JPWO2008044311A1 - 異常特定方法、分析装置および試薬 - Google Patents
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Abstract
Description
2 測定機構
4,204 制御機構
21 検体移送部
21a 検体容器
21b 検体ラック
22 チップ格納部
23 検体分注移送機構
24 免疫反応テーブル
24a 外周ライン
24b 中周ライン
24c 内周ライン
25 BFテーブル
26 第1試薬格納部
27 第2試薬格納部
28 第1試薬分注移送機構
29 第2試薬分注移送機構
30 酵素反応テーブル
31 測光機構
32 第1キュベット移送機構
33 第2キュベット移送機構
41,241 制御部
42,242 処理制御部
43 入力部
44 分析部
45,245 特定部
46 記憶部
47 出力部
48 送受信部
Claims (16)
- 光学的測定をもとに検体を分析する分析装置の異常内容を特定する異常特定方法において、
分析処理の過程で生成される中間生成物と同様の機能を有する試薬に対して、前記検体に対する分析処理のうち、異常を検証すべき分析処理以外の所定の分析処理を削除して、前記異常を検証すべき分析処理とともに前記中間生成物に対して行われる分析処理と同様の分析処理を行うことによって得られた測定結果をもとに前記分析装置の異常を特定することを特徴とする異常特定方法。 - 反応容器内への前記試薬注入後に前記検体に対する分析処理のうち前記反応容器内の未反応物質を除去する除去処理と同様の処理を行う除去ステップと、
前記中間生成物が発光可能となる分析処理と同様の分析処理を行って前記試薬を発光可能とした後に発光量を測定する測定ステップと、
前記測定ステップにおける測定結果が前記分析装置の正常時に予め求められた前記試薬の発光量に基づく許容範囲を満たさない場合、前記検体に対する分析処理のうち前記除去処理において異常があると特定する異常特定ステップと、
を含むことを特徴とする請求項1に記載の異常特定方法。 - 前記除去処理として第1の前記除去処理および第2の前記除去処理が行われ、
前記除去ステップは、
前記第1の除去処理と同様の処理を行う第1の除去ステップと、
前記第2の除去処理と同様の処理を行う第2の除去ステップと、
前記第1の除去処理と同様の処理を行うとともに前記第2の除去処理と同様の処理を行う第3の除去ステップと、
のいずれかであることを特徴とする請求項2に記載の異常特定方法。 - 前記異常特定ステップは、
前記除去ステップが前記第1の除去ステップであるとき、前記測定ステップにおいて測定された第1の発光量が前記許容範囲を満たさない場合に前記検体に対する分析処理のうち前記第1の除去処理において異常があると特定し、
前記除去ステップが前記第2の除去ステップであるとき、前記測定ステップにおいて測定された第2の発光量が前記許容範囲を満たさない場合に前記検体に対する分析処理のうち前記第2の除去処理において異常があると特定し、
前記除去ステップが前記第3の除去ステップであるとき、前記測定ステップにおいて測定された第3の発光量が前記許容範囲を満たさない場合に前記検体に対する分析処理のうち前記第1の除去処理および/または前記第2の除去処理において異常があると特定することを特徴とする請求項3に記載の異常特定方法。 - 前記第1の発光量、前記第2の発光量および前記第3の発光量を用いて各発光量の相対値をそれぞれ演算する演算ステップを含み、
前記異常特定ステップは、前記演算ステップにおいて演算された各相対値をもとに前記第1の除去処理および/または前記第2の除去処理において異常があることを特定することを特徴とする請求項4に記載の異常特定方法。 - 前記異常特定ステップは、前記除去ステップおよび前記測定ステップを複数回繰り返すことによって得られた前記第1の発光量、前記第2の発光量および/または前記第3の発光量におけるばらつき値および平均値をもとに、前記除去処理における異常内容を特定することを特徴とする請求項4に記載の異常特定方法。
- 前記試薬は、標識抗体と磁性粒子との結合状態を維持し、発光量をもとに検体を分析する分析処理の過程で生成される中間生成物と同様の機能を有することを特徴とする請求項1に記載の異常特定方法。
- 光学的測定をもとに検体を分析する分析装置において、
分析処理の過程で生成される中間生成物と同様の機能を有する試薬に対して、前記検体に対する分析処理のうち、異常を検証すべき分析処理以外の所定の分析処理を削除して、前記異常を検証すべき分析処理とともに前記中間生成物に対して行われる分析処理と同様の分析処理を行うことによって得られた測定結果をもとに当該分析装置の異常を特定することを特徴とする分析装置。 - 反応容器内への前記試薬注入後に前記検体に対する分析処理のうち前記反応容器内の未反応物質を除去する除去処理と同様の処理を行う除去手段と、
前記中間生成物が発光可能となる分析処理と同様の分析処理を行って前記試薬を発光可能とした後に発光量を測定する測定手段と、
前記測定手段による測定結果が当該分析装置の正常時に予め求められた前記試薬の発光量に基づく許容範囲を満たさない場合、前記検体に対する分析処理のうち前記除去処理において異常があると特定する異常特定手段と、
を備えたことを特徴とする請求項8に記載の分析装置。 - 前記除去処理として第1の除去処理および第2の除去処理が行われ、
前記除去手段は、
前記第1の除去処理と同様の処理、前記第2の除去処理と同様の処理、または、前記第1の除去処理と同様の処理および前記第2の除去処理と同様の処理の双方を前記試薬に対して行うことを特徴とする請求項9に記載の分析装置。 - 前記異常特定手段は、
前記除去手段によって前記第1の除去処理と同様の処理が行われ、前記測定手段によって測定された第1の発光量が前記許容範囲を満たさない場合に前記検体に対する分析処理のうち前記第1の除去処理において異常があると特定し、
前記除去手段によって前記第2の除去処理と同様の処理が行われ、前記測定手段によって測定された第2の発光量が前記許容範囲を満たさない場合に前記検体に対する分析処理のうち前記第2の除去処理において異常があると特定し、
前記除去手段によって前記第1の除去処理と同様の処理および前記第2の除去処理と同様の処理の双方が行われ、前記測定手段によって測定された第3の発光量が前記許容範囲を満たさない場合に前記検体に対する分析処理のうち前記第1の除去処理および/または前記第2の除去処理において異常があると特定することを特徴とする請求項10に記載の分析装置。 - 前記第1の発光量、前記第2の発光量および前記第3の発光量を用いて各発光量の相対値をそれぞれ演算する演算手段を備え、
前記異常特定手段は、前記演算手段によって演算された各相対値をもとに前記第1の除去処理および/または前記第2の除去処理において異常があることを特定することを特徴とする請求項11に記載の分析装置。 - 前記異常特定手段は、前記除去手段および前記測定手段による処理を複数回繰り返すことによって得られた前記第1の発光量、前記第2の発光量および前記第3における発光量のばらつき値および平均値をもとに、前記除去処理における異常内容を特定することを特徴とする請求項11に記載の分析装置。
- 前記試薬は、標識抗体と磁性粒子との結合状態を維持し、発光量をもとに免疫学的に検体を分析する分析処理の過程で生成される中間生成物と同様の機能を有することを特徴とする請求項8に記載の分析装置。
- 標識抗体と磁性粒子との結合状態を維持し、発光量をもとに免疫学的に検体を分析する分析処理の過程で生成される中間生成物と同様の機能を有することを特徴とする試薬。
- 前記結合状態は、共有結合、抗原抗体反応による結合、アビシン・ビオチン結合、ABC結合、疎水結合、水素結合のいずれかによって維持されることを特徴とする請求項15に記載の試薬。
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