JPWO2009044871A1 - 電子源及び電子ビーム装置 - Google Patents
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Abstract
Description
D. Tuggle, J. Vac. Sci. Technol.16, p1699(1979)
本発明者は、鋭意検討した結果、フィラメントの振動し易い方向が、フィラメントと導電端子を取り付けた2か所の位置と陰極の3点で形成される面に対して垂直な方向であることを見出し、フィラメントの断面積を増加させることなく、通電加熱に必要な電流の増加を抑えながら、この振動し易い方向のフィラメントの剛性を高める形状について検討し、本発明に至ったものである。
2:拡散源
3:フィラメント
4:導電端子
5:絶縁碍子
6:電子源
7:レーザー変位計
8:加速度センサ
9:振動板
10:振動発生器
11:レーザー光
a:フィラメント断面の長方向の長さ
b:フィラメント断面の短方向の長さ
L:フィラメントの長さ
θ:フィラメント間の角度
m:陰極の太さ
n:陰極の全長
s:陰極の電子放射部分の直径
以下、図面を参照しながら本発明の具体的な実施態様について説明する。
本実施形態に係る電子源は、図1(a)に示すように、絶縁碍子5と、絶縁碍子5に間隔を空けて配置された2つの導電端子4と、導電端子4の間に張られている長尺のフィラメント3と、フィラメント3に取り付けられた電子放射部を有する針状の陰極1と、を備える電子源であって、上記フィラメント3の軸方向に対する垂直断面形状が長方向と短方向を有し、長方向の最大長がその短方向の最大長の1.5倍以上5倍以下であって、フィラメント3の断面形状の長方向が、フィラメント3と導電端子を取り付けた2か所の位置と、陰極のある位置の3点で形成される平面の法線に対して±10°以下となるように、フィラメント3が張られている。
先ず、本実施形態に係る電子源のフィラメント3について説明する。フィラメント3は、図1(b)に示すように、フィラメント3の軸方向に対する垂直断面形状が長方向と短方向とを有する。
上記フィラメント3の断面積(フィラメント3の軸方向に対する垂直断面の面積)は、0.01mm2以上0.015mm2以下であることが好ましい。さらに好ましくは、フィラメント3の断面積は、0.011mm2以上0.013mm2以下である。
また、上記フィラメント3の長さが3mm以上8mm以下であることが好ましい。ここで、上記フィラメント3の長さとは、図3に示すように、フィラメント3の一方の端部から陰極1とフィラメント3との接点までの長さLのことをいう。
上記フィラメント3間の角度は、30°以上120°以下であることが好ましい。ここで、上記フィラメント3間の角度とは、図3に示すように、フィラメント3と導電端子4を取り付けた2か所の位置と、陰極1のある位置の3点で形成される平面において、V字に折り曲げられたフィラメント3が形成する角度θを意味する。
次に、本実施形態に係る電子源の陰極1について説明する。陰極1は、図5の(a)に示すように、太さmが0.1mm〜0.15mm、全長nが1.0mm〜1.8mmの円柱と、先端部の電子放射部分の直径sが2μm以下である円錐を組み合わせた針状のものが好ましい。先端部の形状は、平坦な形状であってもよいし、略球面状となっていてもよい。
次に、本実施形態に係る電子源の製造方法について説明する。
先ず、フィラメントの軸方向に対する垂直断面形状が長方向と短方向を有し、長方向の最大長がその短方向の最大長の1.5倍以上5倍以下のフィラメント3を得る方法としては、板状の金属板を短冊状に切断する方法がある。このような方法により、均質で精度の高い断面形状が長方形のフィラメントを得ることができる。
本実施形態の電子源を作製するためには、上記フィラメントをV字のごとく曲げ、絶縁碍子5に固定された導電端子4に、溶接により取り付ける。取り付けに際しては、前記フィラメントの断面形状の長方向は、フィラメント3の導電端子4との接合部2箇所と陰極1との3点で形成される平面に対して、垂直となるように取り付ける。
以下、上記実施形態に係る電子源及び電子ビーム装置の作用効果について説明する。
直径0.125mmのタングステン製フィラメントを圧延することにより、断面の長方向の長さが0.22mm、短方向の長さが0.07mmのフィラメントを得た。従って、長方向の長さは短方向の長さの約3倍である。また、フィラメントの断面積は0.012mm2であった。
直径0.150mmのタングステン製フィラメントを圧延することにより、断面の長方向の長さが0.26mm、短方向の長さが0.09mmのフィラメントを得た。従って、長方向の長さは短方向の長さの約3倍である。また、フィラメントの断面積は0.018mm2であった。それ以外は、実施例1と同様にして電子源を作製し、上記の評価を行った。
フィラメントの一方の端部から陰極とフィラメントとの接点までの長さを3mmとした以外は、実施例1と同様の電子源を作製し、上記の評価を行った。
フィラメントの一方の端部から陰極とフィラメントとの接点までの長さを8mmとした以外は、実施例1と同様の電子源を作製し、上記の評価を行った。
直径0.125mmのタングステン製フィラメントを圧延することにより、断面の長方向の長さが0.18mm、短方向の長さが0.09mmのフィラメントを得た。従って、長方向の長さは短方向の長さの約2倍である。それ以外は、実施例1と同様にして電子源を作製し、上記の評価を行った。
直径0.125mmのタングステン製フィラメントを圧延することにより、断面の長方向の長さが0.25mm、短方向の長さが0.06mmのフィラメントを得た。従って、長方向の長さは短方向の長さの約4倍である。それ以外は、実施例1と同様にして電子源を作製し、上記の評価を行った。
従来構造の図7に示す構造で、即ち、前記実施例において、断面の直径が0.125mmの円形状のフィラメントを用いていること以外は実施例1と同様の方法で作製した電子源について、実施例1と同様に共振試験及び1800K加熱時のフィラメント電流測定を実施した。その結果を表2に示す。
前記比較例1において、断面の直径が0.15mmの円形状のフィラメントを用いていること以外は比較例1と同様の方法で作製した電子源について、実施例と同様の評価を行った。その結果を表2に示す。
直径0.125mmのタングステン製フィラメントを圧延することにより、断面の長方向の長さが0.31mm、短方向の長さが0.05mmのフィラメントを得た。従って、長方向の長さは短方向の長さの約6倍である。それ以外は、実施例1と同様の電子源を作製し、同様の評価を行った。その結果を表2に示す。
上記実施例1〜6及び比較例1〜3を、各n=3で試験した結果を表1及び表2に示す。
Claims (10)
- 絶縁碍子と、
前記絶縁碍子に間隔を空けて配置された2つの導電端子と、
前記導電端子の間に張られている長尺のフィラメントと、
前記フィラメントに取り付けられた電子放射部を有する針状の陰極とを備える電子源であって、
前記フィラメントの軸方向に対する垂直断面形状が長方向と短方向を有し、
長方向の最大長がその短方向の最大長の1.5倍以上5倍以下であって、
前記フィラメントの断面形状の長方向が、前記フィラメントと前記導電端子を取り付けた2か所の位置と、前記陰極のある位置の3点で形成される平面の法線に対して±10°以下となるように、前記フィラメントが張られている電子源。 - 前記フィラメントの断面形状が、長方形、楕円形、菱形又は長方形の短辺を半円形にした形のいずれかである、請求項1記載の電子源。
- 前記フィラメントの断面積が0.01mm2以上0.015mm2以下であることを特徴とする請求項1に記載の電子源。
- 前記フィラメントの長さが3mm以上8mm以下であることを特徴とする請求項1に記載の電子源。
- 前記フィラメント間の角度が30°以上120°以下であることを特徴とする請求項1に記載の電子源。
- 前記フィラメントが、タングステン、モリブデン、レニウム、タンタル、イリジウムから選ばれた金属、又はこれらの元素を少なくとも1種選択した合金である請求項1に記載の電子源。
- 前記陰極がタングステン又はモリブデンからなり、直径が0.1mm〜0.15mm、全長が1.0mm〜1.8mmの円柱と、先端部の電子放射部分の直径が2μm以下である円錐とを組み合わせた形状であることを特徴とする請求項1に記載の電子源。
- 前記陰極が、タングステン又はモリブデンの<100>方位の単結晶から主としてなり、前記陰極の一部にCa、Sr、Ba、Sc、Y、La、Ti、Zr、Hf又はランタノイド系列から選ばれた金属元素の酸化物を拡散源として有する、請求項1に記載の電子源。
- 前記陰極の太さが0.1mm〜0.5mm、全長が1mm〜2mmの円柱状または四角柱状と、先端部の電子放射部分が平坦であり、その直径が2μm〜100μmである円錐とを組み合わせた形状であることを特徴とする請求項1に記載の電子源。
- 請求項1に記載の電子源を有する、電子ビーム装置。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8896195B2 (en) * | 2010-10-21 | 2014-11-25 | Hermes Microvision, Inc. | Filament for electron source |
JP6043476B2 (ja) * | 2011-10-12 | 2016-12-14 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | イオン源およびそれを用いたイオンビーム装置 |
CN109791862A (zh) | 2016-08-08 | 2019-05-21 | Asml荷兰有限公司 | 电子发射器及其制造方法 |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JPS55109343A (en) | 1979-02-16 | 1980-08-22 | Chiyou Lsi Gijutsu Kenkyu Kumiai | Cathode for electron gun |
JPS55148339A (en) * | 1979-05-09 | 1980-11-18 | Mitsubishi Electric Corp | Direct heat type cathode frame body |
JPH0619956B2 (ja) | 1986-03-19 | 1994-03-16 | 日本電気株式会社 | 線源グリツド |
JPH04215231A (ja) | 1990-12-10 | 1992-08-06 | Hitachi Ltd | 電子管用ヘリカルコイル陰極 |
JPH0541057A (ja) | 1991-08-05 | 1993-02-19 | Tdk Corp | 磁気テープカセツトにおけるフロントリツド |
JPH0541057U (ja) * | 1991-10-31 | 1993-06-01 | 川崎製鉄株式会社 | 電子ビーム照射装置 |
JP4215231B2 (ja) | 2001-05-21 | 2009-01-28 | 株式会社リコー | 画像読み取り装置及び画像形成装置 |
JP3832402B2 (ja) * | 2002-08-12 | 2006-10-11 | 株式会社日立製作所 | カーボンナノチューブを有する電子源とそれを用いた電子顕微鏡および電子線描画装置 |
JP4210131B2 (ja) | 2003-02-03 | 2009-01-14 | 電気化学工業株式会社 | 電子源及び電子源の使用方法 |
JP4032057B2 (ja) * | 2004-02-03 | 2008-01-16 | 電気化学工業株式会社 | 電子源の製造方法 |
JP2005332677A (ja) | 2004-05-19 | 2005-12-02 | Denki Kagaku Kogyo Kk | 電子源の製造方法と使用方法 |
JP4292108B2 (ja) | 2004-05-26 | 2009-07-08 | 電気化学工業株式会社 | 電子源及びその製造方法 |
JP5155666B2 (ja) | 2004-12-22 | 2013-03-06 | イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー | グリコロニトリルの合成のための方法 |
JP4827623B2 (ja) | 2006-06-08 | 2011-11-30 | 新電元工業株式会社 | 圧入端子 |
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Cited By (1)
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