JP4896147B2 - 異常特定方法および分析装置 - Google Patents
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Description
2 測定機構
4 制御機構
21 検体移送部
21a 検体容器
21b 検体ラック
22 チップ格納部
23 検体分注移送機構
24 免疫反応テーブル
24a 外周ライン
24b 中周ライン
24c 内周ライン
25 BFテーブル
26 第1試薬格納部
27 第2試薬格納部
28 第1試薬分注移送機構
29 第2試薬分注移送機構
30 酵素反応テーブル
31 測光機構
32 第1キュベット移送機構
33 第2キュベット移送機構
41 制御部
42 処理制御部
43 入力部
44 分析部
45 特定部
46 記憶部
47 出力部
48 送受信部
まず、実施の形態1について説明する。検体に対する分析処理のうち反応容器内の未反応物質を除去するBF洗浄処理の未反応物質除去不良の有無を特定する場合について説明する。また、実施の形態1においては、微量濃度の抗原が含まれる低濃度試薬における発光量を基準値とし、高濃度の抗原が含まれる高濃度試薬に対するBF洗浄後の発光量が基準値の所定倍以上である場合には、BF洗浄処理の未反応物質除去不良があると特定する。図1は、本実施の形態1にかかる分析装置の構成を示す模式図である。図1に示すように、実施の形態1にかかる分析装置1は、検体と試薬との間の反応によって生じた発光を測定する測定機構2と、測定機構2を含む分析装置1全体の制御を行なうとともに測定機構2における測定結果の分析を行なう制御機構4とを備える。分析装置1は、これらの二つの機構が連携することによって複数の検体の免疫学的な分析を自動的に行なう。
つぎに、実施の形態2について説明する。実施の形態2においては、検体に対する分析処理のうち液体を分注する分注機構の洗浄不良の有無を特定する場合について説明する。実施の形態2においては、低濃度試薬における発光量を基準値とし、分注機構による高濃度試薬分注後に分注機構の洗浄処理を経て分注移送機構による抗原を含まない0濃度試薬分注後の発光量が基準値の所定倍以上である場合には、分注機構の洗浄不良があると特定する。なお、実施の形態2にかかる分析装置は、図1に示す分析装置1と同様の構成を有する。
Claims (12)
- 光学的測定をもとに検体を分析する分析装置の異常を特定する異常特定方法において、
所定の微量濃度の構成物を含む低濃度試薬を用いて得られた測定結果を基準値として取得する基準取得用測定処理ステップと、
所定の高濃度の前記構成物を含む高濃度試薬を用いた分析処理を経て得られた測定結果を異常特定用測定値として取得する異常特定用測定処理ステップと、
前記異常特定用測定値が前記基準値に基づく許容範囲を満たすか否かをもとに、前記高濃度試薬の除去に関する分析処理の異常を特定する異常特定ステップと、
を含むことを特徴とする異常特定方法。 - 前記基準取得用測定処理ステップは、
前記構成物が発光可能となる分析処理を経た後に発光量を前記基準値として測定する第1の測定ステップを含み、
前記異常特定用測定処理ステップは、
反応容器内に前記高濃度試薬を注入した後に、前記検体に対する分析処理のうち反応容器内の未反応物質を除去する除去処理と同様の処理を行なって反応容器内における前記高濃度試薬内の構成物を除去する除去ステップと、
前記構成物が発光可能となる分析処理を経た後に発光量を前記異常特定用測定値として測定する第2の測定ステップと、
を含み、
前記異常特定ステップは、前記異常特定用測定値が前記許容範囲を満たさない場合、前記検体に対する分析処理のうち前記除去処理において除去不良があると特定することを特徴とする請求項1に記載の異常特定方法。 - 前記除去処理として第1の前記除去処理および第2の前記除去処理が行なわれ、
前記除去ステップは、
前記第1の除去処理と同様の処理を行なう第1の除去ステップと、
前記第2の除去処理と同様の処理を行なう第2の除去ステップと、
前記第1の除去処理と同様の処理を行なうとともに前記第2の除去処理と同様の処理を行なう第3の除去ステップと、
のいずれかであることを特徴とする請求項2に記載の異常特定方法。 - 前記異常特定用測定処理ステップは、
前記除去ステップが前記第1の除去ステップであるとき、前記異常特定用測定値が前記許容範囲を満たさない場合に前記検体に対する分析処理のうち前記第1の除去処理において除去不良があると特定し、
前記除去ステップが前記第2の除去ステップであるとき、前記異常特定用測定値が前記許容範囲を満たさない場合に前記検体に対する分析処理のうち前記第2の除去処理において除去不良があると特定し、
前記除去ステップが前記第3の除去ステップであるとき、前記異常特定用測定値が前記許容範囲を満たさない場合に前記検体に対する分析処理のうち前記第1の除去処理および/または前記第2の除去処理において除去不良があると特定することを特徴とする請求項3に記載の異常特定方法。 - 前記基準取得用測定処理ステップは、
前記構成物が発光可能となる分析処理を経た後の発光量を前記基準値として測定する第1の測定ステップを含み、
前記異常特定用測定処理ステップは、
液体を反応容器内に注入する液体注入機構を用いて反応容器内に前記高濃度試薬を注入する高濃度試薬注入ステップと、
前記高濃度試薬注入ステップ後に、洗浄された前記液体注入機構を用いて前記高濃度試薬が注入された反応容器とは別の反応容器内に前記構成物を含まない0濃度試薬を注入する0濃度試薬注入ステップと、
前記構成物が発光可能となる分析処理を経た後の前記0濃度試薬が注入された反応容器における前記異常特定用測定値として発光量を測定する第2の測定ステップと、
を含み、
前記異常特定ステップは、前記異常特定用測定値が前記許容範囲を満たさない場合、前記検体に対する分析処理のうち前記液体注入機構の洗浄処理に不良があると特定することを特徴とする請求項1に記載の異常特定方法。 - 前記構成物は、発光基質と結合する標識体であることを特徴とする請求項1に記載の異常特定方法。
- 光学的測定をもとに検体を分析する分析装置において、
所定の微量濃度の構成物を含む低濃度試薬を用いて得られた測定結果を基準値として取得するとともに、所定の高濃度の前記構成物を含む高濃度試薬を用いた分析処理を経て得られた測定結果を異常特定用測定値として取得する測定手段と、
前記異常特定用測定値が前記基準値に基づく許容範囲を満たすか否かをもとに、前記高濃度試薬の除去に関する分析処理の異常を特定する特定手段と、
を備えたことを特徴とする分析装置。 - 前記検体に対する分析処理のうち反応容器内の未反応物質を除去する除去処理を行なう除去手段をさらに備え、
前記除去手段は、反応容器内に前記高濃度試薬が注入された後に、前記除去処理と同様の処理を行なって反応容器内における前記高濃度試薬内の構成物を除去し、
前記測定手段は、前記低濃度試薬内の前記構成物が発光可能となる分析処理を経た後の発光量を前記基準値として測定するとともに、前記除去手段による前記高濃度試薬内の構成物除去後に前記構成物が発光可能となる分析処理を経た後の発光量を前記異常特定用測定値として測定し、
前記特定手段は、前記異常特定用測定値が前記許容範囲を満たさない場合、前記検体に対する分析処理のうち前記除去処理において除去不良があると特定することを特徴とする請求項7に記載の分析装置。 - 前記除去処理として第1の前記除去処理および第2の前記除去処理が行なわれ、
前記除去手段は、
前記第1の除去処理と同様の処理、前記第2の除去処理と同様の処理、または、前記第1の除去処理と同様の処理および前記第2の除去処理と同様の処理の双方を行なって、前記反応容器内における高濃度試薬の構成物を除去することを特徴とする請求項8に記載の分析装置。 - 前記特定手段は、
前記除去手段によって前記第1の除去処理と同様の処理が行なわれ、前記異常特定用測定値が前記許容範囲を満たさない場合に前記検体に対する分析処理のうち前記第1の除去処理において除去不良があると特定し、
前記除去手段によって前記第2の除去処理と同様の処理が行なわれ、前記異常特定用測定値が前記許容範囲を満たさない場合に前記検体に対する分析処理のうち前記第2の除去処理において除去不良があると特定し、
前記除去手段によって前記第1の除去処理と同様の処理および前記第2の除去処理と同様の処理の双方が行なわれ、前記異常特定用測定値が前記許容範囲を満たさない場合に前記検体に対する分析処理のうち前記第1の除去処理および/または前記第2の除去処理において除去不良があると特定することを特徴とする請求項9に記載の分析装置。 - 液体を反応容器内に注入する液体注入手段を備え、
前記液体注入手段は、反応容器内に前記高濃度試薬を注入し、洗浄された後に前記高濃度試薬を注入した反応容器とは別の反応容器内に前記構成物を含まない0濃度試薬を注入し、
前記測定手段は、前記低濃度試薬内の前記構成物が発光可能となる分析処理を経た後の発光量を前記基準値として測定するとともに、前記構成物が発光可能となる分析処理を経た後の前記0濃度試薬が注入された反応容器における発光量を前記異常特定用測定値として測定し、
前記特定手段は、前記異常特定用測定値が前記許容範囲を満たさない場合、前記検体に対する分析処理のうち前記液体注入手段の洗浄処理に不良があると特定することを特徴とする請求項7に記載の分析装置。 - 前記構成物は、発光基質と結合する標識体であることを特徴とする請求項7に記載の分析装置。
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