja) 加熱硬化型防曇剤組成物
TW201629105A (zh) 聚合物微粒子及其製造方法
JPH1143614A (ja) 防曇膜及びその製造方法
TW200844174A (en) Particles for anti-glare film, process for producing the same, and a composition containing particles for anti-glare film
JP2000072904A (ja) 活性エネルギー線を用いる表面処理方法
JP2006282935A (ja) 粒状ビニル系重合体及び熱硬化性樹脂組成物
JP6123156B2 (ja) 表面積の大きい真球状架橋ポリアクリロニトリル系微粒子
JPH06207026A (ja) 架橋ポリマー粒子の製造方法
JP2009179691A (ja) メタクリル樹脂組成物の製造方法
JP2003012733A (ja) 耐光性に優れたスチレン系微粒子集合体、該集合体を用いた光拡散剤および該集合体の製造方法
WO2021176976A1 (ja) 樹脂微粒子及びその製造方法
KR20080019903A (ko) 눈사람 형상의 특수형상 고분자 입자 및 이의 제조방법
JP2018115265A (ja) 樹脂微粒子含有組成物
JPH07244214A (ja) 染色成形体の製造方法
JP5528648B1 (ja) 研磨助剤、及び該研磨助剤を含む研磨剤組成物

Legal Events

Date Code Title Description
RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20110927

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20111206

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130702

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130819

RD03 Notification of appointment of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423

Effective date: 20130819

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20130917

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20130926

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees