JPWO2009131053A1 - ディスプレイパネル用ガラス板、その製造方法およびtftパネルの製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
また、無アルカリガラスは、熱膨張係数が低く、ガラス転移点(Tg)が高いため、LCDパネルの製造工程での寸法変化が少なく、LCDパネル使用時の熱応力による表示品質への影響が少ないことからも、LCDパネル用のガラス基板として好ましい。
無アルカリガラスは粘性が非常に高く、溶融が困難といった性質を有し、製造に技術的な困難性を伴う。
また、一般的に、無アルカリガラスは清澄剤の効果が乏しい。例えば、清澄剤としてSO3を使用した場合、SO3が(分解して)発泡する温度がガラスの溶融温度よりも低いため、清澄がなされる前に、添加したSO3の大部分が分解して溶融ガラスから揮散してしまい、清澄効果を十分発揮することができない。
アルカリ金属酸化物を含有するガラスは、一般的に熱膨張係数が高いため、TFTパネル用のガラス基板として好ましい熱膨張係数とする目的で、熱膨張係数を低減させる効果を有するB2O3が通常含有される(特許文献1、2)。
だが、B2O3含有率が低いと、TFTパネル用のガラス基板として好ましい熱膨張係数まで下げること、および粘性の上昇を抑えつつ所定のTg等を得ることは困難であった。
本発明は、上記のような従来技術の問題点を解決するため、アルカリ金属酸化物を含有し、B2O3が少なく、TFTパネル製造工程における低温(150〜300℃)での熱処理(具体的にはゲート絶縁膜を成膜する工程での熱処理)の際のコンパクションが小さく、特に大型(例えば一辺が2m以上のサイズ)のTFTパネル用のガラス基板として好適に用いることができるディスプレイパネル用ガラス板とその製造方法、および前記ガラス板を用いたTFTパネルの製造方法を提供することを目的とする。
酸化物基準の質量%表示で、ガラス母組成として、
SiO2 50.0〜73.0、
Al2O3 6.0〜20.0、
B2O3 0〜2.0、
MgO 4.2〜9.0、
CaO 0〜6.0、
SrO 0〜2.0、
BaO 0〜2.0、
MgO+CaO+SrO+BaO 6.5〜11.3、
Li2O 0〜2.0、
Na2O 2.0〜18.0、
K2O 0〜13.0、
Li2O+Na2O+K2O 8.0〜18.0、
からなり、熱収縮率(C)が20ppm以下である、ディスプレイパネル用ガラス板を提供する。
また、本発明のディスプレイパネル用ガラス板はB2O3含有率が低いので、ガラス製造時におけるB2O3の揮散が少ないことから、ガラス板の均質性に優れ、平坦性に優れており、成形後のガラス板表面の研磨が少なくてすみ、生産性に優れている。
また、本発明のディスプレイパネル用ガラス板は、アルカリ成分を含有しているため、原料を溶融しやすく製造が容易となり得る。
また、本発明のディスプレイパネル用ガラス板は、好ましい態様(以下、「第1態様」という。)とすると、密度が2.46g/cm3以下と低いため、特に軽量化や搬送時の割れ低減の面で好ましい。
また、本発明のディスプレイパネル用ガラス板は、別の好ましい態様(以下、「第2態様」という。)とすると、50〜350℃の平均熱膨張係数が83×10-7/℃以下であるため、パネルの製造工程での寸法変化が少なく、パネル使用時の熱応力による表示品質への影響が少ないことから、特に表示品質面で好ましい。
また、本発明のディスプレイパネル用ガラス板は、TFT工程の熱処理工程の低温化、すなわち150〜300℃で熱処理される際に適したガラスであり、TFT工程の省エネ化に有効である。
本発明のディスプレイパネル用ガラス板は、TFTパネル用のガラス基板として好適であるが、他のディスプレイ用基板、例えば、プラズマディスプレイパネル(PDP)、無機エレクトロ・ルミネッセンス・ディスプレイなどに使用することができる。例えば、PDP用のガラス板として使用した場合、従来のPDP用のガラス板にくらべて熱膨張係数が小さいため、熱処理工程におけるガラスの割れを抑制することができる。
なお、本発明のディスプレイパネル用ガラス板は、ディスプレイパネル以外の用途にも用いることができる。例えば、太陽電池基板用ガラス板としても用いることもできる。
本発明のディスプレイパネル用ガラス板は、酸化物基準の質量%表示で、ガラス母組成として、
SiO2 50.0〜73.0、
Al2O3 6.0〜20.0、
B2O3 0〜2.0、
MgO 4.2〜9.0、
CaO 0〜6.0、
SrO 0〜2.0、
BaO 0〜2.0、
MgO+CaO+SrO+BaO 6.5〜11.3、
Li2O 0〜2.0、
Na2O 2.0〜18.0、
K2O 0〜13.0、
Li2O+Na2O+K2O 8.0〜18.0、
からなり、熱収縮率(C)が20ppm以下であることを特徴とする。
コンパクションとは、加熱処理の際にガラス構造の緩和によって発生するガラス熱収縮率である。
本発明において熱収縮率(C)(コンパクション(C))とは、ガラス板を転移点温度Tg+50℃まで加熱し、1分間保持し、50℃/分で室温まで冷却した後、ガラス板の表面に所定の間隔で圧痕を2箇所打ち、その後、ガラス板を300℃まで加熱し、1時間保持した後、100℃/時間で室温まで冷却した場合の、圧痕間隔距離の収縮率(ppm)を意味するものとする。
本発明においてコンパクション(C)とは、次に説明する方法で測定した値を意味するものとする。
初めに、対象となるガラス板を1600℃で溶融した後、溶融ガラスを流し出し、板状に成形後冷却する。得られたガラス板を研磨加工して100mm×20mm×2mmの試料を得る。
次に、得られたガラス板を転移点温度Tg+50℃まで加熱し、この温度で1分間保持した後、降温速度50℃/分で室温まで冷却する。その後、ガラス板の表面に圧痕を長辺方向に2箇所、間隔A(A=90mm)で打つ。
次にガラス板を300℃まで昇温速度100℃/時(=1.6℃/分)で加熱し、300℃で1時間保持した後、降温速度100℃/時で室温まで冷却する。そして、再度、圧痕間距離を測定し、その距離をBとする。このようにして得たA、Bから下記式を用いてコンパクション(C)を算出する。なお、A、Bは光学顕微鏡を用いて測定する。
SiO2:ガラスの骨格を形成する成分で、50.0質量%(以下単に%と記載する)未満ではガラスの耐熱性および化学的耐久性が低下し、熱膨張係数が増大するおそれがある。しかし、73.0%超ではガラスの高温粘度が上昇し、溶融性が悪化する問題が生じるおそれがある。
また、密度が2.46g/cm3以下である第1態様とするためには、SiO2の含有率は65.0〜73.0%が好ましく、66.0〜72.0%であることがより好ましく、67.0〜71.0%であることがさらに好ましい。
また、50〜350℃の平均熱膨張係数が83×10-7/℃以下である第2態様とするためには、SiO2の含有率は50.0〜65.0%が好ましく、54.0〜64.0%であることがより好ましく、57.0〜64.0%であることがさらに好ましい。
また、密度が2.46g/cm3以下である第1態様とするためには、Al2O3の含有率は6.0〜15.0%が好ましく、7.0〜12.0%であることがより好ましく、8.0〜10.0%であることがさらに好ましい。
また、50〜350℃の平均熱膨張係数が83×10-7/℃以下である第2態様とするためには、Al2O3の含有率は15.0〜20.0%が好ましく、16.0〜20.0%であることがより好ましく、17.0〜19.0%であることがさらに好ましい。
また、B2O3の揮散による環境負荷を考慮しても、B2O3の含有率はより低いことが好ましい。
また、密度が2.46g/cm3以下である第1態様とするためには、B2O3の含有率は0〜1.0%が好ましく、0〜0.5%であることがより好ましく、実質的に含有しないことがさらに好ましい。
また、50〜350℃の平均熱膨張係数が83×10-7/℃以下である第2態様とするためには、B2O3の含有率は0〜1.0%が好ましく、0〜0.5%であることがより好ましく、実質的に含有しないことがさらに好ましい。
なお、本発明において「実質的に含有しない」と言った場合、原料等から混入する不可避的不純物以外には含有しないこと、すなわち、意図的に含有させないことを意味する。
また、密度が2.46g/cm3以下である第1態様とするためには、MgOの含有率は5.0〜9.0%が好ましく、5.0〜8.0%であることがより好ましく、6.0〜8.0%であることがさらに好ましい。
また、50〜350℃の平均熱膨張係数が83×10-7/℃以下である第2態様とするためには、MgOの含有率は4.2〜8.0%が好ましく、4.2〜7.0%であることがより好ましく、4.2〜6.5%であることがさらに好ましい。
また、密度が2.46g/cm3以下である第1態様とするためには、CaOの含有率は0%以上2.0%未満が好ましく、0〜1.0%であることがより好ましく、実質的に含有しないことがさらに好ましい。
また、50〜350℃の平均熱膨張係数が83×10-7/℃以下である第2態様とするためには、CaOの含有率は2.0〜6.0%が好ましく、3.0〜5.0%であることがより好ましく、4.0〜5.0%であることがさらに好ましい。
また、密度が2.46g/cm3以下である第1態様とするためには、SrOの含有率は0〜1.0%が好ましく、0〜0.5%であることがより好ましく、実質的に含有しないことがさらに好ましい。
また、50〜350℃の平均熱膨張係数が83×10-7/℃以下である第2態様とするためには、SrOの含有率は0〜1.0%が好ましく、0〜0.5%であることがより好ましく、実質的に含有しないことがさらに好ましい。
また、密度が2.46g/cm3以下である第1態様とするためには、BaOの含有率は0〜1.0%が好ましく、0〜0.5%であることがより好ましく、実質的に含有しないことがさらに好ましい。
また、50〜350℃の平均熱膨張係数が83×10-7/℃以下である第2態様とするためには、BaOの含有率は0〜1.0%が好ましく、0〜0.5%であることがより好ましく、実質的に含有しないことがさらに好ましい。
また、密度が2.46g/cm3以下である第1態様とするためには、MgO、CaO、SrOおよびBaOの含有率の合計は6.5〜10.0%が好ましく、6.5〜9.0%であることがより好ましく、7.0〜8.0%であることがさらに好ましい。
また、50〜350℃の平均熱膨張係数が83×10-7/℃以下である第2態様とするためには、MgO、CaO、SrOおよびBaOの含有率の合計は6.5〜11.0%が好ましく、7.0〜11.0%であることがより好ましく、8.0〜10.0%であることがさらに好ましい。
また、密度が2.46g/cm3以下である第1態様とするためには、Li2Oの含有率は0〜1.0%が好ましく、0〜0.5%であることがより好ましく、実質的に含有しないことがさらに好ましい。
また、50〜350℃の平均熱膨張係数が83×10-7/℃以下である第2態様とするためには、Li2Oの含有率は0〜1.0%が好ましく、0〜0.5%であることがより好ましく、実質的に含有しないことがさらに好ましい。
また、密度が2.46g/cm3以下である第1態様とするためには、Na2Oの含有率は3.0〜17.0%が好ましく、5.0〜16.0%であることがより好ましく、5.0〜15.5%であることがさらに好ましい。
また、50〜350℃の平均熱膨張係数が83×10-7/℃以下である第2態様とするためには、Na2Oの含有率は2.0〜12.0%が好ましく、2.5〜11.5%であることがより好ましく、2.5〜5.0%であることがさらに好ましい。
また、密度が2.46g/cm3以下である第1態様とするためには、K2Oの含有率は0〜12.0%が好ましく、0〜8.0%であることがより好ましく、0〜3.0%であることがさらに好ましい。
また、50〜350℃の平均熱膨張係数が83×10-7/℃以下である第2態様とするためには、K2Oの含有率は0〜12.0%が好ましく、0〜11.0%であることがより好ましく、5〜11.0%であることがさらに好ましい。
また、密度が2.46g/cm3以下である第1態様とするためには、Li2O、Na2OおよびK2Oの含有率の合計は10.0〜18.0%が好ましく、10.0〜17.0%であることがより好ましく、13.0〜17.0%であることがさらに好ましい。
また、50〜350℃の平均熱膨張係数が83×10-7/℃以下である第2態様とするためには、Li2O、Na2OおよびK2Oの含有率の合計は8.0〜17.0%が好ましく、8.0〜15.0%であることがより好ましく、10.0〜15.0%であることがさらに好ましい。
また、ガラスの化学的耐久性向上のため、ガラス中にZrO2、Y2O3、La2O3、TiO2、SnO2を合量で5%以下含有させてもよい。これらのうちY2O3、La2O3及びTiO2は、ガラスのヤング率向上にも寄与する。
また、ガラスの色調を調整するため、ガラス中にFe2O3、CeO2等の着色剤を含有してもよい。このような着色剤の含有量は、合量で1質量%以下が好ましい。
また、本発明のディスプレイパネル用ガラス板は、環境負荷を考慮すると、As2O3、Sb2O3を実質的に含有しないことが好ましい。また、安定してフロート成形することを考慮すると、ZnOを実質的に含有しないことが好ましい。
また、B2O3含有率が低いので、ガラス製造時におけるB2O3の揮散が少ないことから、ガラス板の均質性に優れ、平坦性に優れており、成形後のガラス板表面の研磨が少なくてすみ、生産性に優れている。
また、アルカリ成分を含有しているため、原料を溶融しやすく製造が容易である。また、清澄剤にSO3を用いるときは、清澄剤効果に優れ、泡品質に優れる。
また、TFTパネル用のガラス基板として好適であるが、他のディスプレイ用基板、例えば、プラズマディスプレイパネル(PDP)、無機エレクトロ・ルミネッセンス・ディスプレイなどに使用することができる。例えば、PDP用のガラス板として使用した場合、従来のPDP用のガラス板にくらべて熱膨張係数が小さいため、熱処理工程におけるガラスの割れを抑制することができる。
なお、ディスプレイパネル以外の用途にも用いることができる。例えば、太陽電池基板用ガラス板としても用いることもできる。
酸化物基準の質量%表示で、ガラス母組成として、
SiO2 65.0〜73.0、
Al2O3 6.0〜15.0、
B2O3 0〜1.0、
MgO 5.0〜9.0、
CaO 0以上2.0未満、
SrO 0〜1.0、
BaO 0〜1.0、
MgO+CaO+SrO+BaO 6.5〜10.0
Li2O 0〜1.0、
Na2O 3.0〜17.0、
K2O 0〜12.0、
Li2O+Na2O+K2O 10.0〜18.0、
からなり、熱収縮率(C)が20ppm以下であり、密度が2.46g/cm3以下であるディスプレイパネル用ガラス板である。
このようなガラス母組成を有する本発明のディスプレイパネル用ガラス板の第1態様は、密度が2.46g/cm3以下と低いため、特に軽量化や搬送時の割れ低減の面で好ましい。
酸化物基準の質量%表示で、ガラス母組成として、
SiO2 50.0〜65.0、
Al2O3 15.0〜20.0、
B2O3 0〜1.0、
MgO 4.2〜8.0、
CaO 2〜6.0、
SrO 0〜1.0、
BaO 0〜1.0、
MgO+CaO+SrO+BaO 6.5〜11.0
Li2O 0〜1.0、
Na2O 2.0〜12.0、
K2O 0〜12.0、
Li2O+Na2O+K2O 8.0〜17.0、
からなり、熱収縮率(C)が20ppm以下であり、50〜350℃の平均熱膨張係数が83×10-7/℃以下であるディスプレイパネル用ガラス板である。
このようなガラス母組成を有する本発明のディスプレイパネル用ガラス板の第2態様は、50〜350℃の平均熱膨張係数が83×10-7/℃以下であるため、パネルの製造工程での寸法変化が少なく、パネル使用時の熱応力による表示品質への影響が少ないことから、表示品質面で好ましい。
本発明のディスプレイパネル用ガラス板を製造する場合、従来のディスプレイパネル用ガラス板を製造する際と同様に、溶解・清澄工程および成形工程を実施する。なお、本発明のディスプレイパネル用ガラス板は、アルカリ金属酸化物(Na2O、K2O)を含有するアルカリガラス基板であるため、清澄剤としてSO3を効果的に用いることができ、成形方法としてフロート法に適している。
ディスプレイパネル用のガラス板の製造工程において、ガラスを板状に成形する方法としては、近年の液晶テレビなどの大型化に伴い、大面積のガラス板を容易に、安定して成形できるフロート法を用いることが好ましい。
初めに、原料を溶解して得た溶融ガラスを板状に成形する。例えば、得られるガラス板の組成となるように原料を調製し、前記原料を溶解炉に連続的に投入し、1450〜1650℃程度に加熱して溶融ガラスを得る。そしてこの溶融ガラスを例えばフロート法を適用してリボン状のガラス板に成形する。
次に、リボン状のガラス板をフロート成形炉から引出した後に、冷却手段によって室温状態まで冷却し、切断後、ディスプレイパネル用ガラス板を得る。ここで冷却手段は、前記フロート成形炉から引出されたリボン状のガラス板の表面温度をTH(℃)、室温をTL(℃)とし、さらに前記リボン状ガラス板の表面温度がTHからTLに冷却されるまでの時間をt(分)とした場合に、(TH−TL)/tで示される平均冷却速度を10〜300℃/分とする冷却手段である。具体的な冷却手段は特に限定されず、従来公知の冷却方法であってよい。例えば温度勾配を持った加熱炉を用いる方法が挙げられる。
THは、ガラス転移点温度Tg+20℃、具体的には540〜730℃が好ましい。
前記平均冷却速度は15〜150℃/分であることが好ましく、20〜80℃/分であることがより好ましく、40〜60℃/分であることがさらに好ましい。上記のガラス板製造方法により、コンパクション(C)が20ppm以下のガラス板が容易に得られる。
本発明のTFTパネルの製造方法は、本発明のディスプレイパネル用ガラス板の表面の成膜領域を150〜300℃の範囲内の温度(以下、成膜温度という)まで昇温した後、前記成膜温度で5〜60分間保持して、前記成膜領域に前記アレイ基板ゲート絶縁膜を成膜する成膜工程を具備するものであれば特に限定されない。ここで成膜温度は150〜250℃であることが好ましく、150〜230℃であることがより好ましく、150〜200℃であることがさらに好ましい。また、この成膜温度に保持する時間は5〜30分間であることが好ましく、5〜20分間であることがより好ましく、5〜15分間であることがさらに好ましい。
ゲート絶縁膜の成膜は上記のような成膜温度および保持時間の範囲内で行われるので、この間にガラス板が熱収縮する。なお、一度ガラス板が熱収縮した後は、その後の冷却条件(冷却速度等)によっては、上記の熱収縮の結果に大きな影響を及ぼさない。本発明のディスプレイパネル用ガラスはコンパクション(C)が小さいので、ガラス板の前記熱収縮が小さく、成膜パターンのずれが生じ難い。
すなわち、前記アレイ基板、カラーフィルタ基板各々に配向膜を形成し、ラビングを行う配向処理工程、TFTアレイ基板とカラーフィルタ基板を所定のギャップを保持して高精度で貼り合せる貼り合せ工程、基板よりセルを所定サイズに分断する分断工程、分断されたセルに液晶を注入する注入工程、セルに偏光板を貼り付ける偏光板貼り付け工程からなる一連の工程によりTFTパネルを製造することができる。
本発明のディスプレイパネル用ガラス板の実施例(例1〜13)及び比較例(例14〜16)を示す。
表1に質量%で表示した組成になるように各成分の原料を調合し、該組成の原料100質量部に対し、硫酸塩をSO3換算で0.1質量部添加し、白金坩堝を用いて1600℃の温度で3時間加熱し溶融した。溶融にあたっては、白金スターラーを挿入し1時間攪拌しガラスの均質化を行った。次いで溶融ガラスを流し出し、板状に成形後冷却した。
こうして得られたガラスの密度、平均熱膨張係数(単位:×10-7/℃)、転移点温度Tg(単位:℃)、溶解の基準温度として、ガラスの粘度が102dPa・sとなる温度T2(単位:℃)、および成形の基準温度としてガラス粘度が104dPa・sとなる温度T4(単位:℃)、ならびにコンパクション(C)を測定し、表1に示した。以下に各物性の測定方法を示す。
密度:泡を含まない約20gのガラス塊をアルキメデス法によって測定した。
50〜350℃の平均熱膨張係数:示差熱膨張計(TMA)を用いて測定し、JIS R3102(1995年度)より求めた。
Tg:TgはTMAを用いて測定した値であり、JIS R3103−3(2001年度)により求めた。
粘度:回転粘度計を用いて粘度を測定し、粘度が102dPa・sとなるときの温度T2と、104dPa・sとなるときの温度T4を測定した。
コンパクション(C):前述のコンパクション(C)の測定方法により測定した。
なお、表中のかっこ書きした値は、計算により求めたものである。
ガラス中のSO3残存量は100〜500ppmであった。
また、本発明のディスプレイパネル用ガラスの好ましい第1態様に相当する例1〜3のガラスは、密度が2.46g/cm3以下であるので、軽量なTFTパネル用のガラス板として好適に用いることができる。
また、本発明のディスプレイパネル用ガラスの好ましい第2態様に相当する例4〜13のガラスは、50〜350℃の平均熱膨張係数が83×10-7/℃以下であるため、TFTパネル用のガラス板として使用した場合に、TFTパネル製造工程での寸法変化を抑制することができる。
表1の組成になるように各成分の原料を調合し、該原料を連続的に溶融炉に投入し、1550〜1650℃の温度で溶解する。そして、フロート法にて連続的にリボン状ガラス板に成形し、ガラス板表面温度が転移点温度Tg+20℃でフロート炉から引出し、冷却炉によって平均冷却速度40〜60℃/分で、ガラス板の表面温度が室温(TL=25℃)となるまで冷却する。その後、所定の寸法(一辺が2m以上)に切断する。コンパクション(C)が20ppm以下である本発明のディスプレイパネル用ガラス板が得られる。
本発明のディスプレイパネル用ガラス板は、特に大型(一辺が2m以上)のTFTパネル用ガラス基板として好適に用いることができる。
アレイ基板の製造工程において、本発明のディスプレイパネル用ガラス板を洗浄後、ゲート電極、配線パターンを形成する。
次に、ガラス板を成膜温度250℃で15分保持して、CVD法によってゲート絶縁膜を成膜する。
次に、a−Si膜を成膜し、チャネル保護膜を成膜し、パターニングしてパターンを形成する。
次に、N+型a−Si膜、画素電極、およびコンタクトパターンを形成する。
次に、ソース・ドレイン電極を形成し、次に保護膜を成膜してTFTアレイ基板を得る。その後、以下のような公知の工程を用いてTFTパネルを得る。
すなわち、前記アレイ基板、カラーフィルタ基板各々に配向膜を形成し、ラビングを行う配向処理工程、TFTアレイ基板とカラーフィルタ基板を所定のギャップを保持して高精度で貼り合せる工程、基板よりセルを所定サイズに分断する分断工程、分断されたセルに液晶を注入する注入工程、およびセルに偏光板を貼り付ける偏光板貼り付け工程からなる一連の工程によりTFTパネルを製造することができる。
本発明のディスプレイパネル用ガラス板はコンパクション(C)が20ppm以下であるため、このようなTFTパネルの製造方法に供しても熱収縮は小さく、成膜パターンのずれが生じ難い。
なお、2008年4月21日に出願された日本特許出願2008−110161号の明細書、特許請求の範囲、及び要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。
Claims (5)
- 酸化物基準の質量%表示で、ガラス母組成として、
SiO2 50.0〜73.0、
Al2O3 6.0〜20.0、
B2O3 0〜2.0、
MgO 4.2〜9.0、
CaO 0〜6.0、
SrO 0〜2.0、
BaO 0〜2.0、
MgO+CaO+SrO+BaO 6.5〜11.3、
Li2O 0〜2.0、
Na2O 2.0〜18.0、
K2O 0〜13.0、
Li2O+Na2O+K2O 8.0〜18.0、
からなり、熱収縮率(C)が20ppm以下である、ディスプレイパネル用ガラス板。 - 酸化物基準の質量%表示で、ガラス母組成として、
SiO2 65.0〜73.0、
Al2O3 6.0〜15.0、
B2O3 0〜1.0、
MgO 5.0〜9.0、
CaO 0以上2.0未満、
SrO 0〜1.0、
BaO 0〜1.0、
MgO+CaO+SrO+BaO 6.5〜10.0
Li2O 0〜1.0、
Na2O 3.0〜17.0、
K2O 0〜12.0、
Li2O+Na2O+K2O 10.0〜18.0、
からなり、熱収縮率(C)が20ppm以下であり、密度が2.46g/cm3以下である、ディスプレイパネル用ガラス板。 - 酸化物基準の質量%表示で、ガラス母組成として、
SiO2 50.0〜65.0、
Al2O3 15.0〜20.0、
B2O3 0〜1.0、
MgO 4.2〜8.0、
CaO 2〜6.0、
SrO 0〜1.0、
BaO 0〜1.0、
MgO+CaO+SrO+BaO 6.5〜11.0
Li2O 0〜1.0、
Na2O 2.0〜12.0、
K2O 0〜12.0、
Li2O+Na2O+K2O 8.0〜17.0、
からなり、熱収縮率(C)が20ppm以下であり、50〜350℃の平均熱膨張係数が83×10-7/℃以下である、ディスプレイパネル用ガラス板。 - 原料を溶解して得た溶融ガラスをフロート成形炉にてリボン状のガラス板に成形した後に、冷却手段によって冷却し、室温状態にある請求項1〜3のいずれかに記載のディスプレイパネル用ガラス板を得る、ディスプレイパネル用ガラス板の製造方法であって、
前記フロート成形炉から引出されるガラス板の表面温度をTH(℃)、室温をTL(℃)とし、さらに前記ガラス板が前記冷却手段によって冷却されて、その表面温度がTHからTLに達するまでの時間をt(分)とした場合に、前記冷却手段が、(TH−TL)/tで示される平均冷却速度を10〜300℃/分とする冷却手段である、ディスプレイパネル用ガラス板の製造方法。 - ディスプレイパネル用ガラス板の表面にアレイ基板ゲート絶縁膜を成膜する成膜工程を具備し、該アレイ基板とカラーフィルタ基板とを貼り合せる貼り合せ工程を具備するTFTパネルの製造方法であって、
前記成膜工程が、請求項1〜3のいずれかに記載のディスプレイパネル用ガラス板の表面の成膜領域を、150〜300℃の範囲内の成膜温度まで昇温した後、前記成膜温度で5〜60分間保持して、前記成膜領域に前記ゲート絶縁膜を成膜する工程である、TFTパネルの製造方法。
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